液滴吐出装置
【課題】キャリッジユニットを個々にメンテナンス処理しても、機能液滴吐出ヘッドの目詰まり等を有効に防止することができる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】ワークをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブル４２と、Ｘ軸テーブル４２と協働しワークＷ上に描画を行う機能液滴吐出ヘッドおよびこれを搭載したキャリッジ７５を有する複数のキャリッジユニットと、キャリッジユニットを１つずつメンテナンス処理するメンテナンス手段４６と、キャリッジユニットを個々に移動させるＹ軸テーブル４３と、Ｙ軸テーブル４３によるキャリッジユニットの移動軌跡上に配設され、複数のキャリッジユニットの全機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックス２４１と、を備えている。
【解決手段】ワークをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブル４２と、Ｘ軸テーブル４２と協働しワークＷ上に描画を行う機能液滴吐出ヘッドおよびこれを搭載したキャリッジ７５を有する複数のキャリッジユニットと、キャリッジユニットを１つずつメンテナンス処理するメンテナンス手段４６と、キャリッジユニットを個々に移動させるＹ軸テーブル４３と、Ｙ軸テーブル４３によるキャリッジユニットの移動軌跡上に配設され、複数のキャリッジユニットの全機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックス２４１と、を備えている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながらワーク上に機能液を吐出して描画を行う描画装置のワークテーブル（Ｘ軸テーブル）に、機能液滴吐出ヘッドの捨て吐出を受けるフラッシングボックスを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の液滴吐出装置として、有機ＥＬ装置やカラーフィルタの製造に用いられるインクジェット方式のものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この液滴吐出装置は、石定盤上に、ワークである基板を搭載したＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載したＹ軸テーブルとを有する描画装置を備えると共に、この描画装置に併設され、機台上に、機能液滴吐出ヘッドに対し機能液吸引やワイピングを行うメンテナンス装置を備えている。Ｙ軸テーブルには、メインキャリッジが移動自在に垂設され、このメインキャリッジ（キャリッジ）にサブキャリッジ（ヘッドプレート）とこれに搭載した１２個の機能液滴吐出ヘッドとから成るヘッドユニットが支持されている。一方、Ｘ軸テーブルには、基板がセットされると共にこの基板の主走査方向（Ｘ軸方向に）の前後に位置して、機能液滴吐出ヘッドからの機能液の捨て吐出（フラッシング）を受ける一対のフラッシングボックスが配設されている。
この場合、一対のフラッシングボックスは、機能液滴吐出ヘッドが基板に対し描画動作を開始する直前の相対的な往動および復動の開始時に、機能液滴吐出ヘッドからフラッシングを受けるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２６６６７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような従来の液滴吐出装置では、基板（ワーク）に対し、メインキャリッジに支持したヘッドユニットをＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させながら機能液の吐出を行う必要があるため、ワークが大型である場合にはその処理（タクトタイム）に時間がかかる問題がある。かかる場合に、いわゆるラインプリンタのように、全機能液滴吐出ヘッドにより１の描画ラインを網羅するヘッドユニットを用いることが考えられるが、現実的には、ヘッドユニットとメインキ
ャリッジとから成るキャリッジユニットを、副走査方向に複数並べて１の描画ラインを構成することが好ましい。
また、キャリッジユニットに対応して、メンテナンス系の吸引ユニットやワイピングユニットも、キャリッジユニットと同数設ける必要がある。しかし、吸引ユニットやワイピングユニットを、キャリッジユニットと同数設けると、メンテナンス系の装置が大型化し、液滴吐出装置が極端に大きくなることが想定される。一方、キャリッジユニットを個々にメンテナンス処理すれば、吸引ユニットやワイピングユニットの数を減らすことができるが、この場合には、メンテナンス処理後の機能液滴吐出ヘッドが、他のキャリッジユニットの処理待ちの間に目詰まりしてしまうことが想定される。
【０００５】
本発明は、キャリッジユニットを個々にメンテナンス処理しても、機能液滴吐出ヘッドの目詰まり等を有効に防止することができる液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の液滴吐出装置は、ワークを搭載すると共にワークをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、Ｘ軸テーブルと協働し描画エリアに臨んだワークに機能液を吐出してワーク上に描画を行う機能液滴吐出ヘッド、およびこれを搭載したキャリッジを有する複数のキャリッジユニットと、メンテナンスエリアに臨んだ複数のキャリッジユニットに対し、１つずつメンテナンス処理を行うメンテナンス手段と、複数のキャリッジユニットを描画エリアとメンテナンスエリアとの間で個々に移動させるＹ軸テーブルと、Ｙ軸テーブルによるキャリッジユニットの移動軌跡上に配設され、複数のキャリッジユニットの全機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックスと、を備えていることを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、メンテナンス手段は、機能液滴吐出ヘッドおよびこれを搭載したキャリッジを有する複数のキャリッジユニットに対し、１つずつメンテナンス処理を行うため、キャリッジユニットの数に対応してメンテナンス手段を複数設ける必要がない。一方、Ｙ軸テーブルによるキャリッジユニットの移動軌跡上にフラッシングボックスを配設しているため、メンテナンス処理後のキャリッジユニットをこのフラッシングボックスの直上部に臨ませて、全機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出（フラッシング）を行わせることができる。すなわち、他のキャリッジユニットがメンテナンス処理している処理待ち時間に、処理後の機能液滴吐出ヘッドにフラッシングを行わせておくことにより、処理後の機能液滴吐出ヘッドの各吐出ノズルに、乾燥による目詰まり等が生ずることがない。すなわち、キャリッジユニットを個々にメンテナンス処理することで時間を要しても、機能液滴吐出ヘッドの目詰まり等を有効に防止することができる。なお、この場合のフラッシングは、機能液の無駄な消費を抑制すべく、所定の時間をおいて間欠的に行われることが好ましい。
【０００８】
この場合、メンテナンス手段、Ｙ軸テーブルおよび各機能液滴吐出ヘッドを制御する制御手段を、更に備え、制御手段は、メンテナンス処理後のキャリッジユニットを順にフラッシングボックスの直上部に送り、最後のキャリッジユニットのメンテナンス処理が終了するまでの間、メンテナンス処理後のキャリッジユニットの機能液滴吐出ヘッドに機能液の捨て吐出を行わせることが、好ましい。
【０００９】
この構成によれば、メンテナンス処理することで時間を要しても、機能液滴吐出ヘッドの目詰まり等を有効に防止することができると共に、メンテナンス処理を効率良く行うことができる。
【００１０】
これらの場合、メンテナンス手段は、機能液滴吐出ヘッドの各吐出ノズルから機能液を吸引する吸引ユニットと、吸引後の機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートにより払拭するワイピングユニットと、を有することが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、吸引ユニットによる吸引処理と、ワイピングユニットによる払拭処理により、機能液滴吐出ヘッドの吐出機能を常に良好な状態に維持しておくことができる。
【００１２】
これらの場合、フラッシングボックスは、Ｘ軸テーブルに搭載されていることが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、装置のスペース効率を向上させることができると共に、Ｙ軸テーブルによるキャリッジユニットの移動距離を極力短くすることができる。
【００１４】
この場合、ワイピングユニットは、吸引ユニットに対し描画エリア側に配設されていることが、好ましい。
【００１５】
この構成によれば、吸引ユニットから描画エリアへのキャリッジユニットの一方向への移動により、一連のメンテナンス処理を行うことができ、Ｙ軸テーブルの制御を単純化することができると共に、キャリッジユニットに無駄な動きが生じない分、メンテナンス処理を短時間で効率良く行うことができる。
【００１６】
これらの場合、Ｘ軸テーブルは、ワークを吸着載置する吸着テーブルと、吸着テーブルを回転させる回転テーブルと、回転テーブルを支持するテーブルベースと、を有し、フラッシングボックスは、テーブルベース上に搭載されていることが、好ましい。
【００１７】
この構成によれば、フラッシングボックスが、ワークと共に回転テーブルにより回転調整されることがなく、フラッシングボックスを安定に設置しておくことができる。
【００１８】
これらの場合、フラッシングボックスは、複数のキャリッジユニットが描画動作を開始する描画ホーム位置の直下に配設されていることが、好ましい。
【００１９】
この構成によれば、全キャリッジユニットのメンテナンス処理が収容した段階で、全キャリッジユニットが自動的に描画待機状態となるため、メンテナンス処理から描画処理への移行を迅速に行うことができる。
【００２０】
この場合、制御手段は、描画動作開始時に、複数のキャリッジユニットの全吐出ノズルからフラッシングボックスに捨て吐出を行わせることが、好ましい。
【００２１】
この構成によれば、実描画動作の直前まで、機能液滴吐出ヘッドの吐出機能を良好な状態に維持することができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２３】
本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２４】
これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの吐出機能を良好な状態に維持して、ワークへの描画を極めて高精度に行い得る液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２５】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２６】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施形態に係る描画システムの平面模式図である。
【図２】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の外観斜視図である。
【図３】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の平面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の正面図である。
【図５】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の側面図である。
【図６】ヘッドユニットの説明図であり、ヘッドユニットのヘッドプレート廻りを示した図である。
【図７】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図８】本実施形態のヘッドプレートの説明図であり、（ａ）は、ヘッドプレートの外観斜視図、（ｂ）は、ヘッドプレートを下側から見た図である。
【図９】本実施形態のヘッドプレートの変形例について説明した図であり、（ａ）は、ヘッドプレートの外観斜視図、（ｂ）は、ヘッドプレートを下側から見た図である。
【図１０】機能液供給手段の説明図であり、（ａ）は、圧力調整弁廻りの説明図、（ｂ）は圧力調整弁の断面図である。
【図１１】アングル架台廻りの外観斜視図である。
【図１２】アングル架台廻りの背面図である。
【図１３】分割吸引ユニット廻りの外観斜視図である。
【図１４】分割吸引ユニット廻りの側面図である。
【図１５】ワイピングユニット廻りの外観斜視図である。
【図１６】ワイピングユニット廻りの側面図である。
【図１７】横移動機構の説明図であり、（ａ）は、機能液滴吐出ヘッドと、ワイピング後かつ横移動機構駆動前のワイピングシートとの位置関係を示した図であり、（ｂ）は、機能液滴吐出ヘッドと、ワイピング後かつ横移動機構駆動後のワイピングシートとの位置関係を示した図である。
【図１８】描画装置の主制御系について説明したブロック図である。
【図１９】定期メンテナンスにおける分割ヘッドユニットと、分割吸引ユニットとの位置関係を説明した図である。
【図２０】定期メンテナンスにおける本実施形態の変形例について説明した図であり、（ａ）は、第１分割ヘッドユニットのワイピング時、（ｂ）は、第２分割ヘッドユニットのワイピング時、（ｃ）は、第６分割ヘッドユニットのワイピング時、における分割吸引ユニットとの位置関係を説明した図である。
【図２１】ヘッド交換における分割ヘッドユニットと、分割吸引ユニットとの位置関係を説明した図である。
【図２２】第５分割ヘッドユニットのメンテナンス時における分割吸引ユニットの位置関係を示した図である。
【図２３】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図２４】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図２５】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２６】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２７】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２８】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図２９】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図３０】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図３１】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図３２】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図３３】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３４】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図３５】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３６】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３７】陰極の形成を説明する工程図である。
【図３８】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図３９】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図４０】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した描画システムについて説明する。本実施形態の描画システムは、液晶表示装置等の、いわゆるフラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれ、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の３色から成るカラーフィルタの着色層（詳細は後述する）を形成するものである。
【００２９】
図１は、描画システムの平面模式図である。同図に示すように、描画システム１は、３組の描画ユニット２で構成されている。各描画ユニット２は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各色にそれぞれ対応しており、ワークＷ（基板）を各描画ユニット２に順次導入することにより、ワークＷ上に着色層を１色分ずつ形成できるようになっている。
【００３０】
図１に示すように、各描画ユニット２は、着色層を形成するための液滴吐出装置３と、液滴吐出装置３に並設され、ワークＷを搬出入するワーク搬出入装置４と、各装置に接続され、描画ユニット２全体を制御する制御装置５と、を備えている。また、同図に示すように、液滴吐出装置３は、チャンバ装置６に収容されている。チャンバ装置６は、いわゆるサーマルチャンバであり、一定の温度条件でワークＷに対する液滴吐出（描画）が行われるように、液滴吐出装置３全体を温度管理下で収容している。チャンバ装置６は、液滴吐出装置３全体を収容したボックス状のチャンバ本体１１と、これを制御盤（図示省略）と、チャンバ本体１１内の温度が一定となるように、温度管理を行う空気調和機器１２と、を備えている。図示省略したが、チャンバ本体１１の右側面前方には、ワーク搬入・搬出開口となる開閉扉が形成されており、液滴吐出装置３にワークＷを導入する場合等には、開閉扉を介してチャンバ本体１１内に収容された液滴吐出装置３にアクセスできるようになっている。
【００３１】
液滴吐出装置３は、機能液滴吐出ヘッド７２（図示省略）を備えており、Ｒ・Ｇ・Ｂのいずれか１色に対応した機能材料（フィルタ材料）を機能液溶媒に溶かした機能液を機能液滴吐出ヘッド７２（図示省略）に導入して、ワークＷ上に機能液滴による描画を行う。ワーク搬出入装置４は、ワークＷを移載するロボットアーム１５を備えており、ロボットアーム１５を介して、未処理（描画前）のワークＷを描画ユニット２内に搬入してこれを液滴吐出装置３に導入すると共に、処理済み（描画済み）のワークＷを液滴吐出装置３から回収してこれを描画ユニット２外に搬出する。ロボットアーム１５は、上記の開閉扉からチャンバ本体１１内の液滴吐出装置３にアクセス可能であり、液滴吐出装置３に対するワークＷの導入・回収は、ロボットアーム１５を、開閉扉からチャンバ本体１１内に挿入して行われる。制御装置５は、パソコン等で構成されており、装置本体の他、モニタディスプレイや、ＣＤドライブやＤＶＤドライブ等の各種ドライブを備えている。
【００３２】
なお、図中に示す符号１８は、乾燥装置を設置するための設置スペースであり、状況に応じて、ワークＷに吐出させた機能液の機能液溶媒を乾燥（気化）させるための乾燥装置を描画ユニット２内に設置可能となっている。
【００３３】
次に、本発明の主要部となる液滴吐出装置３について説明する。図２ないし５に示すように、液滴吐出装置３は、床上に設置した大型の共通架台２１と、共通架台２１上に広く配設された装置本体２２と、を備えている。同図に示すように、共通架台２１上には、石定盤３１およびアングル架台３２が配設されていると共に、２組４個のスタンド３４ａ・ｂからなる一対の支持スタンド３３が立設されている。
【００３４】
図２ないし５に示すように、装置本体２２は、機能液滴吐出ヘッド７２を有するヘッドユニット４１と、石定盤３１上に直接設置され、ワークＷをセットするセットテーブル１０１を有し、セットテーブル１０１を介してワークＷをＸ軸方向に移動（主走査）させるワーク移動手段４２（Ｘ軸テーブル）と、一対の支持スタンド３３上に配設され、ヘッドユニット４１をＹ軸方向（副走査方向）に移動させるヘッド移動手段４３（Ｙ軸テーブル）と、セットテーブル１０１にその主要部が配設され、セットテーブル１０１に対するワークＷの除給時に、ワークＷをリフトアップすると共に、ワークＷの静電気を除電するワーク除給手段４４と、ヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド７２）に機能液を供給する機能液供給手段４５と、アングル架台３２上にその主要部が配設され、ヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド７２）を保守するメンテナンス手段４６と、を備えている。
【００３５】
また、図示省略したが、装置本体２２は、各手段に液体を供給すると共に不要となった液体（機能液および洗浄液）を回収する液体供給回収手段や、各手段を駆動・制御するための圧縮エアーを供給するエアー供給手段、ワークＷを（吸着）セットするためのエアー吸引手段等を備えている。この液滴吐出装置３に導入されるワークＷは、セットテーブル１０１に横置きでセットされる縦１８００ｍｍ×横１５００ｍｍの透明基板（ガラス基板）であり、予め、着色層を形成させる画素領域（後述する）が作り込まれている。
【００３６】
この液滴吐出装置３では、ワーク移動手段４２の駆動に同期して、機能液滴吐出ヘッド７２を駆動することにより、ワークＷの画素領域内に機能液を吐出させ、ワークＷに描画処理（液滴吐出処理）を行う。すなわち、ヘッドユニット４１とワーク移動手段４２により、描画手段が構成されている。一方、ワーク交換等の非描画処理時には、ヘッド移動手段４３を駆動して、（後述するキャリッジ７５を介して）ヘッドユニット４１をメンテナンス手段４６に臨ませ、メンテナンス手段４６により、機能液滴吐出ヘッド７２のメンテナンス処理を行うようになっている。上述したように、液滴吐出装置３は、チャンバ装置６内に収容されており、一連の描画処理やメンテナンス処理を含むほとんどの処理は、チャンバ装置６内で行われる。
【００３７】
なお、図３に示すように、ワーク移動手段４２によるワークＷの移動軌跡と、ヘッド移動手段４３によるヘッドユニット４１の移動軌跡と、が交わるが描画処理を行う描画エリア５１となっている。また、ヘッド移動手段４３によるヘッドユニット４１の移動軌跡上の、メンテナンス手段４６に臨む領域がメンテナンス処理を行うメンテナンスエリア５２となっている。なお、メンテナンスエリア５２は、ヘッドユニット４１を交換するためのヘッド交換エリアを兼ねている。さらに、ワーク移動手段４２の図示手前側の領域は、液滴吐出装置３に対するワークＷの搬出入（導出入）を行うワーク搬出入エリア５３となっており、このワーク搬出入エリア５３に臨んで、上記したワーク搬出入装置４が設置されている。
【００３８】
次に、液滴吐出装置３の各構成要素について説明する。図２ないし５に示すように、石定盤３１は、略直方体に形成され、Ｘ軸方向に延在している。また、石定盤３１は、その中央部からＹ軸方向の左右に張り出した張出部３１ａを有しており、平面視変形「十」字形に構成されている。アングル架台３２は、アングル材を方形に組んで構成され、Ｙ軸方向において石定盤３１（の張出部３１ａ）と並んで配設されている。
【００３９】
これらの図に示すように、一対の支持スタンド３３は、アングル架台３２を挟むようにＸ軸方向（前後）に並んで配設されている。各支持スタンド３３は、石定盤３１およびアングル架台３２の配設範囲に亘り、Ｙ軸方向に延在しており、Ｙ軸方向に整列した２組４本の支柱６１と、４本の支柱６１間を架渡した柱状支持部材６２と、を有している。すなわち、一対の支持スタンド３３は、４組８本の支柱６１と、２つの柱状支持部材６２を具備している。各支持スタンド３３の２組の支柱６１は、それぞれ長さが異なっている。そして、２組４本の支柱６１が同じ高さとなるように、短い方の支柱１組が、石定盤３１の張出部３１ａに立設されると共に、長い方の支柱１組が共通架台２１上に立設される。
【００４０】
柱状支持部材６２は、同一端面を有する２つのブロック６３ａ・ｂから構成される。両ブロック６３ａ・ｂは、石材で構成されている。ブロック６３ａは、石定盤３１に立設した２本の支柱６１ａ間をＹ軸方向と平行になるように架設されている。同様に、ブロック６３ｂは、共通架台２１に立設した２本の支柱６１ｂをＹ軸方向と平行になるように架設されている。すなわち、２本の支柱６１ａおよびブロック６３ａによりスタンド３４ａが構成され、２本の支柱６１ｂおよびブロック６３ｂによりスタンド３４ｂが構成されている。これら両ブロック６３ａ・ｂは、Ｙ軸方向に対して、端面を相互に突き合わせた状態で連結されると共に、支柱６１ａ・ｂ上に固定される。そして、Ｙ軸方向に連続して並設したブロック６３ａ・ｂにより柱状支持部材６２が構成されている。なお、各支柱６１と柱状支持部材６２との間に高さ調整プレート６６を介設し、柱状支持部材６２（の上端面）の高さを調整するようにしても良い（図５参照）。
【００４１】
次に装置本体２２の各手段について説明する。図６に示すように、ヘッドユニット４１は、Ｙ軸方向に整列配置された複数（７個）の分割ヘッドユニット７１から構成されている。図５、図６および図８に示すように、各分割ヘッドユニット７１は、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２と、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２を支持するヘッドプレート７３と、各機能液滴吐出ヘッド７２をヘッドプレート７３に固定するための１２個のヘッド保持部材７４と、上記のヘッド移動手段４３に支持されると共に、ヘッドプレート７３を支持するキャリッジ７５と、を備えている。
【００４２】
すなわち、キャリッジ７５と、これに支持されたヘッドプレート７３によりキャリッジユニットが構成されている。キャリッジユニットは、ヘッド移動手段４３のブリッジプレート１４１（後述する）に垂設されており、７つのキャリッジユニットは、ヘッド移動手段４３により、Ｙ軸方向（一方向）に対して個別に移動可能に構成されている。
【００４３】
図７に示すように、機能液滴吐出ヘッド７２は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針８２を有する機能液導入部８１と、機能液導入部８１に連なる２連のヘッド基板８３と、機能液導入部８１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体８４と、を備えている。接続針８２は、図外の機能液タンク２０１（後述する）に接続され、機能液滴吐出ヘッド７２のヘッド内流路に機能液を供給する。ヘッド本体８４は、キャビティ８５（ピエゾ圧電素子）と、吐出ノズル８８が開口したノズル面８７を有するノズルプレート８６と、で構成されている。ノズル面８７には、多数（１８０個）の吐出ノズル８８から成るノズル列が２列形成されている。機能液滴吐出ヘッド７２を吐出駆動すると、キャビティ８５のポンプ作用により、吐出ノズル８８から機能液滴を吐出する。
