絶縁シート、積層板及び多層積層板
【課題】硬化物の表面に導体層が形成されたときに、導体層の接着強度を高めることができる絶縁シートを提供する。
【解決手段】表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上、３μｍ以下であり、重量平均分子量が１万以上であるポリマー（Ａ）と、重量平均分子量が１万未満であるエポキシ樹脂（Ｂ１）及び重量平均分子量が１万未満であるオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）と、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であるフィラー（Ｄ）とを含み、絶縁シート１００体積％中の前記フィラー（Ｄ）の含有量が２０〜９０体積％の範囲内である絶縁シート。
【解決手段】表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上、３μｍ以下であり、重量平均分子量が１万以上であるポリマー（Ａ）と、重量平均分子量が１万未満であるエポキシ樹脂（Ｂ１）及び重量平均分子量が１万未満であるオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）と、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であるフィラー（Ｄ）とを含み、絶縁シート１００体積％中の前記フィラー（Ｄ）の含有量が２０〜９０体積％の範囲内である絶縁シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層積層板などの絶縁層を形成するのに用いられる絶縁シートに関し、より詳細には、硬化物の表面に導体層が形成されたときに、導体層の接着強度を高めることができる絶縁シート、並びに該絶縁シートを用いた積層板及び多層積層板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話及びコンピューター等の電子機器では、小型化及び情報処理の高速化が進行している。このため、上記電子機器に用いられるプリント配線板では、多層化及び薄膜化が進行しており、かつ電子部品の実装密度が高くなってきている。
【０００３】
従来、多層プリント配線板の製造方法としては、絶縁接着層としてのプリプレグシートを数枚介して、回路が形成された内層回路板と銅箔とを積層プレスする方法が用いられている。上記プリプレグシートは、一般的には、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させてＢステージ化したシートである。しかし、上記方法では、積層プレスに長時間を要し、さらに大掛かりな設備も必要となるため、製造コストが高くなる。このため、近年、内層回路板の導体層上に絶縁層を交互に積み上げるビルドアップ方式の多層プリント配線板の製造方法が広く採用されてきている。
【０００４】
上記ビルドアップ方式に用いる絶縁シートには、室温でのハンドリング性と、内層回路を良好にラミネートするために適度な流動性とが求められる。
【０００５】
上記絶縁シートの一例として、下記の特許文献１には、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、エラストマー及び無機充填剤を含有する接着剤組成物を、ガラスクロスに含浸させた絶縁接着シートが開示されている。また、下記の特許文献２には、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、フェノール樹脂組成物と、ゴム成分と、硬化促進剤とを含むエポキシ樹脂組成物が開示されている。上記フェノール樹脂組成物は、フェノール類とトリアジン環を有する化合物とアルデヒド類との混合物又は縮合物であり、該混合物又は縮合物は、未反応アルデヒド類及びメチロール基を実質的に含まない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−３４２２３８号公報
【特許文献２】特許第３７８５７４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に記載の絶縁シートは、ガラスクロスが用いられているため、柔軟性が低かった。このため、内層回路を良好にラミネートすることができなかった。また、ガラスクロスを用いた場合には、薄膜化が困難であったり、レーザー加工性に劣ったり、ガラスクロス自体の熱伝導率が低いことにより十分な放熱性が得られなかったりすることがあった。
【０００８】
また、特許文献２には、上記エポキシ樹脂組成物を熱硬化するだけで、表面に微小な凹凸を形成できることが記載されている。このため、上記エポキシ樹脂組成物によりプリント配線板の絶縁層を形成し、かつ絶縁層の表面に導体層を形成した場合に、絶縁層と導体層との接着強度が高くなる。しかしながら、上記エポキシ樹脂組成物が用いられた場合でも、絶縁層と導体層との接着強度が充分に高くならないことがあった。また、特許文献２に記載の絶縁シートは、高い熱伝導率を有するフィラーが充填されていないために、放熱性が低いことがあった。
【０００９】
本発明の目的は、硬化物の表面に導体層が形成されたときに、導体層の接着強度を高めることができる絶縁シート、並びに該絶縁シートを用いた積層板及び多層積層板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上、３μｍ以下であり、重量平均分子量が１万以上であるポリマー（Ａ）と、重量平均分子量が１万未満であるエポキシ樹脂（Ｂ１）及び重量平均分子量が１万未満であるオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）と、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であるフィラー（Ｄ）とを含み、絶縁シート１００体積％中の前記フィラー（Ｄ）の含有量が２０〜９０体積％の範囲内である、絶縁シートが提供される。
【００１１】
上記フィラー（Ｄ）は、アルミナ、結晶性シリカ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも１種であることが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの放熱性をより一層高くすることができる。
【００１２】
本発明に係る絶縁シートのある特定の局面では、前記フィラー（Ｄ）は破砕状、略多面体状又は板状である。
【００１３】
本発明に係る絶縁シートの他の特定の局面では、前記硬化剤（Ｃ）は、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物である。
【００１４】
上記硬化剤（Ｃ）は、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂であることがより好ましい。この好ましい硬化剤（Ｃ）の使用により、絶縁層と導体層との密着性をより一層高くすることができる。また、絶縁シートの柔軟性及び難燃性をより一層高めることができる。
【００１５】
上記硬化剤（Ｃ）は、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物であることも好ましい。また、上記硬化剤（Ｃ）は、下記式（１）〜（３）の内のいずれかで表される酸無水物であることがより好ましい。これらの好ましい硬化剤（Ｃ）の使用により、絶縁シートの柔軟性、耐湿性又は接着性をより一層高めることができる。
【００１６】
【化１】
【００１７】
【化２】
【００１８】
【化３】
【００１９】
上記式（３）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素、炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基を示す。
【００２０】
本発明に係る絶縁シートの他の特定の局面では、樹脂粒子（Ｅ）がさらに含まれている。
【００２１】
本発明に係る絶縁シートのさらに他の特定の局面では、前記ポリマー（Ａ）は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が３万以上であるポリマーである。上記ポリマー（Ａ）は、フェノキシ樹脂であることが好ましい。フェノキシ樹脂の使用により、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。また、上記フェノキシ樹脂のガラス転移温度は、９５℃以上であることが好ましい。この場合には、樹脂の熱劣化をより一層抑制できる。
【００２２】
本発明に係る絶縁シートの別の特定の局面では、前記樹脂（Ｂ）は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の内の少なくとも一方のモノマーを含む。
【００２３】
本発明に係る絶縁シートのさらに別の特定の局面では、前記ポリマー（Ａ）と、前記樹脂（Ｂ）と、前記硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シート中の樹脂成分の合計１００重量％中、前記ポリマー（Ａ）の含有量が２０〜６０重量％、前記樹脂（Ｂ）の含有量が１０〜６０重量％、かつ前記ポリマー（Ａ）と前記樹脂（Ｂ）との合計の含有量が１００重量％未満である。
【００２４】
本発明に係る積層板は、絶縁層と、該絶縁層の少なくとも一方の面に積層された導体層とを備え、前記絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。
【００２５】
本発明に係る多層積層板は、積層された複数の絶縁層と、前記複数の絶縁層の間に配置された導体層とを備え、前記絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。
【００２６】
本発明に係る多層積層板のある特定の局面では、前記導体層がめっきにより形成されている。
【発明の効果】
【００２７】
本発明は、上記（Ａ）〜（Ｃ）成分とともに、平均粒子径０．１〜５μｍのフィラー（Ｄ）を含む絶縁シートであり、表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上、３μｍ以下であるので、硬化物の表面に導体層が形成されたときに、硬化物と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。
【００２８】
本発明に係る積層板及び多層積層板は絶縁層と導体層とを備え、該絶縁層が本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されているので、絶縁層と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた積層板を模式的に示す部分切欠正面断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた多層積層板を模式的に示す部分切欠正面断面図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態に係る絶縁硬化シートを用いた積層構造体を模式的に示す部分切欠正面断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明の詳細を説明する。
【００３１】
本発明に係る絶縁シートは、重量平均分子量が１万以上であるポリマー（Ａ）と、重量平均分子量が１万未満であるエポキシ樹脂（Ｂ１）及び重量平均分子量が１万未満であるオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）と、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であるフィラー（Ｄ）とを含む。
【００３２】
（ポリマー（Ａ））
本発明に係る絶縁シートに含まれている上記ポリマー（Ａ）は、重量平均分子量が１万以上であれば特に限定されない。ポリマー（Ａ）は、芳香族骨格を有することが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。ポリマー（Ａ）が芳香族骨格を有する場合には、芳香族骨格をポリマー全体の中に有していればよく、主鎖骨格内に有していてもよく、側鎖中に有していてもよい。ポリマー（Ａ）は、芳香族骨格を主鎖骨格内に有することが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの耐熱性をさらに一層高めることができる。ポリマー（Ａ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００３３】
上記芳香族骨格は特に限定されない。上記芳香族骨格の具体例としては、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格又はビスフェノールＡ型骨格等が挙げられる。なかでも、ビフェニル骨格又はフルオレン骨格が好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。
【００３４】
上記ポリマー（Ａ）として、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂等を用いることができる。
【００３５】
上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂は、特に限定されない。上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン又はポリエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。また、上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂として、熱可塑性ポリイミド、熱硬化性ポリイミド、ベンゾオキサジン、又はポリベンゾオキサゾールとベンゾオキサジンとの反応物などのスーパーエンプラと呼ばれている耐熱性樹脂群等を使用できる。上記熱可塑性樹脂及び上記熱硬化性樹脂はそれぞれ、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の内のいずれか一方が用いられてもよく、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とが併用されてもよい。
【００３６】
上記ポリマー（Ａ）は、スチレン系重合体、（メタ）アクリル系重合体又はフェノキシ樹脂であることが好ましく、フェノキシ樹脂であることがより好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの酸化劣化を防止でき、かつ耐熱性をより一層高めることができる。
【００３７】
上記スチレン系重合体として、具体的には、スチレン系モノマーの単独重合体、又はスチレン系モノマーとアクリル系モノマーとの共重合体等を用いることができる。中でも、スチレン−メタクリル酸グリシジルの構造を有するスチレン系重合体が好ましい。
【００３８】
上記スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｎ−ブチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ｐ−ｎ−ヘキシルスチレン、ｐ−ｎ−オクチルスチレン、ｐ−ｎ−ノニルスチレン、ｐ−ｎ−デシルスチレン、ｐ−ｎ−ドデシルスチレン、２，４−ジメチルスチレン又は３，４−ジクロロスチレン等が挙げられる。
【００３９】
上記アクリル系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸−２−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、β−ヒドロキシアクリル酸エチル、γ−アミノアクリル酸プロピル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル又はメタクリル酸ジエチルアミノエチル等が挙げられる。
【００４０】
上記フェノキシ樹脂は、具体的には、例えばエピハロヒドリンと２価フェノール化合物とを反応させて得られる樹脂、又は２価のエポキシ化合物と２価のフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂である。
【００４１】
上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールＡ型骨格、ビスフェノールＦ型骨格、ビスフェノールＡ／Ｆ混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格及びジシクロペンタジエン骨格からなる群から選択された少なくとも１つの骨格を有することが好ましい。中でも、上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールＡ型骨格、ビスフェノールＦ型骨格、ビスフェノールＡ／Ｆ混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格及びビフェニル骨格からなる群から選択された少なくとも１種の骨格を有することがより好ましく、フルオレン骨格及びビフェニル骨格の内の少なくとも一方を有することが更に好ましい。これらの好ましい骨格を有するフェノキシ樹脂の使用により、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。
【００４２】
上記フェノキシ樹脂は、主鎖中に多環式芳香族骨格を有することが好ましい。また、上記フェノキシ樹脂は、下記式（４）〜（９）で表される骨格の内の少なくとも１つの骨格を主鎖中に有することがより好ましい。
【００４３】
【化４】
【００４４】
上記式（４）中、Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｘ１は単結合、炭素数１〜７の２価の炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、又は−ＣＯ−である。
【００４５】
【化５】
【００４６】
上記式（５）中、Ｒ１ａは互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、ｍは０〜５の整数である。
【００４７】
【化６】
【００４８】
上記式（６）中、Ｒ１ｂは互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｒ４は互いに同一であっても異なっていてもよく水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、ｌは０〜４の整数である。
【００４９】
【化７】
【００５０】
【化８】
【００５１】
上記式（８）中、Ｒ５及びＲ６は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又はハロゲン原子であり、Ｘ２は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、又は−Ｏ−であり、ｋは０又は１である。
【００５２】
【化９】
【００５３】
上記ポリマー（Ａ）として、例えば、下記式（１０）又は下記式（１１）で表されるフェノキシ樹脂が好適に用いられる。
【００５４】
【化１０】
【００５５】
上記式（１０）中、Ａ１は上記式（４）〜（６）の内のいずれかで表される構造を有し、かつその構成は上記式（４）で表される構造が０〜６０モル％、上記式（５）で表される構造が５〜９５モル％、及び上記式（６）で表される構造が５〜９５モル％であり、Ａ２は水素原子、又は上記式（７）で表される基であり、ｎ１は平均値で２５〜５００の数である。
【００５６】
【化１１】
【００５７】
上記式（１１）中、Ａ３は上記式（８）又は上記式（９）で表される構造を有し、ｎ２は少なくとも２１以上の値である。
【００５８】
上記ポリマー（Ａ）のガラス転移温度Ｔｇは、６０〜２００℃の範囲内にあることが好ましく、９０〜１８０℃の範囲内にあることがより好ましい。ポリマー（Ａ）のＴｇが低すぎると、樹脂が熱劣化することがある。ポリマー（Ａ）のＴｇが高すぎると、ポリマー（Ａ）と他の樹脂との相溶性が悪くなる。この結果、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁硬化シートの耐熱性が低下することがある。
【００５９】
上記ポリマー（Ａ）がフェノキシ樹脂である場合には、フェノキシ樹脂のガラス転移温度Ｔｇは、９５℃以上であることが好ましく、１１０〜２００℃の範囲内にあることがより好ましく、１１０〜１８０℃の範囲内にあることがさらに好ましい。フェノキシ樹脂のＴｇが低すぎると、樹脂が熱劣化することがある。フェノキシ樹脂のＴｇが高すぎると、フェノキシ樹脂と他の樹脂との相溶性が悪くなる。この結果、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁硬化シートの耐熱性が低下することがある。
【００６０】
上記ポリマー（Ａ）の重量平均分子量は、１０，０００以上である。ポリマー（Ａ）の重量平均分子量は、３０，０００以上であることが好ましく、３０，０００〜１，０００，０００の範囲内にあることがより好ましく、４０，０００〜２５０，０００の範囲内にあることがさらに好ましい。ポリマー（Ａ）の重量平均分子量が小さすぎると、絶縁硬化シートが熱劣化することがある。ポリマー（Ａ）の重量平均分子量が大きすぎると、ポリマー（Ａ）と他の樹脂との相溶性が悪くなる。この結果、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁硬化シートの耐熱性が低下することがある。
【００６１】
ポリマー（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計１００重量％中に、ポリマー（Ａ）は２０〜６０重量％の範囲内で含まれている。ポリマー（Ａ）は上記範囲内で、ポリマー（Ａ）と樹脂（Ｂ）との合計の含有量が１００重量％未満であるように含まれている。全樹脂成分の合計１００重量％中のポリマー（Ａ）の含有量の好ましい下限は３０重量％であり、好ましい上限は５０重量％である。ポリマー（Ａ）の含有量が少なすぎると、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。ポリマー（Ａ）の含有量が多すぎると、フィラー（Ｄ）の分散が困難になることがある。なお、全樹脂成分とは、ポリマー（Ａ）、エポキシ樹脂（Ｂ１）、オキセタン樹脂（Ｂ２）、硬化剤（Ｃ）及び必要に応じて添加される他の樹脂成分の総和をいう。
【００６２】
（樹脂（Ｂ））
本発明に係る絶縁シートは、エポキシ樹脂（Ｂ１）及びオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）を含有する。樹脂（Ｂ）として、エポキシ樹脂（Ｂ１）のみが用いられてもよく、オキセタン樹脂（Ｂ２）のみが用いられてもよく、エポキシ樹脂（Ｂ１）とオキセタン樹脂（Ｂ２）との双方が用いられてもよい。
【００６３】
上記エポキシ樹脂（Ｂ１）の重量平均分子量は１万未満である。エポキシ樹脂（Ｂ１）は重量平均分子量が１万未満であれば特に限定されない。エポキシ樹脂（Ｂ１）として、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）が好適に用いられる。
【００６４】
上記エポキシ樹脂（Ｂ１）の具体例としては、ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマー、ナフタレン骨格を有するエポキシモノマー、アダマンテン骨格を有するエポキシモノマー、フルオレン骨格を有するエポキシモノマー、ビフェニル骨格を有するエポキシモノマー、バイ（グリシジルオキシフェニル）メタン骨格を有するエポキシモノマー、キサンテン骨格を有するエポキシモノマー、アントラセン骨格を有するエポキシモノマー、又はピレン骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。エポキシ樹脂（Ｂ１）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００６５】
上記ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型又はビスフェノールＳ型のビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。
【００６６】
上記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマーとしては、ジシクロペンタジエンジオキシド、又はジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシモノマー等が挙げられる。
【００６７】
上記ナフタレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、１−グリシジルナフタレン、２−グリシジルナフタレン、１，２−ジグリシジルナフタレン、１，５−ジグリシジルナフタレン、１，６−ジグリシジルナフタレン、１，７−ジグリシジルナフタレン、２，７−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、又は１，２，５，６−テトラグリシジルナフタレン等が挙げられる。
【００６８】
上記アダマンテン骨格を有するエポキシモノマーとしては、１，３−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンテン、又は２，２−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンテン等が挙げられる。
【００６９】
上記フルオレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、９，９−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−ブロモフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−フルオロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−メトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジクロロフェニル）フルオレン、又は９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジブロモフェニル）フルオレン等が挙げられる。
【００７０】
上記ビフェニル骨格を有するエポキシモノマーとしては、４，４’−ジグリシジルビフェニル、又は４，４’−ジグリシジル−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニル等が挙げられる。
【００７１】
上記バイ（グリシジルオキシフェニル）メタン骨格を有するエポキシモノマーとしては、１，１’−バイ（２，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，８’−バイ（２，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，１’−バイ（３，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，８’−バイ（３，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，１’−バイ（３，５−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，８’−バイ（３，５−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，２’−バイ（２，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，２’−バイ（３，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、又は１，２’−バイ（３，５−グリシジルオキシナフチル）メタン等が挙げられる。
【００７２】
上記キサンテン骨格を有するエポキシモノマーとしては、１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−２，７−ビス−オキシラニルメトキシ−９−フェニル−９Ｈ−キサンテン等が挙げられる。
【００７３】
上記オキセタン樹脂（Ｂ２）の重量平均分子量は１万未満である。オキセタン樹脂（Ｂ２）は重量平均分子量が１万未満であれば特に限定されない。オキセタン樹脂（Ｂ２）として、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）が好適に用いられる。
【００７４】
上記オキセタン樹脂（Ｂ２）の具体例としては、例えば、４，４’−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル、１，４−ベンゼンジカルボン酸ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メチル］エステル、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン、又はオキセタン化フェノールノボラック等が挙げられる。オキセタン樹脂（Ｂ２）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００７５】
エポキシ樹脂（Ｂ１）及びオキセタン樹脂（Ｂ２）の重量平均分子量、すなわち樹脂（Ｂ）の重量平均分子量は、１万未満である。樹脂（Ｂ）の重量平均分子量は、６００以下であることが好ましい。樹脂（Ｂ）の重量平均分子量の好ましい下限は２００、より好ましい上限は５５０である。樹脂（Ｂ）の重量平均分子量が小さすぎると、樹脂（Ｂ）の揮発性が高すぎて絶縁シートの取扱い性が低下することがある。樹脂（Ｂ）の重量平均分子量が大きすぎると、絶縁シートが固くかつ脆くなったり、絶縁硬化シートの接着性が低下したりすることがある。
【００７６】
ポリマー（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計１００重量％中に、樹脂（Ｂ）は１０〜６０重量％の範囲内で含まれていることが好ましい。上記全樹脂成分の合計１００重量％中に、樹脂（Ｂ）は１０〜４０重量％の範囲内で含まれていることがより好ましい。樹脂（Ｂ）は上記範囲内で、ポリマー（Ａ）と樹脂（Ｂ）との合計の含有量が１００重量％未満であるように含まれていることが好ましい。樹脂（Ｂ）の含有量が少なすぎると、絶縁硬化シートの接着性及び耐熱性が低下することがある。樹脂（Ｂ）の含有量が多すぎると、絶縁シートの取扱い性が低下することがある。
【００７７】
上記樹脂（Ｂ）は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）、及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の内の少なくとも一方のモノマーを含むことが好ましい。
【００７８】
樹脂（Ｂ）は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の内の少なくとも一方のモノマーを４０〜１００重量％の範囲内で含むことが好ましく、６０〜１００重量％の範囲内で含むことがより好ましく、８０〜１００重量％の範囲内で含むことが特に好ましい。エポキシモノマー（Ｂ１ｂ）及びオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の含有量が上記好ましい範囲内にある場合には、絶縁シートの柔軟性、並びに絶縁硬化シートの接着性及び耐熱性をより一層高めることができる。
【００７９】
（硬化剤（Ｃ））
本発明に係る上記絶縁シートに含まれている硬化剤（Ｃ）は特に限定されない。硬化剤（Ｃ）は、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物であることが好ましい。この好ましい硬化剤（Ｃ）の使用により、耐熱性、耐湿性及び電気物性のバランスに優れた絶縁硬化シートを得ることができる。硬化剤（Ｃ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００８０】
上記フェノール樹脂は、特に限定されない。上記フェノール樹脂の具体例としては、フェノールノボラック、ｏ−クレゾールノボラック、ｐ−クレゾールノボラック、ｔ−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリパラビニルフェノール、ビスフェノールＡ型ノボラック、キシリレン変性ノボラック、デカリン変性ノボラック、ポリ（ジ−ｏ−ヒドロキシフェニル）メタン、ポリ（ジ−ｍ−ヒドロキシフェニル）メタン、又はポリ（ジ−ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン等が挙げられる。なかでも、メラミン骨格を有するフェノール樹脂、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂が好ましく、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂であることがより好ましい。この場合には、絶縁硬化シートと導体層との密着性をより一層高めることができる。さらに、絶縁シート又は絶縁硬化シートの柔軟性及び難燃性をより一層高めることができる。
【００８１】
上記フェノール樹脂の市販品としては、ＭＥＨ−８００５、ＭＥＨ−８０１０及びＮＥＨ−８０１５（以上いずれも明和化成社製）、ＹＬＨ９０３（ジャパンエポキシレジン社製）、ＬＡ―７０５２、ＬＡ−７０５４、ＬＡ−７７５１、ＬＡ−１３５６及びＬＡ−３０１８−５０Ｐ（以上いずれも大日本インキ社製）、並びにＰＳ６３１３及びＰＳ６４９２（群栄化学社製）等が挙げられる。
【００８２】
芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、特に限定されない。芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、例えば、スチレン／無水マレイン酸コポリマー、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、４，４’−オキシジフタル酸無水物、フェニルエチニルフタル酸無水物、グリセロールビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。なかでも、メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸が好ましい。メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸の使用により、絶縁硬化シートの耐水性を高めることができる。
【００８３】
上記芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、ＳＭＡレジンＥＦ３０、ＳＭＡレジンＥＦ４０、ＳＭＡレジンＥＦ６０及びＳＭＡレジンＥＦ８０（以上いずれもサートマー・ジャパン社製）、ＯＤＰＡ−Ｍ及びＰＥＰＡ（以上いずれもマナック社製）、リカジットＭＴＡ−１０、リカジットＭＴＡ−１５、リカジットＴＭＴＡ、リカジットＴＭＥＧ−１００、リカジットＴＭＥＧ−２００、リカジットＴＭＥＧ−３００、リカジットＴＭＥＧ−５００、リカジットＴＭＥＧ−Ｓ、リカジットＴＨ、リカジットＨＴ−１Ａ、リカジットＨＨ、リカジットＭＨ−７００、リカジットＭＴ−５００、リカジットＤＳＤＡ及びリカジットＴＤＡ−１００（以上いずれも新日本理化社製）、並びにＥＰＩＣＬＯＮ Ｂ４４００、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｂ６５０、及びＥＰＩＣＬＯＮ Ｂ５７０（以上いずれも大日本インキ化学社製）等が挙げられる。
【００８４】
上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物であることが好ましい。この場合には、絶縁シート又は絶縁硬化シートの柔軟性、耐湿性又は接着性をより一層高めることができる。また、上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、マレイン化テルピネン、メチルナジック酸無水物、ジシクロペンタジエン骨格を有する酸無水物又は該酸無水物の変性物等も挙げられる。
【００８５】
上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、リカジットＨＮＡ及びリカジットＨＮＡ−１００（以上いずれも新日本理化社製）等が挙げられる。
【００８６】
また、上記硬化剤（Ｃ）は、下記式（１）〜（３）の内のいずれかで表される酸無水物であることがより好ましい。この好ましい硬化剤（Ｃ）の使用により、絶縁シート又は絶縁硬化シートの柔軟性、耐湿性又は接着性をより一層高めることができる。
【００８７】
【化１２】
【００８８】
【化１３】
【００８９】
【化１４】
【００９０】
上記式（３）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素、炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基を示す。
【００９１】
硬化速度又は絶縁硬化シートの物性などを調整するために、上記硬化剤と硬化促進剤とを併用してもよい。
【００９２】
上記硬化促進剤は特に限定されない。硬化促進剤の具体例としては、例えば、３級アミン、イミダゾール類、イミダゾリン類、トリアジン類、有機リン系化合物、４級ホスホニウム塩類又は有機酸塩等のジアザビシクロアルケン類等が挙げられる。また、上記硬化促進剤としては、有機金属化合物類、４級アンモニウム塩類又は金属ハロゲン化物等が挙げられる。上記有機金属化合物類としては、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫又はアルミニウムアセチルアセトン錯体等が挙げられる。
【００９３】
上記硬化促進剤として、高融点のイミダゾール硬化促進剤、高融点の分散型潜在性硬化促進剤、マイクロカプセル型潜在性硬化促進剤、アミン塩型潜在性硬化促進剤、又は高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等を使用できる。上記硬化促進剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００９４】
上記高融点の分散型潜在性促進剤としては、ジシアンジアミド又はアミンがエポキシモノマー等に付加されたアミン付加型促進剤等が挙げられる。上記マイクロカプセル型潜在性促進剤としては、イミダゾール系、リン系又はホスフィン系の促進剤の表面がポリマーにより被覆されたマイクロカプセル型潜在性促進剤が挙げられる。上記高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤としては、ルイス酸塩又はブレンステッド酸塩等が挙げられる。
【００９５】
上記硬化促進剤は、高融点のイミダゾール系硬化促進剤であることが好ましい。高融点のイミダゾール系硬化促進剤が用いられた場合には、反応系を容易に制御でき、かつ絶縁シートの硬化速度、及び絶縁硬化シートの物性などをより一層容易に調整できる。融点１００℃以上の高融点の硬化促進剤は、取扱性に優れている。従って、硬化促進剤の融点は１００℃以上であることが好ましい。
【００９６】
ポリマー（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計１００重量％中に、硬化剤（Ｃ）は１０〜４０重量％の範囲内で含まれていることが好ましい。上記全樹脂成分の合計１００重量％中の硬化剤（Ｃ）の含有量のより好ましい下限は１２重量％であり、より好ましい上限は２５重量％である。硬化剤（Ｃ）の含有量が少なすぎると、絶縁シートを充分に硬化させることが困難になることがある。硬化剤（Ｃ）の含有量が多すぎると、硬化に関与しない余剰な硬化剤が発生したり、絶縁シートの硬化の際に、架橋が充分に進行しなかったりすることがある。このため、絶縁硬化シートの耐熱性及び接着性が充分に高められないことがある。
【００９７】
（フィラー（Ｄ））
本発明に係る絶縁シートに、平均粒子径０．１〜５μｍのフィラー（Ｄ）が含まれていることにより、絶縁シートの表面の算術平均粗さＲａを０．１μｍ以上、３μｍ以下とすることができ、該絶縁シートを硬化した絶縁硬化シートの表面の算術平均粗さＲａを０．１μｍ以上、３μｍ以下とすることができる。このため、絶縁シート又は該絶縁硬化シート上にメッキにより形成される導体層との接着強度を高めることができる。フィラー（Ｄ）の平均粒子径の好ましい下限は０．２μｍであり、より好ましい下限は０．３μｍである。フィラー（Ｄ）の平均粒子径（Ｄ）の好ましい上限は４μｍであり、より好ましい上限は３μｍである。フィラー（Ｄ）の平均粒子径がこれらの好ましい下限又は上限を満たす場合には、絶縁硬化シートと導体層との接着強度をより一層高めることができる。なお、フィラー（Ｄ）の平均粒子径が小さすぎると、絶縁シートの表面に形成される凹凸が小さすぎて、絶縁硬化シートと導体層との密着性の向上にフィラー（Ｄ）が寄与しなかったり、フィラー（Ｄ）を高密度で充填させることが困難なことがあったりする。フィラー（Ｄ）の平均粒子径が大きすぎると、絶縁硬化シートの絶縁破壊特性が低下することがある。
【００９８】
上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。
【００９９】
上記フィラー（Ｄ）は、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であれば特に限定されない。フィラー（Ｄ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。フィラー（Ｄ）は、アルミナ、結晶性シリカ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも１種であることが好ましい。これらの好ましいフィラー（Ｄ）の使用により、絶縁硬化シートの放熱性をより一層高めることができる。
【０１００】
上記フィラー（Ｄ）の形状は、破砕状、略多面体状又は板状であることが好ましく、破砕状又は略多面体状であることが好ましい。フィラー（Ｄ）がこの好ましい形状を有する場合には、絶縁シートの表面に凹凸をより一層高密度に形成できる。このため、絶縁硬化シートと導体層との接着強度をさらに一層高めることができる。
【０１０１】
破砕されたフィラーとしては、破砕アルミナ等が挙げられる。破砕されたフィラーは、例えば、一軸破砕機、二軸破砕機、ハンマークラッシャー又はボールミル等を用いて、塊状の無機物質を破砕することにより得られる。
【０１０２】
破砕されたフィラーのアスペクト比は、特に限定されない。破砕されたフィラーのアスペクト比は、１．５〜２０の範囲内にあることが好ましい。破砕されたフィラーのアスペクト比は、例えば、デジタル画像解析方式粒度分布測定装置（商品名：ＦＰＡ、日本ルフト社製）を用いて、フィラーの破砕面を測定することにより求めることができる。
【０１０３】
絶縁シート１００体積％中、上記フィラー（Ｄ）は２０〜９０体積％の範囲内で含まれていることが好ましい。フィラー（Ｄ）の含有量が上記範囲内にあることにより、絶縁硬化シートと導体層との接着強度を充分に高くすることができる。絶縁シート１００体積％中のフィラー（Ｄ）の含有量のより好ましい下限は３０体積％であり、さらに好ましい下限は３５体積％であり、より好ましい上限は８５体積％であり、さらに好ましい上限は８０体積％である。フィラー（Ｄ）の含有量が少なすぎると、絶縁シートの放熱性が充分に高められなかったり、表面に凹凸が効果的に形成されず、絶縁硬化シートと導体層との密着性が低くなったりすることがある。フィラー（Ｄ）の含有量が多すぎると、絶縁シートの柔軟性及び接着性が著しく低下しやすくなったり、フィラー（Ｄ）の新モース硬度が高い場合にはドリルや打ち抜きプレスによる絶縁硬化シートの加工性が悪くなったりすることがある。
【０１０４】
フィラー（Ｄ）の熱伝導率は、１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることが好ましい。熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以下であると、絶縁硬化シートの放熱性が十分に発現しないことがある。絶縁硬化シートの放熱性をより一層高めることができるので、フィラー（Ｄ）の熱伝導率は２０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることがより好ましく、３０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることがさらに好ましい。
【０１０５】
上記フィラー（Ｄ）は、化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）、及び該炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面が、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆されている被覆体（Ｄ２ｄ１）の内の少なくとも一方のフィラー（Ｄｄ１）であってもよい。このようなフィラー（Ｄｄ１）の使用により、絶縁硬化シートの熱伝導率及び耐熱性を充分に確保しつつ、絶縁硬化シートの加工性を高めることができる。本発明の絶縁シートは、加工性に優れているため、例えば、絶縁硬化シートの加工時に使用する設備の摩耗を抑制できる。従って、絶縁シートを長期に渡り安定的に生産できる。
【０１０６】
上記化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）は、熱伝導率が１５Ｗ／ｍ・Ｋと比較的良好であり、モース硬度も３．５と低い。さらに、上記炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）は、窒化物と比べて安価である。従って、上記炭酸マグネシウム塩（Ｄ１ｄ１）又は該炭酸マグネシウム塩を含む上記被覆体（Ｄ２ｄ１）の使用により、絶縁シートの生産コストを低減できる。
【０１０７】
上記化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）は、例えば化学式４ＭｇＣＯ３・Ｍｇ（ＯＨ２）・４Ｈ２Ｏで表されるヒドロキシ炭酸マグネシウムとは異なる。このヒドロキシ炭酸マグネシウムは、単に炭酸マグネシウムと呼ばれることもある。このヒドロキシ炭酸マグネシウムは１００℃前後に加熱されると、結晶水を放出する。このため、ヒドロキシ炭酸マグネシウムは、例えば高いはんだ耐熱性が要求される用途には適さない。
【０１０８】
また、上記化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）として、天然品及び合成品が存在する。天然品は不純物を含むため、天然品が用いられた場合には、耐熱性などの物性が安定しない可能性がある。このため、上記炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）は、合成品であることが望ましい。
【０１０９】
上記被覆体（Ｄ２ｄ１）は、炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）をコアとし、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより形成された被覆層をシェルとするコア／シェル構造を有する。上記被覆体（Ｄ２ｄ１）は、上記被覆層を有するので、樹脂への分散性が高い。さらに上記被覆層を有する上記被覆体（Ｄ２ｄ１）の使用により、絶縁硬化シートの耐酸性をより一層高めることができる。
【０１１０】
上記炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面を上記被覆層により被覆する方法は特に限定されない。この方法としては、例えば、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカ原料であるシランカップリング剤が溶解されている溶液中に炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）を分散させた分散液をスプレー乾燥する方法、有機樹脂又はシリコーン樹脂が溶解された溶液中に炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）を分散させた後、有機樹脂又はシリコーン樹脂の貧溶媒を添加することにより、炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面に有機樹脂又はポリシロキサンを析出させる方法、炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）が分散された媒体中でアクリル樹脂、スチレン樹脂又は低分子量シラン等の重合性単量体を反応させ、高分子量化し媒体中に溶けきれなくなった有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカを炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面に析出させる方法等が挙げられる。