【００４４】
図６および図８に示すように、ヘッドプレート７３は、ステンレス等から成る平面視略平行四辺形の厚板で構成されている。ヘッドプレート７３には、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２を位置決めし、ヘッド保持部材７４を介して、裏面側から各機能液滴吐出ヘッド７２を固定するための１２個の装着開口（図示省略）が形成されている。各ヘッドプレート７３に形成された１２個の装着開口は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ位置ずれした状態で１列に配置されている。これにより、各機能液滴吐出ヘッド７２は、ノズル列がＹ軸方向と平行になるように固定されると共に、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２は、１列の液滴吐出ヘッド群を構成し、ヘッドプレート７３に対して、そのノズル列の一部が（Ｙ軸方向に）重複するように階段状に配置される。すなわち、各分割ヘッドユニット７１に搭載された液滴吐出ヘッド群（１２個の機能液滴吐出ヘッド７２）のノズル列（吐出ノズル８８）により、１本の分割描画ライン（部分描画ライン）が構成される。
【００４５】
図５に示すように、キャリッジ７５は、ヘッドプレート７３を着脱自在に支持するキャリッジ本体９１と、キャリッジ本体９１の上面に取り付けられ、（ヘッドプレート７３の）θ方向に対する位置補正を行うためのθ回転機構９２と、θ回転機構９２を介してキャリッジ本体９１を吊設すると共に、ヘッド移動手段４３に固定・支持された外観「Ｉ」形の吊設部材９３と、を有している。
【００４６】
図示省略したが、キャリッジ本体９１には、ヘッドプレート７３を位置決めするための位置決め機構が設けられている。これにより、ヘッドユニット４１では、７つの分割ヘッドユニット７１がＹ軸方向に整列配置される（図６参照）。すなわち、Ｙ軸方向において、各分割ヘッドユニット７１の各機能液滴吐出ヘッド７２は、対応する位置関係（同一の配置位置）にある他の６つ機能液滴吐出ヘッド７２と整列するように配置される。換言すれば、ヘッドプレート７３が位置決めされることにより、それぞれ対応した位置関係にある７個の機能液滴吐出ヘッド７２から成る機能液滴吐出ヘッド列が、Ｘ軸方向に並んで１２列、Ｙ軸方向に位置ずれした状態で配置されるようになっている。
【００４７】
そして、７つの分割ヘッドユニット７１を整列配置させると、各分割ヘッドユニット７１の７本の分割描画ラインがＹ軸方向に連続して、ワークＷの描画幅に対応する１描画ラインを構成すべく、各ヘッドプレート７３が、位置決めされた状態で支持される。すなわち、分割描画ラインは、１描画ラインを７つに分割して各分割ヘッドユニット７１に配したものであり、７つの分割ヘッドユニット７１を整列配置させると、ヘッドプレート７３が整列して、７本の分割描画ライン（１２×７個の機能液滴吐出ヘッド７２のノズル列）から成る１描画ラインが形成される。１描画ラインは、ワークＷの縦置き・横置きに対応できるよう、ワークＷの長辺の長さに対応して設定されており、１８００ｍｍとなっている。なお、ヘッドユニット４１（全分割ヘッドユニット７１）が描画エリア５１に臨み、１描画ラインが形成される位置が、ヘッドユニット４１の描画ホーム位置となっており、この位置でワークＷの描画処理が行われる。
【００４８】
なお、ヘッドプレート７３に搭載される各機能液滴吐出ヘッド７２のノズル列（吐出ノズル８８）がＹ軸方向において連続して、分割描画ラインを形成可能なものであれば、ヘッドプレート７３における機能液滴吐出ヘッド７２の配置方法は任意に設定可能である。本実施形態では、ノズル列の一部がＹ軸方向に重複するように、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２をヘッドプレート７３に配しているが、ノズル列を重複させず、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２の全吐出ノズル８８により１描画ラインが構成されるように、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２を配置してもよい。また、図９に示すように、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２を二分して（複数列に）配置することも可能である。このように、複数の機能液滴吐出ヘッド７２を複数列に分割して配置すれば、Ｘ軸方向におけるヘッドプレート７３の幅を狭くすることができる。同様に、１描画ラインを形成可能であれば、分割ヘッドユニット７１の配置も任意に設定可能である。また、当然のことながら、各分割ヘッドユニット７１に搭載する機能液滴吐出ヘッド７２の個数や、分割ヘッドユニット７１数等も実情に応じて任意に設定可能である。
【００４９】
図２ないし図５に示すように、ワーク移動手段４２は、ワークＷをセットするセットテーブル１０１と、セットテーブル１０１をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ１０２と、Ｘ軸方向に延在し、セットテーブル１０１を介してワークＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ１０３と、Ｘ軸リニアモータ１０３に並設され、Ｘ軸エアースライダ１０２の移動を案内する一対のＸ軸ガイドレール（図示省略）と、セットテーブル１０１の位置を把握するためのＸ軸リニアスケール１０４（図示省略）と、を備えている。
【００５０】
図４および図５に示すように、セットテーブル１０１は、Ｘ軸エアースライダ１０２に支持されたθテーブル１１１に、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル１１２を積層したものである。θテーブル１１１は、Ｘ軸エアースライダ１０２に固定したθ固定部１２１（テーブルベース）と、吸着テーブル１１２を支持すると共に、θ固定部１２１に（θ軸方向に）回動可能に支持されたθ回転部１２２（回転テーブル）と、を有しており、吸着テーブル１１２を介して、ワークＷをθ軸方向に回動することにより、ワークＷのθ位置を微調整（補正）する。なお、θ固定部１２１には、後述するメンテナンス手段４６のフラッシングユニット２３１が支持されている。
【００５１】
吸着テーブル１１２は、ワークＷを吸着セットするテーブル本体１３１と、テーブル本体１３１を支持する３組のテーブル支持部材１３２と、θテーブル１１１に固定され、テーブル支持部材１３２を介して、テーブル本体１３１を支持する支持ベース１３３と、を有している。テーブル本体１３１は、厚板状の石盤で構成され、平面視略正方形に形成されている。テーブル本体１３１の一辺は、ワークＷの長辺の長さに合わせて１８００ｍｍに形成されており、ワークＷを縦置きおよび横置きのいずれか任意の向きでセット可能になっている。図２および図３に示すように、テーブル本体１３１の表面には、ワークＷを吸引するための吸引溝１３４が複数形成されている。そして、各吸引溝１３４には、上記したエアー吸引手段に連なる吸引孔（図示省略）が形成されており、吸引溝１３４を介して、ワークＷに十分な吸引力を作用させることができるようになっている。
【００５２】
３組のテーブル支持部材１３２は、θテーブル１１１の回転軸（θ軸）と、テーブル本体１３１の重心が一致するように、テーブル本体１３１を３点支持する。詳細は後述するが、吸着テーブル１１２には、ワーク除給手段４４のリフトアップ機構１６１およびプリアライメント機構１７１が組み込まれて。そして、支持ベース１３３には、リフトアップ機構１６１およびプリアライメント機構１７１の主要部が配設されていると共に、テーブル本体１３１には、リフトアップ機構１６１の複数のリフトアップピン１６２を貫通させるための貫通孔１３５が整列して形成されている。
【００５３】
Ｘ軸リニアモータ１０３、一対のＸ軸ガイドレール、およびＸ軸リニアスケール１０４は、上記した石定盤３１上に直接載置されている。一対のＸ軸リニアモータ１０３を（同期させて）駆動すると、一対のＸ軸ガイドレールをガイドにしながら、Ｘ軸エアースライダ１０２をＸ軸方向に移動し、セットテーブル１０１にセットされたワークＷがＸ軸方向に移動する。また、一対のＸ軸ガイドレールの間には、Ｘ軸リニアスケール１０４が併設されており、このＸ軸リニアスケール１０４に基づいて、機能液滴吐出ヘッド７２の吐出タイミングが計られている。なお、一対のＸ軸リニアモータ１０３、一対のＸ軸ガイドレール、およびＸ軸リニアスケール１０４は、一対のＸ軸収容ボックス１０５内に収容されている。
【００５４】
図２ないし図５に示すように、ヘッド移動手段４３は、描画エリア５１とメンテナンスエリア５２を架け渡すと共に、ヘッドユニット４１を、描画エリア５１とメンテナンスエリア５２との間で移動させるものである。ヘッド移動手段４３は、上記した７つの分割ヘッドユニット７１を１つずつ支持する７つのブリッジプレート１４１と、７つのブリッジプレート１４１がＹ軸方向に整列するよう、これを両持ちで支持する７組のＹ軸スライダ１４２と、Ｙ軸方向に延在し、７組のＹ軸スライダ１４２を介して７つのブリッジプレート１４１をＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸リニアモータ１４３と、Ｙ軸方向に延在し、７つのブリッジプレート１４１の移動を案内する一対のＹ軸ガイドレール１４４（ＬＭガイド）と、キャリッジ７５を介してヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド７２）の移動位置を検出するＹ軸リニアスケール１４６（図示省略）と、を備えている。
【００５５】
図５に示すように、ブリッジプレート１４１には、キャリッジ７５を位置決めする挿通開口（図示省略）が形成されており、ブリッジプレート１４１は、挿通開口にキャリッジ７５（吊設部材９３）を挿通させ、これを固定している。また、各ブリッジプレート１４１上には、対応する分割ヘッドユニット７１の機能液滴吐出ヘッド７２を駆動するヘッド用電装ユニット１４５が搭載されている（図２および図３参照）。７つのヘッド用電装ユニット１４５は、隣り合ったブリッジプレートのヘッド用電装ユニット１４５が相互に干渉することがないよう千鳥状に配置され、ブリッジプレート１４１を効率よく配置できるようになっている。
【００５６】
一対のＹ軸リニアモータ１４３および一対のＹ軸ガイドレール１４４は、上記した一対の支持スタンド３３の柱状支持部材６２に１つずつ直接設置されている。また、Ｙ軸リニアスケール１４６は、一対の柱状支持部材６２の一方に直接配設されている。本実施形態のヘッド移動手段４３では、一対のＹ軸リニアモータ１４３を駆動して、７組のＹ軸スライダ１４２を同時にＹ軸方向に移動させることにより、７つの分割ヘッドユニット７１から成るヘッドユニット４１を一体として（１描画ラインを形成した状態で）Ｙ軸方向に移動できるようになっている。一方、一対のＹ軸リニアモータ１４３を選択的に駆動することにより、７組のＹ軸スライダ１４２をそれぞれ独立して移動させ、各分割ヘッドユニット７１を個別にＹ軸方向へ移動させることもできるようになっている。
【００５７】
なお、図５に示すように、各柱状支持部材６２には、その側面に一対のブラケット１５１が外向きに固定されており、一対のブラケット１５１には、Ｙ軸収容ボックス１５２が支持されている。すなわち、一対の柱状支持部材６２と並んで、一対のＹ軸収容ボックス１５２が配設されている。一対のＹ軸収容ボックス１５２には、独立移動可能な７つの分割ヘッドユニット７１に対応し、各分割ヘッドユニット７１（ヘッド用電装ユニット１４５）に接続するチューブやケーブル類を、各分割ヘッドユニット７１の移動に追従可能に収容した７つのＹ軸ケーブル担持体１５３（ケーブルベア：登録商標）が、二分されて収容されている。この場合、二分して配置した７つのヘッド用電装ユニット１４５に対応させて、７つのＹ軸ケーブル担持体１５３を（４つと３つに）二分することが好ましい。
【００５８】
ここで、一連の描画処理について説明する。描画処理に先立ち、先ず、ヘッド移動手段４３を駆動して、ヘッドユニット４１を描画エリア５１（描画ホーム位置）に移動させる。一方、ワーク搬出入装置４を用いて、ワーク搬出入エリア５３に位置するセットテーブル１０１に、未処理のワークＷを導入する。セットテーブル１０１にワークＷがセットされると、ワーク移動手段４２が駆動して、ワークＷを主走査（Ｘ軸）方向に往動させる。このワークＷの往動と同期して、機能液滴吐出ヘッド７２が選択的に駆動され、ワークＷに対する機能液の選択的な吐出動作（描画処理）が行われる。
【００５９】
上述したように、ヘッドユニット４１の１描画ラインは、ワークＷの長辺の長さに合わせて形成されているので、ワークＷの縦置き・横置きに関わらず、ワークＷの１往動により、１枚のワークＷに対する描画処理を終えることができる。ワークＷの一往動後、引き続きワーク移動手段４２を駆動して、ワークＷを復動させ、描画処理済みのワークＷをワーク搬出入エリア５３に移動させる。そして、ワーク搬出入装置４により、処理済みのワークＷをセットテーブル１０１から回収する。
【００６０】
本実施形態では、ヘッドユニット４１に対し、ワークＷを直接移動させる構成となっているが、固定したワークＷに対し、ヘッドユニット４１を移動させる構成としても良い。また、ワークＷの往動時だけではなく、復動時にも機能液滴吐出ヘッド７２の吐出駆動を行い、１往復動で描画処理を終了させる構成としても良い。さらに、１描画ラインをワークＷの一辺（描画幅）よりも短く構成したヘッドユニット４１を用いて描画処理を行うことも可能である。この場合、ワークＷを移動させながら１描画ラインの描画を行う主走査と、主走査後にヘッドユニット４１を１描画ライン分Ｙ軸方向に移動させる副走査と、を交互に行うことにより、描画処理を行えばよい。
【００６１】
なお、上述したが、ワーク移動手段４２のＸ軸リニアモータ１０３、Ｘ軸ガイドレール、およびＸ軸リニアスケール１０４は、石定盤３１上に直接支持されている。また、ヘッド移動手段４３のＹ軸リニアモータ１４３、Ｙ軸ガイドレール１４４、およびＹ軸リニアスケール１４６は、石材で構成された柱状支持部材６２に直接支持されている。このように、ヘッド移動手段４３およびワーク移動手段４２の主要部を、平面度を出し易くかつ熱膨張率の小さい石材上に設置することにより、ワークＷおよびヘッドユニット４１を精度よく移動させることができ、ワークＷに精度よく描画処理を行えるようになっている。
【００６２】
次に、ワーク除給手段４４について説明する。ワーク除給手段４４は、ワーク搬出入エリア５３に搬入された未処理のワークＷをセットテーブル１０１にセット（導入）すると共に、処理済みのワークＷをセットテーブル１０１から回収するためのものであり、リフトアップ機構１６１と、プリアライメント機構１７１と、除電手段１８１と、を備えている。
【００６３】
図４および図５に示すように、リフトアップ機構１６１は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に整列配置され、吸着テーブル１１２（テーブル本体１３１）に形成された貫通孔１３５から出没する複数のリフトアップピン１６２を有している。そして、未処理のワークＷをセットテーブル１０１に載置するときには、吸着テーブル１１２から（複数の）リフトアップピン１６２を突出させておき、上記したワーク搬出入装置４のロボットアーム１５からワークＷを受け取った後、リフトアップピン１６２を吸着テーブル１１２に没入させる。一方、吸着テーブル１１２からワークＷを回収するときには、吸着テーブル１１２に没入しているリフトアップピン１６２を上昇させてワークＷを吸着テーブル１１２からリフトアップ（離間）させる。リフトアップしたワークＷに、ロボットアーム１５が下側から臨み、ワークＷが吸着テーブル１１２から回収される。
【００６４】
図２ないし図５に示すように、プリアライメント機構１７１は、リフトアップ機構１６１により吸着テーブル１１２に載置された未処理のワークＷを、テーブル本体１３１に対して位置決め（プリアライメント）するものであり、一対のＸ挟持部材（図示省略）でワークＷの前後端を挟み込むことにより、ワークＷの前後方向（Ｘ軸方向）の位置決めを行うＸ軸位置決めユニット１７２と、２組のＹ挟持部材（図示省略）でワークＷの左右端を挟み込むことにより、ワークＷの左右方向（Ｙ軸方向）の位置決めを行うＹ軸位置決めユニット１７４と、を備えている。
【００６５】
除電手段１８１は、軟Ｘ線を照射することにより、ワークＷの裏面に剥離帯電した静電気を除去するものであり、例えばイオナイザで構成されている。除電手段１８１は、ワーク搬出入エリア５３に臨んで配設され、ロボットアーム１５からリフトアップ機構１６１に移動させるワークＷや、吸着テーブル１１２からリフトアップ（離間）されるワークＷに臨んで、効率的にワークＷの静電気を除去できるようになっている。
【００６６】
次に、機能液供給手段４５について説明する。機能液供給手段４５は、７つの分割ヘッドユニット７１に対応する７つの機能液供給ユニット１９０で構成されており、各機能液供給ユニット１９０は、対応する分割ヘッドユニット７１に機能液を供給する（図２および図３参照）。各機能液供給ユニット１９０は、機能液を貯留する複数（１２個）の機能液タンク２０１を有するタンクユニット１９１と、各機能液タンク２０１および各機能液滴吐出ヘッド７２を接続する複数（１２本）の機能液供給チューブ１９３と、複数の機能液供給チューブ１９３に介設した複数（１２個）の圧力調整弁２１１を有するバルブユニット１９２と、を有している。
【００６７】
図２および図３に示すように、タンクユニット１９１は、上記した挿通開口を挟んで、ヘッド用電装ユニット１４５と対峙するように、上記したブリッジプレート１４１上に設置される。タンクユニット１９１に設けられた１２個の機能液タンク２０１は、（１２本の機能液供給チューブ１９３を介して）分割ヘッドユニット７１に搭載された１２個の機能液滴吐出ヘッド７２にそれぞれ接続される。なお、機能液タンク２０１は、樹脂製のカートリッジケース２０５に、機能液を真空パックした機能液パック２０６を収容したカートリッジ形式のものであり、機能液パックには、予め脱気された機能液が貯留されている（図１０参照）。
【００６８】
図６に示すように、バルブユニット１９２は、１２個の圧力調整弁２１１と、１２個の圧力調整弁２１１を上記したヘッドプレート７３に固定する１２個のバルブ固定部材２１２と、を有している。図１０に示すように、圧力調整弁２１１は、機能液タンク２０１に連なる１次室２２１と、機能液滴吐出ヘッド７２に連なる２次室２２２と、１次室２２１および２次室２２２を連通する連通流路２２３と、をバルブハウジング２２４内に形成したものである。２次室２２２の１の面には外部に面してダイヤフラム２２５が設けられ、連通流路２２３にはダイヤフラム２２５により開閉動作する弁体２２６が設けられている。機能液タンク２０１から１次室２２１に導入された機能液は、２次室２２２を介して機能液滴吐出ヘッド７２に供給されるが、その際、所定の調整基準圧力（ここでは大気圧）でもって、ダイヤフラム２２５が変位する。これにより、連通流路２２３に設けた弁体２２６が開閉動作し、２次室２２２の機能液圧力が僅かに負圧となるよう、２次室２２２内の圧力調整が為される。
【００６９】
このような圧力調整弁２１１を機能液タンク２０１と機能液滴吐出ヘッド７２との間に介設することにより、機能液タンク２０１の水頭に影響されることなく、機能液滴吐出ヘッド７２に機能液を安定して供給することが可能となる。すなわち、機能液滴吐出ヘッド７２（ノズル面８７）の位置と、圧力調整弁２１１（ダイヤフラム２２５の中心）の位置との高低差により、機能液の供給圧が決定され、この高低差を所定の値とすることで、機能液の供給圧を所定圧に保つことができるようになっている。なお、弁体２２６の閉弁時において１次室２２１および２次室２２２は縁切りされており、圧力調整弁２１１は、機能液タンク側（１次側）で発生した脈動等を吸収するダンパー機能を有している。
【００７０】
図６に示すように、１２個のバルブ固定部材２１２は、Ｙ軸方向に位置ずれする分割ヘッドユニット７１の機能液滴吐出ヘッド７２に倣い、Ｙ軸方向に位置ずれして、ヘッドプレート７３上に配設されている。このように、機能液滴吐出ヘッド７２の配置に倣って圧力調整弁２１１を配置することにより、機能液滴吐出ヘッド７２および圧力調整弁２１１間の機能液供給チューブ１９３の長さを一定とすることができ、各機能液滴吐出ヘッド７２に対して、略同一供給圧の機能液を供給可能である。
【００７１】
なお、本実施形態では、タンクユニット１９１をブリッジプレート１４１上に配設したが、ヘッドプレート７３上に搭載する構成としてもよい。この場合、機能液タンク２０１から機能液滴吐出ヘッド７２に至る機能液供給チューブ１９３（機能液流路）の長さを短く構成することができ、機能液を効率的に利用することができる。また、バルブユニット１９２の設置位置も、ヘッドプレート７３上に限定されるものではなく、実情に応じて、ブリッジプレート１４１上に設けることも可能である。
【００７２】
次に、メンテナンス手段４６について説明する。メンテナンス手段４６は、機能液滴吐出ヘッド７２のメンテナンスを主目的としたものであり、フラッシングユニット２３１と、吸引ユニット２３２と、ワイピングユニット２３３と、ユニット昇降機構２３５と、を備えている。図５に示すように、フラッシングユニット２３１は、セットテーブル１０１に並設されている。吸引ユニット２３２、ワイピングユニット２３３、およびユニット昇降機構２３５は、アングル架台３２に支持されている（図２〜４、図１１、図１２参照）。
【００７３】
なお、メンテナンス手段４６として、上記の各ユニットに加え、機能液滴吐出ヘッド７２から吐出された機能液滴の飛行状態を検査する吐出検査ユニットや、機能液滴吐出ヘッド７２から吐出された機能液滴の重量を測定する重量測定ユニット等を設けることが好ましい。
【００７４】
フラッシングユニット２３１は、フラッシング動作、すなわち機能液滴吐出ヘッド７２の予備吐出（捨て吐出）で吐出された機能液を受けるためのものであり、特に、ワークＷに機能液を吐出させる直前に行う吐出前フラッシングを受けるためのものである。図５に示すように、フラッシングユニット２３１は、セットテーブル１０１に沿って配設され、機能液を受けるフラッシングボックス２４１と、上記したθテーブル１１１のθ固定部１２１に固定され、フラッシングボックス２４１を支持するボックス支持部材２４２と、で構成されている。
【００７５】
フラッシングボックス２４１は、平面視長方形の箱状に形成されており、その底面には、機能液を吸収させる吸収材（図示省略）が敷設されている。フラッシングボックス２４１の短辺は、ヘッドユニット４１のＸ軸方向における長さに対応して形成され、フラッシングボックス２４１の長辺は、テーブル本体１３１の一辺の長さ（１描画ラインの長さ）に一致させて形成されている。すなわち、フラッシングボックス２４１は、ヘッドユニット４１を包含するように構成され、ヘッドユニット４１に搭載された全機能液滴吐出ヘッド７２からフラッシングされた機能液を一度に受けることができるように構成されている。
【００７６】
ボックス支持部材２４２は、セットテーブル１０１（吸着テーブル１１２）の、Ｘ軸に直交し、上記したワーク搬出入エリア５３と反対側（図示後方）に位置する辺に沿って、フラッシングボックス２４１を支持している。すなわち、フラッシングボックス２４１は、吸着テーブル１１２の、ワーク往動時の先端側となる辺に沿って、フラッシングボックス２４１が配設されるので、ワークＷをＸ軸方向に往動すると、ヘッドユニット４１は、フラッシングユニット２３１に臨んだ後、ワークＷに臨むこととなる。したがって、吐出前フラッシングのためだけに、ヘッドユニット４１を移動させることが不要となると共に、ワークＷに臨む直前に吐出前フラッシングを行うことができる。また、セットテーブル１０１に対し、ワークＷを導入・回収する際には、フラッシングボックス２４１は、ワーク搬出入エリア５３の後方側に位置するため、ワークＷの導入・回収の邪魔になることがない。なお、セットテーブル１０１をワーク搬出入エリア５３に臨ませると、フラッシングボックス２４１は、描画エリア５１に臨むよう支持され、ヘッドユニット４１の直下に位置するようになっている（図５等参照）。
【００７７】
さらに、ボックス支持部材２４２は、フラッシングボックス２４１の上端面が、吸着テーブル１１２にセットしたワークＷの表面と略面一となるように、フラッシングボックス２４１を支持している。このように、フラッシングボックス２４１を吸着テーブル１１２と略面一に支持することにより、ヘッドユニット４１にフラッシングボックス２４１が干渉することないと共に、フラッシングで吐出された機能液をフラッシングボックスに効率的に受けることができるようになっている。
【００７８】
上述したように、本実施形態は、ワークＷの往動時にのみ機能液滴吐出ヘッド７２を吐出駆動させる構成であるが、ワークＷの復動時にも機能液滴吐出ヘッド７２を吐出させる場合には、フラッシングボックスを一対設け、セットテーブル１０１の、Ｘ軸と直交する２辺に沿って、これを配設することが好ましい。これにより、ワークＷの往復動に伴う吐出駆動に直前にフラッシングを行うことができる。
【００７９】
なお、フラッシング動作には、上記した吐出前フラッシングの他、ワークＷの交換時のように、ワークＷに対する描画を一時的に停止するときに行う定期フラッシングがあり、本実施形態では、この定期フラッシングにより吐出された機能液を、後述の吸引ユニット２３２によって受けるように構成されている。
【００８０】
吸引ユニット２３２は、機能液滴吐出ヘッド７２を吸引して、機能液滴吐出ヘッド７２から機能液を強制的に排出させるものである。吸引ユニット２３２による機能液滴吐出ヘッド７２の吸引は、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル詰まりを解消／防止するために行われる他、液滴吐出装置３を新設した場合や、機能液滴吐出ヘッド７２のヘッド交換を行う場合などに、機能液タンク２０１から機能液滴吐出ヘッド７２に至る機能液流路に機能液を充填するために行われる。
【００８１】
図２〜図４、図１１、図１２に示すように、吸引ユニット２３２は、Ｙ軸方向においてワイピングユニット２３３と隣接して配設され、メンテナンスエリア５２に臨んでいる。吸引ユニット２３２は、ヘッドユニット４１を構成する７つの分割ヘッドユニット７１に対応して構成されている。すなわち、吸引ユニット２３２は、分割ヘッドユニット７１単位で吸引を行う７つの分割吸引ユニット２５１を有している。７つの分割吸引ユニット２５１は、ヘッドユニット４１を構成する７つの分割ヘッドユニット７１の配置に倣い、Ｙ軸方向に整列配置した状態で配置されている。
【００８２】
図１３および図１４に示すように、７つの分割吸引ユニット２５１は、上記したユニット昇降機構２３５の昇降機構３５１（後述する）により、個々に昇降可能に支持されている。これらの図に示すように、各分割吸引ユニット２５１は、分割ヘッドユニット７１に対して下側から臨み、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に密着させるキャップ２６１を有するキャップユニット２５２と、キャップユニット２５２を支持するキャップ支持部材２５３と、キャップ支持部材２５３に組み込まれ、キャップ支持部材２５３を介してキャップユニット２５２を昇降させるキャップ昇降機構２５４と、密着させたキャップ２６１を介して機能液滴吐出ヘッド７２に吸引力を作用させる吸引手段（図示省略）と、を備えている。
【００８３】
図１３および図１４に示すように、キャップユニット２５２は、分割ヘッドユニット７１に搭載された機能液滴吐出ヘッド７２の並びに対応させて、１２個のキャップ２６１をキャップベース２６２に配設したものである。すなわち、吸引ユニット２３２には、ヘッドユニット４１における機能液滴吐出ヘッド７２の配置パターンに倣って、１２×７個（８４個）のキャップ２６１が配置されており、ヘッドユニット４１の全機能液滴吐出ヘッド７２に、対応するキャップ２６１を密着させることが可能である。図示省略したが、各キャップ２６１には、大気開放弁が設けられており、この大気開放弁を吸引動作の最終段階で開弁することにより、キャップ２６１内に残留する機能液を吸引できるようになっている。
【００８４】
図１３および図１４に示すように、キャップ支持部材２５３は、キャップユニット２５２を支持するキャップ支持プレート２６５と、キャップ支持プレート２６５を上下方向にスライド自在に支持するキャップスタンド２６６と、キャップスタンド２６６を支持するキャップ支持ベース２６７と、を有している。なお、キャップ支持プレート２６５の下面には、キャップ２６１の大気開放弁（図示省略）を開閉させるための一対のエアーシリンダ２６８が固定されている。
【００８５】
図１４に示すように、キャップ昇降機構２５４は、キャップスタンド２６６の上側に配設され、キャップ支持プレート２６５を介して、キャップユニット２５２を昇降自在に支持する第１昇降シリンダ２７１と、キャップスタンド２６６の下側に配設され、第１昇降シリンダ２７１を介して、キャップユニット２５２を昇降自在に支持する第２昇降シリンダ２７２と、を有している。第１昇降シリンダ２７１および第２昇降シリンダ２７２は、互いにストロークが異なるエアーシリンダで構成されており、第２昇降シリンダ２７２のストロークは、第１昇降シリンダ２７１のストロークよりも長く構成されている。そして、第１および第２昇降シリンダ２７１、２７２を選択的に駆動することにより、キャップユニット２５２の上昇位置が、キャップ２６１が機能液滴吐出ヘッド７２に密着する第１位置と、第１位置よりも僅か（２〜３ｍｍ程度）に低い第２位置と、のいずれか一方に切り替えられる。具体的には、第１昇降シリンダ２７１を駆動すると、キャップユニット２５２を、所定の下降端位置から第１位置まで移動させることができ、第２昇降シリンダ２７２を駆動すると、キャップユニット２５２を第２位置まで移動させることができるようになっている。
【００８６】
吸引手段は、分割ヘッドユニット７１の１２個の機能液滴吐出ヘッド７２に吸引力を作用させる単一のエゼクタと、１２個のキャップ２６１とエゼクタとを接続する吸引チューブと、を有している（いずれも図示省略）。エゼクタは、エアー供給チューブ（図示省略）を介して、上記したエアー供給手段に接続されている。エゼクタに接続した１本の吸引チューブは、ヘッダパイプ（図示省略）を介して複数（１２本）の分岐吸引チューブ（図示省略）に分岐し、各キャップ２６１に接続される。吸引チューブには、液体供給回収手段の再利用タンク（後述する）が介設されており、エゼクタで吸引された機能液は、再利用タンクに貯留される。なお、同図では省略したが、各分岐吸引チューブのキャップ２６１の近傍には、キャップ２６１側から順に、機能液の有無を検出する液体センサ２７６、各分岐吸引チューブ内の圧力を検出する圧力センサ２７７（いずれも図１８参照）、および各分岐吸引チューブを開閉するための吸引用バルブがそれぞれ設けられている。
【００８７】
分割吸引ユニット２５１の吸引動作について説明する。吸引動作に先立ち、ヘッド移動手段４３を駆動して、ヘッドユニット４１をメンテナンスエリア５２に移動させ、分割ヘッドユニット７１の１つを分割吸引ユニット２５１に臨ませる。続いて、キャップ昇降機構２５４を駆動し、キャップユニット２５２を第１位置まで移動させる。これにより、分割吸引ユニット２５１に臨んだ分割ヘッドユニット７１の全機能液滴吐出ヘッド７２に、対応するキャップ２６１が密着する。次に、エアー供給手段からエゼクタに圧縮エアーを供給し、キャップ２６１を介して機能液滴吐出ヘッド７２の吸引を行う。各機能液滴吐出ヘッド７２から、機能液が一定量吸引されると、エゼクタに対する圧縮エアーの供給が停止される。そして、機能液滴吐出ヘッド７２の吸引が終了すると、キャップ昇降機構２５４を駆動して、キャップユニット２５２を下降端位置まで移動させ、機能液滴吐出ヘッド７２からキャップ２６１を離間させる。
【００８８】
なお、機能液の吸引中は、液体センサ２７６および圧力センサ２７７の検出信号に基づいて、吸引動作のモニタリングが行われ、各キャップ２６１の吸引不良を検出できるようになっている。また、液体センサ２７６および圧力センサ２７７の検出結果に基づいて上記の吸引用バルブを開閉することにより、各機能液滴吐出ヘッド７２から、吸引される機能液量を略一定とすることができ、吸引動作によって機能液が過剰に吸引されることを防止可能となっている。
【００８９】
吸引ユニット２３２は、上記のような機能液滴吐出ヘッド７２の吸引に供されるだけではなく、定期フラッシングの機能液を受けるように構成されている。すなわち、吸引ユニット２３２の各キャップ２６１は、フラッシングボックスの役割を兼ねており、定期フラッシングで各機能液滴吐出ヘッド７２が吐出した機能液を、対応するキャップ２６１で受けるようになっている。この場合、キャップ昇降機構２５４が駆動され、キャップユニット２５２を第２位置まで上昇させる。これにより、キャップ２６１は、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に対して僅か（２〜３ｍｍ）に離間した状態で支持され、定期フラッシングの機能液を効率よくキャップ２６１で受けられるようになっている。
【００９０】
また、吸引ユニット２３２は、液滴吐出装置３の非描画処理時等に、機能液滴吐出ヘッド７２を保管するためにも用いることが可能である。この場合、メンテナンスエリア５２にヘッドユニット４１を臨ませた後、キャップ昇降機構２５４を駆動して、キャップユニット２５２を第１位置まで移動させる。これにより、キャップ２６１が機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に密着して、ノズル面８７が封止（キャッピング）され、機能液滴吐出ヘッド７２（吐出ノズル８８）の乾燥が防止される。
【００９１】
次に、ワイピングユニット２３３について説明する。ワイピングユニット２３３は、機能液滴吐出ヘッド７２の吸引等により、機能液が付着して汚れた各機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７を、ワイピングシート２８１を用いて拭き取る（ワイピングする）ものである。図２〜４、図１１、図１２に示すように、ワイピングユニット２３３は、上記したユニット昇降機構２３５の、描画エリア５１と吸引ユニット２３２との間、すなわちメンテナンスエリア５２の描画エリア５１側に配置されている。このような配置により、ワイピングユニット２３３は、吸引処理を終え、描画エリア５１へ移動するヘッドユニット４１（分割ヘッドユニット７１）に順次臨むことができ、その機能液滴吐出ヘッド７２にワイピング処理を行えるようになっている。
【００９２】
図１５および図１６に示すように、ワイピングユニット２３３は、主要部が配設されたユニット本体２８２と、ユニット本体２８２をＸ軸方向にスライド自在に支持する横移動機構２８３と、を備えている。ユニット本体２８２は、ロール状に巻回したワイピングシート２８１を繰り出しながら巻き取ってゆくシート供給ユニット２９１と、機能液滴吐出ヘッド７２の下側から臨み、ワイピングシート２８１でノズル面８７を拭取る拭取りユニット２９２と、繰り出したワイピングシート２８１に洗浄液を散布する洗浄液供給ユニット２９３と、これらを支持するワイピングフレーム２９４と、を有している。なお、ワイピングシート２８１に供給される洗浄液は、比較的揮発性の高い機能液の溶剤であり、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に付着する機能液を効率的に除去できるようになっている。
【００９３】
ワイピングフレーム２９４は、方形のワイピングベース３０１と、Ｘ軸方向と平行になるように、ワイピングベース３０１に立設した一対のサイドフレーム３０２と、を有している。一対のサイドフレーム３０２の左側（描画領域側）には、シート供給ユニット２９１が配設され、その右側（吸引ユニット２３２側）上部には、拭取りユニット２９２が配設されている。また、サイドフレーム３０２には、シート供給ユニット２９１から拭取りユニット２９２に繰出されるワイピングシート２８１に臨むように、洗浄液供給ユニット２９３が支持されている。
【００９４】
図１５および図１６に示すように、シート供給ユニット２９１は、ロール状のワイピングシート２８１を装填し、ワイピングシート２８１を（その延在方向に）繰り出す図示上側の繰出しリール３１１と、繰り出されたワイピングシート２８１を巻き取る図示下側の巻取りリール３１２と、巻取りリール３１２を巻取り回転させる巻取りモータ３１３と、巻取りモータ３１３の動力を巻取りリール３１２に伝達する動力伝達機構３１４と、繰出しリール３１１からのワイピングシート２８１を拭取りユニット２９２に送る中間ローラ３１５と、を有している。
【００９５】
サイドフレーム３０２の外側に位置する繰出しリール３１１の軸端の一方には、巻取りモータ３１３に抗するように制動回転するトルクリミッタ３１６が設けられており、繰出されたワイピングシート２８１に一定の張力を付与できるようになっている。巻取りモータ３１３は、ギヤードモータで構成され、サイドフレーム３０２に固定されている。動力伝達機構３１４は、巻取りモータ３１３の出力端に固定した駆動プーリ３１７と、巻取りリール３１２の軸端に固定した従動プーリ３１８と、両プーリ３１７、３１８間に架け渡したタイミングベルト３１９と、を有している。巻取りモータ３１３が駆動すると、自身の減速ギア列を介してタイミングベルト３１９が走行し、巻取りリール３１２に動力が伝達される。中間ローラ３１５の軸端には、速度検出器３２０（図１８参照）が設けられ、ワイピングシート２８１の送り速度を検出している。繰出しリール３１１、巻取りリール３１２、および中間ローラ３１５は、その軸線が、ワイピングシート２８１の幅方向であるＸ軸方向と平行になるように、サイドフレーム３０２に両持ち、かつ回転自在に軸支されている。すなわち、ワイピングシート２８１は、ワイピングシート２８１の幅方向（Ｘ軸方向）と直交する方向に、繰り出し送りされる。
【００９６】
図１５および図１６に示すように、拭取りユニット２９２は、ワイピングシート２８１の幅に対応した軸方向の長さを有し、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７にワイピングシート２８１を当接させる拭取りローラ３２１と、拭取りローラ３２１を両持ちで支持する一対の軸受け部材３２２と、一対の軸受け部材３２２を介して拭取りローラ３２１を昇降させるローラ昇降機構３２３と、これらを支持すると共に、サイドフレーム３０２に固定された「Ｌ」字状の一対の軸受けフレーム３２４と、を有している。繰出しリール３１１から繰出されたワイピングシート２８１は、中間ローラ３１５を経て、拭取りローラ３２１を周回し、巻取りリール３１２に巻き取られるようになっている。
【００９７】
拭取りローラ３２１は、自由回転ローラであり、軸線をＸ軸方向と一致させた状態で、一対の軸受け部材３２２に回転自在に軸支されている。すなわち、拭取りローラ３２１は、ヘッドユニット４１に搭載された機能液滴吐出ヘッド７２のノズル列と直交するよう支持されており、ノズル面８７をノズル列方向に（縦拭きで）拭取ってゆくようになっている。この場合、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７の損傷を防止するため、拭取りローラ３２１を柔軟性と弾力性を有するゴム等で構成することが好ましい。ローラ昇降機構３２３は、一対のサイドフレーム３０２上に固定された一対のローラ昇降シリンダ３２５（エアーシリンダ）を有し、一対の軸受け部材３２２を昇降自在に支持している。すなわち、ローラ昇降シリンダ３２５を駆動すると、軸受け部材３２２を介して、拭取りローラ３２１がヘッドユニット４１の機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に当接可能な所定の拭取り高さ位置まで昇降する。
【００９８】
図１５および図１６に示すように、洗浄液供給ユニット２９３は、噴霧ノズルから成り、後述する洗浄液タンクに接続された複数の洗浄液ノズル３３１と、一対のサイドフレーム３０２に架け渡され、複数の洗浄液ノズル３３１を支持するノズル支持部材３３２と、を有している。ノズル支持部材３３２は、中間ローラ３１５と拭取りローラ３２１との間に設けられると共に、Ｘ軸方向（ワイピングシート２８１の幅方向）と平行になるように一対のサイドフレーム３０２に両持ちで支持されている。複数の洗浄液ノズル３３１は、中間ローラ３１５から拭取りローラ３２１に送られるワイピングシート２８１に臨んで配設される。この場合、ワイピングシート２８１の幅全体に洗浄液が均等に噴霧されるよう、複数の洗浄液ノズル３３１をＸ軸方向に均等に配置することが好ましい。なお、本実施形態では、ワイピングシート２８１の幅全体に洗浄液を供給させるため、複数の洗浄液ノズル３３１を具備しているが、洗浄液ノズル３３１をワイピングシート２８１の幅方向に移動させるノズル移動機構を設けることにより、洗浄液ノズル３３１を単一のもので構成することも可能である。
【００９９】
横移動機構２８３は、ユニット本体２８２を介して、ワイピングシート２８１全体をその幅方向（Ｘ軸方向）に移動させるためのものである。上述したように、機能液滴吐出ヘッド７２は、ヘッド保持部材７４を介してヘッドプレート７３に取り付けられており、ノズル列と直交したＸ軸方向に隣接する機能液滴吐出ヘッド７２間には間隙を有している（図８参照）。したがって、ノズル列方向に沿って、機能液滴吐出ヘッド７２の拭取りを行うと、ワイピングシート２８１には、ストライプ状に汚れが付着する（図１７（ａ）参照）。すなわち、機能液滴吐出ヘッド７２間の間隙に相当する部分は、拭取りに用いられず、ワイピングシート２８１の一部分のみが拭取りに供される。そこで、横移動機構２８３を設け、一旦拭取りを行ってストライプ状に汚れが付着したワイピングシート２８１を、Ｘ軸方向に横移動させることにより、機能液滴吐出ヘッド７２に対するワイピングシート２８１の払拭位置を異ならせ、上記した間隙部分のワイピングシート２８１を有効に利用できるようにした（図１７（ｂ）参照）。なお、横移動機構２８３に代えて、ヘッドユニット４１（分割ヘッドユニット７１）をＸ軸方向に移動させる機構を設け、これをワイピングシート２８１に対して横移動させる構成としても同様の効果を得ることができる。
【０１００】
図１５および図１６に示すように、横移動機構２８３は、ユニット本体２８２をＸ軸方向にスライド自在に支持する２組４個の横移動スライダ３４３と、２組４個の横移動スライダ３４３をＸ軸方向に移動させる横移動ボールねじ３４２と、横移動ボールねじ３４２を正逆回転させる横移動モータ３４１と、Ｘ軸方向に延在し、横移動スライダ３４３の移動をガイドする一対の横移動ガイド３４４と、上記したユニット昇降機構２３５（ベースプレート３５２）に固定され、これらを支持する横移動ベース３４５と、を備えている。横移動モータ３４１が駆動すると、横移動ボールねじ３４２を介して横移動スライダ３４３がＸ軸方向に（正逆）移動し、横移動ベース３４５に対して、ユニット本体２８２がＸ軸方向を移動する。
【０１０１】
本実施形態では、Ｘ軸方向に隣接する機能液滴吐出ヘッド７２間の間隙は、ノズル列と直交する機能液滴吐出ヘッド７２の短辺およそ１個分となっており、横移動機構２８３で横移動させる距離は、機能液滴吐出ヘッド７２の短辺１個分に設定されている。すなわち、Ｘ軸方向における機能液滴吐出ヘッド７２の配置ピッチの半ピッチ分を移動させるようにしている。ただし、この値は、機能液やワイピングシート２８１の種類やＸ軸方向における機能液滴吐出ヘッド７２の配置ピッチ等に応じて変更可能である。なお、本実施形態の横移動機構２８３は、モータ駆動でユニット本体２８２をスライドさせているが、モータ駆動に代えて、ロッドレスシリンダ等を用いたエアー駆動のものとしても良い。
【０１０２】
ここで、ワイピングユニット２３３の一連の動作について説明する。先ず、洗浄液供給ユニット２９３を駆動して、洗浄液ノズル３３１から洗浄液を噴霧させ、ワイピングシート２８１に洗浄液を供給する。一方、ローラ昇降シリンダ３２５が駆動され、拭取りローラ３２１を拭取り高さ位置まで上昇させる。次に、巻取りモータ３１３が駆動され、洗浄液を含浸したワイピングシート２８１が拭取りローラ３２１に送られる。洗浄液を含浸したワイピングシート２８１が拭取りローラ３２１に送られると、巻取りモータ３１３の駆動が停止され、ワイピングシート２８１の送りが停止される。続いて、ヘッド移動手段４３が駆動される。これにより、ヘッドユニット４１は、搭載した機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７を、洗浄液を含浸したワイピングシート２８１に当接させた（押し付けた）状態で、メンテナンスエリア５２を移動してゆく。すなわち、ワイピングシート２８１に対して、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面が摺動し、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７がワイピングシート２８１で払拭されてゆく。
【０１０３】
詳細は後述するが、本実施形態では、分割ヘッドユニット７１単位でワイピングを行う構成となっており、７つの分割ヘッドユニット７１を１個ずつ、順番にワイピングユニット２３３に臨ませることにより、分割ヘッドユニット７１に搭載する機能液滴吐出ヘッド７２を連続してワイピングする。そこで、このワイピングユニット２３３では、未使用のワイピングシート２８１で所定個分の分割ヘッドユニット７１をワイピングした後、横移動機構２８３を駆動して、ワイピングシート２８１をＸ軸方向に移動させる。そして、さらに所定個分の分割ヘッドユニット７１をワイピングした後、巻取りモータ３１３を駆動し、使用済みのワイピングシート２８１を送るようになっている。
【０１０４】
次に、ユニット昇降機構２３５について説明する。上記したメンテナンスエリア５２は、機能液滴吐出ヘッド７２の保守に用いられるだけではなく、吸引ユニット２３２やワイピングユニット２３３のメンテナンスや、キャリッジ７５に搭載したヘッドプレート７３を交換する（ヘッド交換）ための作業領域を兼ねている。そこで、ユニット昇降機構２３５は、機能液滴吐出ヘッド７２を保守する所定のメンテナンス位置（アクセス位置）から、所定の退避位置まで、吸引ユニット２３２およびワイピングユニット２３３を下降させることにより、吸引ユニット２３２およびワイピングユニット２３３上に作業領域を確保するものである。
【０１０５】
図１１および図１２に示すように、ユニット昇降機構２３５は、吸引ユニット２３２の７つの分割吸引ユニット２５１およびワイピングユニット２３３のいずれか１個を支持する８つの昇降機構３５１を有しており、これらを、メンテナンス位置および退避位置の間で、それぞれ独立して昇降させることができるようになっている。図１３ないし図１６に示すように、昇降機構３５１は、上記したアングル架台３２に架け渡したベースプレート３５２と、ベースプレート３５２に固定され、分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３を昇降自在に支持するユニット昇降シリンダ３５３（エアーシリンダ）と、分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３の昇降移動をガイドする一対のユニット昇降ガイド３５４と、を有している。
【０１０６】
ユニット昇降シリンダ３５３は、ベースプレート３５２を貫通しており、シリンダ本体は、ベースプレート３５２の下面中央位置に固定され、ピストンロッドは、分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３に固定されている。ユニット昇降シリンダ３５３による昇降ストロークは、２００ｍｍ〜４００ｍｍに設定されている。ユニット昇降ガイド３５４は、ベースプレート３５２を貫通し、上端を（ガイドする）分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３に固定した一対のガイドシャフト３５５と、一対のガイドシャフト３５５に摺動自在に係合すると共に、ベースプレート３５２に固定された一対のフランジ付きリニアブッシュ３５６とで構成されている。一対のガイドシャフト３５５は、ユニット昇降シリンダ３５３を中心として、対称に配置されており、分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３の昇降を安定してガイドできるようになっている。
【０１０７】
通常、ユニット昇降機構２３５は、吸引ユニット２３２およびワイピングユニット２３３を、メンテナンス位置に支持しており、吸引ユニット２３２およびワイピングユニット２３３や、ヘッド交換を行うときのみ、これらを退避位置まで下降させる。
【０１０８】
液体供給回収手段は、メンテナンス手段４６のフラッシングユニット２３１からの廃液を廃液タンクに回収する廃液回収系と、吸引ユニット２３２で吸引した機能液および吸引ユニット２３２に吐出された機能液を再利用タンクに回収する機能液回収系と、洗浄液タンクを有し、ワイピングユニット２３３に洗浄液を供給する洗浄液供給系と、で構成されている（いずれも図示省略）。なお、装置本体２２には、廃液回収系の廃液タンク、機能液回収系の再利用タンク、および洗浄液供給系の洗浄液タンクをまとめて収容するタンクキャビネットが配設されている。
【０１０９】
次に、図１８を参照して、液滴吐出装置３の主制御系について説明する。同図に示すように、液滴吐出装置３は、ヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド７２）、およびワーク移動手段４２、を有する描画部３６１と、ヘッド移動手段４３を有するヘッド移動部３６２と、ワーク除給手段４４を有するワーク除給部３６３と、メンテナンス手段４６を有するメンテナンス部３６４と、各種センサを有し、各種検出を行う検出部３６５と、各部を駆動する駆動部３６６と、各部に接続され、液滴吐出装置３全体の制御を行う制御部３６７（制御装置５）と、を備えている。
【０１１０】
制御部３６７には、各手段を接続するためのインタフェース３７１と、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ３７２と、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ３７３と、ワークＷに描画を行うための描画データや、各手段からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク３７４と、ＲＯＭ３７３やハードディスク３７４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ３７５と、これらを互いに接続するバス２７６と、が備えられている。
【０１１１】
そして、制御部３６７は、各手段からの各種データを、インタフェース３７１を介して入力すると共に、ハードディスク３７４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等により順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ３７５に演算処理させ、その処理結果を、各手段に出力することにより、装置全体を制御している。
【０１１２】
図１９ないし図２１を参照して、ヘッドユニット４１のメンテナンスを行う場合を例に、液滴吐出装置３の制御について説明する。ヘッドユニット４１のメンテナンスには、搭載した機能液滴吐出ヘッド７２の機能維持・機能回復を図るために、ワークＷの交換時に定期的に行われる定期メンテナンスと、分割ヘッドユニット７１のヘッドプレート７３を交換するヘッド交換と、が含まれており、ここでは、定期メンテナンスについての制御フローを説明した後、ヘッド交換の制御フローについて説明する。なお、説明の便宜のため、ヘッドユニット４１の７つの分割ヘッドユニット７１を、図示左側から第１〜第７分割ヘッドユニット７１ａ〜ｇとした。同様に、吸引ユニット２３２の７つの分割吸引ユニット２５１も、図示左側から第１〜第７分割吸引ユニット２５１ａ〜ｇとした。
【０１１３】
定期メンテナンスは、ヘッドユニット４１の全機能液滴吐出ヘッド７２に対して、吸引ユニット２３２を用いて吸引した後、ワイピングユニット２３３を用いてワイピングするものである。図１９（ｂ）に示すように、定期メンテナンスの制御フローでは、先ず、ヘッド移動手段４３が駆動され、ヘッドユニット４１を構成する７つの分割ヘッドユニット７１全てをメンテナンスエリア５２に移動すると共に、これらを分割吸引ユニット２５１にそれぞれ臨ませる。次に、７つのキャップ昇降機構２５４を駆動して、７つのキャップユニット２５２を第１位置まで移動させ、ヘッドユニット４１の全機能液滴吐出ヘッド７２に、対応するキャップ２６１を密着させる。続いて、全分割吸引ユニット２５１のエゼクタに圧縮エアーを供給し、ヘッドユニット４１の全機能液滴吐出ヘッド７２を吸引する。
【０１１４】
全機能液滴吐出ヘッド７２の吸引が終了すると、第１分割吸引ユニット２５１ａのキャップ昇降機構２５４を駆動して、第１分割ヘッドユニット７１ａの機能液滴吐出ヘッド７２からキャップ２６１を離間させる。続いて、ヘッド移動手段４３を駆動して、第１分割ヘッドユニット７１ａを描画エリア５１側へ移動させると共に、ワイピングユニット２３３を駆動して、第１分割ヘッドユニット７１ａの全機能液滴吐出ヘッド７２にワイピングを行う。この間、第２〜第７分割ヘッドユニット７１ｂ〜ｇは、第２〜第７分割吸引ユニット２５１ｂ〜ｇのキャップ２６１により、搭載した機能液滴吐出ヘッド７２を封止（キャッピング）した状態で待機している。これにより、待機中の機能液滴吐出ヘッド７２（の吐出ノズル８８）が乾燥して、目詰まりすることを防止できる。