【０１１１】
上記有機樹脂は、炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面を被覆できれば特に限定されない。上記有機樹脂は、硬化物に耐酸性を付与できる樹脂であることが好ましい。上記有機樹脂は、熱硬化性樹脂であってもよく、熱可塑性樹脂であってもよい。
【０１１２】
上記有機樹脂の具体例としては、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール系樹脂、熱可塑性ウレタン系樹脂、熱硬化性ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、熱可塑性ポリイミド系樹脂、熱硬化性ポリイミド系樹脂、アミノアルキド系樹脂、フェノキシ樹脂、フタレート樹脂、ポリアミド系樹脂、ケトン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド、熱硬化性ポリイミド、ベンゾオキサジン、又はポリベンゾオキサゾールとベンゾオキサジンとの反応物等が挙げられる。この中でも単量体の種類が豊富であり、被覆層を幅広く設計でき、かつ熱又は光等により反応を容易に制御できるため、（メタ）アクリル系樹脂又はスチレン系樹脂が好ましい。
【０１１３】
エッチング時の耐酸性を高めることができるので、上記有機樹脂は、分子中に反応基を２つ以上有する架橋性モノマーを含有することが好ましい。
【０１１４】
上記被覆層の厚みは、１０ｎｍ〜１μｍの範囲内にあることが好ましい。被覆層の厚みが１０ｎｍ未満であると、被覆体（Ｄ２ｄ１）の樹脂への分散性の向上効果、及び絶縁硬化シートの耐酸性の向上効果が十分に得られないことがある。被覆層の厚みが１μｍを超えると、被覆体（Ｄ２ｄ１）の熱伝導性が著しく低下することがある。
【０１１５】
フィラー（Ｄｄ１）は、化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない球状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ２）、及び該球状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ２）の表面が、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆されている被覆体（Ｄ２ｄ２）の内の少なくとも一方のフィラー（Ｄｄ２）であることが好ましい。なお、球状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ２）の表面を、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆することにより、被覆体（Ｄ２ｄ２）を球状にできる。また、フィラー（Ｄｄ２）は、球状であることが好ましい。球状の場合には、絶縁シート中にフィラー（Ｄｄ２）を高密度で充填させることができ、従って絶縁硬化シートの放熱性を高めることができる。さらに、絶縁硬化シートの絶縁破壊特性を高めることができる。
【０１１６】
なお、球状は、真球状に限られない。球状には、真球がわずかに扁平していたり、歪んでいたりしている形状が含まれる。例えば、球状には、アスペクト比が１〜１．５の範囲内にある形状、又は表面の多くの部分例えば表面の３０％以上の部分が平面等ではなく曲面であり、表面の一部の部分例えば表面の７０％未満の部分が曲面ではなく、平面等である形状が含まれる。表面の５０％以上の部分が曲面である形状がより好ましく、表面の７０％以上の部分が曲面である形状がさらに好ましい。
【０１１７】
また、上記球状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ２）、該球状の炭酸マグネシウム無水塩を用いた上記被覆体（Ｄ２ｄ２）又は球状のフィラー（Ｄｄ２）は、ジェットミル又は回転するローターとステーターとを有する粉砕−表面処理装置により球状化処理されたものであることが好ましい。このような球状化処理により、球形度を高くすることができ、かつ真球状又は真球状に近い形状にすることができる。さらに、上記球状化処理により、フィラー（Ｄｄ２）の凝集物を砕くことができる。従って、上記フィラー（Ｄｄ２）を、絶縁シート中に高密度で充填させることができる。このため、絶縁硬化シートの放熱性をより一層高めることができる。さらに、絶縁硬化シートの絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
【０１１８】
絶縁シート中に細密充填構造を形成して、絶縁硬化シートの放熱性を高めるために、形状が異なる２種以上のフィラー（Ｄｄ１）が用いられてもよく、粒径が異なる２種以上のフィラー（Ｄｄ１）が用いられてもよい。
【０１１９】
上記フィラー（Ｄｄ１）は、化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない略多面体状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ３）、及び該略多面体状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ３）の表面が、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆されている被覆体（Ｄ２ｄ３）の内の少なくとも一方のフィラー（Ｄｄ３）であることも好ましい。なお、略多面体状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ３）の表面を、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆することにより、被覆体（Ｄ２ｄ３）を略多面体状にできる。また、フィラー（Ｄｄ３）は、略多面体状であることが好ましい。また、フィラー（Ｄｄ３）が略多面体状である場合に、上記フィラー（Ｄｄ３）以外の他のフィラーがさらに含まれており、該他のフィラーが板状フィラーであることが好ましい。
【０１２０】
フィラー（Ｄｄ３）が略多面体状であり、板状フィラーが含まれている場合には、絶縁シート中でフィラー（Ｄｄ３）と板状フィラーとが点接触ではなく面接触し、フィラー（Ｄｄ３）と板状フィラーとの接触面積が大きくなる。また、絶縁シート中に距離を隔てて分散されている複数のフィラー（Ｄｄ３）同士が、板状フィラーを介して接触又は近接することで、絶縁シート中の各フィラーが橋掛け又は効率的に近接された構造となる。このため、絶縁硬化シートの熱伝導性をより一層高くすることができる。
【０１２１】
上記板状フィラーの平均長径は０．１〜５μｍの範囲内にある。上記フィラー（Ｄｄ３）及び板状フィラーの使用により、絶縁シート中で上記フィラー（Ｄｄ３）と板状フィラーとを充分に接触させることができる。このため、絶縁硬化シートの熱伝導性をより一層高くすることができる。なお、フィラー（Ｄ）が板状フィラーの場合には、フィラー（Ｄ）の平均粒子径は、平均長径を示す。
【０１２２】
なお、「略多面体状」とは、一般的な多面体の定義である平面によってのみ構成される多面体状だけでなく、平面と一定割合以下の曲面を有する形状も含まれる。略多面体状には、例えば表面の１０％以下の曲面と、表面の９０％以上の平面により構成される形状が含まれる。略多面体状は、略立方体状又は略直方体状であることが好ましい。
【０１２３】
上記板状フィラーの平均長径が０．１μｍ未満であると、板状フィラーの充填が困難であったり、板状フィラーによって略多面体状のフィラー（Ｄｄ３）間を効率的かつ十分に橋かけさせることができなかったりすることがある。板状フィラーの平均長径のより好ましい下限は０．５μｍであり、さらに好ましい下限は１μｍである。
【０１２４】
上記板状フィラーの平均厚みは、１００ｎｍ以上であることが好ましい。板状フィラーの厚みが１００ｎｍ以上の場合には、硬化物の熱伝導率をさらに一層高くすることができる。また、上記板状フィラーのアスペクト比は２〜５０の範囲内にあることが好ましい。板状フィラーのアスペクト比が５０を超えると、板状フィラーの充填が困難なことがある。板状フィラーのアスペクト比は、３〜４５の範囲内にあることがより好ましい。
【０１２５】
また、上記板状フィラーは、アルミナ及び窒化ホウ素の内の少なくとも一方であることが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの熱伝導性をさらに一層高くすることができる。特に、上記フィラー（Ｄｄ３）とアルミナ及び窒化ホウ素の内の少なくとも一方との併用により、絶縁硬化シートの熱伝導性をさらに一層高くすることができる。
【０１２６】
フィラー（Ｄｄ１）とフィラー（Ｄｄ１）以外の他のフィラーとが併用される場合には、その配合量は、フィラー（Ｄｄ１）及び他のフィラーのそれぞれの種類、粒径及び形状により適宜最適なように決定される。絶縁シート１００体積％中に、フィラー（Ｄｄ１）と他のフィラーとの合計の含有量は、６０〜９０体積％の範囲内であることが好ましい。フィラー（Ｄｄ１）と他のフィラーとの合計の含有量が６０体積％未満であると、硬化物の放熱性を充分に高めることができないことがある。フィラー（Ｄｄ１）と他のフィラー（Ｄ）との合計の含有量が９０体積％を超えると、絶縁シートの柔軟性又は接着性が著しく低下するおそれがある。
【０１２７】
フィラー（Ｄｄ１）と他のフィラーとが併用される場合には、絶縁シート１００体積％中、上記フィラー（Ｄｄ１）の含有量は、２０〜８０体積％の範囲内であることがより好ましい。
【０１２８】
絶縁シート中に、上記略多面体状のフィラー（Ｄｄ３）と上記板状フィラーとは体積比で７０：３０〜９９：１で含まれていることが好ましい。また、絶縁シート１００体積％中に、上記略多面体状のフィラー（Ｄｄ３）と上記板状フィラーとの合計の含有量は６０〜９０体積％の範囲内であることが好ましい。また、絶縁シート中に上記フィラー（Ｄｄ３）と上記板状フィラーとの含有量は体積比で７０：３０〜９９：１であり、かつ絶縁シート１００体積％中に上記フィラー（Ｄｄ３）と上記板状フィラーとの合計の含有量は６０〜９０体積％の範囲内であることがより好ましい。上記フィラー（Ｄｄ３）及び上記板状フィラーの含有量がそれぞれ上記好ましい範囲内にある場合には、絶縁硬化シートの加工性及び熱伝導性をより一層高くすることができる。
【０１２９】
（樹脂粒子（Ｅ））
本発明に係る絶縁シートは、樹脂粒子（Ｅ）を含むことが好ましい。絶縁シートが樹脂粒子（Ｅ）を含むことにより、絶縁硬化シートの耐熱信頼性をより一層高くすることができる。また、上記樹脂粒子（Ｅ）を用いた場合、プリント配線板の製造工程における薬液処理、洗浄の繰り返しの際に、樹脂粒子部分が脱落し、表面にさらに一層微細な凹凸が形成され、絶縁硬化シートと導体層との密着が高められることがある。
【０１３０】
上記樹脂粒子（Ｅ）は特に限定されない。樹脂粒子（Ｅ）としては、例えば、アクリルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレンイソプレンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム又は天然ゴム等が挙げられる。なかでも、樹脂粒子（Ｅ）は、アクリルゴム粒子又はシリコーンゴム粒子であることが好ましく、シリコーンゴム粒子であることがより好ましい。これらの好ましい樹脂粒子（Ｅ）の使用により、絶縁硬化シートの表面に凹凸をより一層微細にすることができ、また絶縁硬化シートの応力緩和性を高めることができ、絶縁硬化シートの柔軟性を高めることができ、かつ絶縁硬化シートの耐熱性の低下を抑制できる。また、樹脂粒子（Ｅ）の性状は特に限定されない。
【０１３１】
上記樹脂粒子（Ｅ）と上記フィラー（Ｄ）との併用により、絶縁硬化シートの線熱膨張率を低くすることができるとともに、絶縁硬化シートの応力緩和性を発現させることができる。さらに、高温条件又は冷熱サイクル条件において、絶縁硬化シートの剥離又はクラック等がより一層生じ難くなる。
【０１３２】
絶縁シート１００重量％中に、樹脂粒子（Ｅ）は０．１〜４０重量％の範囲内で含まれていることが好ましい。絶縁シート１００重量％中の樹脂粒子（Ｅ）の含有量のより好ましい下限は０．３重量％であり、より好ましい上限は２０重量％である。樹脂粒子（Ｅ）の含有量が少なすぎると、絶縁硬化シートの応力緩和性が十分に発現しないことがある。樹脂粒子（Ｅ）の含有量が多すぎると、絶縁硬化シートの接着性が低くなることがある。
【０１３３】
（他の成分）
本発明に係る絶縁シートは、分散剤（Ｆ）を含んでいてもよい。分散剤（Ｆ）の使用により、絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。上記分散剤（Ｆ）の上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基としては、例えば、カルボキシル基（ｐＫａ＝４）、リン酸基（ｐＫａ＝７）、又はフェノール基（ｐＫａ＝１０）等が挙げられる。
【０１３４】
上記分散剤（Ｆ）の上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基のｐＫａは、２〜１０の範囲内にあることが好ましく、３〜９の範囲内にあることがより好ましい。上記官能基のｐＫａが２未満であると、分散剤（Ｆ）の酸性度が高くなりすぎて、原料樹脂成分中のエポキシ成分及びオキセタン成分の反応が促進されやすくなることがある。従って、未硬化状態の絶縁シートが貯蔵された場合に、絶縁シートの貯蔵安定性が低下することがある。上記官能基のｐＫａが１０を超えると、分散剤としての機能が充分に果たされず、絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性が充分に高められないことがある。
【０１３５】
上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基は、カルボキシル基又はリン酸基であることが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性をさらに一層高めることができる。
【０１３６】
上記分散剤（Ｆ）としては、具体的には、例えば、ポリエステル系カルボン酸、ポリエーテル系カルボン酸、ポリアクリル系カルボン酸、脂肪族系カルボン酸、ポリシロキサン系カルボン酸、ポリエステル系リン酸、ポリエーテル系リン酸、ポリアクリル系リン酸、脂肪族系リン酸、ポリシロキサン系リン酸、ポリエステル系フェノール、ポリエーテル系フェノール、ポリアクリル系フェノール、脂肪族系フェノール又はポリシロキサン系フェノール等が挙げられる。分散剤（Ｆ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１３７】
絶縁シート１００重量％中に、分散剤（Ｆ）は０．０１〜２０重量％の範囲内で含まれていることが好ましい。絶縁シート１００重量％中の分散剤（Ｆ）の含有量のより好ましい下限は０．１重量％であり、より好ましい上限は１０重量％である。分散剤（Ｆ）の含有量が上記範囲内にある場合には、上記フィラー（Ｄ）の凝集を抑制でき、かつ絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性を充分に高めることができる。
【０１３８】
上記絶縁シートは、基材物質を含まないことが好ましく、特にガラスクロスを含まないことが好ましい。絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、絶縁シートの厚みを薄くすることができ、かつ絶縁シートの熱伝導性をより一層高めることができる。さらに、絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、必要に応じて絶縁硬化シートにレーザー加工又はドリル穴開け加工等の各種加工を容易に行うこともできる。なお、自立性とは、ＰＥＴフィルム又は銅箔などの支持体が存在しなくても、未硬化状態であっても、シートの形状を保持し、シートとして取扱うことができることをいう。
【０１３９】
また、本発明の絶縁シートは、必要に応じて、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば硫酸バリウム、タルク、マイカ、クレー、カオリン、珪藻土又は炭酸カルシウムなどのチキソ性付与剤、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、リン系難燃剤などの難燃剤、シリコーン系、フッ素系又は高分子系の消泡剤、シリコーン系、フッ素系又は高分子系のレベリング剤、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、酸化チタン及びカーボンブラックなどの着色剤等が挙げられる。
【０１４０】
（絶縁シート）
本発明に係る絶縁シートの製造方法は特に限定されない。絶縁シートは、例えば、上述した材料を混合した混合物を溶剤キャスト法又は押し出し成膜法等の方法でシート状に成形することにより得ることができる。シート状に成形する際に、脱泡することが好ましい。
【０１４１】
絶縁シートの厚みは特に限定されない。絶縁シートの厚みは、１０〜３００μｍの範囲内にあることが好ましい。絶縁シートの厚みのより好ましい下限は２０μｍであり、さらに好ましい下限は３０μｍであり、より好ましい上限は２００μｍであり、さらに好ましい上限は１２０μｍである。厚みが薄すぎると、絶縁硬化シートの絶縁性が低下することがある。厚みが厚すぎると、絶縁硬化シートの放熱性が低下することがある。
【０１４２】
未硬化状態の絶縁シートのガラス転移温度Ｔｇは、２５℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が２５℃を超えると、室温において固く、かつ脆くなることがある。このため、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。
【０１４３】
上記絶縁シートの硬化を進行させることにより、絶縁硬化シートを得ることができる。
【０１４４】
上記絶縁シートの硬化を進行させる際には、絶縁シートを硬化又は半硬化させる。絶縁硬化シートには、硬化が完了した硬化物だけでなく、半硬化状態の半硬化物も含まれる。
【０１４５】
上記絶縁シートの硬化を進行させる際の加熱温度は特に限定されない。加熱温度の好ましい下限は１３０℃であり、より好ましい下限は１５０℃であり、好ましい上限は２４０℃である。加熱温度が低すぎると、絶縁シートが充分に硬化されないため、絶縁硬化シートの耐熱性又は耐薬品性が劣ることがある。加熱温度が高すぎると、硬化時に樹脂の劣化が発生することがある。
【０１４６】
本発明に係る絶縁シートの算術平均粗さＲａは０．１μｍ以上、３μｍ以下である。このため、絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートの表面に導体層が形成されたときに、絶縁硬化シートと導体層との接着強度を充分に高くすることができる。算術平均粗さＲａの好ましい下限は０．２μｍである。算術平均粗さＲａの好ましい上限は２μｍであり、より好ましい上限は１μｍである。算術平均粗さＲａが大きすぎると、絶縁層の絶縁性が低くなることがあったり、微細な配線を形成した際に導体損失が大きくなったりすることがある。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に準拠した測定法により求めることができる。
【０１４７】
絶縁硬化シートの熱伝導率は、０．５Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることが好ましい。絶縁硬化シートの熱伝導率は、１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることがより好ましく、３．０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることがさらに好ましい。熱伝導率が低すぎると、絶縁硬化シートの放熱性が低くなることがある。
【０１４８】
絶縁硬化シートの絶縁破壊電圧は、３０ｋＶ／ｍｍ以上であることが好ましい。絶縁硬化シートの絶縁破壊電圧は、４０ｋＶ／ｍｍ以上であることがより好ましく、５０ｋＶ／ｍｍ以上であることがさらに好ましく、８０ｋＶ／ｍｍ以上であることがさらに好ましく、１００ｋＶ／ｍｍ以上であることが最も好ましい。絶縁破壊電圧が低すぎると、絶縁硬化シートが例えば電力素子用のような大電流用途に用いられた場合に、絶縁性が低くなることがある。
【０１４９】
未硬化状態の絶縁シートの反応率は１０％以下であることが好ましい。未硬化状態の絶縁シートの反応率が１０％を超えると、未硬化状態の絶縁シートが固くかつ脆くなり、未硬化状態の絶縁シートの室温でのハンドリング性が低下したり、絶縁硬化シートの接着性が低下したりすることがある。絶縁シートの反応率は、示差走査型熱量測定装置を用いて、絶縁シートを１２０℃１時間、次に２００℃１時間の２段階で硬化させた時に発生する熱量から計算することにより求められる。
【０１５０】
未硬化状態の絶縁シートの２５℃での曲げ弾性率は、１０〜１，０００ＭＰａの範囲内にあることが好ましく、２０〜５００ＭＰａの範囲内にあることがより好ましい。未硬化状態の絶縁シートの２５℃での曲げ弾性率が１０ＭＰａ未満であると、未硬化状態の絶縁シートの室温での自立性が著しく低下し、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。未硬化状態の絶縁シートの２５℃での曲げ弾性率が１，０００ＭＰａを超えると、加熱接着時に弾性率が充分に低くならないため、絶縁硬化シートが接着対象物に充分に密着しないことがあり、かつ絶縁硬化シートと接着対象物との接着性が低下することがある。
【０１５１】
絶縁シートが硬化されたときに、絶縁硬化シートの２５℃での曲げ弾性率は、１，０００〜５０，０００ＭＰａの範囲内にあることが好ましく、５，０００〜３０，０００ＭＰａの範囲内にあることがより好ましい。絶縁硬化シートの２５℃での曲げ弾性率が低すぎると、例えば、絶縁シートを用いて、厚みの薄い積層基板又は両面に銅回路が設けられた積層板等の積層体を作製した場合に、積層体がたわみやすくなる。このため、折れや曲げ等により積層体が破損しやすくなる。絶縁硬化シートの２５℃での曲げ弾性率が高すぎると、絶縁硬化シートが固くかつ脆くなりすぎて、絶縁硬化シートにクラック等が生じやすくなることがある。
【０１５２】
上記曲げ弾性率は、例えば、万能試験機ＲＴＣ−１３１０Ａ（オリエンテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１１１に準拠し、長さ８ｃｍ、幅１ｃｍ及び厚み４ｍｍの試験片を用いて、支点間距離６ｃｍ及び速度１．５ｍｍ／分の各条件で測定できる。また、絶縁硬化シートの曲げ弾性率を測定する際に、絶縁硬化シートは、１２０℃で１時間、次に２００℃で１時間の２段階の温度により硬化させることにより得られる。
【０１５３】
本発明に係る絶縁シートは、回転型動的粘弾性測定装置を用いて測定された２５℃での未硬化状態の絶縁シートのｔａｎδが０．１〜１．０の範囲内にあり、かつ未硬化状態の絶縁シートを２５℃から２５０℃まで昇温させた場合の絶縁シートのｔａｎδの最大値が１．０〜５．０の範囲内にあることが好ましい。上記絶縁シートのｔａｎδは、０．１〜０．５の範囲内にあることがより好ましい。上記絶縁シートのｔａｎδの最大値は、１．５〜４．０の範囲内にあることがより好ましい。
【０１５４】
上記２５℃での未硬化状態の絶縁シートのｔａｎδが０．１未満であると、未硬化状態の絶縁シートの柔軟性が低くなり、未硬化状態の絶縁シートが破損しやすくなる。上記２５℃での未硬化状態の絶縁シートのｔａｎδが１．０以上であると、未硬化状態の絶縁シートが柔らかすぎるため、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。上記未硬化状態の絶縁シートを２５℃から２５０℃まで昇温させた場合の絶縁シートのｔａｎδの最大値が１．０未満であると、加熱接着時に絶縁シートが接着対象物に充分に密着しないことがある。上記絶縁シートのｔａｎδの最大値が５．０を超えると、絶縁シートの流動性が高すぎて、加熱接着時に絶縁シートの厚みが薄くなり、所望の絶縁破壊特性が得られないことがある。上記２５℃での未硬化状態の絶縁シートのｔａｎδは、回転型動的粘弾性測定装置ＶＡＲ−１００（レオロジカ・インスツルメンツ社製）を用いて、直径２ｃｍの円板状の未硬化状態の絶縁シートを用いて、直径２ｃｍのパラレル型プレートにより、２５℃にて、オシレーション歪み制御モード、開始応力１０Ｐａ、周波数１Ｈｚ及び歪み１％の各条件で測定できる。また、未硬化状態の絶縁シートを２５℃から２５０℃まで昇温させた場合の絶縁シートのｔａｎδの最大値は、上記未硬化状態の絶縁シートを、上記測定条件に加え、昇温速度３０℃／分で、２５℃から２５０℃まで昇温させることにより測定できる。上記曲げ弾性率及びｔａｎδが上記特定の範囲内にある場合には、製造時及び使用時に、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が顕著に高くなる。さらに、絶縁シートと銅箔など接着強度が顕著に高くなる。また、内層回路などの凹凸に対する追従性を高めることができる。このため、接着界面に空隙が形成され難くなり、従って放熱性がより高くなる。
【０１５５】
（積層板及び多層積層板）
本発明に係る絶縁シートは、積層板及び多層積層板の絶縁層を形成するために好適に用いられる。
【０１５６】
図１に、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた積層板を示す。
【０１５７】
図１に示す積層板１は基板２を備える。基板２の上面２ａの一部の領域には、導体層３が設けられている。基板２の上面２ａに、導体層３を覆うように絶縁層４が積層されている。絶縁層４の上面４ａの一部の領域に、導体層５が設けられている。従って、積層板１は、絶縁層４と、絶縁層４の両面に積層された導体層３，５とを備える。導体層３及び導体層５は、図示しないビアホール接続により接続されている。
【０１５８】
積層板１では、絶縁層４が、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。従って、導体層３，５により熱が発生しても、絶縁層４により熱を効率的に放散させることができる。
【０１５９】
図２に示す多層積層板１１では、基板１２の上面１２ａに、複数の絶縁層１３〜１５が積層されている。基板１２の上面１２ａの一部の領域には、導体層１６が設けられている。最上層の絶縁層１５以外の絶縁層１３，１４の上面１３ａ，１４ａの一部の領域にそれぞれ、導体層１７，１８が設けられている。従って、多層積層板１１は、積層された複数の絶縁層１３〜１５と、絶縁層１３，１４間に配置された導電層１７と、絶縁層１４，１５間に配置された導電層１８とを備える。導体層１６〜１８は、図示しないビアホール接続により接続されている。
【０１６０】
多層積層板１１では、絶縁層１３〜１５が、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。従って、導体層１６〜１８により熱が発生しても、絶縁層１３〜１５により熱を効率的に放散させることができる。
【０１６１】
また、絶縁層４及び絶縁層１３〜１５が、上記絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されているので、絶縁層４と導体層３，５との接着強度及び絶縁層１３〜１５と導体層１６〜１８との接着強度を高くすることができる。従って、絶縁層４と導体層３，５との界面、及び絶縁層１３〜１５と導体層１６〜１８との界面での電気信号の損失を小さくすることができる。
【０１６２】
本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより絶縁層が形成されている場合には、絶縁層を粗化処理しなくても、絶縁層と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。ただし、絶縁層は粗化処理されていてもよい。粗化処理により絶縁層の表面により一層微細な孔を形成できる。従って、絶縁層の表面に微細な配線を形成でき、かつ該配線における信号伝送速度を速くすることができる。
【０１６３】
また、上記導体層は配線回路であることが好ましい。配線回路の場合には、絶縁層と導体層との接着強度を高めることができるので、回路の信頼性を高めることができる。
【０１６４】
上記導体層を形成する材料として、金属箔もしくは金属めっき、又は回路保護用に用いるめっき材料を使用できる。上記導体層はめっきにより形成されていることが好ましい。上記導体層はめっき層であることが好ましい。導体層がめっきにより形成されためっき層である場合には、絶縁層と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。
【０１６５】
上記めっき材料としては、例えば、金、銀、銅、ロジウム、パラジウム、ニッケル又は錫などが挙げられる。これらの２種類以上の合金を用いてもよい。なかでも、導体層は、銅層であることが好ましく、銅めっき層であることがより好ましい。
【０１６６】
上記導体層を形成する前に、絶縁層の表面に微細な凹凸を形成するために、絶縁層の表面を粗化液により粗化処理してもよい。絶縁層の少なくとも一部の表面が粗化液により粗化されており、粗化された表面に導体層がめっきにより形成されていることが好ましい。
【０１６７】
粗化処理される前に、膨潤処理されることが好ましい。ただし、上記膨潤処理は必ずしも行われなくてもよい。
【０１６８】
上記膨潤処理方法として、例えば、エチレングリコールなどを主成分とする化合物の水溶液又は有機溶媒分散溶液などにより、上記絶縁層の表面を処理する方法が用いられる。上記膨潤処理には、４０重量％エチレングリコール水溶液が好適に用いられる。
【０１６９】
上記粗化処理には、例えば、マンガン化合物、クロム化合物又は過硫酸化合物などの化学酸化剤等の粗化液が用いられる。これらの化学酸化剤は、例えば、水又は有機溶剤が添加された後、水溶液又は有機溶媒分散溶液として用いられる。
【０１７０】
上記マンガン化合物としては、過マンガン酸カリウム又は過マンガン酸ナトリウム等が挙げられる。上記クロム化合物としては、重クロム酸カリウム又は無水クロム酸カリウム等が挙げられる。上記過硫酸化合物としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウム等が挙げられる。
【０１７１】
上記粗化処理方法は特に限定されない。上記粗化処理には、例えば、３０〜９０ｇ／Ｌ過マンガン酸もしくは過マンガン酸塩溶液、又は３０〜９０ｇ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液が好適に用いられる。
【０１７２】
（積層構造体）
本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導体を導電層に接着するのにも用いられる。
【０１７３】
図３に、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた積層構造体を示す。
【０１７４】
図３に示す積層構造体２１は、熱伝導体２２と、熱伝導体２２の一方の面２２ａに積層された絶縁層２３と、絶縁層２３の熱伝導体２２が積層された面とは反対側の面に積層された導電層２４とを備える。絶縁層２３は、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。熱伝導体２２の熱伝導率は１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上である。
【０１７５】
熱伝導体２２の少なくとも一方の面２２ａに、絶縁層２３と導電層２４とがこの順に積層されていればよく、熱伝導体２２の他方の面２２ｂにも、絶縁層と導電層とがこの順に積層されていてもよい。
【０１７６】
積層構造体２１では、絶縁層２３が高い熱伝導率を有するので、導電層２４側からの熱が絶縁層２３を介して熱伝導体２２に伝わりやすい。積層構造体２１では、熱伝導体２２によって熱を効率的に放散させることができる。
【０１７７】
上記熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導体は特に限定されない。上記熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導体として、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム又はグラファイトシート等が挙げられる。中でも、上記熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導体は、銅又はアルミニウムであることが好ましい。銅又はアルミニウムは、放熱性に優れている。
【０１７８】
以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。
【０１７９】
以下の材料を用意した。
【０１８０】
［ポリマー（Ａ）］
（１）ビスフェノールＡ型フェノキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：Ｅ１２５６、Ｍｗ＝５１，０００、Ｔｇ＝９８℃）
（２）高耐熱フェノキシ樹脂（東都化成社製、商品名：ＦＸ−２９３、Ｍｗ＝４３，７００、Ｔｇ＝１６３℃）
（３）エポキシ基含有スチレン樹脂（日本油脂社製、商品名：マープルーフＧ−１０１０Ｓ、Ｍｗ＝１００，０００、Ｔｇ＝９３℃）
【０１８１】
［エポキシ樹脂（Ｂ１）］
（１）ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：エピコート８２８ＵＳ、Ｍｗ＝３７０）
（２）ビスフェノールＦ型液状エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：エピコート８０６Ｌ、Ｍｗ＝３７０）
（３）３官能グリシジルジアミン型液状エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：エピコート６３０、Ｍｗ＝３００）
（４）フルオレン骨格エポキシ樹脂（大阪ガスケミカル社製、商品名：オンコートＥＸ１０１１、Ｍｗ＝４８６）
（５）ナフタレン骨格液状エポキシ樹脂（大日本インキ化学社製、商品名：ＥＰＩＣＬＯＮ ＨＰ−４０３２Ｄ、Ｍｗ＝３０４）
（６）ビスフェノールＡ型固体状エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：１００３、Ｍｗ＝１，３００）
（７）エポキシ基含有アクリル樹脂（日本油脂社製、商品名：マープルーフＧ−０１３Ｓ、Ｍｗ＝９，０００、Ｔｇ＝６９℃）
【０１８２】
［オキセタン樹脂（Ｂ２）］
（１）ベンゼン骨格含有オキセタン樹脂（宇部興産社製、商品名：エタナコールＯＸＴＰ、Ｍｗ＝３６２．４）
【０１８３】
［硬化剤（Ｃ）］
（１）脂環式骨格酸無水物（新日本理化社製、商品名：ＭＨ−７００）
（２）芳香族骨格酸無水物（サートマー・ジャパン社製、商品名：ＳＭＡレジンＥＦ６０）
（３）多脂環式骨格酸無水物（新日本理化社製、商品名：ＨＮＡ−１００）
（４）テルペン系骨格酸無水物（上記式（１）で表される酸無水物）
（５）ビフェニル骨格フェノール樹脂（明和化成社製、商品名：ＭＥＨ−７８５１−Ｓ）
（６）アリル基含有骨格フェノール樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：ＹＬＨ−９０３）
（７）トリアジン骨格系フェノール樹脂（大日本インキ化学社製、商品名：フェノライトＫＡ−７０５２−Ｌ２）
（８）メラミン骨格系フェノール樹脂（群栄化学工業社製、商品名：ＰＳ−６４９２）
（９）イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール（イミダゾール系硬化促進剤、四国化成社製、商品名：２ＭＺＡ−ＰＷ）
【０１８４】
［フィラー（Ｄ）］
（１）破砕アルミナ１（日本軽金属社製、商品名：ＬＳ−２４２Ｃ、平均粒子径２μｍ）
（２）破砕アルミナ２（日本軽金属社製、商品名：ＬＳ−２５０、平均粒子径０．６μｍ）
（３）板状窒化ホウ素（昭和電工社製、商品名：ＵＨＰ−Ｓ１、平均長径１μｍ）
（４）窒化アルミ（東洋アルミ社製、商品名：ＴＯＹＡＬＮＩＴＥ―Ｓｕｐｅｒ ＪＡ、平均粒子径０．８μｍ）
（５）結晶性シリカ（龍森社製、商品名：クリスタライトＣＭＣ−１２、平均粒子径５μｍ）
（６）合成マグネサイト（神島化学社製、商品名：ＭＳＳ、平均粒子径１μｍ）
（７）板状アルミナ（キンセイマテック社製、商品名：セラフ０２０２５、平均長径２μｍ、アスペクト比２０〜３０）
【０１８５】
［フィラー（Ｄ）以外のフィラー］
（１）球状アルミナ（電気化学工業社製、商品名：ＤＡＭ−４５、平均粒子径４５μｍ）
【０１８６】
［樹脂粒子（Ｅ）］
（１）０．１μｍ粒子（コアシェル型シリコーン−アクリル粒子、旭化成ワッカーシリコーン社製、商品名：Ｐ２２、平均粒子径０．１μｍ、コアシェル構造を有する、ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物を含むコア層と有機物を含む）
【０１８７】
［分散剤（Ｆ）］
（１）アクリル系分散剤（ビックケミージャパン社製、商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−２０７０、ｐＫａが４のカルボキシル基を有する）
（２）ポリエーテル系分散剤（楠本化成社製、商品名：ＥＤ１５１、ｐＫａが７のリン酸基を有する）
【０１８８】
［添加剤］
（１）エポキシシランカップリング剤（信越化学工業社製、商品名：ＫＢＥ４０３）
（２）マイカ（山口雲母工業所社製、商品名：ＳＪ００５、平均粒子径５μｍ）
（３）タルク（日本タルク社製、商品名：Ｋ−１、平均粒子径８μｍ）
（４）水酸化アルミニウム（日本軽金属社製、商品名：Ｂ−１０３、平均粒子径８μｍ）
（５）水酸化マグネシウム（タテホ化学工業社製、商品名：ＰＺ−１、平均粒子径１．２μｍ、）
【０１８９】
［溶剤］
（１）メチルエチルケトン
【０１９０】
（実施例１〜３４及び比較例１〜４）
ホモディスパー型攪拌機を用いて、下記の表１〜５に示す割合（配合単位は重量部）で各原料を配合し、混練し、絶縁材料を調製した。
【０１９１】
厚み５０μｍの離型ＰＥＴシートに、上記絶縁材料を５０μｍの厚みになるように塗工し、９０℃のオーブン内で３０分乾燥して、ＰＥＴシート上に絶縁シートを作製した。
【０１９２】
（評価）
（１）ハンドリング性
ＰＥＴシートと、該ＰＥＴシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを４６０ｍｍ×６１０ｍｍの平面形状に切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを用いて、室温（２３℃）でＰＥＴシートから未硬化状態の絶縁シートを剥離したときのハンドリング性を下記の基準で判定した。
【０１９３】
［ハンドリング性の判定基準］
〇：絶縁シートの変形がなく、容易に剥離可能
△：絶縁シートを剥離できるものの、シート伸びや破断が発生する
×：絶縁シートを剥離できない
（２）ガラス転移温度
示差走査熱量測定装置「ＤＳＣ２２０Ｃ」（セイコーインスツルメンツ社製）を用いて、３℃／分の昇温速度で未硬化状態の絶縁シートのガラス転移温度を測定した。
【０１９４】
（３）算術平均粗さＲａ
東京精密社製の型式ＳＵＲＦＣＯＭ １４００Ｄを用い、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１に準拠して、絶縁シートの算術平均粗さＲａを測定した。測定条件は下記のようにした。
【０１９５】
カットオフ値：０．８ｍｍ
評価長さ：４ｍｍ
測定速度：０．３ｍｍ／ｓ
触針先端半径：Ｒ ２μｍ
【０１９６】
（４）熱伝導率
絶縁シートを１２０℃のオーブン内で１時間、その後２００℃のオーブン内で１時間加温処理し、絶縁シートを硬化させた。絶縁硬化シートの熱伝導率を、京都電子工業社製熱伝導率計「迅速熱伝導率計ＱＴＭ−５００」を用いて測定した。
【０１９７】
（５）絶縁破壊電圧
絶縁シートを１００ｍｍ×１００ｍｍの平面形状に切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを１２０℃のオーブン内で１時間、更に２００℃のオーブン内で１時間硬化させ、絶縁硬化シートを得た。耐電圧試験器（ＭＯＤＥＬ７４７３、ＥＸＴＥＣＨ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製）を用いて、絶縁硬化シート間に、１ｋＶ／秒の速度で電圧が上昇するように、交流電圧を印加した。絶縁硬化シートが破壊した電圧を、絶縁破壊電圧とした。
【０１９８】
（６）半田耐熱試験
厚み３５μｍの銅箔が両面に積層されたガラスエポキシ両面銅張積層板を用いて、内層回路基板を作製した。真空ラミネーターにより、温度１００℃、９．８Ｎ／ｃｍ２及び気圧５ｍｍＨｇ以下の条件で、ＰＥＴシートと該ＰＥＴシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを絶縁シート側から、内層回路基板の両面にラミネートした。次に、離型ＰＥＴシートを剥離した。２００℃で６０分加熱し、絶縁シートを硬化させ、絶縁層を形成した。その後、レーザーによりビアホール用の穴をあけた。過マンガン酸塩のアルカリ性酸化剤（アトテックジャパン社製薬液）で絶縁層の表面を粗化処理した後、無電解及び電解めっきし、サブトラクティブ法に従って４層プリント配線板を得た。さらに、２００℃で３０分加熱しアニール処理を行った。アニール処理されたプリント配線板を３００℃の半田浴に銅箔側を下に向けて浮かべて、銅箔の膨れ又は剥がれが発生するまでの時間を測定し、以下の基準で判定した。
【０１９９】
［半田耐熱試験の判定基準］
◎：１０分経過しても膨れ及び剥が発生しない
〇：３分経過後、かつ１０分経過する前に膨れ又は剥離が発生
△：１分経過後、かつ３分経過する前に膨れ又は剥離が発生
×：１分経過する前に膨れ又は剥離が発生
【０２００】
（７）接着強度（引き剥がし強さ）
厚み３５μｍの銅箔が両面に積層されたガラスエポキシ両面銅張積層板を用いて、内層回路基板を作製した。真空ラミネーターにより、温度１００℃、９．８Ｎ／ｃｍ２及び気圧５ｍｍＨｇ以下の条件で、ＰＥＴシートと該ＰＥＴシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを絶縁シート側から、内層回路基板の両面にラミネートした。次に、離型ＰＥＴシートを剥離した。２００℃で６０分加熱し、絶縁シートを硬化させ、絶縁層を形成した。その後、過マンガン酸塩のアルカリ性酸化剤（アトテックジャパン社製薬液）で絶縁層の表面を粗化処理した後、無電解及び電解めっきにより幅１０ｍｍの導体層の帯を形成した。次に、２００℃で３０分加熱しアニール処理を行い、絶縁層と導体層との積層体を得た。得られた積層体の導体層のピール強度を、硬化物に対して９０℃の角度及び５０ｍｍ／分の引っ張り速度で、測定した。
【０２０１】
（８）加工性
絶縁シートを厚み１．５ｍｍのアルミ板と厚み３５μｍの電解銅箔との間に挟み、真空プレス機で４ＭＰａの圧力を保持しながら１２０℃で１時間、更に２００℃で１時間、絶縁シートをプレス硬化し、銅張り積層板を形成した。得られた銅張り積層板を直径２．０ｍｍのドリル（ユニオンツール社製、ＲＡ ｓｅｒｉｅｓ）を用いて、回転数３００００及びテーブル送り速度０．５ｍ／分の条件でルーター加工した。ばりが発生するまでの加工距離を測定し、加工性を以下の基準で評価した。
【０２０２】
［加工性の判定基準］
○：ばりが発生することなく５ｍ以上加工可能
△：ばりが発生することなく１ｍ以上、５ｍ未満加工可能
×：１ｍ未満の加工によりばりが発生
【０２０３】
（９）積層プレス時のはみ出し量
ＰＥＴシートと、該ＰＥＴシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを１３ｃｍ×５ｃｍの平面形状に切り出した後、絶縁シートをＰＥＴシートから剥離した。また、１３ｃｍ×５ｃｍの平面形状のアルミニウム板（エンジニアリングテストサービス社製、ＪＩＳ Ｈ４０００ Ａ５０５２Ｐ、最大高さ粗さＲｚ＝１．１）と、１３ｃｍ×５ｃｍの平面形状の銅箔（福田金属箔粉工業社製、電解銅箔、ＣＴ−Ｔ８）とを用意した。
【０２０４】
アルミニウム板の粗面と銅箔の粗面との間に絶縁シートを挟んで積層体を得た後、温度１２０℃及び圧力４ＭＰａで１０分間加熱プレスした。プレス後に積層体の側面からはみ出た絶縁シートの重量を測定し、下記の式により絶縁シートのはみ出し量を求めた。はみ出し量を、下記の基準で判定した。
【０２０５】
はみ出し量＝（プレス後に積層体の側面からはみ出た絶縁シートの重量）／（プレス前の絶縁シートの重量）×１００
【０２０６】
［積層プレス時のはみ出し量の判定基準］
○：絶縁シートのはみ出し量が７％未満
△：絶縁シートのはみ出し量が７％を超え、１０％未満
×：絶縁シートのはみ出し量が１０％以上
【０２０７】
（１０）自立性
上記（１）ハンドリング性の評価において、ＰＥＴシートから剥離された後の未硬化状態の絶縁シートを用意した。この未硬化状態の絶縁シートの四角を固定して、該四角が水平方向と平行な方向に位置するように絶縁シートを宙吊りにし、２３℃で１０分間放置した。放置後の絶縁シートの変形を観察し、自立性を下記の基準で判定した。
【０２０８】
［自立性の判定基準］
○：絶縁シートが下方に向かってたわんでおり、絶縁シートの鉛直方向におけるたわみ距離（変形度合い）が５ｃｍ以内
△：絶縁シートが下方に向かってたわんでおり、絶縁シートの鉛直方向におけるたわみ距離（変形度合い）が５ｃｍを超える
×：絶縁シートが破れた
【０２０９】
（１１）放熱性
厚み１ｍｍのアルミ板と厚み３５μｍの電解銅箔との間に絶縁シートを挟み、真空プレス機で４ＭＰａの圧力を保持しながら１２０℃で１時間、更に２００℃で１時間絶縁シートをプレス硬化し、銅張り積層板を形成した。得られた銅張り積層板の銅箔面を、同じサイズの６０℃に制御された表面平滑な発熱体に１９６Ｎ／ｃｍ２の圧力で押し付けた。アルミ板の表面の温度を熱伝対により測定し、放熱性を下記の基準で判定した。
【０２１０】
［放熱性の判定基準］
◎：発熱体とアルミ板の表面の温度差が３℃以下
○：発熱体とアルミ板の表面の温度差が３℃を超え、６℃以下
△：発熱体とアルミ板の表面の温度差が６℃を超え、１０℃以下
×：発熱体をアルミ板の表面の温度差が１０℃を超える
【０２１１】
（１２）曲げ弾性率
万能試験機ＲＴＣ−１３１０Ａ（オリエンテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１１１に準拠し、長さ８ｃｍ、幅１ｃｍ及び厚み４ｍｍの試験片を、支点間距離６ｃｍ及び速度１．５ｍｍ／分の各条件で測定することにより、未硬化状態の絶縁シートの２５℃での曲げ弾性率を測定した。
【０２１２】
また、絶縁シートを１２０℃で１時間、その後２００℃で１時間硬化させ、絶縁硬化シートを得た。未硬化状態の絶縁シートと同様に万能試験機（オリエンテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１１１に準拠し、長さ８ｃｍ、幅１ｃｍ及び厚み４ｍｍの試験片を、支点間距離６ｃｍ及び速度１．５ｍｍ／分の各条件で測定することにより、得られた絶縁硬化シートの２５℃での曲げ弾性率を測定した。
【０２１３】
（１３）弾性率
回転型動的粘弾性測定装置ＶＡＲ−１００（レオロジカ・インスツルメンツ社製）を用いて、直径２ｃｍの円板状の未硬化状態の絶縁シートサンプルを使用し、直径２ｃｍのパラレル型プレートにより、オシレーション歪み制御モード、開始応力１０Ｐａ、周波数１Ｈｚ及び歪み１％の各条件で、未硬化状態の絶縁シートの２５℃でのｔａｎδを測定した。また、未硬化状態の絶縁シートを２５℃から２５０℃まで昇温させた場合の絶縁シートのｔａｎδの最大値は、上記未硬化状態の絶縁シートサンプルを、上記測定条件に加え、昇温速度３０℃／分で、２５℃から２５０℃まで昇温させることにより測定した。
【０２１４】
（１４）反応率
セイコーインスツルメンツ社製の示差走査型熱量測定装置「ＤＳＣ２２０Ｃ」を用いて、測定開始温度３０℃及び昇温速度８℃／分で、得られた絶縁シートを１２０℃まで昇温し１時間保持した後、昇温速度８℃／分で２００℃までさらに昇温し１時間保持した。この２段階で絶縁シートを硬化させた時に発生する熱量（以下、熱量Ａと記載する）を測定した。
【０２１５】
次に、厚み５０μｍの離型ＰＥＴシートに、実施例及び比較例の絶縁シートの作製に際し用意した絶縁材料を厚み５０μｍとなるように塗工し、２３℃及び０．０１気圧の常温真空条件において１時間乾燥したこと以外は実施例及び比較例と同様にして得られた非加熱で乾燥された未硬化状態の絶縁シートを用意した。上記の熱量Ａの測定と同様にして、２段階で硬化させた時に発生する熱量（以下、熱量Ｂと記載する）を測定した。得られた熱量Ａ及び熱量Ｂから、下記の式により、未硬化状態の絶縁シートの反応率を求めた。
【０２１６】
反応率（％）＝［１−（熱量Ａ／熱量Ｂ）］×１００
結果を下記の表１〜５に示す。
【０２１７】
【表１】
【０２１８】
【表２】
【０２１９】
【表３】
【０２２０】
【表４】
【０２２１】
【表５】
【符号の説明】
【０２２２】
１…積層板
２…基板
２ａ…上面
３…導体層
４…絶縁層
４ａ…上面
５…導体層
１１…多層積層板