【０１１５】
第１分割ヘッドユニット７１ａに対するワイピングが終了間近になると、第２分割吸引ユニット２５１ｂのキャップ昇降機構２５４を駆動して、待機中の第２分割ヘッドユニット７１ｂの機能液滴吐出ヘッド７２からキャップ２６１を離間させる。そして、第１分割ヘッドユニット７１ａのワイピングが終了すると、ヘッド移動手段４３の駆動を制御して、第１分割ヘッドユニット７１ａを描画エリア５１に移動させると共に、ワイピングユニット２３３の横移動機構２８３を駆動して、ワイピングシート２８１をＸ軸方向に移動させる。続いて、第２分割ヘッドユニット７１ｂを描画エリア５１側へ移動させ、第２分割ヘッドユニット７１ｂのワイピングを行う（図１９（ｃ）参照）。
【０１１６】
第２分割ヘッドユニット７１ｂのワイピングが終了直前に、第３分割吸引ユニット２５１ｃのキャップ昇降機構２５４を駆動して、待機中の第３分割ヘッドユニット７１ｃからキャップ２６１を離間させる。第２分割ヘッドユニット７１ｂのワイピングが終了すると、ヘッド移動手段４３の駆動を制御して、第２分割ヘッドユニット７１ｂを描画エリア５１に移動させると共に、ワイピングユニット２３３のシート供給ユニット２９１（巻取りモータ３１３）を駆動して、ワイピングシート２８１を繰り出し送りし、洗浄液を含浸させた未使用のワイピングシート２８１を拭取りユニット２９２（拭取りローラ３２１）に供給する。
【０１１７】
そして、ヘッド移動手段４３を駆動して、第３分割ヘッドユニット７１ｃのワイピングを行う。以下、待機中の第４〜第７分割ヘッドユニット７１ｄ〜ｇに対しても同様の動作が繰り返され、ワイピングと描画エリア５１への移動とが、第４〜第７分割ヘッドユニット７１ｃ〜ｇの順で行われる。
【０１１８】
一方、全ての分割ヘッドユニット７１のワイピングが終了するまでの間、描画エリア５１に送られた（待機中の）分割ヘッドユニット７１の機能液滴吐出ヘッド７２は、所定の間隔で定期的に吐出駆動され、フラッシング動作が行われる。このとき、セットテーブル１０１は、ワーク交換のためにワーク搬出入エリア５３に臨んでおり、描画エリア５１で待機中の分割ヘッドユニット７１は、フラッシングボックス２４１の直上部に臨んでフラッシングを行う。
【０１１９】
なお、本実施形態では、ワイピング前の分割ヘッドユニット７１を、キャッピングした状態で待機させているが、キャップ２６１に向けて、所定の間隔で定期的にフラッシングさせながら（キャップ内フラッシングをさせながら）、これを待機させるように構成してもよい。この場合、第１分割ヘッドユニット７１ａからキャップ２６１を離間させる時に、第２〜第７分割吸引ユニット２５１ｂ〜ｇのキャップ昇降機構２５４を駆動して、第２〜第７分割吸引ユニット２５１ｂ〜ｇのキャップ２６１を第２位置に移動させる。
【０１２０】
もっとも、極めて揮発性が低い機能液を用いた場合のように、ワイピングのための待機時間が、機能液滴吐出ヘッド７２の吐出性能にほとんど影響しない場合には、待機中のキャッピングやキャップ内フラッシングは必要ではない。この場合、ワイピングの待機中に、キャッピングやキャップ内フラッシングを行う必要がないため、吸引ユニット２３２を、７つ未満の分割吸引ユニット２５１で構成してもよい。特に、定期メンテナンスを行う頻度が少ない場合には、分割吸引ユニット２５１の減少が、全体のタクトタイムに与える影響は少なく、吸引ユニット２３２を、単一の分割吸引ユニット２５１で構成することが可能である。逆に、頻繁に定期メンテナンスを行う場合には、ワイピングのための待機時間が全体の処理時間に影響を与えるため、この待機時間を削減すべく、複数のワイピングユニット２３３を設けるようにしてもよい。
【０１２１】
また、図１９に示すように、本実施形態では、ワイピング前の分割ヘッドユニット７１は、ワイピングを待つ間移動せず、吸引が行われた位置に留まったままであるが、先に行われる分割ヘッドユニット７１のワイピングが終了する毎に、描画エリア５１側（ワイピングユニット２３３側）に位置して隣接する分割吸引ユニット２５１のキャップユニット２５２に順次移動させるようにしてもよい。
【０１２２】
図２０を参照して具体的に説明する。同図（ａ）に示すように、（第１分割吸引ユニット２５１に臨む）第１分割ヘッドユニット７１ａがワイピングユニット２３３に移動すると、第２〜第７分割ヘッドユニット７１ｂ〜ｇを、第１〜第６分割吸引ユニット２５１ａ〜ｆまで移動させる。そして、同図（ｂ）に示すように、第１分割ヘッドユニット７１ａのワイピングが終了し、第１分割吸引ユニット２５１に臨む第２分割ヘッドユニット７１ｂがワイピングユニット２３３に移動すると、第３〜第７分割ヘッドユニット７１ｃ〜ｇを、第１〜第５分割吸引ユニット２５１ａ〜ｆまで移動させる。なお、この場合も、ワイピングが終了した分割ヘッドユニット７１は、描画エリア５１へ移動する。このように、（先にワイピングを行う）分割ヘッドユニット７１のワイピングユニット２３３への移動に伴い、待機中の分割ヘッドユニット７１を、隣接するワイピングユニット２３３側の分割吸引ユニットに移動させることにより、ヘッドユニット４１（全分割ヘッドユニット７１）のワイピングに要する時間を短縮することができる。
【０１２３】
さらに、本実施形態では、１個の分割ヘッドユニット７１のワイピングが終了すると、ワイピングシート２８１を横移動させているが、横移動のタイミングは、実情（機能液の種類等）に応じて適宜設定可能である。例えば、２個の分割ヘッドユニット７１のワイピングを行った後、ワイピングシート２８１を横移動させ、さらに２個の分割ヘッドユニット７１のワイピングを行ってから、ワイピングシート２８１を繰り出すようにしてもよい。また、各分割ヘッドユニット７１のヘッドプレート７３等に、ワイピングシート２８１の汚れ具合を検出する汚れ検出手段（図示省略）を設けるなどして、ワイピングシート２８１の汚れ具合に応じて、ワイピングシート２８１を横送りすることも可能である。この場合、反射型のフォトセンサや、カメラ等で汚れ検出手段を構成すればよい。
【０１２４】
なお、定期メンテナンスでは、ヘッドユニット４１を構成する全分割ヘッドユニット７１に対し、吸引・ワイピングを行っているが、任意の１つの分割ヘッドユニット７１に対してのみ、吸引・ワイピングを行うことができることはいうまでもない。この場合、吸引・ワイピングが行われる分割ヘッドユニット７１が第１分割吸引ユニット２５１ａに臨むよう、ヘッド移動手段４３を駆動すればよい。
【０１２５】
次に、ヘッド交換の制御フローについて説明する。本実施形態では、ワイピングユニット２３３の上方、すなわち最も描画エリア５１に近接したメンテナンスエリア５２の上方が、ヘッド交換を行うためのヘッド交換エリアとなっており、先ず、ヘッド移動手段４３を駆動して、ヘッド交換を行う分割ヘッドユニット７１を、ワイピングユニット２３３まで移動させる。そして、ワイピングユニット２３３を支持するユニット昇降機構２３５の昇降機構３５１を駆動し、これを上記した待避位置まで移動させる。これにより、ワイピングユニット２３３の上方に作業スペースが生成され、効率よくヘッド交換を行うことができるようになっている。ヘッド交換が終了すると、上記した昇降機構３５１が再度駆動され、ワイピングユニット２３３および第１分割吸引ユニット２５１をメンテナンス位置まで上昇させる。なお、より有効に作業スペースを確保するため、ワイピングユニット２３３と隣接する第１分割ヘッドユニット７１も待避位置まで移動させることが好ましい。
【０１２６】
第５分割ヘッドユニット７１のヘッドプレート７３を交換する場合を例に、ヘッド交換の一連のフローについて具体的に説明する。図２１（ｂ）に示すように、先ず、ヘッド移動手段４３を駆動して、第５〜第７分割ヘッドユニット７１ｅ〜ｇをメンテナンスエリア５２に移動させ、第５分割ヘッドユニット７１ｅをワイピングユニット２３３に臨ませると共に、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇを第２・第３分割吸引ユニット２５１ｂ・ｃに臨ませる。そして、図２１（ｃ）に示すように、昇降機構３５１を駆動して、ワイピングユニット２３３および第１分割吸引ユニット２５１を待避位置まで移動させる。なお、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇの移動位置は、これに限られるものではなく、例えば、第６・第７分割吸引ユニット２５１ｆ・ｇに臨むように、これらを移動させてもよい（図２１（ｃ´）参照）。
【０１２７】
ヘッド交換の作業中に、作業外の分割ヘッドユニット７１の機能液滴吐出ヘッド７２の乾燥・目詰まりを防止するため、作業外の分割ヘッドユニット７１には、キャッピングまたは（定期的な）フラッシングが行われる。すなわち、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇが臨む分割吸引ユニット２５１（ここでは第２・第３分割吸引ユニット２５１ｂ・ｃ）のキャップ昇降機構２５４が駆動され、キャップユニット２５２が第１位置または第２位置まで移動する。そして、第１〜第４分割ヘッドユニット７１ａ〜ｄでは、フラッシングボックス２４１に臨んでフラッシングが行われ、一方、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇでは、キャッピングまたはキャップ内フラッシングが行われる。
【０１２８】
ヘッド交換作業が終了すると、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇが臨む分割吸引ユニット２５１のキャップ昇降機構２５４が駆動され、第１位置または第２位置にあるキャップユニット２５２を下降端位置まで下降させると共に、上記の昇降機構３５１が駆動され、ワイピングユニット２３３および第１分割吸引ユニット２５１がメンテナンス位置まで上昇する。
【０１２９】
なお、本実施形態では、ヘッド交換時に、一部の分割ヘッドユニット７１を描画エリア５１に残しているが、ヘッドユニット４１の全分割ヘッドユニット７１を保守エリア５２に移動させる構成としてもよい。この場合、７つの全分割ヘッドユニット７１を対応する分割吸引ユニット２５１に臨ませる。そして、作業を行う分割ヘッドユニット７１（ここでは第５分割ヘッドユニット７１ｅ）を除いた６つの分割ヘッドユニット７１には、キャッピングを行うか、キャップ内フラッシングを行わせるようにする。
【０１３０】
また、吸引ユニット２３２の各分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３をメンテナンスする場合には、メンテナンスを行うユニット自身の待避は行わず、これに隣接するユニット（各分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３）を待避位置まで移動させるようになっている。特に、第１〜第６分割吸引ユニット２５１ａ〜ｆのメンテナンスを行う場合には、メンテナンスを行う分割吸引ユニット２５１に隣接する両側のユニットを退避位置まで移動させる（図２２参照）。
【０１３１】
このように、制御部３６７では、各手段を統括制御することにより、これらを協働させ、各種処理を行うようになっている。
【０１３２】
次に、本実施形態の液滴吐出装置３を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【０１３３】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図２３は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図２４は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図２４（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【０１３４】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図２４（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図２４（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド７２により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【０１３５】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【０１３６】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図２４（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド７２によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド７２を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１３７】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図２４（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【０１３８】
図２５は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図２４に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１３９】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１４０】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図２５において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１４１】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１４２】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１４３】
実施形態の液滴吐出装置３は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド７２で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド７２で行うことも可能である。
【０１４４】
図２６は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１４５】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【０１４６】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１４７】
図２７は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１４８】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【０１４９】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１５０】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１５１】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１５２】
次に、図２８は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【０１５３】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１５４】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【０１５５】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【０１５６】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【０１５７】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【０１５８】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【０１５９】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【０１６０】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１６１】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【０１６２】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１６３】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１６４】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図２９〜図３７を参照して説明する。
この表示装置７００は、図２９に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１６５】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図３０に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図３１に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【０１６６】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド７２を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１６７】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した液滴吐出装置３のセットテーブル１０１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１６８】
図３２に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド７２から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図３３に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。
【０１６９】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【０１７０】
そして次に、図３４に示すように、各色のうちの何れか（図３５の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【０１７１】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図３５に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【０１７２】
同様に、機能液滴吐出ヘッド７２を用い、図３６に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１７３】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１７４】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図３７に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１７５】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１７６】
次に、図３８は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１７７】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１７８】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１７９】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１８０】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した液滴吐出装置３を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置３のセットテーブル１０１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド７２により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１８１】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０１８２】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド７２から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０１８３】
次に、図３９は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０１８４】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１８５】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１８６】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１８７】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置３を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置３を用いて形成することができる。
【０１８８】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図４０（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図４０（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置３によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置３によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１８９】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置３を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【符号の説明】
【０１９０】
３ 液滴吐出装置、５ 制御装置、４１ ヘッドユニット、４２ ワーク移動手段、４３ ヘッド移動手段、４６ メンテナンス手段、５１ 描画エリア、５２ メンテナンスエリア、７１ 分割ヘッドユニット、７２ 機能液滴吐出ヘッド、７３ ヘッドプレート、７５ キャリッジ、８７ ノズル面、８８ 吐出ノズル、１１１ θテーブル、１１２ 吸着テーブル、１２１ θ固定部、１２２ θ回転部、１３１ テーブル本体、１３３ 支持ベース、２０１ 機能液タンク、２３２ 吸引ユニット、２３３ ワイピングユニット、２３５ ユニット昇降機構、２４１ フラッシングボックス、２８１ ワイピングシート、２８３ 横移動機構、２９１ シート供給ユニット、２９３ 洗浄液供給ユニット、Ｗ ワーク。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながらワーク上に機能液を吐出して描画を行う描画装置のワークテーブル（Ｘ軸テーブル）に、機能液滴吐出ヘッドの捨て吐出を受けるフラッシングボックスを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の液滴吐出装置として、有機ＥＬ装置やカラーフィルタの製造に用いられるインクジェット方式のものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この液滴吐出装置は、石定盤上に、ワークである基板を搭載したＸ軸テーブルと、機能液滴吐出ヘッドを搭載したＹ軸テーブルとを有する描画装置を備えると共に、この描画装置に併設され、機台上に、機能液滴吐出ヘッドに対し機能液吸引やワイピングを行うメンテナンス装置を備えている。Ｙ軸テーブルには、メインキャリッジが移動自在に垂設され、このメインキャリッジ（キャリッジ）にサブキャリッジ（ヘッドプレート）とこれに搭載した１２個の機能液滴吐出ヘッドとから成るヘッドユニットが支持されている。一方、Ｘ軸テーブルには、基板がセットされると共にこの基板の主走査方向（Ｘ軸方向に）の前後に位置して、機能液滴吐出ヘッドからの機能液の捨て吐出（フラッシング）を受ける一対のフラッシングボックスが配設されている。
この場合、一対のフラッシングボックスは、機能液滴吐出ヘッドが基板に対し描画動作を開始する直前の相対的な往動および復動の開始時に、機能液滴吐出ヘッドからフラッシングを受けるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２６６６７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような従来の液滴吐出装置では、基板（ワーク）に対し、メインキャリッジに支持したヘッドユニットをＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させながら機能液の吐出を行う必要があるため、ワークが大型である場合にはその処理（タクトタイム）に時間がかかる問題がある。かかる場合に、いわゆるラインプリンタのように、全機能液滴吐出ヘッドにより１の描画ラインを網羅するヘッドユニットを用いることが考えられるが、現実的には、ヘッドユニットとメインキ
ャリッジとから成るキャリッジユニットを、副走査方向に複数並べて１の描画ラインを構成することが好ましい。
また、キャリッジユニットに対応して、メンテナンス系の吸引ユニットやワイピングユニットも、キャリッジユニットと同数設ける必要がある。しかし、吸引ユニットやワイピングユニットを、キャリッジユニットと同数設けると、メンテナンス系の装置が大型化し、液滴吐出装置が極端に大きくなることが想定される。一方、キャリッジユニットを個々にメンテナンス処理すれば、吸引ユニットやワイピングユニットの数を減らすことができるが、この場合には、メンテナンス処理後の機能液滴吐出ヘッドが、他のキャリッジユニットの処理待ちの間に目詰まりしてしまうことが想定される。