１２…基板
１２ａ…上面
１３〜１５…絶縁層
１３ａ，１４ａ…上面
１６〜１８…導体層
２１…積層構造体
２２…熱伝導体
２２ａ…一方の面
２２ｂ…他方の面
２３…絶縁層
２４…導電層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層積層板などの絶縁層を形成するのに用いられる絶縁シートに関し、より詳細には、硬化物の表面に導体層が形成されたときに、導体層の接着強度を高めることができる絶縁シート、並びに該絶縁シートを用いた積層板及び多層積層板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話及びコンピューター等の電子機器では、小型化及び情報処理の高速化が進行している。このため、上記電子機器に用いられるプリント配線板では、多層化及び薄膜化が進行しており、かつ電子部品の実装密度が高くなってきている。
【０００３】
従来、多層プリント配線板の製造方法としては、絶縁接着層としてのプリプレグシートを数枚介して、回路が形成された内層回路板と銅箔とを積層プレスする方法が用いられている。上記プリプレグシートは、一般的には、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させてＢステージ化したシートである。しかし、上記方法では、積層プレスに長時間を要し、さらに大掛かりな設備も必要となるため、製造コストが高くなる。このため、近年、内層回路板の導体層上に絶縁層を交互に積み上げるビルドアップ方式の多層プリント配線板の製造方法が広く採用されてきている。
【０００４】
上記ビルドアップ方式に用いる絶縁シートには、室温でのハンドリング性と、内層回路を良好にラミネートするために適度な流動性とが求められる。
【０００５】
上記絶縁シートの一例として、下記の特許文献１には、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、エラストマー及び無機充填剤を含有する接着剤組成物を、ガラスクロスに含浸させた絶縁接着シートが開示されている。また、下記の特許文献２には、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、フェノール樹脂組成物と、ゴム成分と、硬化促進剤とを含むエポキシ樹脂組成物が開示されている。上記フェノール樹脂組成物は、フェノール類とトリアジン環を有する化合物とアルデヒド類との混合物又は縮合物であり、該混合物又は縮合物は、未反応アルデヒド類及びメチロール基を実質的に含まない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−３４２２３８号公報
【特許文献２】特許第３７８５７４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に記載の絶縁シートは、ガラスクロスが用いられているため、柔軟性が低かった。このため、内層回路を良好にラミネートすることができなかった。また、ガラスクロスを用いた場合には、薄膜化が困難であったり、レーザー加工性に劣ったり、ガラスクロス自体の熱伝導率が低いことにより十分な放熱性が得られなかったりすることがあった。
【０００８】
また、特許文献２には、上記エポキシ樹脂組成物を熱硬化するだけで、表面に微小な凹凸を形成できることが記載されている。このため、上記エポキシ樹脂組成物によりプリント配線板の絶縁層を形成し、かつ絶縁層の表面に導体層を形成した場合に、絶縁層と導体層との接着強度が高くなる。しかしながら、上記エポキシ樹脂組成物が用いられた場合でも、絶縁層と導体層との接着強度が充分に高くならないことがあった。また、特許文献２に記載の絶縁シートは、高い熱伝導率を有するフィラーが充填されていないために、放熱性が低いことがあった。
【０００９】
本発明の目的は、硬化物の表面に導体層が形成されたときに、導体層の接着強度を高めることができる絶縁シート、並びに該絶縁シートを用いた積層板及び多層積層板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上、３μｍ以下であり、重量平均分子量が１万以上であるポリマー（Ａ）と、重量平均分子量が１万未満であるエポキシ樹脂（Ｂ１）及び重量平均分子量が１万未満であるオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）と、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であるフィラー（Ｄ）とを含み、絶縁シート１００体積％中の前記フィラー（Ｄ）の含有量が２０〜９０体積％の範囲内である、絶縁シートが提供される。
【００１１】
上記フィラー（Ｄ）は、アルミナ、結晶性シリカ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも１種であることが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの放熱性をより一層高くすることができる。
【００１２】
本発明に係る絶縁シートのある特定の局面では、前記フィラー（Ｄ）は破砕状、略多面体状又は板状である。
【００１３】
本発明に係る絶縁シートの他の特定の局面では、前記硬化剤（Ｃ）は、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物である。
【００１４】
上記硬化剤（Ｃ）は、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂であることがより好ましい。この好ましい硬化剤（Ｃ）の使用により、絶縁層と導体層との密着性をより一層高くすることができる。また、絶縁シートの柔軟性及び難燃性をより一層高めることができる。
【００１５】
上記硬化剤（Ｃ）は、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物であることも好ましい。また、上記硬化剤（Ｃ）は、下記式（１）〜（３）の内のいずれかで表される酸無水物であることがより好ましい。これらの好ましい硬化剤（Ｃ）の使用により、絶縁シートの柔軟性、耐湿性又は接着性をより一層高めることができる。
【００１６】
【化１】
【００１７】
【化２】
【００１８】
【化３】
【００１９】
上記式（３）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素、炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基を示す。
【００２０】
本発明に係る絶縁シートの他の特定の局面では、樹脂粒子（Ｅ）がさらに含まれている。
【００２１】
本発明に係る絶縁シートのさらに他の特定の局面では、前記ポリマー（Ａ）は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が３万以上であるポリマーである。上記ポリマー（Ａ）は、フェノキシ樹脂であることが好ましい。フェノキシ樹脂の使用により、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。また、上記フェノキシ樹脂のガラス転移温度は、９５℃以上であることが好ましい。この場合には、樹脂の熱劣化をより一層抑制できる。
【００２２】
本発明に係る絶縁シートの別の特定の局面では、前記樹脂（Ｂ）は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の内の少なくとも一方のモノマーを含む。
【００２３】
本発明に係る絶縁シートのさらに別の特定の局面では、前記ポリマー（Ａ）と、前記樹脂（Ｂ）と、前記硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シート中の樹脂成分の合計１００重量％中、前記ポリマー（Ａ）の含有量が２０〜６０重量％、前記樹脂（Ｂ）の含有量が１０〜６０重量％、かつ前記ポリマー（Ａ）と前記樹脂（Ｂ）との合計の含有量が１００重量％未満である。
【００２４】
本発明に係る積層板は、絶縁層と、該絶縁層の少なくとも一方の面に積層された導体層とを備え、前記絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。
【００２５】
本発明に係る多層積層板は、積層された複数の絶縁層と、前記複数の絶縁層の間に配置された導体層とを備え、前記絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。
【００２６】
本発明に係る多層積層板のある特定の局面では、前記導体層がめっきにより形成されている。
【発明の効果】
【００２７】
本発明は、上記（Ａ）〜（Ｃ）成分とともに、平均粒子径０．１〜５μｍのフィラー（Ｄ）を含む絶縁シートであり、表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上、３μｍ以下であるので、硬化物の表面に導体層が形成されたときに、硬化物と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。
【００２８】
本発明に係る積層板及び多層積層板は絶縁層と導体層とを備え、該絶縁層が本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されているので、絶縁層と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた積層板を模式的に示す部分切欠正面断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた多層積層板を模式的に示す部分切欠正面断面図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態に係る絶縁硬化シートを用いた積層構造体を模式的に示す部分切欠正面断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明の詳細を説明する。
【００３１】
本発明に係る絶縁シートは、重量平均分子量が１万以上であるポリマー（Ａ）と、重量平均分子量が１万未満であるエポキシ樹脂（Ｂ１）及び重量平均分子量が１万未満であるオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）と、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であるフィラー（Ｄ）とを含む。
【００３２】
（ポリマー（Ａ））
本発明に係る絶縁シートに含まれている上記ポリマー（Ａ）は、重量平均分子量が１万以上であれば特に限定されない。ポリマー（Ａ）は、芳香族骨格を有することが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。ポリマー（Ａ）が芳香族骨格を有する場合には、芳香族骨格をポリマー全体の中に有していればよく、主鎖骨格内に有していてもよく、側鎖中に有していてもよい。ポリマー（Ａ）は、芳香族骨格を主鎖骨格内に有することが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの耐熱性をさらに一層高めることができる。ポリマー（Ａ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００３３】
上記芳香族骨格は特に限定されない。上記芳香族骨格の具体例としては、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格又はビスフェノールＡ型骨格等が挙げられる。なかでも、ビフェニル骨格又はフルオレン骨格が好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。
【００３４】
上記ポリマー（Ａ）として、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂等を用いることができる。
【００３５】
上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂は、特に限定されない。上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン又はポリエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。また、上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂として、熱可塑性ポリイミド、熱硬化性ポリイミド、ベンゾオキサジン、又はポリベンゾオキサゾールとベンゾオキサジンとの反応物などのスーパーエンプラと呼ばれている耐熱性樹脂群等を使用できる。上記熱可塑性樹脂及び上記熱硬化性樹脂はそれぞれ、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の内のいずれか一方が用いられてもよく、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とが併用されてもよい。
【００３６】
上記ポリマー（Ａ）は、スチレン系重合体、（メタ）アクリル系重合体又はフェノキシ樹脂であることが好ましく、フェノキシ樹脂であることがより好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの酸化劣化を防止でき、かつ耐熱性をより一層高めることができる。
【００３７】
上記スチレン系重合体として、具体的には、スチレン系モノマーの単独重合体、又はスチレン系モノマーとアクリル系モノマーとの共重合体等を用いることができる。中でも、スチレン−メタクリル酸グリシジルの構造を有するスチレン系重合体が好ましい。
【００３８】
上記スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｎ−ブチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ｐ−ｎ−ヘキシルスチレン、ｐ−ｎ−オクチルスチレン、ｐ−ｎ−ノニルスチレン、ｐ−ｎ−デシルスチレン、ｐ−ｎ−ドデシルスチレン、２，４−ジメチルスチレン又は３，４−ジクロロスチレン等が挙げられる。
【００３９】
上記アクリル系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸−２−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、β−ヒドロキシアクリル酸エチル、γ−アミノアクリル酸プロピル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル又はメタクリル酸ジエチルアミノエチル等が挙げられる。
【００４０】
上記フェノキシ樹脂は、具体的には、例えばエピハロヒドリンと２価フェノール化合物とを反応させて得られる樹脂、又は２価のエポキシ化合物と２価のフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂である。
【００４１】
上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールＡ型骨格、ビスフェノールＦ型骨格、ビスフェノールＡ／Ｆ混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格及びジシクロペンタジエン骨格からなる群から選択された少なくとも１つの骨格を有することが好ましい。中でも、上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールＡ型骨格、ビスフェノールＦ型骨格、ビスフェノールＡ／Ｆ混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格及びビフェニル骨格からなる群から選択された少なくとも１種の骨格を有することがより好ましく、フルオレン骨格及びビフェニル骨格の内の少なくとも一方を有することが更に好ましい。これらの好ましい骨格を有するフェノキシ樹脂の使用により、絶縁硬化シートの耐熱性をより一層高めることができる。
【００４２】
上記フェノキシ樹脂は、主鎖中に多環式芳香族骨格を有することが好ましい。また、上記フェノキシ樹脂は、下記式（４）〜（９）で表される骨格の内の少なくとも１つの骨格を主鎖中に有することがより好ましい。
【００４３】
【化４】
【００４４】
上記式（４）中、Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｘ１は単結合、炭素数１〜７の２価の炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、又は−ＣＯ−である。
【００４５】
【化５】
【００４６】
上記式（５）中、Ｒ１ａは互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、ｍは０〜５の整数である。
【００４７】
【化６】
【００４８】
上記式（６）中、Ｒ１ｂは互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Ｒ４は互いに同一であっても異なっていてもよく水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又はハロゲン原子であり、ｌは０〜４の整数である。
【００４９】
【化７】
【００５０】
【化８】
【００５１】
上記式（８）中、Ｒ５及びＲ６は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又はハロゲン原子であり、Ｘ２は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、又は−Ｏ−であり、ｋは０又は１である。
【００５２】
【化９】
【００５３】
上記ポリマー（Ａ）として、例えば、下記式（１０）又は下記式（１１）で表されるフェノキシ樹脂が好適に用いられる。
【００５４】
【化１０】
【００５５】
上記式（１０）中、Ａ１は上記式（４）〜（６）の内のいずれかで表される構造を有し、かつその構成は上記式（４）で表される構造が０〜６０モル％、上記式（５）で表される構造が５〜９５モル％、及び上記式（６）で表される構造が５〜９５モル％であり、Ａ２は水素原子、又は上記式（７）で表される基であり、ｎ１は平均値で２５〜５００の数である。
【００５６】
【化１１】
【００５７】
上記式（１１）中、Ａ３は上記式（８）又は上記式（９）で表される構造を有し、ｎ２は少なくとも２１以上の値である。
【００５８】
上記ポリマー（Ａ）のガラス転移温度Ｔｇは、６０〜２００℃の範囲内にあることが好ましく、９０〜１８０℃の範囲内にあることがより好ましい。ポリマー（Ａ）のＴｇが低すぎると、樹脂が熱劣化することがある。ポリマー（Ａ）のＴｇが高すぎると、ポリマー（Ａ）と他の樹脂との相溶性が悪くなる。この結果、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁硬化シートの耐熱性が低下することがある。
【００５９】
上記ポリマー（Ａ）がフェノキシ樹脂である場合には、フェノキシ樹脂のガラス転移温度Ｔｇは、９５℃以上であることが好ましく、１１０〜２００℃の範囲内にあることがより好ましく、１１０〜１８０℃の範囲内にあることがさらに好ましい。フェノキシ樹脂のＴｇが低すぎると、樹脂が熱劣化することがある。フェノキシ樹脂のＴｇが高すぎると、フェノキシ樹脂と他の樹脂との相溶性が悪くなる。この結果、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁硬化シートの耐熱性が低下することがある。
【００６０】
上記ポリマー（Ａ）の重量平均分子量は、１０，０００以上である。ポリマー（Ａ）の重量平均分子量は、３０，０００以上であることが好ましく、３０，０００〜１，０００，０００の範囲内にあることがより好ましく、４０，０００〜２５０，０００の範囲内にあることがさらに好ましい。ポリマー（Ａ）の重量平均分子量が小さすぎると、絶縁硬化シートが熱劣化することがある。ポリマー（Ａ）の重量平均分子量が大きすぎると、ポリマー（Ａ）と他の樹脂との相溶性が悪くなる。この結果、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁硬化シートの耐熱性が低下することがある。
【００６１】
ポリマー（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計１００重量％中に、ポリマー（Ａ）は２０〜６０重量％の範囲内で含まれている。ポリマー（Ａ）は上記範囲内で、ポリマー（Ａ）と樹脂（Ｂ）との合計の含有量が１００重量％未満であるように含まれている。全樹脂成分の合計１００重量％中のポリマー（Ａ）の含有量の好ましい下限は３０重量％であり、好ましい上限は５０重量％である。ポリマー（Ａ）の含有量が少なすぎると、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。ポリマー（Ａ）の含有量が多すぎると、フィラー（Ｄ）の分散が困難になることがある。なお、全樹脂成分とは、ポリマー（Ａ）、エポキシ樹脂（Ｂ１）、オキセタン樹脂（Ｂ２）、硬化剤（Ｃ）及び必要に応じて添加される他の樹脂成分の総和をいう。
【００６２】
（樹脂（Ｂ））
本発明に係る絶縁シートは、エポキシ樹脂（Ｂ１）及びオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）を含有する。樹脂（Ｂ）として、エポキシ樹脂（Ｂ１）のみが用いられてもよく、オキセタン樹脂（Ｂ２）のみが用いられてもよく、エポキシ樹脂（Ｂ１）とオキセタン樹脂（Ｂ２）との双方が用いられてもよい。
【００６３】
上記エポキシ樹脂（Ｂ１）の重量平均分子量は１万未満である。エポキシ樹脂（Ｂ１）は重量平均分子量が１万未満であれば特に限定されない。エポキシ樹脂（Ｂ１）として、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）が好適に用いられる。
【００６４】
上記エポキシ樹脂（Ｂ１）の具体例としては、ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマー、ナフタレン骨格を有するエポキシモノマー、アダマンテン骨格を有するエポキシモノマー、フルオレン骨格を有するエポキシモノマー、ビフェニル骨格を有するエポキシモノマー、バイ（グリシジルオキシフェニル）メタン骨格を有するエポキシモノマー、キサンテン骨格を有するエポキシモノマー、アントラセン骨格を有するエポキシモノマー、又はピレン骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。エポキシ樹脂（Ｂ１）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００６５】
上記ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型又はビスフェノールＳ型のビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。
【００６６】
上記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマーとしては、ジシクロペンタジエンジオキシド、又はジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシモノマー等が挙げられる。
【００６７】
上記ナフタレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、１−グリシジルナフタレン、２−グリシジルナフタレン、１，２−ジグリシジルナフタレン、１，５−ジグリシジルナフタレン、１，６−ジグリシジルナフタレン、１，７−ジグリシジルナフタレン、２，７−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、又は１，２，５，６−テトラグリシジルナフタレン等が挙げられる。
【００６８】
上記アダマンテン骨格を有するエポキシモノマーとしては、１，３−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンテン、又は２，２−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンテン等が挙げられる。
【００６９】