【０００５】
本発明は、キャリッジユニットを個々にメンテナンス処理しても、機能液滴吐出ヘッドの目詰まり等を有効に防止することができる液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の液滴吐出装置は、ワークを搭載すると共にワークをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、Ｘ軸テーブルと協働し描画エリアに臨んだワークに機能液を吐出してワーク上に描画を行う機能液滴吐出ヘッド、およびこれを搭載したキャリッジを有する複数のキャリッジユニットと、メンテナンスエリアに臨んだ複数のキャリッジユニットに対し、１つずつメンテナンス処理を行うメンテナンス手段と、複数のキャリッジユニットを描画エリアとメンテナンスエリアとの間で個々に移動させるＹ軸テーブルと、Ｙ軸テーブルによるキャリッジユニットの移動軌跡上に配設され、複数のキャリッジユニットの全機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックスと、を備えていることを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、メンテナンス手段は、機能液滴吐出ヘッドおよびこれを搭載したキャリッジを有する複数のキャリッジユニットに対し、１つずつメンテナンス処理を行うため、キャリッジユニットの数に対応してメンテナンス手段を複数設ける必要がない。一方、Ｙ軸テーブルによるキャリッジユニットの移動軌跡上にフラッシングボックスを配設しているため、メンテナンス処理後のキャリッジユニットをこのフラッシングボックスの直上部に臨ませて、全機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出（フラッシング）を行わせることができる。すなわち、他のキャリッジユニットがメンテナンス処理している処理待ち時間に、処理後の機能液滴吐出ヘッドにフラッシングを行わせておくことにより、処理後の機能液滴吐出ヘッドの各吐出ノズルに、乾燥による目詰まり等が生ずることがない。すなわち、キャリッジユニットを個々にメンテナンス処理することで時間を要しても、機能液滴吐出ヘッドの目詰まり等を有効に防止することができる。なお、この場合のフラッシングは、機能液の無駄な消費を抑制すべく、所定の時間をおいて間欠的に行われることが好ましい。
【０００８】
この場合、メンテナンス手段、Ｙ軸テーブルおよび各機能液滴吐出ヘッドを制御する制御手段を、更に備え、制御手段は、メンテナンス処理後のキャリッジユニットを順にフラッシングボックスの直上部に送り、最後のキャリッジユニットのメンテナンス処理が終了するまでの間、メンテナンス処理後のキャリッジユニットの機能液滴吐出ヘッドに機能液の捨て吐出を行わせることが、好ましい。
【０００９】
この構成によれば、メンテナンス処理することで時間を要しても、機能液滴吐出ヘッドの目詰まり等を有効に防止することができると共に、メンテナンス処理を効率良く行うことができる。
【００１０】
これらの場合、メンテナンス手段は、機能液滴吐出ヘッドの各吐出ノズルから機能液を吸引する吸引ユニットと、吸引後の機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートにより払拭するワイピングユニットと、を有することが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、吸引ユニットによる吸引処理と、ワイピングユニットによる払拭処理により、機能液滴吐出ヘッドの吐出機能を常に良好な状態に維持しておくことができる。
【００１２】
これらの場合、フラッシングボックスは、Ｘ軸テーブルに搭載されていることが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、装置のスペース効率を向上させることができると共に、Ｙ軸テーブルによるキャリッジユニットの移動距離を極力短くすることができる。
【００１４】
この場合、ワイピングユニットは、吸引ユニットに対し描画エリア側に配設されていることが、好ましい。
【００１５】
この構成によれば、吸引ユニットから描画エリアへのキャリッジユニットの一方向への移動により、一連のメンテナンス処理を行うことができ、Ｙ軸テーブルの制御を単純化することができると共に、キャリッジユニットに無駄な動きが生じない分、メンテナンス処理を短時間で効率良く行うことができる。
【００１６】
これらの場合、Ｘ軸テーブルは、ワークを吸着載置する吸着テーブルと、吸着テーブルを回転させる回転テーブルと、回転テーブルを支持するテーブルベースと、を有し、フラッシングボックスは、テーブルベース上に搭載されていることが、好ましい。
【００１７】
この構成によれば、フラッシングボックスが、ワークと共に回転テーブルにより回転調整されることがなく、フラッシングボックスを安定に設置しておくことができる。
【００１８】
これらの場合、フラッシングボックスは、複数のキャリッジユニットが描画動作を開始する描画ホーム位置の直下に配設されていることが、好ましい。
【００１９】
この構成によれば、全キャリッジユニットのメンテナンス処理が収容した段階で、全キャリッジユニットが自動的に描画待機状態となるため、メンテナンス処理から描画処理への移行を迅速に行うことができる。
【００２０】
この場合、制御手段は、描画動作開始時に、複数のキャリッジユニットの全吐出ノズルからフラッシングボックスに捨て吐出を行わせることが、好ましい。
【００２１】
この構成によれば、実描画動作の直前まで、機能液滴吐出ヘッドの吐出機能を良好な状態に維持することができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２３】
本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２４】
これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの吐出機能を良好な状態に維持して、ワークへの描画を極めて高精度に行い得る液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２５】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２６】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施形態に係る描画システムの平面模式図である。
【図２】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の外観斜視図である。
【図３】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の平面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の正面図である。
【図５】本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の側面図である。
【図６】ヘッドユニットの説明図であり、ヘッドユニットのヘッドプレート廻りを示した図である。
【図７】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図８】本実施形態のヘッドプレートの説明図であり、（ａ）は、ヘッドプレートの外観斜視図、（ｂ）は、ヘッドプレートを下側から見た図である。
【図９】本実施形態のヘッドプレートの変形例について説明した図であり、（ａ）は、ヘッドプレートの外観斜視図、（ｂ）は、ヘッドプレートを下側から見た図である。
【図１０】機能液供給手段の説明図であり、（ａ）は、圧力調整弁廻りの説明図、（ｂ）は圧力調整弁の断面図である。
【図１１】アングル架台廻りの外観斜視図である。
【図１２】アングル架台廻りの背面図である。
【図１３】分割吸引ユニット廻りの外観斜視図である。
【図１４】分割吸引ユニット廻りの側面図である。
【図１５】ワイピングユニット廻りの外観斜視図である。
【図１６】ワイピングユニット廻りの側面図である。
【図１７】横移動機構の説明図であり、（ａ）は、機能液滴吐出ヘッドと、ワイピング後かつ横移動機構駆動前のワイピングシートとの位置関係を示した図であり、（ｂ）は、機能液滴吐出ヘッドと、ワイピング後かつ横移動機構駆動後のワイピングシートとの位置関係を示した図である。
【図１８】描画装置の主制御系について説明したブロック図である。
【図１９】定期メンテナンスにおける分割ヘッドユニットと、分割吸引ユニットとの位置関係を説明した図である。
【図２０】定期メンテナンスにおける本実施形態の変形例について説明した図であり、（ａ）は、第１分割ヘッドユニットのワイピング時、（ｂ）は、第２分割ヘッドユニットのワイピング時、（ｃ）は、第６分割ヘッドユニットのワイピング時、における分割吸引ユニットとの位置関係を説明した図である。
【図２１】ヘッド交換における分割ヘッドユニットと、分割吸引ユニットとの位置関係を説明した図である。
【図２２】第５分割ヘッドユニットのメンテナンス時における分割吸引ユニットの位置関係を示した図である。
【図２３】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図２４】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図２５】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２６】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２７】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２８】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図２９】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図３０】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図３１】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図３２】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図３３】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３４】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図３５】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３６】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３７】陰極の形成を説明する工程図である。
【図３８】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図３９】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図４０】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した描画システムについて説明する。本実施形態の描画システムは、液晶表示装置等の、いわゆるフラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれ、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の３色から成るカラーフィルタの着色層（詳細は後述する）を形成するものである。
【００２９】
図１は、描画システムの平面模式図である。同図に示すように、描画システム１は、３組の描画ユニット２で構成されている。各描画ユニット２は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各色にそれぞれ対応しており、ワークＷ（基板）を各描画ユニット２に順次導入することにより、ワークＷ上に着色層を１色分ずつ形成できるようになっている。
【００３０】
図１に示すように、各描画ユニット２は、着色層を形成するための液滴吐出装置３と、液滴吐出装置３に並設され、ワークＷを搬出入するワーク搬出入装置４と、各装置に接続され、描画ユニット２全体を制御する制御装置５と、を備えている。また、同図に示すように、液滴吐出装置３は、チャンバ装置６に収容されている。チャンバ装置６は、いわゆるサーマルチャンバであり、一定の温度条件でワークＷに対する液滴吐出（描画）が行われるように、液滴吐出装置３全体を温度管理下で収容している。チャンバ装置６は、液滴吐出装置３全体を収容したボックス状のチャンバ本体１１と、これを制御盤（図示省略）と、チャンバ本体１１内の温度が一定となるように、温度管理を行う空気調和機器１２と、を備えている。図示省略したが、チャンバ本体１１の右側面前方には、ワーク搬入・搬出開口となる開閉扉が形成されており、液滴吐出装置３にワークＷを導入する場合等には、開閉扉を介してチャンバ本体１１内に収容された液滴吐出装置３にアクセスできるようになっている。
【００３１】
液滴吐出装置３は、機能液滴吐出ヘッド７２（図示省略）を備えており、Ｒ・Ｇ・Ｂのいずれか１色に対応した機能材料（フィルタ材料）を機能液溶媒に溶かした機能液を機能液滴吐出ヘッド７２（図示省略）に導入して、ワークＷ上に機能液滴による描画を行う。ワーク搬出入装置４は、ワークＷを移載するロボットアーム１５を備えており、ロボットアーム１５を介して、未処理（描画前）のワークＷを描画ユニット２内に搬入してこれを液滴吐出装置３に導入すると共に、処理済み（描画済み）のワークＷを液滴吐出装置３から回収してこれを描画ユニット２外に搬出する。ロボットアーム１５は、上記の開閉扉からチャンバ本体１１内の液滴吐出装置３にアクセス可能であり、液滴吐出装置３に対するワークＷの導入・回収は、ロボットアーム１５を、開閉扉からチャンバ本体１１内に挿入して行われる。制御装置５は、パソコン等で構成されており、装置本体の他、モニタディスプレイや、ＣＤドライブやＤＶＤドライブ等の各種ドライブを備えている。
【００３２】
なお、図中に示す符号１８は、乾燥装置を設置するための設置スペースであり、状況に応じて、ワークＷに吐出させた機能液の機能液溶媒を乾燥（気化）させるための乾燥装置を描画ユニット２内に設置可能となっている。
【００３３】
次に、本発明の主要部となる液滴吐出装置３について説明する。図２ないし５に示すように、液滴吐出装置３は、床上に設置した大型の共通架台２１と、共通架台２１上に広く配設された装置本体２２と、を備えている。同図に示すように、共通架台２１上には、石定盤３１およびアングル架台３２が配設されていると共に、２組４個のスタンド３４ａ・ｂからなる一対の支持スタンド３３が立設されている。
【００３４】
図２ないし５に示すように、装置本体２２は、機能液滴吐出ヘッド７２を有するヘッドユニット４１と、石定盤３１上に直接設置され、ワークＷをセットするセットテーブル１０１を有し、セットテーブル１０１を介してワークＷをＸ軸方向に移動（主走査）させるワーク移動手段４２（Ｘ軸テーブル）と、一対の支持スタンド３３上に配設され、ヘッドユニット４１をＹ軸方向（副走査方向）に移動させるヘッド移動手段４３（Ｙ軸テーブル）と、セットテーブル１０１にその主要部が配設され、セットテーブル１０１に対するワークＷの除給時に、ワークＷをリフトアップすると共に、ワークＷの静電気を除電するワーク除給手段４４と、ヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド７２）に機能液を供給する機能液供給手段４５と、アングル架台３２上にその主要部が配設され、ヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド７２）を保守するメンテナンス手段４６と、を備えている。
【００３５】
また、図示省略したが、装置本体２２は、各手段に液体を供給すると共に不要となった液体（機能液および洗浄液）を回収する液体供給回収手段や、各手段を駆動・制御するための圧縮エアーを供給するエアー供給手段、ワークＷを（吸着）セットするためのエアー吸引手段等を備えている。この液滴吐出装置３に導入されるワークＷは、セットテーブル１０１に横置きでセットされる縦１８００ｍｍ×横１５００ｍｍの透明基板（ガラス基板）であり、予め、着色層を形成させる画素領域（後述する）が作り込まれている。
【００３６】
この液滴吐出装置３では、ワーク移動手段４２の駆動に同期して、機能液滴吐出ヘッド７２を駆動することにより、ワークＷの画素領域内に機能液を吐出させ、ワークＷに描画処理（液滴吐出処理）を行う。すなわち、ヘッドユニット４１とワーク移動手段４２により、描画手段が構成されている。一方、ワーク交換等の非描画処理時には、ヘッド移動手段４３を駆動して、（後述するキャリッジ７５を介して）ヘッドユニット４１をメンテナンス手段４６に臨ませ、メンテナンス手段４６により、機能液滴吐出ヘッド７２のメンテナンス処理を行うようになっている。上述したように、液滴吐出装置３は、チャンバ装置６内に収容されており、一連の描画処理やメンテナンス処理を含むほとんどの処理は、チャンバ装置６内で行われる。
【００３７】
なお、図３に示すように、ワーク移動手段４２によるワークＷの移動軌跡と、ヘッド移動手段４３によるヘッドユニット４１の移動軌跡と、が交わるが描画処理を行う描画エリア５１となっている。また、ヘッド移動手段４３によるヘッドユニット４１の移動軌跡上の、メンテナンス手段４６に臨む領域がメンテナンス処理を行うメンテナンスエリア５２となっている。なお、メンテナンスエリア５２は、ヘッドユニット４１を交換するためのヘッド交換エリアを兼ねている。さらに、ワーク移動手段４２の図示手前側の領域は、液滴吐出装置３に対するワークＷの搬出入（導出入）を行うワーク搬出入エリア５３となっており、このワーク搬出入エリア５３に臨んで、上記したワーク搬出入装置４が設置されている。
【００３８】
次に、液滴吐出装置３の各構成要素について説明する。図２ないし５に示すように、石定盤３１は、略直方体に形成され、Ｘ軸方向に延在している。また、石定盤３１は、その中央部からＹ軸方向の左右に張り出した張出部３１ａを有しており、平面視変形「十」字形に構成されている。アングル架台３２は、アングル材を方形に組んで構成され、Ｙ軸方向において石定盤３１（の張出部３１ａ）と並んで配設されている。
【００３９】
これらの図に示すように、一対の支持スタンド３３は、アングル架台３２を挟むようにＸ軸方向（前後）に並んで配設されている。各支持スタンド３３は、石定盤３１およびアングル架台３２の配設範囲に亘り、Ｙ軸方向に延在しており、Ｙ軸方向に整列した２組４本の支柱６１と、４本の支柱６１間を架渡した柱状支持部材６２と、を有している。すなわち、一対の支持スタンド３３は、４組８本の支柱６１と、２つの柱状支持部材６２を具備している。各支持スタンド３３の２組の支柱６１は、それぞれ長さが異なっている。そして、２組４本の支柱６１が同じ高さとなるように、短い方の支柱１組が、石定盤３１の張出部３１ａに立設されると共に、長い方の支柱１組が共通架台２１上に立設される。
【００４０】
柱状支持部材６２は、同一端面を有する２つのブロック６３ａ・ｂから構成される。両ブロック６３ａ・ｂは、石材で構成されている。ブロック６３ａは、石定盤３１に立設した２本の支柱６１ａ間をＹ軸方向と平行になるように架設されている。同様に、ブロック６３ｂは、共通架台２１に立設した２本の支柱６１ｂをＹ軸方向と平行になるように架設されている。すなわち、２本の支柱６１ａおよびブロック６３ａによりスタンド３４ａが構成され、２本の支柱６１ｂおよびブロック６３ｂによりスタンド３４ｂが構成されている。これら両ブロック６３ａ・ｂは、Ｙ軸方向に対して、端面を相互に突き合わせた状態で連結されると共に、支柱６１ａ・ｂ上に固定される。そして、Ｙ軸方向に連続して並設したブロック６３ａ・ｂにより柱状支持部材６２が構成されている。なお、各支柱６１と柱状支持部材６２との間に高さ調整プレート６６を介設し、柱状支持部材６２（の上端面）の高さを調整するようにしても良い（図５参照）。
【００４１】
次に装置本体２２の各手段について説明する。図６に示すように、ヘッドユニット４１は、Ｙ軸方向に整列配置された複数（７個）の分割ヘッドユニット７１から構成されている。図５、図６および図８に示すように、各分割ヘッドユニット７１は、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２と、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２を支持するヘッドプレート７３と、各機能液滴吐出ヘッド７２をヘッドプレート７３に固定するための１２個のヘッド保持部材７４と、上記のヘッド移動手段４３に支持されると共に、ヘッドプレート７３を支持するキャリッジ７５と、を備えている。
【００４２】
すなわち、キャリッジ７５と、これに支持されたヘッドプレート７３によりキャリッジユニットが構成されている。キャリッジユニットは、ヘッド移動手段４３のブリッジプレート１４１（後述する）に垂設されており、７つのキャリッジユニットは、ヘッド移動手段４３により、Ｙ軸方向（一方向）に対して個別に移動可能に構成されている。
【００４３】
図７に示すように、機能液滴吐出ヘッド７２は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針８２を有する機能液導入部８１と、機能液導入部８１に連なる２連のヘッド基板８３と、機能液導入部８１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体８４と、を備えている。接続針８２は、図外の機能液タンク２０１（後述する）に接続され、機能液滴吐出ヘッド７２のヘッド内流路に機能液を供給する。ヘッド本体８４は、キャビティ８５（ピエゾ圧電素子）と、吐出ノズル８８が開口したノズル面８７を有するノズルプレート８６と、で構成されている。ノズル面８７には、多数（１８０個）の吐出ノズル８８から成るノズル列が２列形成されている。機能液滴吐出ヘッド７２を吐出駆動すると、キャビティ８５のポンプ作用により、吐出ノズル８８から機能液滴を吐出する。
【００４４】
図６および図８に示すように、ヘッドプレート７３は、ステンレス等から成る平面視略平行四辺形の厚板で構成されている。ヘッドプレート７３には、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２を位置決めし、ヘッド保持部材７４を介して、裏面側から各機能液滴吐出ヘッド７２を固定するための１２個の装着開口（図示省略）が形成されている。各ヘッドプレート７３に形成された１２個の装着開口は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ位置ずれした状態で１列に配置されている。これにより、各機能液滴吐出ヘッド７２は、ノズル列がＹ軸方向と平行になるように固定されると共に、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２は、１列の液滴吐出ヘッド群を構成し、ヘッドプレート７３に対して、そのノズル列の一部が（Ｙ軸方向に）重複するように階段状に配置される。すなわち、各分割ヘッドユニット７１に搭載された液滴吐出ヘッド群（１２個の機能液滴吐出ヘッド７２）のノズル列（吐出ノズル８８）により、１本の分割描画ライン（部分描画ライン）が構成される。
【００４５】
図５に示すように、キャリッジ７５は、ヘッドプレート７３を着脱自在に支持するキャリッジ本体９１と、キャリッジ本体９１の上面に取り付けられ、（ヘッドプレート７３の）θ方向に対する位置補正を行うためのθ回転機構９２と、θ回転機構９２を介してキャリッジ本体９１を吊設すると共に、ヘッド移動手段４３に固定・支持された外観「Ｉ」形の吊設部材９３と、を有している。
【００４６】
図示省略したが、キャリッジ本体９１には、ヘッドプレート７３を位置決めするための位置決め機構が設けられている。これにより、ヘッドユニット４１では、７つの分割ヘッドユニット７１がＹ軸方向に整列配置される（図６参照）。すなわち、Ｙ軸方向において、各分割ヘッドユニット７１の各機能液滴吐出ヘッド７２は、対応する位置関係（同一の配置位置）にある他の６つ機能液滴吐出ヘッド７２と整列するように配置される。換言すれば、ヘッドプレート７３が位置決めされることにより、それぞれ対応した位置関係にある７個の機能液滴吐出ヘッド７２から成る機能液滴吐出ヘッド列が、Ｘ軸方向に並んで１２列、Ｙ軸方向に位置ずれした状態で配置されるようになっている。
【００４７】
そして、７つの分割ヘッドユニット７１を整列配置させると、各分割ヘッドユニット７１の７本の分割描画ラインがＹ軸方向に連続して、ワークＷの描画幅に対応する１描画ラインを構成すべく、各ヘッドプレート７３が、位置決めされた状態で支持される。すなわち、分割描画ラインは、１描画ラインを７つに分割して各分割ヘッドユニット７１に配したものであり、７つの分割ヘッドユニット７１を整列配置させると、ヘッドプレート７３が整列して、７本の分割描画ライン（１２×７個の機能液滴吐出ヘッド７２のノズル列）から成る１描画ラインが形成される。１描画ラインは、ワークＷの縦置き・横置きに対応できるよう、ワークＷの長辺の長さに対応して設定されており、１８００ｍｍとなっている。なお、ヘッドユニット４１（全分割ヘッドユニット７１）が描画エリア５１に臨み、１描画ラインが形成される位置が、ヘッドユニット４１の描画ホーム位置となっており、この位置でワークＷの描画処理が行われる。
【００４８】
なお、ヘッドプレート７３に搭載される各機能液滴吐出ヘッド７２のノズル列（吐出ノズル８８）がＹ軸方向において連続して、分割描画ラインを形成可能なものであれば、ヘッドプレート７３における機能液滴吐出ヘッド７２の配置方法は任意に設定可能である。本実施形態では、ノズル列の一部がＹ軸方向に重複するように、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２をヘッドプレート７３に配しているが、ノズル列を重複させず、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２の全吐出ノズル８８により１描画ラインが構成されるように、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２を配置してもよい。また、図９に示すように、１２個の機能液滴吐出ヘッド７２を二分して（複数列に）配置することも可能である。このように、複数の機能液滴吐出ヘッド７２を複数列に分割して配置すれば、Ｘ軸方向におけるヘッドプレート７３の幅を狭くすることができる。同様に、１描画ラインを形成可能であれば、分割ヘッドユニット７１の配置も任意に設定可能である。また、当然のことながら、各分割ヘッドユニット７１に搭載する機能液滴吐出ヘッド７２の個数や、分割ヘッドユニット７１数等も実情に応じて任意に設定可能である。