上記フルオレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、９，９−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−ブロモフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−フルオロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−メトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジクロロフェニル）フルオレン、又は９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジブロモフェニル）フルオレン等が挙げられる。
【００７０】
上記ビフェニル骨格を有するエポキシモノマーとしては、４，４’−ジグリシジルビフェニル、又は４，４’−ジグリシジル−３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニル等が挙げられる。
【００７１】
上記バイ（グリシジルオキシフェニル）メタン骨格を有するエポキシモノマーとしては、１，１’−バイ（２，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，８’−バイ（２，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，１’−バイ（３，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，８’−バイ（３，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，１’−バイ（３，５−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，８’−バイ（３，５−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，２’−バイ（２，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、１，２’−バイ（３，７−グリシジルオキシナフチル）メタン、又は１，２’−バイ（３，５−グリシジルオキシナフチル）メタン等が挙げられる。
【００７２】
上記キサンテン骨格を有するエポキシモノマーとしては、１，３，４，５，６，８−ヘキサメチル−２，７−ビス−オキシラニルメトキシ−９−フェニル−９Ｈ−キサンテン等が挙げられる。
【００７３】
上記オキセタン樹脂（Ｂ２）の重量平均分子量は１万未満である。オキセタン樹脂（Ｂ２）は重量平均分子量が１万未満であれば特に限定されない。オキセタン樹脂（Ｂ２）として、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）が好適に用いられる。
【００７４】
上記オキセタン樹脂（Ｂ２）の具体例としては、例えば、４，４’−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル、１，４−ベンゼンジカルボン酸ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メチル］エステル、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン、又はオキセタン化フェノールノボラック等が挙げられる。オキセタン樹脂（Ｂ２）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００７５】
エポキシ樹脂（Ｂ１）及びオキセタン樹脂（Ｂ２）の重量平均分子量、すなわち樹脂（Ｂ）の重量平均分子量は、１万未満である。樹脂（Ｂ）の重量平均分子量は、６００以下であることが好ましい。樹脂（Ｂ）の重量平均分子量の好ましい下限は２００、より好ましい上限は５５０である。樹脂（Ｂ）の重量平均分子量が小さすぎると、樹脂（Ｂ）の揮発性が高すぎて絶縁シートの取扱い性が低下することがある。樹脂（Ｂ）の重量平均分子量が大きすぎると、絶縁シートが固くかつ脆くなったり、絶縁硬化シートの接着性が低下したりすることがある。
【００７６】
ポリマー（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計１００重量％中に、樹脂（Ｂ）は１０〜６０重量％の範囲内で含まれていることが好ましい。上記全樹脂成分の合計１００重量％中に、樹脂（Ｂ）は１０〜４０重量％の範囲内で含まれていることがより好ましい。樹脂（Ｂ）は上記範囲内で、ポリマー（Ａ）と樹脂（Ｂ）との合計の含有量が１００重量％未満であるように含まれていることが好ましい。樹脂（Ｂ）の含有量が少なすぎると、絶縁硬化シートの接着性及び耐熱性が低下することがある。樹脂（Ｂ）の含有量が多すぎると、絶縁シートの取扱い性が低下することがある。
【００７７】
上記樹脂（Ｂ）は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）、及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の内の少なくとも一方のモノマーを含むことが好ましい。
【００７８】
樹脂（Ｂ）は、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の内の少なくとも一方のモノマーを４０〜１００重量％の範囲内で含むことが好ましく、６０〜１００重量％の範囲内で含むことがより好ましく、８０〜１００重量％の範囲内で含むことが特に好ましい。エポキシモノマー（Ｂ１ｂ）及びオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の含有量が上記好ましい範囲内にある場合には、絶縁シートの柔軟性、並びに絶縁硬化シートの接着性及び耐熱性をより一層高めることができる。
【００７９】
（硬化剤（Ｃ））
本発明に係る上記絶縁シートに含まれている硬化剤（Ｃ）は特に限定されない。硬化剤（Ｃ）は、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物であることが好ましい。この好ましい硬化剤（Ｃ）の使用により、耐熱性、耐湿性及び電気物性のバランスに優れた絶縁硬化シートを得ることができる。硬化剤（Ｃ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００８０】
上記フェノール樹脂は、特に限定されない。上記フェノール樹脂の具体例としては、フェノールノボラック、ｏ−クレゾールノボラック、ｐ−クレゾールノボラック、ｔ−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリパラビニルフェノール、ビスフェノールＡ型ノボラック、キシリレン変性ノボラック、デカリン変性ノボラック、ポリ（ジ−ｏ−ヒドロキシフェニル）メタン、ポリ（ジ−ｍ−ヒドロキシフェニル）メタン、又はポリ（ジ−ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン等が挙げられる。なかでも、メラミン骨格を有するフェノール樹脂、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂が好ましく、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂であることがより好ましい。この場合には、絶縁硬化シートと導体層との密着性をより一層高めることができる。さらに、絶縁シート又は絶縁硬化シートの柔軟性及び難燃性をより一層高めることができる。
【００８１】
上記フェノール樹脂の市販品としては、ＭＥＨ−８００５、ＭＥＨ−８０１０及びＮＥＨ−８０１５（以上いずれも明和化成社製）、ＹＬＨ９０３（ジャパンエポキシレジン社製）、ＬＡ―７０５２、ＬＡ−７０５４、ＬＡ−７７５１、ＬＡ−１３５６及びＬＡ−３０１８−５０Ｐ（以上いずれも大日本インキ社製）、並びにＰＳ６３１３及びＰＳ６４９２（群栄化学社製）等が挙げられる。
【００８２】
芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、特に限定されない。芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、例えば、スチレン／無水マレイン酸コポリマー、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、４，４’−オキシジフタル酸無水物、フェニルエチニルフタル酸無水物、グリセロールビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。なかでも、メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸が好ましい。メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸の使用により、絶縁硬化シートの耐水性を高めることができる。
【００８３】
上記芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、ＳＭＡレジンＥＦ３０、ＳＭＡレジンＥＦ４０、ＳＭＡレジンＥＦ６０及びＳＭＡレジンＥＦ８０（以上いずれもサートマー・ジャパン社製）、ＯＤＰＡ−Ｍ及びＰＥＰＡ（以上いずれもマナック社製）、リカジットＭＴＡ−１０、リカジットＭＴＡ−１５、リカジットＴＭＴＡ、リカジットＴＭＥＧ−１００、リカジットＴＭＥＧ−２００、リカジットＴＭＥＧ−３００、リカジットＴＭＥＧ−５００、リカジットＴＭＥＧ−Ｓ、リカジットＴＨ、リカジットＨＴ−１Ａ、リカジットＨＨ、リカジットＭＨ−７００、リカジットＭＴ−５００、リカジットＤＳＤＡ及びリカジットＴＤＡ−１００（以上いずれも新日本理化社製）、並びにＥＰＩＣＬＯＮ Ｂ４４００、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｂ６５０、及びＥＰＩＣＬＯＮ Ｂ５７０（以上いずれも大日本インキ化学社製）等が挙げられる。
【００８４】
上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物であることが好ましい。この場合には、絶縁シート又は絶縁硬化シートの柔軟性、耐湿性又は接着性をより一層高めることができる。また、上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、マレイン化テルピネン、メチルナジック酸無水物、ジシクロペンタジエン骨格を有する酸無水物又は該酸無水物の変性物等も挙げられる。
【００８５】
上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、リカジットＨＮＡ及びリカジットＨＮＡ−１００（以上いずれも新日本理化社製）等が挙げられる。
【００８６】
また、上記硬化剤（Ｃ）は、下記式（１）〜（３）の内のいずれかで表される酸無水物であることがより好ましい。この好ましい硬化剤（Ｃ）の使用により、絶縁シート又は絶縁硬化シートの柔軟性、耐湿性又は接着性をより一層高めることができる。
【００８７】
【化１２】
【００８８】
【化１３】
【００８９】
【化１４】
【００９０】
上記式（３）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素、炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基を示す。
【００９１】
硬化速度又は絶縁硬化シートの物性などを調整するために、上記硬化剤と硬化促進剤とを併用してもよい。
【００９２】
上記硬化促進剤は特に限定されない。硬化促進剤の具体例としては、例えば、３級アミン、イミダゾール類、イミダゾリン類、トリアジン類、有機リン系化合物、４級ホスホニウム塩類又は有機酸塩等のジアザビシクロアルケン類等が挙げられる。また、上記硬化促進剤としては、有機金属化合物類、４級アンモニウム塩類又は金属ハロゲン化物等が挙げられる。上記有機金属化合物類としては、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫又はアルミニウムアセチルアセトン錯体等が挙げられる。
【００９３】
上記硬化促進剤として、高融点のイミダゾール硬化促進剤、高融点の分散型潜在性硬化促進剤、マイクロカプセル型潜在性硬化促進剤、アミン塩型潜在性硬化促進剤、又は高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等を使用できる。上記硬化促進剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００９４】
上記高融点の分散型潜在性促進剤としては、ジシアンジアミド又はアミンがエポキシモノマー等に付加されたアミン付加型促進剤等が挙げられる。上記マイクロカプセル型潜在性促進剤としては、イミダゾール系、リン系又はホスフィン系の促進剤の表面がポリマーにより被覆されたマイクロカプセル型潜在性促進剤が挙げられる。上記高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤としては、ルイス酸塩又はブレンステッド酸塩等が挙げられる。
【００９５】
上記硬化促進剤は、高融点のイミダゾール系硬化促進剤であることが好ましい。高融点のイミダゾール系硬化促進剤が用いられた場合には、反応系を容易に制御でき、かつ絶縁シートの硬化速度、及び絶縁硬化シートの物性などをより一層容易に調整できる。融点１００℃以上の高融点の硬化促進剤は、取扱性に優れている。従って、硬化促進剤の融点は１００℃以上であることが好ましい。
【００９６】
ポリマー（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計１００重量％中に、硬化剤（Ｃ）は１０〜４０重量％の範囲内で含まれていることが好ましい。上記全樹脂成分の合計１００重量％中の硬化剤（Ｃ）の含有量のより好ましい下限は１２重量％であり、より好ましい上限は２５重量％である。硬化剤（Ｃ）の含有量が少なすぎると、絶縁シートを充分に硬化させることが困難になることがある。硬化剤（Ｃ）の含有量が多すぎると、硬化に関与しない余剰な硬化剤が発生したり、絶縁シートの硬化の際に、架橋が充分に進行しなかったりすることがある。このため、絶縁硬化シートの耐熱性及び接着性が充分に高められないことがある。
【００９７】
（フィラー（Ｄ））
本発明に係る絶縁シートに、平均粒子径０．１〜５μｍのフィラー（Ｄ）が含まれていることにより、絶縁シートの表面の算術平均粗さＲａを０．１μｍ以上、３μｍ以下とすることができ、該絶縁シートを硬化した絶縁硬化シートの表面の算術平均粗さＲａを０．１μｍ以上、３μｍ以下とすることができる。このため、絶縁シート又は該絶縁硬化シート上にメッキにより形成される導体層との接着強度を高めることができる。フィラー（Ｄ）の平均粒子径の好ましい下限は０．２μｍであり、より好ましい下限は０．３μｍである。フィラー（Ｄ）の平均粒子径（Ｄ）の好ましい上限は４μｍであり、より好ましい上限は３μｍである。フィラー（Ｄ）の平均粒子径がこれらの好ましい下限又は上限を満たす場合には、絶縁硬化シートと導体層との接着強度をより一層高めることができる。なお、フィラー（Ｄ）の平均粒子径が小さすぎると、絶縁シートの表面に形成される凹凸が小さすぎて、絶縁硬化シートと導体層との密着性の向上にフィラー（Ｄ）が寄与しなかったり、フィラー（Ｄ）を高密度で充填させることが困難なことがあったりする。フィラー（Ｄ）の平均粒子径が大きすぎると、絶縁硬化シートの絶縁破壊特性が低下することがある。
【００９８】
上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。
【００９９】
上記フィラー（Ｄ）は、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であれば特に限定されない。フィラー（Ｄ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。フィラー（Ｄ）は、アルミナ、結晶性シリカ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも１種であることが好ましい。これらの好ましいフィラー（Ｄ）の使用により、絶縁硬化シートの放熱性をより一層高めることができる。
【０１００】
上記フィラー（Ｄ）の形状は、破砕状、略多面体状又は板状であることが好ましく、破砕状又は略多面体状であることが好ましい。フィラー（Ｄ）がこの好ましい形状を有する場合には、絶縁シートの表面に凹凸をより一層高密度に形成できる。このため、絶縁硬化シートと導体層との接着強度をさらに一層高めることができる。
【０１０１】
破砕されたフィラーとしては、破砕アルミナ等が挙げられる。破砕されたフィラーは、例えば、一軸破砕機、二軸破砕機、ハンマークラッシャー又はボールミル等を用いて、塊状の無機物質を破砕することにより得られる。
【０１０２】
破砕されたフィラーのアスペクト比は、特に限定されない。破砕されたフィラーのアスペクト比は、１．５〜２０の範囲内にあることが好ましい。破砕されたフィラーのアスペクト比は、例えば、デジタル画像解析方式粒度分布測定装置（商品名：ＦＰＡ、日本ルフト社製）を用いて、フィラーの破砕面を測定することにより求めることができる。
【０１０３】
絶縁シート１００体積％中、上記フィラー（Ｄ）は２０〜９０体積％の範囲内で含まれていることが好ましい。フィラー（Ｄ）の含有量が上記範囲内にあることにより、絶縁硬化シートと導体層との接着強度を充分に高くすることができる。絶縁シート１００体積％中のフィラー（Ｄ）の含有量のより好ましい下限は３０体積％であり、さらに好ましい下限は３５体積％であり、より好ましい上限は８５体積％であり、さらに好ましい上限は８０体積％である。フィラー（Ｄ）の含有量が少なすぎると、絶縁シートの放熱性が充分に高められなかったり、表面に凹凸が効果的に形成されず、絶縁硬化シートと導体層との密着性が低くなったりすることがある。フィラー（Ｄ）の含有量が多すぎると、絶縁シートの柔軟性及び接着性が著しく低下しやすくなったり、フィラー（Ｄ）の新モース硬度が高い場合にはドリルや打ち抜きプレスによる絶縁硬化シートの加工性が悪くなったりすることがある。
【０１０４】
フィラー（Ｄ）の熱伝導率は、１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることが好ましい。熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以下であると、絶縁硬化シートの放熱性が十分に発現しないことがある。絶縁硬化シートの放熱性をより一層高めることができるので、フィラー（Ｄ）の熱伝導率は２０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることがより好ましく、３０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることがさらに好ましい。
【０１０５】
上記フィラー（Ｄ）は、化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）、及び該炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面が、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆されている被覆体（Ｄ２ｄ１）の内の少なくとも一方のフィラー（Ｄｄ１）であってもよい。このようなフィラー（Ｄｄ１）の使用により、絶縁硬化シートの熱伝導率及び耐熱性を充分に確保しつつ、絶縁硬化シートの加工性を高めることができる。本発明の絶縁シートは、加工性に優れているため、例えば、絶縁硬化シートの加工時に使用する設備の摩耗を抑制できる。従って、絶縁シートを長期に渡り安定的に生産できる。
【０１０６】
上記化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）は、熱伝導率が１５Ｗ／ｍ・Ｋと比較的良好であり、モース硬度も３．５と低い。さらに、上記炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）は、窒化物と比べて安価である。従って、上記炭酸マグネシウム塩（Ｄ１ｄ１）又は該炭酸マグネシウム塩を含む上記被覆体（Ｄ２ｄ１）の使用により、絶縁シートの生産コストを低減できる。
【０１０７】
上記化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）は、例えば化学式４ＭｇＣＯ３・Ｍｇ（ＯＨ２）・４Ｈ２Ｏで表されるヒドロキシ炭酸マグネシウムとは異なる。このヒドロキシ炭酸マグネシウムは、単に炭酸マグネシウムと呼ばれることもある。このヒドロキシ炭酸マグネシウムは１００℃前後に加熱されると、結晶水を放出する。このため、ヒドロキシ炭酸マグネシウムは、例えば高いはんだ耐熱性が要求される用途には適さない。
【０１０８】
また、上記化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）として、天然品及び合成品が存在する。天然品は不純物を含むため、天然品が用いられた場合には、耐熱性などの物性が安定しない可能性がある。このため、上記炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）は、合成品であることが望ましい。
【０１０９】
上記被覆体（Ｄ２ｄ１）は、炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）をコアとし、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより形成された被覆層をシェルとするコア／シェル構造を有する。上記被覆体（Ｄ２ｄ１）は、上記被覆層を有するので、樹脂への分散性が高い。さらに上記被覆層を有する上記被覆体（Ｄ２ｄ１）の使用により、絶縁硬化シートの耐酸性をより一層高めることができる。
【０１１０】
上記炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面を上記被覆層により被覆する方法は特に限定されない。この方法としては、例えば、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカ原料であるシランカップリング剤が溶解されている溶液中に炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）を分散させた分散液をスプレー乾燥する方法、有機樹脂又はシリコーン樹脂が溶解された溶液中に炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）を分散させた後、有機樹脂又はシリコーン樹脂の貧溶媒を添加することにより、炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面に有機樹脂又はポリシロキサンを析出させる方法、炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）が分散された媒体中でアクリル樹脂、スチレン樹脂又は低分子量シラン等の重合性単量体を反応させ、高分子量化し媒体中に溶けきれなくなった有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカを炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面に析出させる方法等が挙げられる。
【０１１１】
上記有機樹脂は、炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ１）の表面を被覆できれば特に限定されない。上記有機樹脂は、硬化物に耐酸性を付与できる樹脂であることが好ましい。上記有機樹脂は、熱硬化性樹脂であってもよく、熱可塑性樹脂であってもよい。
【０１１２】
上記有機樹脂の具体例としては、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール系樹脂、熱可塑性ウレタン系樹脂、熱硬化性ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、熱可塑性ポリイミド系樹脂、熱硬化性ポリイミド系樹脂、アミノアルキド系樹脂、フェノキシ樹脂、フタレート樹脂、ポリアミド系樹脂、ケトン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド、熱硬化性ポリイミド、ベンゾオキサジン、又はポリベンゾオキサゾールとベンゾオキサジンとの反応物等が挙げられる。この中でも単量体の種類が豊富であり、被覆層を幅広く設計でき、かつ熱又は光等により反応を容易に制御できるため、（メタ）アクリル系樹脂又はスチレン系樹脂が好ましい。
【０１１３】