【００４９】
図２ないし図５に示すように、ワーク移動手段４２は、ワークＷをセットするセットテーブル１０１と、セットテーブル１０１をＸ軸方向にスライド自在に支持するＸ軸エアースライダ１０２と、Ｘ軸方向に延在し、セットテーブル１０１を介してワークＷをＸ軸方向に移動させる左右一対のＸ軸リニアモータ１０３と、Ｘ軸リニアモータ１０３に並設され、Ｘ軸エアースライダ１０２の移動を案内する一対のＸ軸ガイドレール（図示省略）と、セットテーブル１０１の位置を把握するためのＸ軸リニアスケール１０４（図示省略）と、を備えている。
【００５０】
図４および図５に示すように、セットテーブル１０１は、Ｘ軸エアースライダ１０２に支持されたθテーブル１１１に、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル１１２を積層したものである。θテーブル１１１は、Ｘ軸エアースライダ１０２に固定したθ固定部１２１（テーブルベース）と、吸着テーブル１１２を支持すると共に、θ固定部１２１に（θ軸方向に）回動可能に支持されたθ回転部１２２（回転テーブル）と、を有しており、吸着テーブル１１２を介して、ワークＷをθ軸方向に回動することにより、ワークＷのθ位置を微調整（補正）する。なお、θ固定部１２１には、後述するメンテナンス手段４６のフラッシングユニット２３１が支持されている。
【００５１】
吸着テーブル１１２は、ワークＷを吸着セットするテーブル本体１３１と、テーブル本体１３１を支持する３組のテーブル支持部材１３２と、θテーブル１１１に固定され、テーブル支持部材１３２を介して、テーブル本体１３１を支持する支持ベース１３３と、を有している。テーブル本体１３１は、厚板状の石盤で構成され、平面視略正方形に形成されている。テーブル本体１３１の一辺は、ワークＷの長辺の長さに合わせて１８００ｍｍに形成されており、ワークＷを縦置きおよび横置きのいずれか任意の向きでセット可能になっている。図２および図３に示すように、テーブル本体１３１の表面には、ワークＷを吸引するための吸引溝１３４が複数形成されている。そして、各吸引溝１３４には、上記したエアー吸引手段に連なる吸引孔（図示省略）が形成されており、吸引溝１３４を介して、ワークＷに十分な吸引力を作用させることができるようになっている。
【００５２】
３組のテーブル支持部材１３２は、θテーブル１１１の回転軸（θ軸）と、テーブル本体１３１の重心が一致するように、テーブル本体１３１を３点支持する。詳細は後述するが、吸着テーブル１１２には、ワーク除給手段４４のリフトアップ機構１６１およびプリアライメント機構１７１が組み込まれて。そして、支持ベース１３３には、リフトアップ機構１６１およびプリアライメント機構１７１の主要部が配設されていると共に、テーブル本体１３１には、リフトアップ機構１６１の複数のリフトアップピン１６２を貫通させるための貫通孔１３５が整列して形成されている。
【００５３】
Ｘ軸リニアモータ１０３、一対のＸ軸ガイドレール、およびＸ軸リニアスケール１０４は、上記した石定盤３１上に直接載置されている。一対のＸ軸リニアモータ１０３を（同期させて）駆動すると、一対のＸ軸ガイドレールをガイドにしながら、Ｘ軸エアースライダ１０２をＸ軸方向に移動し、セットテーブル１０１にセットされたワークＷがＸ軸方向に移動する。また、一対のＸ軸ガイドレールの間には、Ｘ軸リニアスケール１０４が併設されており、このＸ軸リニアスケール１０４に基づいて、機能液滴吐出ヘッド７２の吐出タイミングが計られている。なお、一対のＸ軸リニアモータ１０３、一対のＸ軸ガイドレール、およびＸ軸リニアスケール１０４は、一対のＸ軸収容ボックス１０５内に収容されている。
【００５４】
図２ないし図５に示すように、ヘッド移動手段４３は、描画エリア５１とメンテナンスエリア５２を架け渡すと共に、ヘッドユニット４１を、描画エリア５１とメンテナンスエリア５２との間で移動させるものである。ヘッド移動手段４３は、上記した７つの分割ヘッドユニット７１を１つずつ支持する７つのブリッジプレート１４１と、７つのブリッジプレート１４１がＹ軸方向に整列するよう、これを両持ちで支持する７組のＹ軸スライダ１４２と、Ｙ軸方向に延在し、７組のＹ軸スライダ１４２を介して７つのブリッジプレート１４１をＹ軸方向に移動させる一対のＹ軸リニアモータ１４３と、Ｙ軸方向に延在し、７つのブリッジプレート１４１の移動を案内する一対のＹ軸ガイドレール１４４（ＬＭガイド）と、キャリッジ７５を介してヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド７２）の移動位置を検出するＹ軸リニアスケール１４６（図示省略）と、を備えている。
【００５５】
図５に示すように、ブリッジプレート１４１には、キャリッジ７５を位置決めする挿通開口（図示省略）が形成されており、ブリッジプレート１４１は、挿通開口にキャリッジ７５（吊設部材９３）を挿通させ、これを固定している。また、各ブリッジプレート１４１上には、対応する分割ヘッドユニット７１の機能液滴吐出ヘッド７２を駆動するヘッド用電装ユニット１４５が搭載されている（図２および図３参照）。７つのヘッド用電装ユニット１４５は、隣り合ったブリッジプレートのヘッド用電装ユニット１４５が相互に干渉することがないよう千鳥状に配置され、ブリッジプレート１４１を効率よく配置できるようになっている。
【００５６】
一対のＹ軸リニアモータ１４３および一対のＹ軸ガイドレール１４４は、上記した一対の支持スタンド３３の柱状支持部材６２に１つずつ直接設置されている。また、Ｙ軸リニアスケール１４６は、一対の柱状支持部材６２の一方に直接配設されている。本実施形態のヘッド移動手段４３では、一対のＹ軸リニアモータ１４３を駆動して、７組のＹ軸スライダ１４２を同時にＹ軸方向に移動させることにより、７つの分割ヘッドユニット７１から成るヘッドユニット４１を一体として（１描画ラインを形成した状態で）Ｙ軸方向に移動できるようになっている。一方、一対のＹ軸リニアモータ１４３を選択的に駆動することにより、７組のＹ軸スライダ１４２をそれぞれ独立して移動させ、各分割ヘッドユニット７１を個別にＹ軸方向へ移動させることもできるようになっている。
【００５７】
なお、図５に示すように、各柱状支持部材６２には、その側面に一対のブラケット１５１が外向きに固定されており、一対のブラケット１５１には、Ｙ軸収容ボックス１５２が支持されている。すなわち、一対の柱状支持部材６２と並んで、一対のＹ軸収容ボックス１５２が配設されている。一対のＹ軸収容ボックス１５２には、独立移動可能な７つの分割ヘッドユニット７１に対応し、各分割ヘッドユニット７１（ヘッド用電装ユニット１４５）に接続するチューブやケーブル類を、各分割ヘッドユニット７１の移動に追従可能に収容した７つのＹ軸ケーブル担持体１５３（ケーブルベア：登録商標）が、二分されて収容されている。この場合、二分して配置した７つのヘッド用電装ユニット１４５に対応させて、７つのＹ軸ケーブル担持体１５３を（４つと３つに）二分することが好ましい。
【００５８】
ここで、一連の描画処理について説明する。描画処理に先立ち、先ず、ヘッド移動手段４３を駆動して、ヘッドユニット４１を描画エリア５１（描画ホーム位置）に移動させる。一方、ワーク搬出入装置４を用いて、ワーク搬出入エリア５３に位置するセットテーブル１０１に、未処理のワークＷを導入する。セットテーブル１０１にワークＷがセットされると、ワーク移動手段４２が駆動して、ワークＷを主走査（Ｘ軸）方向に往動させる。このワークＷの往動と同期して、機能液滴吐出ヘッド７２が選択的に駆動され、ワークＷに対する機能液の選択的な吐出動作（描画処理）が行われる。
【００５９】
上述したように、ヘッドユニット４１の１描画ラインは、ワークＷの長辺の長さに合わせて形成されているので、ワークＷの縦置き・横置きに関わらず、ワークＷの１往動により、１枚のワークＷに対する描画処理を終えることができる。ワークＷの一往動後、引き続きワーク移動手段４２を駆動して、ワークＷを復動させ、描画処理済みのワークＷをワーク搬出入エリア５３に移動させる。そして、ワーク搬出入装置４により、処理済みのワークＷをセットテーブル１０１から回収する。
【００６０】
本実施形態では、ヘッドユニット４１に対し、ワークＷを直接移動させる構成となっているが、固定したワークＷに対し、ヘッドユニット４１を移動させる構成としても良い。また、ワークＷの往動時だけではなく、復動時にも機能液滴吐出ヘッド７２の吐出駆動を行い、１往復動で描画処理を終了させる構成としても良い。さらに、１描画ラインをワークＷの一辺（描画幅）よりも短く構成したヘッドユニット４１を用いて描画処理を行うことも可能である。この場合、ワークＷを移動させながら１描画ラインの描画を行う主走査と、主走査後にヘッドユニット４１を１描画ライン分Ｙ軸方向に移動させる副走査と、を交互に行うことにより、描画処理を行えばよい。
【００６１】
なお、上述したが、ワーク移動手段４２のＸ軸リニアモータ１０３、Ｘ軸ガイドレール、およびＸ軸リニアスケール１０４は、石定盤３１上に直接支持されている。また、ヘッド移動手段４３のＹ軸リニアモータ１４３、Ｙ軸ガイドレール１４４、およびＹ軸リニアスケール１４６は、石材で構成された柱状支持部材６２に直接支持されている。このように、ヘッド移動手段４３およびワーク移動手段４２の主要部を、平面度を出し易くかつ熱膨張率の小さい石材上に設置することにより、ワークＷおよびヘッドユニット４１を精度よく移動させることができ、ワークＷに精度よく描画処理を行えるようになっている。
【００６２】
次に、ワーク除給手段４４について説明する。ワーク除給手段４４は、ワーク搬出入エリア５３に搬入された未処理のワークＷをセットテーブル１０１にセット（導入）すると共に、処理済みのワークＷをセットテーブル１０１から回収するためのものであり、リフトアップ機構１６１と、プリアライメント機構１７１と、除電手段１８１と、を備えている。
【００６３】
図４および図５に示すように、リフトアップ機構１６１は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に整列配置され、吸着テーブル１１２（テーブル本体１３１）に形成された貫通孔１３５から出没する複数のリフトアップピン１６２を有している。そして、未処理のワークＷをセットテーブル１０１に載置するときには、吸着テーブル１１２から（複数の）リフトアップピン１６２を突出させておき、上記したワーク搬出入装置４のロボットアーム１５からワークＷを受け取った後、リフトアップピン１６２を吸着テーブル１１２に没入させる。一方、吸着テーブル１１２からワークＷを回収するときには、吸着テーブル１１２に没入しているリフトアップピン１６２を上昇させてワークＷを吸着テーブル１１２からリフトアップ（離間）させる。リフトアップしたワークＷに、ロボットアーム１５が下側から臨み、ワークＷが吸着テーブル１１２から回収される。
【００６４】
図２ないし図５に示すように、プリアライメント機構１７１は、リフトアップ機構１６１により吸着テーブル１１２に載置された未処理のワークＷを、テーブル本体１３１に対して位置決め（プリアライメント）するものであり、一対のＸ挟持部材（図示省略）でワークＷの前後端を挟み込むことにより、ワークＷの前後方向（Ｘ軸方向）の位置決めを行うＸ軸位置決めユニット１７２と、２組のＹ挟持部材（図示省略）でワークＷの左右端を挟み込むことにより、ワークＷの左右方向（Ｙ軸方向）の位置決めを行うＹ軸位置決めユニット１７４と、を備えている。
【００６５】
除電手段１８１は、軟Ｘ線を照射することにより、ワークＷの裏面に剥離帯電した静電気を除去するものであり、例えばイオナイザで構成されている。除電手段１８１は、ワーク搬出入エリア５３に臨んで配設され、ロボットアーム１５からリフトアップ機構１６１に移動させるワークＷや、吸着テーブル１１２からリフトアップ（離間）されるワークＷに臨んで、効率的にワークＷの静電気を除去できるようになっている。
【００６６】
次に、機能液供給手段４５について説明する。機能液供給手段４５は、７つの分割ヘッドユニット７１に対応する７つの機能液供給ユニット１９０で構成されており、各機能液供給ユニット１９０は、対応する分割ヘッドユニット７１に機能液を供給する（図２および図３参照）。各機能液供給ユニット１９０は、機能液を貯留する複数（１２個）の機能液タンク２０１を有するタンクユニット１９１と、各機能液タンク２０１および各機能液滴吐出ヘッド７２を接続する複数（１２本）の機能液供給チューブ１９３と、複数の機能液供給チューブ１９３に介設した複数（１２個）の圧力調整弁２１１を有するバルブユニット１９２と、を有している。
【００６７】
図２および図３に示すように、タンクユニット１９１は、上記した挿通開口を挟んで、ヘッド用電装ユニット１４５と対峙するように、上記したブリッジプレート１４１上に設置される。タンクユニット１９１に設けられた１２個の機能液タンク２０１は、（１２本の機能液供給チューブ１９３を介して）分割ヘッドユニット７１に搭載された１２個の機能液滴吐出ヘッド７２にそれぞれ接続される。なお、機能液タンク２０１は、樹脂製のカートリッジケース２０５に、機能液を真空パックした機能液パック２０６を収容したカートリッジ形式のものであり、機能液パックには、予め脱気された機能液が貯留されている（図１０参照）。
【００６８】
図６に示すように、バルブユニット１９２は、１２個の圧力調整弁２１１と、１２個の圧力調整弁２１１を上記したヘッドプレート７３に固定する１２個のバルブ固定部材２１２と、を有している。図１０に示すように、圧力調整弁２１１は、機能液タンク２０１に連なる１次室２２１と、機能液滴吐出ヘッド７２に連なる２次室２２２と、１次室２２１および２次室２２２を連通する連通流路２２３と、をバルブハウジング２２４内に形成したものである。２次室２２２の１の面には外部に面してダイヤフラム２２５が設けられ、連通流路２２３にはダイヤフラム２２５により開閉動作する弁体２２６が設けられている。機能液タンク２０１から１次室２２１に導入された機能液は、２次室２２２を介して機能液滴吐出ヘッド７２に供給されるが、その際、所定の調整基準圧力（ここでは大気圧）でもって、ダイヤフラム２２５が変位する。これにより、連通流路２２３に設けた弁体２２６が開閉動作し、２次室２２２の機能液圧力が僅かに負圧となるよう、２次室２２２内の圧力調整が為される。
【００６９】
このような圧力調整弁２１１を機能液タンク２０１と機能液滴吐出ヘッド７２との間に介設することにより、機能液タンク２０１の水頭に影響されることなく、機能液滴吐出ヘッド７２に機能液を安定して供給することが可能となる。すなわち、機能液滴吐出ヘッド７２（ノズル面８７）の位置と、圧力調整弁２１１（ダイヤフラム２２５の中心）の位置との高低差により、機能液の供給圧が決定され、この高低差を所定の値とすることで、機能液の供給圧を所定圧に保つことができるようになっている。なお、弁体２２６の閉弁時において１次室２２１および２次室２２２は縁切りされており、圧力調整弁２１１は、機能液タンク側（１次側）で発生した脈動等を吸収するダンパー機能を有している。
【００７０】
図６に示すように、１２個のバルブ固定部材２１２は、Ｙ軸方向に位置ずれする分割ヘッドユニット７１の機能液滴吐出ヘッド７２に倣い、Ｙ軸方向に位置ずれして、ヘッドプレート７３上に配設されている。このように、機能液滴吐出ヘッド７２の配置に倣って圧力調整弁２１１を配置することにより、機能液滴吐出ヘッド７２および圧力調整弁２１１間の機能液供給チューブ１９３の長さを一定とすることができ、各機能液滴吐出ヘッド７２に対して、略同一供給圧の機能液を供給可能である。
【００７１】
なお、本実施形態では、タンクユニット１９１をブリッジプレート１４１上に配設したが、ヘッドプレート７３上に搭載する構成としてもよい。この場合、機能液タンク２０１から機能液滴吐出ヘッド７２に至る機能液供給チューブ１９３（機能液流路）の長さを短く構成することができ、機能液を効率的に利用することができる。また、バルブユニット１９２の設置位置も、ヘッドプレート７３上に限定されるものではなく、実情に応じて、ブリッジプレート１４１上に設けることも可能である。
【００７２】
次に、メンテナンス手段４６について説明する。メンテナンス手段４６は、機能液滴吐出ヘッド７２のメンテナンスを主目的としたものであり、フラッシングユニット２３１と、吸引ユニット２３２と、ワイピングユニット２３３と、ユニット昇降機構２３５と、を備えている。図５に示すように、フラッシングユニット２３１は、セットテーブル１０１に並設されている。吸引ユニット２３２、ワイピングユニット２３３、およびユニット昇降機構２３５は、アングル架台３２に支持されている（図２〜４、図１１、図１２参照）。
【００７３】
なお、メンテナンス手段４６として、上記の各ユニットに加え、機能液滴吐出ヘッド７２から吐出された機能液滴の飛行状態を検査する吐出検査ユニットや、機能液滴吐出ヘッド７２から吐出された機能液滴の重量を測定する重量測定ユニット等を設けることが好ましい。
【００７４】
フラッシングユニット２３１は、フラッシング動作、すなわち機能液滴吐出ヘッド７２の予備吐出（捨て吐出）で吐出された機能液を受けるためのものであり、特に、ワークＷに機能液を吐出させる直前に行う吐出前フラッシングを受けるためのものである。図５に示すように、フラッシングユニット２３１は、セットテーブル１０１に沿って配設され、機能液を受けるフラッシングボックス２４１と、上記したθテーブル１１１のθ固定部１２１に固定され、フラッシングボックス２４１を支持するボックス支持部材２４２と、で構成されている。
【００７５】
フラッシングボックス２４１は、平面視長方形の箱状に形成されており、その底面には、機能液を吸収させる吸収材（図示省略）が敷設されている。フラッシングボックス２４１の短辺は、ヘッドユニット４１のＸ軸方向における長さに対応して形成され、フラッシングボックス２４１の長辺は、テーブル本体１３１の一辺の長さ（１描画ラインの長さ）に一致させて形成されている。すなわち、フラッシングボックス２４１は、ヘッドユニット４１を包含するように構成され、ヘッドユニット４１に搭載された全機能液滴吐出ヘッド７２からフラッシングされた機能液を一度に受けることができるように構成されている。
【００７６】
ボックス支持部材２４２は、セットテーブル１０１（吸着テーブル１１２）の、Ｘ軸に直交し、上記したワーク搬出入エリア５３と反対側（図示後方）に位置する辺に沿って、フラッシングボックス２４１を支持している。すなわち、フラッシングボックス２４１は、吸着テーブル１１２の、ワーク往動時の先端側となる辺に沿って、フラッシングボックス２４１が配設されるので、ワークＷをＸ軸方向に往動すると、ヘッドユニット４１は、フラッシングユニット２３１に臨んだ後、ワークＷに臨むこととなる。したがって、吐出前フラッシングのためだけに、ヘッドユニット４１を移動させることが不要となると共に、ワークＷに臨む直前に吐出前フラッシングを行うことができる。また、セットテーブル１０１に対し、ワークＷを導入・回収する際には、フラッシングボックス２４１は、ワーク搬出入エリア５３の後方側に位置するため、ワークＷの導入・回収の邪魔になることがない。なお、セットテーブル１０１をワーク搬出入エリア５３に臨ませると、フラッシングボックス２４１は、描画エリア５１に臨むよう支持され、ヘッドユニット４１の直下に位置するようになっている（図５等参照）。
【００７７】
さらに、ボックス支持部材２４２は、フラッシングボックス２４１の上端面が、吸着テーブル１１２にセットしたワークＷの表面と略面一となるように、フラッシングボックス２４１を支持している。このように、フラッシングボックス２４１を吸着テーブル１１２と略面一に支持することにより、ヘッドユニット４１にフラッシングボックス２４１が干渉することないと共に、フラッシングで吐出された機能液をフラッシングボックスに効率的に受けることができるようになっている。
【００７８】
上述したように、本実施形態は、ワークＷの往動時にのみ機能液滴吐出ヘッド７２を吐出駆動させる構成であるが、ワークＷの復動時にも機能液滴吐出ヘッド７２を吐出させる場合には、フラッシングボックスを一対設け、セットテーブル１０１の、Ｘ軸と直交する２辺に沿って、これを配設することが好ましい。これにより、ワークＷの往復動に伴う吐出駆動に直前にフラッシングを行うことができる。
【００７９】
なお、フラッシング動作には、上記した吐出前フラッシングの他、ワークＷの交換時のように、ワークＷに対する描画を一時的に停止するときに行う定期フラッシングがあり、本実施形態では、この定期フラッシングにより吐出された機能液を、後述の吸引ユニット２３２によって受けるように構成されている。
【００８０】
吸引ユニット２３２は、機能液滴吐出ヘッド７２を吸引して、機能液滴吐出ヘッド７２から機能液を強制的に排出させるものである。吸引ユニット２３２による機能液滴吐出ヘッド７２の吸引は、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル詰まりを解消／防止するために行われる他、液滴吐出装置３を新設した場合や、機能液滴吐出ヘッド７２のヘッド交換を行う場合などに、機能液タンク２０１から機能液滴吐出ヘッド７２に至る機能液流路に機能液を充填するために行われる。
【００８１】
図２〜図４、図１１、図１２に示すように、吸引ユニット２３２は、Ｙ軸方向においてワイピングユニット２３３と隣接して配設され、メンテナンスエリア５２に臨んでいる。吸引ユニット２３２は、ヘッドユニット４１を構成する７つの分割ヘッドユニット７１に対応して構成されている。すなわち、吸引ユニット２３２は、分割ヘッドユニット７１単位で吸引を行う７つの分割吸引ユニット２５１を有している。７つの分割吸引ユニット２５１は、ヘッドユニット４１を構成する７つの分割ヘッドユニット７１の配置に倣い、Ｙ軸方向に整列配置した状態で配置されている。
【００８２】
図１３および図１４に示すように、７つの分割吸引ユニット２５１は、上記したユニット昇降機構２３５の昇降機構３５１（後述する）により、個々に昇降可能に支持されている。これらの図に示すように、各分割吸引ユニット２５１は、分割ヘッドユニット７１に対して下側から臨み、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に密着させるキャップ２６１を有するキャップユニット２５２と、キャップユニット２５２を支持するキャップ支持部材２５３と、キャップ支持部材２５３に組み込まれ、キャップ支持部材２５３を介してキャップユニット２５２を昇降させるキャップ昇降機構２５４と、密着させたキャップ２６１を介して機能液滴吐出ヘッド７２に吸引力を作用させる吸引手段（図示省略）と、を備えている。
【００８３】
図１３および図１４に示すように、キャップユニット２５２は、分割ヘッドユニット７１に搭載された機能液滴吐出ヘッド７２の並びに対応させて、１２個のキャップ２６１をキャップベース２６２に配設したものである。すなわち、吸引ユニット２３２には、ヘッドユニット４１における機能液滴吐出ヘッド７２の配置パターンに倣って、１２×７個（８４個）のキャップ２６１が配置されており、ヘッドユニット４１の全機能液滴吐出ヘッド７２に、対応するキャップ２６１を密着させることが可能である。図示省略したが、各キャップ２６１には、大気開放弁が設けられており、この大気開放弁を吸引動作の最終段階で開弁することにより、キャップ２６１内に残留する機能液を吸引できるようになっている。
【００８４】
図１３および図１４に示すように、キャップ支持部材２５３は、キャップユニット２５２を支持するキャップ支持プレート２６５と、キャップ支持プレート２６５を上下方向にスライド自在に支持するキャップスタンド２６６と、キャップスタンド２６６を支持するキャップ支持ベース２６７と、を有している。なお、キャップ支持プレート２６５の下面には、キャップ２６１の大気開放弁（図示省略）を開閉させるための一対のエアーシリンダ２６８が固定されている。
【００８５】
図１４に示すように、キャップ昇降機構２５４は、キャップスタンド２６６の上側に配設され、キャップ支持プレート２６５を介して、キャップユニット２５２を昇降自在に支持する第１昇降シリンダ２７１と、キャップスタンド２６６の下側に配設され、第１昇降シリンダ２７１を介して、キャップユニット２５２を昇降自在に支持する第２昇降シリンダ２７２と、を有している。第１昇降シリンダ２７１および第２昇降シリンダ２７２は、互いにストロークが異なるエアーシリンダで構成されており、第２昇降シリンダ２７２のストロークは、第１昇降シリンダ２７１のストロークよりも長く構成されている。そして、第１および第２昇降シリンダ２７１、２７２を選択的に駆動することにより、キャップユニット２５２の上昇位置が、キャップ２６１が機能液滴吐出ヘッド７２に密着する第１位置と、第１位置よりも僅か（２〜３ｍｍ程度）に低い第２位置と、のいずれか一方に切り替えられる。具体的には、第１昇降シリンダ２７１を駆動すると、キャップユニット２５２を、所定の下降端位置から第１位置まで移動させることができ、第２昇降シリンダ２７２を駆動すると、キャップユニット２５２を第２位置まで移動させることができるようになっている。
【００８６】
吸引手段は、分割ヘッドユニット７１の１２個の機能液滴吐出ヘッド７２に吸引力を作用させる単一のエゼクタと、１２個のキャップ２６１とエゼクタとを接続する吸引チューブと、を有している（いずれも図示省略）。エゼクタは、エアー供給チューブ（図示省略）を介して、上記したエアー供給手段に接続されている。エゼクタに接続した１本の吸引チューブは、ヘッダパイプ（図示省略）を介して複数（１２本）の分岐吸引チューブ（図示省略）に分岐し、各キャップ２６１に接続される。吸引チューブには、液体供給回収手段の再利用タンク（後述する）が介設されており、エゼクタで吸引された機能液は、再利用タンクに貯留される。なお、同図では省略したが、各分岐吸引チューブのキャップ２６１の近傍には、キャップ２６１側から順に、機能液の有無を検出する液体センサ２７６、各分岐吸引チューブ内の圧力を検出する圧力センサ２７７（いずれも図１８参照）、および各分岐吸引チューブを開閉するための吸引用バルブがそれぞれ設けられている。
【００８７】
分割吸引ユニット２５１の吸引動作について説明する。吸引動作に先立ち、ヘッド移動手段４３を駆動して、ヘッドユニット４１をメンテナンスエリア５２に移動させ、分割ヘッドユニット７１の１つを分割吸引ユニット２５１に臨ませる。続いて、キャップ昇降機構２５４を駆動し、キャップユニット２５２を第１位置まで移動させる。これにより、分割吸引ユニット２５１に臨んだ分割ヘッドユニット７１の全機能液滴吐出ヘッド７２に、対応するキャップ２６１が密着する。次に、エアー供給手段からエゼクタに圧縮エアーを供給し、キャップ２６１を介して機能液滴吐出ヘッド７２の吸引を行う。各機能液滴吐出ヘッド７２から、機能液が一定量吸引されると、エゼクタに対する圧縮エアーの供給が停止される。そして、機能液滴吐出ヘッド７２の吸引が終了すると、キャップ昇降機構２５４を駆動して、キャップユニット２５２を下降端位置まで移動させ、機能液滴吐出ヘッド７２からキャップ２６１を離間させる。