エッチング時の耐酸性を高めることができるので、上記有機樹脂は、分子中に反応基を２つ以上有する架橋性モノマーを含有することが好ましい。
【０１１４】
上記被覆層の厚みは、１０ｎｍ〜１μｍの範囲内にあることが好ましい。被覆層の厚みが１０ｎｍ未満であると、被覆体（Ｄ２ｄ１）の樹脂への分散性の向上効果、及び絶縁硬化シートの耐酸性の向上効果が十分に得られないことがある。被覆層の厚みが１μｍを超えると、被覆体（Ｄ２ｄ１）の熱伝導性が著しく低下することがある。
【０１１５】
フィラー（Ｄｄ１）は、化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない球状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ２）、及び該球状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ２）の表面が、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆されている被覆体（Ｄ２ｄ２）の内の少なくとも一方のフィラー（Ｄｄ２）であることが好ましい。なお、球状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ２）の表面を、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆することにより、被覆体（Ｄ２ｄ２）を球状にできる。また、フィラー（Ｄｄ２）は、球状であることが好ましい。球状の場合には、絶縁シート中にフィラー（Ｄｄ２）を高密度で充填させることができ、従って絶縁硬化シートの放熱性を高めることができる。さらに、絶縁硬化シートの絶縁破壊特性を高めることができる。
【０１１６】
なお、球状は、真球状に限られない。球状には、真球がわずかに扁平していたり、歪んでいたりしている形状が含まれる。例えば、球状には、アスペクト比が１〜１．５の範囲内にある形状、又は表面の多くの部分例えば表面の３０％以上の部分が平面等ではなく曲面であり、表面の一部の部分例えば表面の７０％未満の部分が曲面ではなく、平面等である形状が含まれる。表面の５０％以上の部分が曲面である形状がより好ましく、表面の７０％以上の部分が曲面である形状がさらに好ましい。
【０１１７】
また、上記球状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ２）、該球状の炭酸マグネシウム無水塩を用いた上記被覆体（Ｄ２ｄ２）又は球状のフィラー（Ｄｄ２）は、ジェットミル又は回転するローターとステーターとを有する粉砕−表面処理装置により球状化処理されたものであることが好ましい。このような球状化処理により、球形度を高くすることができ、かつ真球状又は真球状に近い形状にすることができる。さらに、上記球状化処理により、フィラー（Ｄｄ２）の凝集物を砕くことができる。従って、上記フィラー（Ｄｄ２）を、絶縁シート中に高密度で充填させることができる。このため、絶縁硬化シートの放熱性をより一層高めることができる。さらに、絶縁硬化シートの絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
【０１１８】
絶縁シート中に細密充填構造を形成して、絶縁硬化シートの放熱性を高めるために、形状が異なる２種以上のフィラー（Ｄｄ１）が用いられてもよく、粒径が異なる２種以上のフィラー（Ｄｄ１）が用いられてもよい。
【０１１９】
上記フィラー（Ｄｄ１）は、化学式ＭｇＣＯ３で示される結晶水を含まない略多面体状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ３）、及び該略多面体状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ３）の表面が、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆されている被覆体（Ｄ２ｄ３）の内の少なくとも一方のフィラー（Ｄｄ３）であることも好ましい。なお、略多面体状の炭酸マグネシウム無水塩（Ｄ１ｄ３）の表面を、有機樹脂、シリコーン樹脂又はシリカにより被覆することにより、被覆体（Ｄ２ｄ３）を略多面体状にできる。また、フィラー（Ｄｄ３）は、略多面体状であることが好ましい。また、フィラー（Ｄｄ３）が略多面体状である場合に、上記フィラー（Ｄｄ３）以外の他のフィラーがさらに含まれており、該他のフィラーが板状フィラーであることが好ましい。
【０１２０】
フィラー（Ｄｄ３）が略多面体状であり、板状フィラーが含まれている場合には、絶縁シート中でフィラー（Ｄｄ３）と板状フィラーとが点接触ではなく面接触し、フィラー（Ｄｄ３）と板状フィラーとの接触面積が大きくなる。また、絶縁シート中に距離を隔てて分散されている複数のフィラー（Ｄｄ３）同士が、板状フィラーを介して接触又は近接することで、絶縁シート中の各フィラーが橋掛け又は効率的に近接された構造となる。このため、絶縁硬化シートの熱伝導性をより一層高くすることができる。
【０１２１】
上記板状フィラーの平均長径は０．１〜５μｍの範囲内にある。上記フィラー（Ｄｄ３）及び板状フィラーの使用により、絶縁シート中で上記フィラー（Ｄｄ３）と板状フィラーとを充分に接触させることができる。このため、絶縁硬化シートの熱伝導性をより一層高くすることができる。なお、フィラー（Ｄ）が板状フィラーの場合には、フィラー（Ｄ）の平均粒子径は、平均長径を示す。
【０１２２】
なお、「略多面体状」とは、一般的な多面体の定義である平面によってのみ構成される多面体状だけでなく、平面と一定割合以下の曲面を有する形状も含まれる。略多面体状には、例えば表面の１０％以下の曲面と、表面の９０％以上の平面により構成される形状が含まれる。略多面体状は、略立方体状又は略直方体状であることが好ましい。
【０１２３】
上記板状フィラーの平均長径が０．１μｍ未満であると、板状フィラーの充填が困難であったり、板状フィラーによって略多面体状のフィラー（Ｄｄ３）間を効率的かつ十分に橋かけさせることができなかったりすることがある。板状フィラーの平均長径のより好ましい下限は０．５μｍであり、さらに好ましい下限は１μｍである。
【０１２４】
上記板状フィラーの平均厚みは、１００ｎｍ以上であることが好ましい。板状フィラーの厚みが１００ｎｍ以上の場合には、硬化物の熱伝導率をさらに一層高くすることができる。また、上記板状フィラーのアスペクト比は２〜５０の範囲内にあることが好ましい。板状フィラーのアスペクト比が５０を超えると、板状フィラーの充填が困難なことがある。板状フィラーのアスペクト比は、３〜４５の範囲内にあることがより好ましい。
【０１２５】
また、上記板状フィラーは、アルミナ及び窒化ホウ素の内の少なくとも一方であることが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの熱伝導性をさらに一層高くすることができる。特に、上記フィラー（Ｄｄ３）とアルミナ及び窒化ホウ素の内の少なくとも一方との併用により、絶縁硬化シートの熱伝導性をさらに一層高くすることができる。
【０１２６】
フィラー（Ｄｄ１）とフィラー（Ｄｄ１）以外の他のフィラーとが併用される場合には、その配合量は、フィラー（Ｄｄ１）及び他のフィラーのそれぞれの種類、粒径及び形状により適宜最適なように決定される。絶縁シート１００体積％中に、フィラー（Ｄｄ１）と他のフィラーとの合計の含有量は、６０〜９０体積％の範囲内であることが好ましい。フィラー（Ｄｄ１）と他のフィラーとの合計の含有量が６０体積％未満であると、硬化物の放熱性を充分に高めることができないことがある。フィラー（Ｄｄ１）と他のフィラー（Ｄ）との合計の含有量が９０体積％を超えると、絶縁シートの柔軟性又は接着性が著しく低下するおそれがある。
【０１２７】
フィラー（Ｄｄ１）と他のフィラーとが併用される場合には、絶縁シート１００体積％中、上記フィラー（Ｄｄ１）の含有量は、２０〜８０体積％の範囲内であることがより好ましい。
【０１２８】
絶縁シート中に、上記略多面体状のフィラー（Ｄｄ３）と上記板状フィラーとは体積比で７０：３０〜９９：１で含まれていることが好ましい。また、絶縁シート１００体積％中に、上記略多面体状のフィラー（Ｄｄ３）と上記板状フィラーとの合計の含有量は６０〜９０体積％の範囲内であることが好ましい。また、絶縁シート中に上記フィラー（Ｄｄ３）と上記板状フィラーとの含有量は体積比で７０：３０〜９９：１であり、かつ絶縁シート１００体積％中に上記フィラー（Ｄｄ３）と上記板状フィラーとの合計の含有量は６０〜９０体積％の範囲内であることがより好ましい。上記フィラー（Ｄｄ３）及び上記板状フィラーの含有量がそれぞれ上記好ましい範囲内にある場合には、絶縁硬化シートの加工性及び熱伝導性をより一層高くすることができる。
【０１２９】
（樹脂粒子（Ｅ））
本発明に係る絶縁シートは、樹脂粒子（Ｅ）を含むことが好ましい。絶縁シートが樹脂粒子（Ｅ）を含むことにより、絶縁硬化シートの耐熱信頼性をより一層高くすることができる。また、上記樹脂粒子（Ｅ）を用いた場合、プリント配線板の製造工程における薬液処理、洗浄の繰り返しの際に、樹脂粒子部分が脱落し、表面にさらに一層微細な凹凸が形成され、絶縁硬化シートと導体層との密着が高められることがある。
【０１３０】
上記樹脂粒子（Ｅ）は特に限定されない。樹脂粒子（Ｅ）としては、例えば、アクリルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレンイソプレンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム又は天然ゴム等が挙げられる。なかでも、樹脂粒子（Ｅ）は、アクリルゴム粒子又はシリコーンゴム粒子であることが好ましく、シリコーンゴム粒子であることがより好ましい。これらの好ましい樹脂粒子（Ｅ）の使用により、絶縁硬化シートの表面に凹凸をより一層微細にすることができ、また絶縁硬化シートの応力緩和性を高めることができ、絶縁硬化シートの柔軟性を高めることができ、かつ絶縁硬化シートの耐熱性の低下を抑制できる。また、樹脂粒子（Ｅ）の性状は特に限定されない。
【０１３１】
上記樹脂粒子（Ｅ）と上記フィラー（Ｄ）との併用により、絶縁硬化シートの線熱膨張率を低くすることができるとともに、絶縁硬化シートの応力緩和性を発現させることができる。さらに、高温条件又は冷熱サイクル条件において、絶縁硬化シートの剥離又はクラック等がより一層生じ難くなる。
【０１３２】
絶縁シート１００重量％中に、樹脂粒子（Ｅ）は０．１〜４０重量％の範囲内で含まれていることが好ましい。絶縁シート１００重量％中の樹脂粒子（Ｅ）の含有量のより好ましい下限は０．３重量％であり、より好ましい上限は２０重量％である。樹脂粒子（Ｅ）の含有量が少なすぎると、絶縁硬化シートの応力緩和性が十分に発現しないことがある。樹脂粒子（Ｅ）の含有量が多すぎると、絶縁硬化シートの接着性が低くなることがある。
【０１３３】
（他の成分）
本発明に係る絶縁シートは、分散剤（Ｆ）を含んでいてもよい。分散剤（Ｆ）の使用により、絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。上記分散剤（Ｆ）の上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基としては、例えば、カルボキシル基（ｐＫａ＝４）、リン酸基（ｐＫａ＝７）、又はフェノール基（ｐＫａ＝１０）等が挙げられる。
【０１３４】
上記分散剤（Ｆ）の上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基のｐＫａは、２〜１０の範囲内にあることが好ましく、３〜９の範囲内にあることがより好ましい。上記官能基のｐＫａが２未満であると、分散剤（Ｆ）の酸性度が高くなりすぎて、原料樹脂成分中のエポキシ成分及びオキセタン成分の反応が促進されやすくなることがある。従って、未硬化状態の絶縁シートが貯蔵された場合に、絶縁シートの貯蔵安定性が低下することがある。上記官能基のｐＫａが１０を超えると、分散剤としての機能が充分に果たされず、絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性が充分に高められないことがある。
【０１３５】
上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基は、カルボキシル基又はリン酸基であることが好ましい。この場合には、絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性をさらに一層高めることができる。
【０１３６】
上記分散剤（Ｆ）としては、具体的には、例えば、ポリエステル系カルボン酸、ポリエーテル系カルボン酸、ポリアクリル系カルボン酸、脂肪族系カルボン酸、ポリシロキサン系カルボン酸、ポリエステル系リン酸、ポリエーテル系リン酸、ポリアクリル系リン酸、脂肪族系リン酸、ポリシロキサン系リン酸、ポリエステル系フェノール、ポリエーテル系フェノール、ポリアクリル系フェノール、脂肪族系フェノール又はポリシロキサン系フェノール等が挙げられる。分散剤（Ｆ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１３７】
絶縁シート１００重量％中に、分散剤（Ｆ）は０．０１〜２０重量％の範囲内で含まれていることが好ましい。絶縁シート１００重量％中の分散剤（Ｆ）の含有量のより好ましい下限は０．１重量％であり、より好ましい上限は１０重量％である。分散剤（Ｆ）の含有量が上記範囲内にある場合には、上記フィラー（Ｄ）の凝集を抑制でき、かつ絶縁硬化シートの熱伝導性及び絶縁破壊特性を充分に高めることができる。
【０１３８】
上記絶縁シートは、基材物質を含まないことが好ましく、特にガラスクロスを含まないことが好ましい。絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、絶縁シートの厚みを薄くすることができ、かつ絶縁シートの熱伝導性をより一層高めることができる。さらに、絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、必要に応じて絶縁硬化シートにレーザー加工又はドリル穴開け加工等の各種加工を容易に行うこともできる。なお、自立性とは、ＰＥＴフィルム又は銅箔などの支持体が存在しなくても、未硬化状態であっても、シートの形状を保持し、シートとして取扱うことができることをいう。
【０１３９】
また、本発明の絶縁シートは、必要に応じて、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば硫酸バリウム、タルク、マイカ、クレー、カオリン、珪藻土又は炭酸カルシウムなどのチキソ性付与剤、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、リン系難燃剤などの難燃剤、シリコーン系、フッ素系又は高分子系の消泡剤、シリコーン系、フッ素系又は高分子系のレベリング剤、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、酸化チタン及びカーボンブラックなどの着色剤等が挙げられる。
【０１４０】
（絶縁シート）
本発明に係る絶縁シートの製造方法は特に限定されない。絶縁シートは、例えば、上述した材料を混合した混合物を溶剤キャスト法又は押し出し成膜法等の方法でシート状に成形することにより得ることができる。シート状に成形する際に、脱泡することが好ましい。
【０１４１】
絶縁シートの厚みは特に限定されない。絶縁シートの厚みは、１０〜３００μｍの範囲内にあることが好ましい。絶縁シートの厚みのより好ましい下限は２０μｍであり、さらに好ましい下限は３０μｍであり、より好ましい上限は２００μｍであり、さらに好ましい上限は１２０μｍである。厚みが薄すぎると、絶縁硬化シートの絶縁性が低下することがある。厚みが厚すぎると、絶縁硬化シートの放熱性が低下することがある。
【０１４２】
未硬化状態の絶縁シートのガラス転移温度Ｔｇは、２５℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が２５℃を超えると、室温において固く、かつ脆くなることがある。このため、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。
【０１４３】
上記絶縁シートの硬化を進行させることにより、絶縁硬化シートを得ることができる。
【０１４４】
上記絶縁シートの硬化を進行させる際には、絶縁シートを硬化又は半硬化させる。絶縁硬化シートには、硬化が完了した硬化物だけでなく、半硬化状態の半硬化物も含まれる。
【０１４５】
上記絶縁シートの硬化を進行させる際の加熱温度は特に限定されない。加熱温度の好ましい下限は１３０℃であり、より好ましい下限は１５０℃であり、好ましい上限は２４０℃である。加熱温度が低すぎると、絶縁シートが充分に硬化されないため、絶縁硬化シートの耐熱性又は耐薬品性が劣ることがある。加熱温度が高すぎると、硬化時に樹脂の劣化が発生することがある。
【０１４６】
本発明に係る絶縁シートの算術平均粗さＲａは０．１μｍ以上、３μｍ以下である。このため、絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートの表面に導体層が形成されたときに、絶縁硬化シートと導体層との接着強度を充分に高くすることができる。算術平均粗さＲａの好ましい下限は０．２μｍである。算術平均粗さＲａの好ましい上限は２μｍであり、より好ましい上限は１μｍである。算術平均粗さＲａが大きすぎると、絶縁層の絶縁性が低くなることがあったり、微細な配線を形成した際に導体損失が大きくなったりすることがある。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に準拠した測定法により求めることができる。
【０１４７】
絶縁硬化シートの熱伝導率は、０．５Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることが好ましい。絶縁硬化シートの熱伝導率は、１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることがより好ましく、３．０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることがさらに好ましい。熱伝導率が低すぎると、絶縁硬化シートの放熱性が低くなることがある。
【０１４８】
絶縁硬化シートの絶縁破壊電圧は、３０ｋＶ／ｍｍ以上であることが好ましい。絶縁硬化シートの絶縁破壊電圧は、４０ｋＶ／ｍｍ以上であることがより好ましく、５０ｋＶ／ｍｍ以上であることがさらに好ましく、８０ｋＶ／ｍｍ以上であることがさらに好ましく、１００ｋＶ／ｍｍ以上であることが最も好ましい。絶縁破壊電圧が低すぎると、絶縁硬化シートが例えば電力素子用のような大電流用途に用いられた場合に、絶縁性が低くなることがある。
【０１４９】
未硬化状態の絶縁シートの反応率は１０％以下であることが好ましい。未硬化状態の絶縁シートの反応率が１０％を超えると、未硬化状態の絶縁シートが固くかつ脆くなり、未硬化状態の絶縁シートの室温でのハンドリング性が低下したり、絶縁硬化シートの接着性が低下したりすることがある。絶縁シートの反応率は、示差走査型熱量測定装置を用いて、絶縁シートを１２０℃１時間、次に２００℃１時間の２段階で硬化させた時に発生する熱量から計算することにより求められる。
【０１５０】
未硬化状態の絶縁シートの２５℃での曲げ弾性率は、１０〜１，０００ＭＰａの範囲内にあることが好ましく、２０〜５００ＭＰａの範囲内にあることがより好ましい。未硬化状態の絶縁シートの２５℃での曲げ弾性率が１０ＭＰａ未満であると、未硬化状態の絶縁シートの室温での自立性が著しく低下し、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。未硬化状態の絶縁シートの２５℃での曲げ弾性率が１，０００ＭＰａを超えると、加熱接着時に弾性率が充分に低くならないため、絶縁硬化シートが接着対象物に充分に密着しないことがあり、かつ絶縁硬化シートと接着対象物との接着性が低下することがある。
【０１５１】
絶縁シートが硬化されたときに、絶縁硬化シートの２５℃での曲げ弾性率は、１，０００〜５０，０００ＭＰａの範囲内にあることが好ましく、５，０００〜３０，０００ＭＰａの範囲内にあることがより好ましい。絶縁硬化シートの２５℃での曲げ弾性率が低すぎると、例えば、絶縁シートを用いて、厚みの薄い積層基板又は両面に銅回路が設けられた積層板等の積層体を作製した場合に、積層体がたわみやすくなる。このため、折れや曲げ等により積層体が破損しやすくなる。絶縁硬化シートの２５℃での曲げ弾性率が高すぎると、絶縁硬化シートが固くかつ脆くなりすぎて、絶縁硬化シートにクラック等が生じやすくなることがある。
【０１５２】
上記曲げ弾性率は、例えば、万能試験機ＲＴＣ−１３１０Ａ（オリエンテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１１１に準拠し、長さ８ｃｍ、幅１ｃｍ及び厚み４ｍｍの試験片を用いて、支点間距離６ｃｍ及び速度１．５ｍｍ／分の各条件で測定できる。また、絶縁硬化シートの曲げ弾性率を測定する際に、絶縁硬化シートは、１２０℃で１時間、次に２００℃で１時間の２段階の温度により硬化させることにより得られる。
【０１５３】
本発明に係る絶縁シートは、回転型動的粘弾性測定装置を用いて測定された２５℃での未硬化状態の絶縁シートのｔａｎδが０．１〜１．０の範囲内にあり、かつ未硬化状態の絶縁シートを２５℃から２５０℃まで昇温させた場合の絶縁シートのｔａｎδの最大値が１．０〜５．０の範囲内にあることが好ましい。上記絶縁シートのｔａｎδは、０．１〜０．５の範囲内にあることがより好ましい。上記絶縁シートのｔａｎδの最大値は、１．５〜４．０の範囲内にあることがより好ましい。
【０１５４】
上記２５℃での未硬化状態の絶縁シートのｔａｎδが０．１未満であると、未硬化状態の絶縁シートの柔軟性が低くなり、未硬化状態の絶縁シートが破損しやすくなる。上記２５℃での未硬化状態の絶縁シートのｔａｎδが１．０以上であると、未硬化状態の絶縁シートが柔らかすぎるため、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。上記未硬化状態の絶縁シートを２５℃から２５０℃まで昇温させた場合の絶縁シートのｔａｎδの最大値が１．０未満であると、加熱接着時に絶縁シートが接着対象物に充分に密着しないことがある。上記絶縁シートのｔａｎδの最大値が５．０を超えると、絶縁シートの流動性が高すぎて、加熱接着時に絶縁シートの厚みが薄くなり、所望の絶縁破壊特性が得られないことがある。上記２５℃での未硬化状態の絶縁シートのｔａｎδは、回転型動的粘弾性測定装置ＶＡＲ−１００（レオロジカ・インスツルメンツ社製）を用いて、直径２ｃｍの円板状の未硬化状態の絶縁シートを用いて、直径２ｃｍのパラレル型プレートにより、２５℃にて、オシレーション歪み制御モード、開始応力１０Ｐａ、周波数１Ｈｚ及び歪み１％の各条件で測定できる。また、未硬化状態の絶縁シートを２５℃から２５０℃まで昇温させた場合の絶縁シートのｔａｎδの最大値は、上記未硬化状態の絶縁シートを、上記測定条件に加え、昇温速度３０℃／分で、２５℃から２５０℃まで昇温させることにより測定できる。上記曲げ弾性率及びｔａｎδが上記特定の範囲内にある場合には、製造時及び使用時に、未硬化状態の絶縁シートのハンドリング性が顕著に高くなる。さらに、絶縁シートと銅箔など接着強度が顕著に高くなる。また、内層回路などの凹凸に対する追従性を高めることができる。このため、接着界面に空隙が形成され難くなり、従って放熱性がより高くなる。
【０１５５】
（積層板及び多層積層板）
本発明に係る絶縁シートは、積層板及び多層積層板の絶縁層を形成するために好適に用いられる。
【０１５６】
図１に、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた積層板を示す。
【０１５７】
図１に示す積層板１は基板２を備える。基板２の上面２ａの一部の領域には、導体層３が設けられている。基板２の上面２ａに、導体層３を覆うように絶縁層４が積層されている。絶縁層４の上面４ａの一部の領域に、導体層５が設けられている。従って、積層板１は、絶縁層４と、絶縁層４の両面に積層された導体層３，５とを備える。導体層３及び導体層５は、図示しないビアホール接続により接続されている。
【０１５８】
積層板１では、絶縁層４が、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。従って、導体層３，５により熱が発生しても、絶縁層４により熱を効率的に放散させることができる。
【０１５９】