【００８８】
なお、機能液の吸引中は、液体センサ２７６および圧力センサ２７７の検出信号に基づいて、吸引動作のモニタリングが行われ、各キャップ２６１の吸引不良を検出できるようになっている。また、液体センサ２７６および圧力センサ２７７の検出結果に基づいて上記の吸引用バルブを開閉することにより、各機能液滴吐出ヘッド７２から、吸引される機能液量を略一定とすることができ、吸引動作によって機能液が過剰に吸引されることを防止可能となっている。
【００８９】
吸引ユニット２３２は、上記のような機能液滴吐出ヘッド７２の吸引に供されるだけではなく、定期フラッシングの機能液を受けるように構成されている。すなわち、吸引ユニット２３２の各キャップ２６１は、フラッシングボックスの役割を兼ねており、定期フラッシングで各機能液滴吐出ヘッド７２が吐出した機能液を、対応するキャップ２６１で受けるようになっている。この場合、キャップ昇降機構２５４が駆動され、キャップユニット２５２を第２位置まで上昇させる。これにより、キャップ２６１は、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に対して僅か（２〜３ｍｍ）に離間した状態で支持され、定期フラッシングの機能液を効率よくキャップ２６１で受けられるようになっている。
【００９０】
また、吸引ユニット２３２は、液滴吐出装置３の非描画処理時等に、機能液滴吐出ヘッド７２を保管するためにも用いることが可能である。この場合、メンテナンスエリア５２にヘッドユニット４１を臨ませた後、キャップ昇降機構２５４を駆動して、キャップユニット２５２を第１位置まで移動させる。これにより、キャップ２６１が機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に密着して、ノズル面８７が封止（キャッピング）され、機能液滴吐出ヘッド７２（吐出ノズル８８）の乾燥が防止される。
【００９１】
次に、ワイピングユニット２３３について説明する。ワイピングユニット２３３は、機能液滴吐出ヘッド７２の吸引等により、機能液が付着して汚れた各機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７を、ワイピングシート２８１を用いて拭き取る（ワイピングする）ものである。図２〜４、図１１、図１２に示すように、ワイピングユニット２３３は、上記したユニット昇降機構２３５の、描画エリア５１と吸引ユニット２３２との間、すなわちメンテナンスエリア５２の描画エリア５１側に配置されている。このような配置により、ワイピングユニット２３３は、吸引処理を終え、描画エリア５１へ移動するヘッドユニット４１（分割ヘッドユニット７１）に順次臨むことができ、その機能液滴吐出ヘッド７２にワイピング処理を行えるようになっている。
【００９２】
図１５および図１６に示すように、ワイピングユニット２３３は、主要部が配設されたユニット本体２８２と、ユニット本体２８２をＸ軸方向にスライド自在に支持する横移動機構２８３と、を備えている。ユニット本体２８２は、ロール状に巻回したワイピングシート２８１を繰り出しながら巻き取ってゆくシート供給ユニット２９１と、機能液滴吐出ヘッド７２の下側から臨み、ワイピングシート２８１でノズル面８７を拭取る拭取りユニット２９２と、繰り出したワイピングシート２８１に洗浄液を散布する洗浄液供給ユニット２９３と、これらを支持するワイピングフレーム２９４と、を有している。なお、ワイピングシート２８１に供給される洗浄液は、比較的揮発性の高い機能液の溶剤であり、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に付着する機能液を効率的に除去できるようになっている。
【００９３】
ワイピングフレーム２９４は、方形のワイピングベース３０１と、Ｘ軸方向と平行になるように、ワイピングベース３０１に立設した一対のサイドフレーム３０２と、を有している。一対のサイドフレーム３０２の左側（描画領域側）には、シート供給ユニット２９１が配設され、その右側（吸引ユニット２３２側）上部には、拭取りユニット２９２が配設されている。また、サイドフレーム３０２には、シート供給ユニット２９１から拭取りユニット２９２に繰出されるワイピングシート２８１に臨むように、洗浄液供給ユニット２９３が支持されている。
【００９４】
図１５および図１６に示すように、シート供給ユニット２９１は、ロール状のワイピングシート２８１を装填し、ワイピングシート２８１を（その延在方向に）繰り出す図示上側の繰出しリール３１１と、繰り出されたワイピングシート２８１を巻き取る図示下側の巻取りリール３１２と、巻取りリール３１２を巻取り回転させる巻取りモータ３１３と、巻取りモータ３１３の動力を巻取りリール３１２に伝達する動力伝達機構３１４と、繰出しリール３１１からのワイピングシート２８１を拭取りユニット２９２に送る中間ローラ３１５と、を有している。
【００９５】
サイドフレーム３０２の外側に位置する繰出しリール３１１の軸端の一方には、巻取りモータ３１３に抗するように制動回転するトルクリミッタ３１６が設けられており、繰出されたワイピングシート２８１に一定の張力を付与できるようになっている。巻取りモータ３１３は、ギヤードモータで構成され、サイドフレーム３０２に固定されている。動力伝達機構３１４は、巻取りモータ３１３の出力端に固定した駆動プーリ３１７と、巻取りリール３１２の軸端に固定した従動プーリ３１８と、両プーリ３１７、３１８間に架け渡したタイミングベルト３１９と、を有している。巻取りモータ３１３が駆動すると、自身の減速ギア列を介してタイミングベルト３１９が走行し、巻取りリール３１２に動力が伝達される。中間ローラ３１５の軸端には、速度検出器３２０（図１８参照）が設けられ、ワイピングシート２８１の送り速度を検出している。繰出しリール３１１、巻取りリール３１２、および中間ローラ３１５は、その軸線が、ワイピングシート２８１の幅方向であるＸ軸方向と平行になるように、サイドフレーム３０２に両持ち、かつ回転自在に軸支されている。すなわち、ワイピングシート２８１は、ワイピングシート２８１の幅方向（Ｘ軸方向）と直交する方向に、繰り出し送りされる。
【００９６】
図１５および図１６に示すように、拭取りユニット２９２は、ワイピングシート２８１の幅に対応した軸方向の長さを有し、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７にワイピングシート２８１を当接させる拭取りローラ３２１と、拭取りローラ３２１を両持ちで支持する一対の軸受け部材３２２と、一対の軸受け部材３２２を介して拭取りローラ３２１を昇降させるローラ昇降機構３２３と、これらを支持すると共に、サイドフレーム３０２に固定された「Ｌ」字状の一対の軸受けフレーム３２４と、を有している。繰出しリール３１１から繰出されたワイピングシート２８１は、中間ローラ３１５を経て、拭取りローラ３２１を周回し、巻取りリール３１２に巻き取られるようになっている。
【００９７】
拭取りローラ３２１は、自由回転ローラであり、軸線をＸ軸方向と一致させた状態で、一対の軸受け部材３２２に回転自在に軸支されている。すなわち、拭取りローラ３２１は、ヘッドユニット４１に搭載された機能液滴吐出ヘッド７２のノズル列と直交するよう支持されており、ノズル面８７をノズル列方向に（縦拭きで）拭取ってゆくようになっている。この場合、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７の損傷を防止するため、拭取りローラ３２１を柔軟性と弾力性を有するゴム等で構成することが好ましい。ローラ昇降機構３２３は、一対のサイドフレーム３０２上に固定された一対のローラ昇降シリンダ３２５（エアーシリンダ）を有し、一対の軸受け部材３２２を昇降自在に支持している。すなわち、ローラ昇降シリンダ３２５を駆動すると、軸受け部材３２２を介して、拭取りローラ３２１がヘッドユニット４１の機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７に当接可能な所定の拭取り高さ位置まで昇降する。
【００９８】
図１５および図１６に示すように、洗浄液供給ユニット２９３は、噴霧ノズルから成り、後述する洗浄液タンクに接続された複数の洗浄液ノズル３３１と、一対のサイドフレーム３０２に架け渡され、複数の洗浄液ノズル３３１を支持するノズル支持部材３３２と、を有している。ノズル支持部材３３２は、中間ローラ３１５と拭取りローラ３２１との間に設けられると共に、Ｘ軸方向（ワイピングシート２８１の幅方向）と平行になるように一対のサイドフレーム３０２に両持ちで支持されている。複数の洗浄液ノズル３３１は、中間ローラ３１５から拭取りローラ３２１に送られるワイピングシート２８１に臨んで配設される。この場合、ワイピングシート２８１の幅全体に洗浄液が均等に噴霧されるよう、複数の洗浄液ノズル３３１をＸ軸方向に均等に配置することが好ましい。なお、本実施形態では、ワイピングシート２８１の幅全体に洗浄液を供給させるため、複数の洗浄液ノズル３３１を具備しているが、洗浄液ノズル３３１をワイピングシート２８１の幅方向に移動させるノズル移動機構を設けることにより、洗浄液ノズル３３１を単一のもので構成することも可能である。
【００９９】
横移動機構２８３は、ユニット本体２８２を介して、ワイピングシート２８１全体をその幅方向（Ｘ軸方向）に移動させるためのものである。上述したように、機能液滴吐出ヘッド７２は、ヘッド保持部材７４を介してヘッドプレート７３に取り付けられており、ノズル列と直交したＸ軸方向に隣接する機能液滴吐出ヘッド７２間には間隙を有している（図８参照）。したがって、ノズル列方向に沿って、機能液滴吐出ヘッド７２の拭取りを行うと、ワイピングシート２８１には、ストライプ状に汚れが付着する（図１７（ａ）参照）。すなわち、機能液滴吐出ヘッド７２間の間隙に相当する部分は、拭取りに用いられず、ワイピングシート２８１の一部分のみが拭取りに供される。そこで、横移動機構２８３を設け、一旦拭取りを行ってストライプ状に汚れが付着したワイピングシート２８１を、Ｘ軸方向に横移動させることにより、機能液滴吐出ヘッド７２に対するワイピングシート２８１の払拭位置を異ならせ、上記した間隙部分のワイピングシート２８１を有効に利用できるようにした（図１７（ｂ）参照）。なお、横移動機構２８３に代えて、ヘッドユニット４１（分割ヘッドユニット７１）をＸ軸方向に移動させる機構を設け、これをワイピングシート２８１に対して横移動させる構成としても同様の効果を得ることができる。
【０１００】
図１５および図１６に示すように、横移動機構２８３は、ユニット本体２８２をＸ軸方向にスライド自在に支持する２組４個の横移動スライダ３４３と、２組４個の横移動スライダ３４３をＸ軸方向に移動させる横移動ボールねじ３４２と、横移動ボールねじ３４２を正逆回転させる横移動モータ３４１と、Ｘ軸方向に延在し、横移動スライダ３４３の移動をガイドする一対の横移動ガイド３４４と、上記したユニット昇降機構２３５（ベースプレート３５２）に固定され、これらを支持する横移動ベース３４５と、を備えている。横移動モータ３４１が駆動すると、横移動ボールねじ３４２を介して横移動スライダ３４３がＸ軸方向に（正逆）移動し、横移動ベース３４５に対して、ユニット本体２８２がＸ軸方向を移動する。
【０１０１】
本実施形態では、Ｘ軸方向に隣接する機能液滴吐出ヘッド７２間の間隙は、ノズル列と直交する機能液滴吐出ヘッド７２の短辺およそ１個分となっており、横移動機構２８３で横移動させる距離は、機能液滴吐出ヘッド７２の短辺１個分に設定されている。すなわち、Ｘ軸方向における機能液滴吐出ヘッド７２の配置ピッチの半ピッチ分を移動させるようにしている。ただし、この値は、機能液やワイピングシート２８１の種類やＸ軸方向における機能液滴吐出ヘッド７２の配置ピッチ等に応じて変更可能である。なお、本実施形態の横移動機構２８３は、モータ駆動でユニット本体２８２をスライドさせているが、モータ駆動に代えて、ロッドレスシリンダ等を用いたエアー駆動のものとしても良い。
【０１０２】
ここで、ワイピングユニット２３３の一連の動作について説明する。先ず、洗浄液供給ユニット２９３を駆動して、洗浄液ノズル３３１から洗浄液を噴霧させ、ワイピングシート２８１に洗浄液を供給する。一方、ローラ昇降シリンダ３２５が駆動され、拭取りローラ３２１を拭取り高さ位置まで上昇させる。次に、巻取りモータ３１３が駆動され、洗浄液を含浸したワイピングシート２８１が拭取りローラ３２１に送られる。洗浄液を含浸したワイピングシート２８１が拭取りローラ３２１に送られると、巻取りモータ３１３の駆動が停止され、ワイピングシート２８１の送りが停止される。続いて、ヘッド移動手段４３が駆動される。これにより、ヘッドユニット４１は、搭載した機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７を、洗浄液を含浸したワイピングシート２８１に当接させた（押し付けた）状態で、メンテナンスエリア５２を移動してゆく。すなわち、ワイピングシート２８１に対して、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面が摺動し、機能液滴吐出ヘッド７２のノズル面８７がワイピングシート２８１で払拭されてゆく。
【０１０３】
詳細は後述するが、本実施形態では、分割ヘッドユニット７１単位でワイピングを行う構成となっており、７つの分割ヘッドユニット７１を１個ずつ、順番にワイピングユニット２３３に臨ませることにより、分割ヘッドユニット７１に搭載する機能液滴吐出ヘッド７２を連続してワイピングする。そこで、このワイピングユニット２３３では、未使用のワイピングシート２８１で所定個分の分割ヘッドユニット７１をワイピングした後、横移動機構２８３を駆動して、ワイピングシート２８１をＸ軸方向に移動させる。そして、さらに所定個分の分割ヘッドユニット７１をワイピングした後、巻取りモータ３１３を駆動し、使用済みのワイピングシート２８１を送るようになっている。
【０１０４】
次に、ユニット昇降機構２３５について説明する。上記したメンテナンスエリア５２は、機能液滴吐出ヘッド７２の保守に用いられるだけではなく、吸引ユニット２３２やワイピングユニット２３３のメンテナンスや、キャリッジ７５に搭載したヘッドプレート７３を交換する（ヘッド交換）ための作業領域を兼ねている。そこで、ユニット昇降機構２３５は、機能液滴吐出ヘッド７２を保守する所定のメンテナンス位置（アクセス位置）から、所定の退避位置まで、吸引ユニット２３２およびワイピングユニット２３３を下降させることにより、吸引ユニット２３２およびワイピングユニット２３３上に作業領域を確保するものである。
【０１０５】
図１１および図１２に示すように、ユニット昇降機構２３５は、吸引ユニット２３２の７つの分割吸引ユニット２５１およびワイピングユニット２３３のいずれか１個を支持する８つの昇降機構３５１を有しており、これらを、メンテナンス位置および退避位置の間で、それぞれ独立して昇降させることができるようになっている。図１３ないし図１６に示すように、昇降機構３５１は、上記したアングル架台３２に架け渡したベースプレート３５２と、ベースプレート３５２に固定され、分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３を昇降自在に支持するユニット昇降シリンダ３５３（エアーシリンダ）と、分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３の昇降移動をガイドする一対のユニット昇降ガイド３５４と、を有している。
【０１０６】
ユニット昇降シリンダ３５３は、ベースプレート３５２を貫通しており、シリンダ本体は、ベースプレート３５２の下面中央位置に固定され、ピストンロッドは、分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３に固定されている。ユニット昇降シリンダ３５３による昇降ストロークは、２００ｍｍ〜４００ｍｍに設定されている。ユニット昇降ガイド３５４は、ベースプレート３５２を貫通し、上端を（ガイドする）分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３に固定した一対のガイドシャフト３５５と、一対のガイドシャフト３５５に摺動自在に係合すると共に、ベースプレート３５２に固定された一対のフランジ付きリニアブッシュ３５６とで構成されている。一対のガイドシャフト３５５は、ユニット昇降シリンダ３５３を中心として、対称に配置されており、分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３の昇降を安定してガイドできるようになっている。
【０１０７】
通常、ユニット昇降機構２３５は、吸引ユニット２３２およびワイピングユニット２３３を、メンテナンス位置に支持しており、吸引ユニット２３２およびワイピングユニット２３３や、ヘッド交換を行うときのみ、これらを退避位置まで下降させる。
【０１０８】
液体供給回収手段は、メンテナンス手段４６のフラッシングユニット２３１からの廃液を廃液タンクに回収する廃液回収系と、吸引ユニット２３２で吸引した機能液および吸引ユニット２３２に吐出された機能液を再利用タンクに回収する機能液回収系と、洗浄液タンクを有し、ワイピングユニット２３３に洗浄液を供給する洗浄液供給系と、で構成されている（いずれも図示省略）。なお、装置本体２２には、廃液回収系の廃液タンク、機能液回収系の再利用タンク、および洗浄液供給系の洗浄液タンクをまとめて収容するタンクキャビネットが配設されている。
【０１０９】
次に、図１８を参照して、液滴吐出装置３の主制御系について説明する。同図に示すように、液滴吐出装置３は、ヘッドユニット４１（機能液滴吐出ヘッド７２）、およびワーク移動手段４２、を有する描画部３６１と、ヘッド移動手段４３を有するヘッド移動部３６２と、ワーク除給手段４４を有するワーク除給部３６３と、メンテナンス手段４６を有するメンテナンス部３６４と、各種センサを有し、各種検出を行う検出部３６５と、各部を駆動する駆動部３６６と、各部に接続され、液滴吐出装置３全体の制御を行う制御部３６７（制御装置５）と、を備えている。
【０１１０】
制御部３６７には、各手段を接続するためのインタフェース３７１と、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ３７２と、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ３７３と、ワークＷに描画を行うための描画データや、各手段からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク３７４と、ＲＯＭ３７３やハードディスク３７４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ３７５と、これらを互いに接続するバス２７６と、が備えられている。
【０１１１】
そして、制御部３６７は、各手段からの各種データを、インタフェース３７１を介して入力すると共に、ハードディスク３７４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等により順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ３７５に演算処理させ、その処理結果を、各手段に出力することにより、装置全体を制御している。
【０１１２】
図１９ないし図２１を参照して、ヘッドユニット４１のメンテナンスを行う場合を例に、液滴吐出装置３の制御について説明する。ヘッドユニット４１のメンテナンスには、搭載した機能液滴吐出ヘッド７２の機能維持・機能回復を図るために、ワークＷの交換時に定期的に行われる定期メンテナンスと、分割ヘッドユニット７１のヘッドプレート７３を交換するヘッド交換と、が含まれており、ここでは、定期メンテナンスについての制御フローを説明した後、ヘッド交換の制御フローについて説明する。なお、説明の便宜のため、ヘッドユニット４１の７つの分割ヘッドユニット７１を、図示左側から第１〜第７分割ヘッドユニット７１ａ〜ｇとした。同様に、吸引ユニット２３２の７つの分割吸引ユニット２５１も、図示左側から第１〜第７分割吸引ユニット２５１ａ〜ｇとした。
【０１１３】
定期メンテナンスは、ヘッドユニット４１の全機能液滴吐出ヘッド７２に対して、吸引ユニット２３２を用いて吸引した後、ワイピングユニット２３３を用いてワイピングするものである。図１９（ｂ）に示すように、定期メンテナンスの制御フローでは、先ず、ヘッド移動手段４３が駆動され、ヘッドユニット４１を構成する７つの分割ヘッドユニット７１全てをメンテナンスエリア５２に移動すると共に、これらを分割吸引ユニット２５１にそれぞれ臨ませる。次に、７つのキャップ昇降機構２５４を駆動して、７つのキャップユニット２５２を第１位置まで移動させ、ヘッドユニット４１の全機能液滴吐出ヘッド７２に、対応するキャップ２６１を密着させる。続いて、全分割吸引ユニット２５１のエゼクタに圧縮エアーを供給し、ヘッドユニット４１の全機能液滴吐出ヘッド７２を吸引する。
【０１１４】
全機能液滴吐出ヘッド７２の吸引が終了すると、第１分割吸引ユニット２５１ａのキャップ昇降機構２５４を駆動して、第１分割ヘッドユニット７１ａの機能液滴吐出ヘッド７２からキャップ２６１を離間させる。続いて、ヘッド移動手段４３を駆動して、第１分割ヘッドユニット７１ａを描画エリア５１側へ移動させると共に、ワイピングユニット２３３を駆動して、第１分割ヘッドユニット７１ａの全機能液滴吐出ヘッド７２にワイピングを行う。この間、第２〜第７分割ヘッドユニット７１ｂ〜ｇは、第２〜第７分割吸引ユニット２５１ｂ〜ｇのキャップ２６１により、搭載した機能液滴吐出ヘッド７２を封止（キャッピング）した状態で待機している。これにより、待機中の機能液滴吐出ヘッド７２（の吐出ノズル８８）が乾燥して、目詰まりすることを防止できる。
【０１１５】
第１分割ヘッドユニット７１ａに対するワイピングが終了間近になると、第２分割吸引ユニット２５１ｂのキャップ昇降機構２５４を駆動して、待機中の第２分割ヘッドユニット７１ｂの機能液滴吐出ヘッド７２からキャップ２６１を離間させる。そして、第１分割ヘッドユニット７１ａのワイピングが終了すると、ヘッド移動手段４３の駆動を制御して、第１分割ヘッドユニット７１ａを描画エリア５１に移動させると共に、ワイピングユニット２３３の横移動機構２８３を駆動して、ワイピングシート２８１をＸ軸方向に移動させる。続いて、第２分割ヘッドユニット７１ｂを描画エリア５１側へ移動させ、第２分割ヘッドユニット７１ｂのワイピングを行う（図１９（ｃ）参照）。
【０１１６】
第２分割ヘッドユニット７１ｂのワイピングが終了直前に、第３分割吸引ユニット２５１ｃのキャップ昇降機構２５４を駆動して、待機中の第３分割ヘッドユニット７１ｃからキャップ２６１を離間させる。第２分割ヘッドユニット７１ｂのワイピングが終了すると、ヘッド移動手段４３の駆動を制御して、第２分割ヘッドユニット７１ｂを描画エリア５１に移動させると共に、ワイピングユニット２３３のシート供給ユニット２９１（巻取りモータ３１３）を駆動して、ワイピングシート２８１を繰り出し送りし、洗浄液を含浸させた未使用のワイピングシート２８１を拭取りユニット２９２（拭取りローラ３２１）に供給する。
【０１１７】
そして、ヘッド移動手段４３を駆動して、第３分割ヘッドユニット７１ｃのワイピングを行う。以下、待機中の第４〜第７分割ヘッドユニット７１ｄ〜ｇに対しても同様の動作が繰り返され、ワイピングと描画エリア５１への移動とが、第４〜第７分割ヘッドユニット７１ｃ〜ｇの順で行われる。
【０１１８】
一方、全ての分割ヘッドユニット７１のワイピングが終了するまでの間、描画エリア５１に送られた（待機中の）分割ヘッドユニット７１の機能液滴吐出ヘッド７２は、所定の間隔で定期的に吐出駆動され、フラッシング動作が行われる。このとき、セットテーブル１０１は、ワーク交換のためにワーク搬出入エリア５３に臨んでおり、描画エリア５１で待機中の分割ヘッドユニット７１は、フラッシングボックス２４１の直上部に臨んでフラッシングを行う。
【０１１９】
なお、本実施形態では、ワイピング前の分割ヘッドユニット７１を、キャッピングした状態で待機させているが、キャップ２６１に向けて、所定の間隔で定期的にフラッシングさせながら（キャップ内フラッシングをさせながら）、これを待機させるように構成してもよい。この場合、第１分割ヘッドユニット７１ａからキャップ２６１を離間させる時に、第２〜第７分割吸引ユニット２５１ｂ〜ｇのキャップ昇降機構２５４を駆動して、第２〜第７分割吸引ユニット２５１ｂ〜ｇのキャップ２６１を第２位置に移動させる。
【０１２０】
もっとも、極めて揮発性が低い機能液を用いた場合のように、ワイピングのための待機時間が、機能液滴吐出ヘッド７２の吐出性能にほとんど影響しない場合には、待機中のキャッピングやキャップ内フラッシングは必要ではない。この場合、ワイピングの待機中に、キャッピングやキャップ内フラッシングを行う必要がないため、吸引ユニット２３２を、７つ未満の分割吸引ユニット２５１で構成してもよい。特に、定期メンテナンスを行う頻度が少ない場合には、分割吸引ユニット２５１の減少が、全体のタクトタイムに与える影響は少なく、吸引ユニット２３２を、単一の分割吸引ユニット２５１で構成することが可能である。逆に、頻繁に定期メンテナンスを行う場合には、ワイピングのための待機時間が全体の処理時間に影響を与えるため、この待機時間を削減すべく、複数のワイピングユニット２３３を設けるようにしてもよい。
【０１２１】
また、図１９に示すように、本実施形態では、ワイピング前の分割ヘッドユニット７１は、ワイピングを待つ間移動せず、吸引が行われた位置に留まったままであるが、先に行われる分割ヘッドユニット７１のワイピングが終了する毎に、描画エリア５１側（ワイピングユニット２３３側）に位置して隣接する分割吸引ユニット２５１のキャップユニット２５２に順次移動させるようにしてもよい。
【０１２２】
図２０を参照して具体的に説明する。同図（ａ）に示すように、（第１分割吸引ユニット２５１に臨む）第１分割ヘッドユニット７１ａがワイピングユニット２３３に移動すると、第２〜第７分割ヘッドユニット７１ｂ〜ｇを、第１〜第６分割吸引ユニット２５１ａ〜ｆまで移動させる。そして、同図（ｂ）に示すように、第１分割ヘッドユニット７１ａのワイピングが終了し、第１分割吸引ユニット２５１に臨む第２分割ヘッドユニット７１ｂがワイピングユニット２３３に移動すると、第３〜第７分割ヘッドユニット７１ｃ〜ｇを、第１〜第５分割吸引ユニット２５１ａ〜ｆまで移動させる。なお、この場合も、ワイピングが終了した分割ヘッドユニット７１は、描画エリア５１へ移動する。このように、（先にワイピングを行う）分割ヘッドユニット７１のワイピングユニット２３３への移動に伴い、待機中の分割ヘッドユニット７１を、隣接するワイピングユニット２３３側の分割吸引ユニットに移動させることにより、ヘッドユニット４１（全分割ヘッドユニット７１）のワイピングに要する時間を短縮することができる。
【０１２３】
さらに、本実施形態では、１個の分割ヘッドユニット７１のワイピングが終了すると、ワイピングシート２８１を横移動させているが、横移動のタイミングは、実情（機能液の種類等）に応じて適宜設定可能である。例えば、２個の分割ヘッドユニット７１のワイピングを行った後、ワイピングシート２８１を横移動させ、さらに２個の分割ヘッドユニット７１のワイピングを行ってから、ワイピングシート２８１を繰り出すようにしてもよい。また、各分割ヘッドユニット７１のヘッドプレート７３等に、ワイピングシート２８１の汚れ具合を検出する汚れ検出手段（図示省略）を設けるなどして、ワイピングシート２８１の汚れ具合に応じて、ワイピングシート２８１を横送りすることも可能である。この場合、反射型のフォトセンサや、カメラ等で汚れ検出手段を構成すればよい。
【０１２４】
なお、定期メンテナンスでは、ヘッドユニット４１を構成する全分割ヘッドユニット７１に対し、吸引・ワイピングを行っているが、任意の１つの分割ヘッドユニット７１に対してのみ、吸引・ワイピングを行うことができることはいうまでもない。この場合、吸引・ワイピングが行われる分割ヘッドユニット７１が第１分割吸引ユニット２５１ａに臨むよう、ヘッド移動手段４３を駆動すればよい。
【０１２５】
次に、ヘッド交換の制御フローについて説明する。本実施形態では、ワイピングユニット２３３の上方、すなわち最も描画エリア５１に近接したメンテナンスエリア５２の上方が、ヘッド交換を行うためのヘッド交換エリアとなっており、先ず、ヘッド移動手段４３を駆動して、ヘッド交換を行う分割ヘッドユニット７１を、ワイピングユニット２３３まで移動させる。そして、ワイピングユニット２３３を支持するユニット昇降機構２３５の昇降機構３５１を駆動し、これを上記した待避位置まで移動させる。これにより、ワイピングユニット２３３の上方に作業スペースが生成され、効率よくヘッド交換を行うことができるようになっている。ヘッド交換が終了すると、上記した昇降機構３５１が再度駆動され、ワイピングユニット２３３および第１分割吸引ユニット２５１をメンテナンス位置まで上昇させる。なお、より有効に作業スペースを確保するため、ワイピングユニット２３３と隣接する第１分割ヘッドユニット７１も待避位置まで移動させることが好ましい。
【０１２６】
第５分割ヘッドユニット７１のヘッドプレート７３を交換する場合を例に、ヘッド交換の一連のフローについて具体的に説明する。図２１（ｂ）に示すように、先ず、ヘッド移動手段４３を駆動して、第５〜第７分割ヘッドユニット７１ｅ〜ｇをメンテナンスエリア５２に移動させ、第５分割ヘッドユニット７１ｅをワイピングユニット２３３に臨ませると共に、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇを第２・第３分割吸引ユニット２５１ｂ・ｃに臨ませる。そして、図２１（ｃ）に示すように、昇降機構３５１を駆動して、ワイピングユニット２３３および第１分割吸引ユニット２５１を待避位置まで移動させる。なお、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇの移動位置は、これに限られるものではなく、例えば、第６・第７分割吸引ユニット２５１ｆ・ｇに臨むように、これらを移動させてもよい（図２１（ｃ´）参照）。
【０１２７】
ヘッド交換の作業中に、作業外の分割ヘッドユニット７１の機能液滴吐出ヘッド７２の乾燥・目詰まりを防止するため、作業外の分割ヘッドユニット７１には、キャッピングまたは（定期的な）フラッシングが行われる。すなわち、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇが臨む分割吸引ユニット２５１（ここでは第２・第３分割吸引ユニット２５１ｂ・ｃ）のキャップ昇降機構２５４が駆動され、キャップユニット２５２が第１位置または第２位置まで移動する。そして、第１〜第４分割ヘッドユニット７１ａ〜ｄでは、フラッシングボックス２４１に臨んでフラッシングが行われ、一方、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇでは、キャッピングまたはキャップ内フラッシングが行われる。
【０１２８】
ヘッド交換作業が終了すると、第６・第７分割ヘッドユニット７１ｆ・ｇが臨む分割吸引ユニット２５１のキャップ昇降機構２５４が駆動され、第１位置または第２位置にあるキャップユニット２５２を下降端位置まで下降させると共に、上記の昇降機構３５１が駆動され、ワイピングユニット２３３および第１分割吸引ユニット２５１がメンテナンス位置まで上昇する。
【０１２９】
なお、本実施形態では、ヘッド交換時に、一部の分割ヘッドユニット７１を描画エリア５１に残しているが、ヘッドユニット４１の全分割ヘッドユニット７１を保守エリア５２に移動させる構成としてもよい。この場合、７つの全分割ヘッドユニット７１を対応する分割吸引ユニット２５１に臨ませる。そして、作業を行う分割ヘッドユニット７１（ここでは第５分割ヘッドユニット７１ｅ）を除いた６つの分割ヘッドユニット７１には、キャッピングを行うか、キャップ内フラッシングを行わせるようにする。
【０１３０】
また、吸引ユニット２３２の各分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３をメンテナンスする場合には、メンテナンスを行うユニット自身の待避は行わず、これに隣接するユニット（各分割吸引ユニット２５１またはワイピングユニット２３３）を待避位置まで移動させるようになっている。特に、第１〜第６分割吸引ユニット２５１ａ〜ｆのメンテナンスを行う場合には、メンテナンスを行う分割吸引ユニット２５１に隣接する両側のユニットを退避位置まで移動させる（図２２参照）。
【０１３１】
このように、制御部３６７では、各手段を統括制御することにより、これらを協働させ、各種処理を行うようになっている。
【０１３２】
次に、本実施形態の液滴吐出装置３を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【０１３３】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図２３は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図２４は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図２４（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【０１３４】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図２４（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図２４（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド７２により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【０１３５】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【０１３６】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図２４（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド７２によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド７２を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１３７】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図２４（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【０１３８】
図２５は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図２４に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１３９】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１４０】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図２５において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１４１】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。
そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１４２】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１４３】
実施形態の液滴吐出装置３は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド７２で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド７２で行うことも可能である。
【０１４４】
図２６は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１４５】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【０１４６】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１４７】
図２７は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１４８】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【０１４９】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１５０】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１５１】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１５２】
次に、図２８は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。
【０１５３】
この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１５４】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【０１５５】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【０１５６】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。
【０１５７】
このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【０１５８】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【０１５９】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【０１６０】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１６１】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。
【０１６２】
そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１６３】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１６４】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図２９〜図３７を参照して説明する。
この表示装置７００は、図２９に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１６５】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図３０に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図３１に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【０１６６】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド７２を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１６７】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した液滴吐出装置３のセットテーブル１０１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１６８】
図３２に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド７２から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図３３に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。
【０１６９】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【０１７０】
そして次に、図３４に示すように、各色のうちの何れか（図３５の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【０１７１】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図３５に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【０１７２】
同様に、機能液滴吐出ヘッド７２を用い、図３６に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１７３】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１７４】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図３７に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１７５】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１７６】
次に、図３８は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１７７】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１７８】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１７９】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１８０】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した液滴吐出装置３を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置３のセットテーブル１０１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド７２により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１８１】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０１８２】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド７２から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０１８３】
次に、図３９は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０１８４】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１８５】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１８６】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１８７】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置３を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置３を用いて形成することができる。
【０１８８】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図４０（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図４０（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置３によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置３によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１８９】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置３を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【符号の説明】
【０１９０】
３ 液滴吐出装置、５ 制御装置、４１ ヘッドユニット、４２ ワーク移動手段、４３ ヘッド移動手段、４６ メンテナンス手段、５１ 描画エリア、５２ メンテナンスエリア、７１ 分割ヘッドユニット、７２ 機能液滴吐出ヘッド、７３ ヘッドプレート、７５ キャリッジ、８７ ノズル面、８８ 吐出ノズル、１１１ θテーブル、１１２ 吸着テーブル、１２１ θ固定部、１２２ θ回転部、１３１ テーブル本体、１３３ 支持ベース、２０１ 機能液タンク、２３２ 吸引ユニット、２３３ ワイピングユニット、２３５ ユニット昇降機構、２４１ フラッシングボックス、２８１ ワイピングシート、２８３ 横移動機構、２９１ シート供給ユニット、２９３ 洗浄液供給ユニット、Ｗ ワーク。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを搭載すると共に当該ワークをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、
前記Ｘ軸テーブルと協働し描画エリアに臨んだワークに機能液を吐出してワーク上に描画を行う機能液滴吐出ヘッド、およびこれを搭載したキャリッジを有する複数のキャリッジユニットと、
メンテナンスエリアに臨んだ前記複数のキャリッジユニットに対し、１つずつメンテナンス処理を行うメンテナンス手段と、
前記複数のキャリッジユニットを前記描画エリアと前記メンテナンスエリアとの間で個々に移動させるＹ軸テーブルと、
前記Ｙ軸テーブルによる前記キャリッジユニットの移動軌跡上に配設され、前記複数のキャリッジユニットの全機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックスと、を備えていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記メンテナンス手段、前記Ｙ軸テーブルおよび前記各機能液滴吐出ヘッドを制御する制御手段を、更に備え、
前記制御手段は、前記メンテナンス処理後の前記キャリッジユニットを順に前記フラッシングボックスの直上部に送り、最後の前記キャリッジユニットの前記メンテナンス処理が終了するまでの間、
前記メンテナンス処理後の前記キャリッジユニットの前記機能液滴吐出ヘッドに機能液の捨て吐出を行わせることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記メンテナンス手段は、前記機能液滴吐出ヘッドの各吐出ノズルから機能液を吸引する吸引ユニットと、
吸引後の前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートにより払拭するワイピングユニットと、を有することを特徴とする請求項１または２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記フラッシングボックスは、Ｘ軸テーブルに搭載されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記ワイピングユニットは、前記吸引ユニットに対し前記描画エリア側に配設されていることを特徴とする請求項４に記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記Ｘ軸テーブルは、ワークを吸着載置する吸着テーブルと、前記吸着テーブルを回転させる回転テーブルと、前記回転テーブルを支持するテーブルベースと、を有し、
前記フラッシングボックスは、前記テーブルベース上に搭載されていることを特徴とする請求項４または５に記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
前記フラッシングボックスは、前記複数のキャリッジユニットが描画動作を開始する描画ホーム位置の直下に配設されていることを特徴とする請求項４ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記制御手段は、描画動作開始時に、前記複数のキャリッジユニットの全吐出ノズルから前記フラッシングボックスに捨て吐出を行わせることを特徴とする請求項７に記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１０に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【請求項１】
ワークを搭載すると共に当該ワークをＸ軸方向に移動させるＸ軸テーブルと、
前記Ｘ軸テーブルと協働し描画エリアに臨んだワークに機能液を吐出してワーク上に描画を行う機能液滴吐出ヘッド、およびこれを搭載したキャリッジを有する複数のキャリッジユニットと、
メンテナンスエリアに臨んだ前記複数のキャリッジユニットに対し、１つずつメンテナンス処理を行うメンテナンス手段と、
前記複数のキャリッジユニットを前記描画エリアと前記メンテナンスエリアとの間で個々に移動させるＹ軸テーブルと、
前記Ｙ軸テーブルによる前記キャリッジユニットの移動軌跡上に配設され、前記複数のキャリッジユニットの全機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングボックスと、を備えていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記メンテナンス手段、前記Ｙ軸テーブルおよび前記各機能液滴吐出ヘッドを制御する制御手段を、更に備え、
前記制御手段は、前記メンテナンス処理後の前記キャリッジユニットを順に前記フラッシングボックスの直上部に送り、最後の前記キャリッジユニットの前記メンテナンス処理が終了するまでの間、
前記メンテナンス処理後の前記キャリッジユニットの前記機能液滴吐出ヘッドに機能液の捨て吐出を行わせることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記メンテナンス手段は、前記機能液滴吐出ヘッドの各吐出ノズルから機能液を吸引する吸引ユニットと、
吸引後の前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートにより払拭するワイピングユニットと、を有することを特徴とする請求項１または２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記フラッシングボックスは、Ｘ軸テーブルに搭載されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記ワイピングユニットは、前記吸引ユニットに対し前記描画エリア側に配設されていることを特徴とする請求項４に記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記Ｘ軸テーブルは、ワークを吸着載置する吸着テーブルと、前記吸着テーブルを回転させる回転テーブルと、前記回転テーブルを支持するテーブルベースと、を有し、
前記フラッシングボックスは、前記テーブルベース上に搭載されていることを特徴とする請求項４または５に記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
前記フラッシングボックスは、前記複数のキャリッジユニットが描画動作を開始する描画ホーム位置の直下に配設されていることを特徴とする請求項４ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記制御手段は、描画動作開始時に、前記複数のキャリッジユニットの全吐出ノズルから前記フラッシングボックスに捨て吐出を行わせることを特徴とする請求項７に記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１０に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【公開番号】特開２０１０−２４７１５２（Ｐ２０１０−２４７１５２Ａ）
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８９２２５（Ｐ２０１０−８９２２５）
【出願日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【分割の表示】特願２００４−２９９４４３（Ｐ２００４−２９９４４３）の分割
【原出願日】平成１６年１０月１３日（２００４．１０．１３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【分割の表示】特願２００４−２９９４４３（Ｐ２００４−２９９４４３）の分割
【原出願日】平成１６年１０月１３日（２００４．１０．１３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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