図２に示す多層積層板１１では、基板１２の上面１２ａに、複数の絶縁層１３〜１５が積層されている。基板１２の上面１２ａの一部の領域には、導体層１６が設けられている。最上層の絶縁層１５以外の絶縁層１３，１４の上面１３ａ，１４ａの一部の領域にそれぞれ、導体層１７，１８が設けられている。従って、多層積層板１１は、積層された複数の絶縁層１３〜１５と、絶縁層１３，１４間に配置された導電層１７と、絶縁層１４，１５間に配置された導電層１８とを備える。導体層１６〜１８は、図示しないビアホール接続により接続されている。
【０１６０】
多層積層板１１では、絶縁層１３〜１５が、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。従って、導体層１６〜１８により熱が発生しても、絶縁層１３〜１５により熱を効率的に放散させることができる。
【０１６１】
また、絶縁層４及び絶縁層１３〜１５が、上記絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されているので、絶縁層４と導体層３，５との接着強度及び絶縁層１３〜１５と導体層１６〜１８との接着強度を高くすることができる。従って、絶縁層４と導体層３，５との界面、及び絶縁層１３〜１５と導体層１６〜１８との界面での電気信号の損失を小さくすることができる。
【０１６２】
本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより絶縁層が形成されている場合には、絶縁層を粗化処理しなくても、絶縁層と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。ただし、絶縁層は粗化処理されていてもよい。粗化処理により絶縁層の表面により一層微細な孔を形成できる。従って、絶縁層の表面に微細な配線を形成でき、かつ該配線における信号伝送速度を速くすることができる。
【０１６３】
また、上記導体層は配線回路であることが好ましい。配線回路の場合には、絶縁層と導体層との接着強度を高めることができるので、回路の信頼性を高めることができる。
【０１６４】
上記導体層を形成する材料として、金属箔もしくは金属めっき、又は回路保護用に用いるめっき材料を使用できる。上記導体層はめっきにより形成されていることが好ましい。上記導体層はめっき層であることが好ましい。導体層がめっきにより形成されためっき層である場合には、絶縁層と導体層との接着強度を充分に高くすることができる。
【０１６５】
上記めっき材料としては、例えば、金、銀、銅、ロジウム、パラジウム、ニッケル又は錫などが挙げられる。これらの２種類以上の合金を用いてもよい。なかでも、導体層は、銅層であることが好ましく、銅めっき層であることがより好ましい。
【０１６６】
上記導体層を形成する前に、絶縁層の表面に微細な凹凸を形成するために、絶縁層の表面を粗化液により粗化処理してもよい。絶縁層の少なくとも一部の表面が粗化液により粗化されており、粗化された表面に導体層がめっきにより形成されていることが好ましい。
【０１６７】
粗化処理される前に、膨潤処理されることが好ましい。ただし、上記膨潤処理は必ずしも行われなくてもよい。
【０１６８】
上記膨潤処理方法として、例えば、エチレングリコールなどを主成分とする化合物の水溶液又は有機溶媒分散溶液などにより、上記絶縁層の表面を処理する方法が用いられる。上記膨潤処理には、４０重量％エチレングリコール水溶液が好適に用いられる。
【０１６９】
上記粗化処理には、例えば、マンガン化合物、クロム化合物又は過硫酸化合物などの化学酸化剤等の粗化液が用いられる。これらの化学酸化剤は、例えば、水又は有機溶剤が添加された後、水溶液又は有機溶媒分散溶液として用いられる。
【０１７０】
上記マンガン化合物としては、過マンガン酸カリウム又は過マンガン酸ナトリウム等が挙げられる。上記クロム化合物としては、重クロム酸カリウム又は無水クロム酸カリウム等が挙げられる。上記過硫酸化合物としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウム等が挙げられる。
【０１７１】
上記粗化処理方法は特に限定されない。上記粗化処理には、例えば、３０〜９０ｇ／Ｌ過マンガン酸もしくは過マンガン酸塩溶液、又は３０〜９０ｇ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液が好適に用いられる。
【０１７２】
（積層構造体）
本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導体を導電層に接着するのにも用いられる。
【０１７３】
図３に、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた積層構造体を示す。
【０１７４】
図３に示す積層構造体２１は、熱伝導体２２と、熱伝導体２２の一方の面２２ａに積層された絶縁層２３と、絶縁層２３の熱伝導体２２が積層された面とは反対側の面に積層された導電層２４とを備える。絶縁層２３は、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている。熱伝導体２２の熱伝導率は１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上である。
【０１７５】
熱伝導体２２の少なくとも一方の面２２ａに、絶縁層２３と導電層２４とがこの順に積層されていればよく、熱伝導体２２の他方の面２２ｂにも、絶縁層と導電層とがこの順に積層されていてもよい。
【０１７６】
積層構造体２１では、絶縁層２３が高い熱伝導率を有するので、導電層２４側からの熱が絶縁層２３を介して熱伝導体２２に伝わりやすい。積層構造体２１では、熱伝導体２２によって熱を効率的に放散させることができる。
【０１７７】
上記熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導体は特に限定されない。上記熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導体として、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム又はグラファイトシート等が挙げられる。中でも、上記熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導体は、銅又はアルミニウムであることが好ましい。銅又はアルミニウムは、放熱性に優れている。
【０１７８】
以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。
【０１７９】
以下の材料を用意した。
【０１８０】
［ポリマー（Ａ）］
（１）ビスフェノールＡ型フェノキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：Ｅ１２５６、Ｍｗ＝５１，０００、Ｔｇ＝９８℃）
（２）高耐熱フェノキシ樹脂（東都化成社製、商品名：ＦＸ−２９３、Ｍｗ＝４３，７００、Ｔｇ＝１６３℃）
（３）エポキシ基含有スチレン樹脂（日本油脂社製、商品名：マープルーフＧ−１０１０Ｓ、Ｍｗ＝１００，０００、Ｔｇ＝９３℃）
【０１８１】
［エポキシ樹脂（Ｂ１）］
（１）ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：エピコート８２８ＵＳ、Ｍｗ＝３７０）
（２）ビスフェノールＦ型液状エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：エピコート８０６Ｌ、Ｍｗ＝３７０）
（３）３官能グリシジルジアミン型液状エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：エピコート６３０、Ｍｗ＝３００）
（４）フルオレン骨格エポキシ樹脂（大阪ガスケミカル社製、商品名：オンコートＥＸ１０１１、Ｍｗ＝４８６）
（５）ナフタレン骨格液状エポキシ樹脂（大日本インキ化学社製、商品名：ＥＰＩＣＬＯＮ ＨＰ−４０３２Ｄ、Ｍｗ＝３０４）
（６）ビスフェノールＡ型固体状エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：１００３、Ｍｗ＝１，３００）
（７）エポキシ基含有アクリル樹脂（日本油脂社製、商品名：マープルーフＧ−０１３Ｓ、Ｍｗ＝９，０００、Ｔｇ＝６９℃）
【０１８２】
［オキセタン樹脂（Ｂ２）］
（１）ベンゼン骨格含有オキセタン樹脂（宇部興産社製、商品名：エタナコールＯＸＴＰ、Ｍｗ＝３６２．４）
【０１８３】
［硬化剤（Ｃ）］
（１）脂環式骨格酸無水物（新日本理化社製、商品名：ＭＨ−７００）
（２）芳香族骨格酸無水物（サートマー・ジャパン社製、商品名：ＳＭＡレジンＥＦ６０）
（３）多脂環式骨格酸無水物（新日本理化社製、商品名：ＨＮＡ−１００）
（４）テルペン系骨格酸無水物（上記式（１）で表される酸無水物）
（５）ビフェニル骨格フェノール樹脂（明和化成社製、商品名：ＭＥＨ−７８５１−Ｓ）
（６）アリル基含有骨格フェノール樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名：ＹＬＨ−９０３）
（７）トリアジン骨格系フェノール樹脂（大日本インキ化学社製、商品名：フェノライトＫＡ−７０５２−Ｌ２）
（８）メラミン骨格系フェノール樹脂（群栄化学工業社製、商品名：ＰＳ−６４９２）
（９）イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール（イミダゾール系硬化促進剤、四国化成社製、商品名：２ＭＺＡ−ＰＷ）
【０１８４】
［フィラー（Ｄ）］
（１）破砕アルミナ１（日本軽金属社製、商品名：ＬＳ−２４２Ｃ、平均粒子径２μｍ）
（２）破砕アルミナ２（日本軽金属社製、商品名：ＬＳ−２５０、平均粒子径０．６μｍ）
（３）板状窒化ホウ素（昭和電工社製、商品名：ＵＨＰ−Ｓ１、平均長径１μｍ）
（４）窒化アルミ（東洋アルミ社製、商品名：ＴＯＹＡＬＮＩＴＥ―Ｓｕｐｅｒ ＪＡ、平均粒子径０．８μｍ）
（５）結晶性シリカ（龍森社製、商品名：クリスタライトＣＭＣ−１２、平均粒子径５μｍ）
（６）合成マグネサイト（神島化学社製、商品名：ＭＳＳ、平均粒子径１μｍ）
（７）板状アルミナ（キンセイマテック社製、商品名：セラフ０２０２５、平均長径２μｍ、アスペクト比２０〜３０）
【０１８５】
［フィラー（Ｄ）以外のフィラー］
（１）球状アルミナ（電気化学工業社製、商品名：ＤＡＭ−４５、平均粒子径４５μｍ）
【０１８６】
［樹脂粒子（Ｅ）］
（１）０．１μｍ粒子（コアシェル型シリコーン−アクリル粒子、旭化成ワッカーシリコーン社製、商品名：Ｐ２２、平均粒子径０．１μｍ、コアシェル構造を有する、ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物を含むコア層と有機物を含む）
【０１８７】
［分散剤（Ｆ）］
（１）アクリル系分散剤（ビックケミージャパン社製、商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−２０７０、ｐＫａが４のカルボキシル基を有する）
（２）ポリエーテル系分散剤（楠本化成社製、商品名：ＥＤ１５１、ｐＫａが７のリン酸基を有する）
【０１８８】
［添加剤］
（１）エポキシシランカップリング剤（信越化学工業社製、商品名：ＫＢＥ４０３）
（２）マイカ（山口雲母工業所社製、商品名：ＳＪ００５、平均粒子径５μｍ）
（３）タルク（日本タルク社製、商品名：Ｋ−１、平均粒子径８μｍ）
（４）水酸化アルミニウム（日本軽金属社製、商品名：Ｂ−１０３、平均粒子径８μｍ）
（５）水酸化マグネシウム（タテホ化学工業社製、商品名：ＰＺ−１、平均粒子径１．２μｍ、）
【０１８９】
［溶剤］
（１）メチルエチルケトン
【０１９０】
（実施例１〜３４及び比較例１〜４）
ホモディスパー型攪拌機を用いて、下記の表１〜５に示す割合（配合単位は重量部）で各原料を配合し、混練し、絶縁材料を調製した。
【０１９１】
厚み５０μｍの離型ＰＥＴシートに、上記絶縁材料を５０μｍの厚みになるように塗工し、９０℃のオーブン内で３０分乾燥して、ＰＥＴシート上に絶縁シートを作製した。
【０１９２】
（評価）
（１）ハンドリング性
ＰＥＴシートと、該ＰＥＴシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを４６０ｍｍ×６１０ｍｍの平面形状に切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを用いて、室温（２３℃）でＰＥＴシートから未硬化状態の絶縁シートを剥離したときのハンドリング性を下記の基準で判定した。
【０１９３】
［ハンドリング性の判定基準］
〇：絶縁シートの変形がなく、容易に剥離可能
△：絶縁シートを剥離できるものの、シート伸びや破断が発生する
×：絶縁シートを剥離できない
（２）ガラス転移温度
示差走査熱量測定装置「ＤＳＣ２２０Ｃ」（セイコーインスツルメンツ社製）を用いて、３℃／分の昇温速度で未硬化状態の絶縁シートのガラス転移温度を測定した。
【０１９４】
（３）算術平均粗さＲａ
東京精密社製の型式ＳＵＲＦＣＯＭ １４００Ｄを用い、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１に準拠して、絶縁シートの算術平均粗さＲａを測定した。測定条件は下記のようにした。
【０１９５】
カットオフ値：０．８ｍｍ
評価長さ：４ｍｍ
測定速度：０．３ｍｍ／ｓ
触針先端半径：Ｒ ２μｍ
【０１９６】
（４）熱伝導率
絶縁シートを１２０℃のオーブン内で１時間、その後２００℃のオーブン内で１時間加温処理し、絶縁シートを硬化させた。絶縁硬化シートの熱伝導率を、京都電子工業社製熱伝導率計「迅速熱伝導率計ＱＴＭ−５００」を用いて測定した。
【０１９７】
（５）絶縁破壊電圧
絶縁シートを１００ｍｍ×１００ｍｍの平面形状に切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを１２０℃のオーブン内で１時間、更に２００℃のオーブン内で１時間硬化させ、絶縁硬化シートを得た。耐電圧試験器（ＭＯＤＥＬ７４７３、ＥＸＴＥＣＨ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製）を用いて、絶縁硬化シート間に、１ｋＶ／秒の速度で電圧が上昇するように、交流電圧を印加した。絶縁硬化シートが破壊した電圧を、絶縁破壊電圧とした。
【０１９８】
（６）半田耐熱試験
厚み３５μｍの銅箔が両面に積層されたガラスエポキシ両面銅張積層板を用いて、内層回路基板を作製した。真空ラミネーターにより、温度１００℃、９．８Ｎ／ｃｍ２及び気圧５ｍｍＨｇ以下の条件で、ＰＥＴシートと該ＰＥＴシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを絶縁シート側から、内層回路基板の両面にラミネートした。次に、離型ＰＥＴシートを剥離した。２００℃で６０分加熱し、絶縁シートを硬化させ、絶縁層を形成した。その後、レーザーによりビアホール用の穴をあけた。過マンガン酸塩のアルカリ性酸化剤（アトテックジャパン社製薬液）で絶縁層の表面を粗化処理した後、無電解及び電解めっきし、サブトラクティブ法に従って４層プリント配線板を得た。さらに、２００℃で３０分加熱しアニール処理を行った。アニール処理されたプリント配線板を３００℃の半田浴に銅箔側を下に向けて浮かべて、銅箔の膨れ又は剥がれが発生するまでの時間を測定し、以下の基準で判定した。
【０１９９】
［半田耐熱試験の判定基準］
◎：１０分経過しても膨れ及び剥が発生しない
〇：３分経過後、かつ１０分経過する前に膨れ又は剥離が発生
△：１分経過後、かつ３分経過する前に膨れ又は剥離が発生
×：１分経過する前に膨れ又は剥離が発生
【０２００】
（７）接着強度（引き剥がし強さ）
厚み３５μｍの銅箔が両面に積層されたガラスエポキシ両面銅張積層板を用いて、内層回路基板を作製した。真空ラミネーターにより、温度１００℃、９．８Ｎ／ｃｍ２及び気圧５ｍｍＨｇ以下の条件で、ＰＥＴシートと該ＰＥＴシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを絶縁シート側から、内層回路基板の両面にラミネートした。次に、離型ＰＥＴシートを剥離した。２００℃で６０分加熱し、絶縁シートを硬化させ、絶縁層を形成した。その後、過マンガン酸塩のアルカリ性酸化剤（アトテックジャパン社製薬液）で絶縁層の表面を粗化処理した後、無電解及び電解めっきにより幅１０ｍｍの導体層の帯を形成した。次に、２００℃で３０分加熱しアニール処理を行い、絶縁層と導体層との積層体を得た。得られた積層体の導体層のピール強度を、硬化物に対して９０℃の角度及び５０ｍｍ／分の引っ張り速度で、測定した。
【０２０１】
（８）加工性
絶縁シートを厚み１．５ｍｍのアルミ板と厚み３５μｍの電解銅箔との間に挟み、真空プレス機で４ＭＰａの圧力を保持しながら１２０℃で１時間、更に２００℃で１時間、絶縁シートをプレス硬化し、銅張り積層板を形成した。得られた銅張り積層板を直径２．０ｍｍのドリル（ユニオンツール社製、ＲＡ ｓｅｒｉｅｓ）を用いて、回転数３００００及びテーブル送り速度０．５ｍ／分の条件でルーター加工した。ばりが発生するまでの加工距離を測定し、加工性を以下の基準で評価した。
【０２０２】
［加工性の判定基準］
○：ばりが発生することなく５ｍ以上加工可能
△：ばりが発生することなく１ｍ以上、５ｍ未満加工可能
×：１ｍ未満の加工によりばりが発生
【０２０３】
（９）積層プレス時のはみ出し量
ＰＥＴシートと、該ＰＥＴシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを１３ｃｍ×５ｃｍの平面形状に切り出した後、絶縁シートをＰＥＴシートから剥離した。また、１３ｃｍ×５ｃｍの平面形状のアルミニウム板（エンジニアリングテストサービス社製、ＪＩＳ Ｈ４０００ Ａ５０５２Ｐ、最大高さ粗さＲｚ＝１．１）と、１３ｃｍ×５ｃｍの平面形状の銅箔（福田金属箔粉工業社製、電解銅箔、ＣＴ−Ｔ８）とを用意した。
【０２０４】
アルミニウム板の粗面と銅箔の粗面との間に絶縁シートを挟んで積層体を得た後、温度１２０℃及び圧力４ＭＰａで１０分間加熱プレスした。プレス後に積層体の側面からはみ出た絶縁シートの重量を測定し、下記の式により絶縁シートのはみ出し量を求めた。はみ出し量を、下記の基準で判定した。
【０２０５】
はみ出し量＝（プレス後に積層体の側面からはみ出た絶縁シートの重量）／（プレス前の絶縁シートの重量）×１００
【０２０６】
［積層プレス時のはみ出し量の判定基準］
○：絶縁シートのはみ出し量が７％未満
△：絶縁シートのはみ出し量が７％を超え、１０％未満
×：絶縁シートのはみ出し量が１０％以上
【０２０７】
（１０）自立性
上記（１）ハンドリング性の評価において、ＰＥＴシートから剥離された後の未硬化状態の絶縁シートを用意した。この未硬化状態の絶縁シートの四角を固定して、該四角が水平方向と平行な方向に位置するように絶縁シートを宙吊りにし、２３℃で１０分間放置した。放置後の絶縁シートの変形を観察し、自立性を下記の基準で判定した。
【０２０８】
［自立性の判定基準］
○：絶縁シートが下方に向かってたわんでおり、絶縁シートの鉛直方向におけるたわみ距離（変形度合い）が５ｃｍ以内
△：絶縁シートが下方に向かってたわんでおり、絶縁シートの鉛直方向におけるたわみ距離（変形度合い）が５ｃｍを超える
×：絶縁シートが破れた
【０２０９】
（１１）放熱性
厚み１ｍｍのアルミ板と厚み３５μｍの電解銅箔との間に絶縁シートを挟み、真空プレス機で４ＭＰａの圧力を保持しながら１２０℃で１時間、更に２００℃で１時間絶縁シートをプレス硬化し、銅張り積層板を形成した。得られた銅張り積層板の銅箔面を、同じサイズの６０℃に制御された表面平滑な発熱体に１９６Ｎ／ｃｍ２の圧力で押し付けた。アルミ板の表面の温度を熱伝対により測定し、放熱性を下記の基準で判定した。
【０２１０】
［放熱性の判定基準］
◎：発熱体とアルミ板の表面の温度差が３℃以下
○：発熱体とアルミ板の表面の温度差が３℃を超え、６℃以下
△：発熱体とアルミ板の表面の温度差が６℃を超え、１０℃以下
×：発熱体をアルミ板の表面の温度差が１０℃を超える
【０２１１】
（１２）曲げ弾性率
万能試験機ＲＴＣ−１３１０Ａ（オリエンテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１１１に準拠し、長さ８ｃｍ、幅１ｃｍ及び厚み４ｍｍの試験片を、支点間距離６ｃｍ及び速度１．５ｍｍ／分の各条件で測定することにより、未硬化状態の絶縁シートの２５℃での曲げ弾性率を測定した。
【０２１２】
また、絶縁シートを１２０℃で１時間、その後２００℃で１時間硬化させ、絶縁硬化シートを得た。未硬化状態の絶縁シートと同様に万能試験機（オリエンテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１１１に準拠し、長さ８ｃｍ、幅１ｃｍ及び厚み４ｍｍの試験片を、支点間距離６ｃｍ及び速度１．５ｍｍ／分の各条件で測定することにより、得られた絶縁硬化シートの２５℃での曲げ弾性率を測定した。
【０２１３】
（１３）弾性率
回転型動的粘弾性測定装置ＶＡＲ−１００（レオロジカ・インスツルメンツ社製）を用いて、直径２ｃｍの円板状の未硬化状態の絶縁シートサンプルを使用し、直径２ｃｍのパラレル型プレートにより、オシレーション歪み制御モード、開始応力１０Ｐａ、周波数１Ｈｚ及び歪み１％の各条件で、未硬化状態の絶縁シートの２５℃でのｔａｎδを測定した。また、未硬化状態の絶縁シートを２５℃から２５０℃まで昇温させた場合の絶縁シートのｔａｎδの最大値は、上記未硬化状態の絶縁シートサンプルを、上記測定条件に加え、昇温速度３０℃／分で、２５℃から２５０℃まで昇温させることにより測定した。
【０２１４】
（１４）反応率
セイコーインスツルメンツ社製の示差走査型熱量測定装置「ＤＳＣ２２０Ｃ」を用いて、測定開始温度３０℃及び昇温速度８℃／分で、得られた絶縁シートを１２０℃まで昇温し１時間保持した後、昇温速度８℃／分で２００℃までさらに昇温し１時間保持した。この２段階で絶縁シートを硬化させた時に発生する熱量（以下、熱量Ａと記載する）を測定した。
【０２１５】
次に、厚み５０μｍの離型ＰＥＴシートに、実施例及び比較例の絶縁シートの作製に際し用意した絶縁材料を厚み５０μｍとなるように塗工し、２３℃及び０．０１気圧の常温真空条件において１時間乾燥したこと以外は実施例及び比較例と同様にして得られた非加熱で乾燥された未硬化状態の絶縁シートを用意した。上記の熱量Ａの測定と同様にして、２段階で硬化させた時に発生する熱量（以下、熱量Ｂと記載する）を測定した。得られた熱量Ａ及び熱量Ｂから、下記の式により、未硬化状態の絶縁シートの反応率を求めた。
【０２１６】
反応率（％）＝［１−（熱量Ａ／熱量Ｂ）］×１００
結果を下記の表１〜５に示す。
【０２１７】
【表１】
【０２１８】
【表２】
【０２１９】
【表３】
【０２２０】
【表４】
【０２２１】
【表５】
【符号の説明】
【０２２２】
１…積層板
２…基板
２ａ…上面
３…導体層
４…絶縁層
４ａ…上面
５…導体層
１１…多層積層板
１２…基板
１２ａ…上面
１３〜１５…絶縁層
１３ａ，１４ａ…上面
１６〜１８…導体層
２１…積層構造体
２２…熱伝導体
２２ａ…一方の面
２２ｂ…他方の面
２３…絶縁層
２４…導電層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上、３μｍ以下であり、
重量平均分子量が１万以上であるポリマー（Ａ）と、重量平均分子量が１万未満であるエポキシ樹脂（Ｂ１）及び重量平均分子量が１万未満であるオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）と、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であるフィラー（Ｄ）とを含み、
絶縁シート１００体積％中の前記フィラー（Ｄ）の含有量が２０〜９０体積％の範囲内である、絶縁シート。
【請求項２】
前記フィラー（Ｄ）が、アルミナ、結晶性シリカ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも１種である、請求項１に記載の絶縁シート。
【請求項３】
前記フィラー（Ｄ）の形状が、破砕状、略多面体状又は板状である、請求項１又は２に記載の絶縁シート。
【請求項４】
前記硬化剤（Ｃ）がフェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項５】
前記硬化剤（Ｃ）が、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂である、請求項４に記載の絶縁シート。
【請求項６】
前記硬化剤（Ｃ）が、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物である、請求項４に記載の絶縁シート。
【請求項７】
前記硬化剤（Ｃ）が、下記式（１）〜（３）の内のいずれかで表される酸無水物である、請求項６に記載の絶縁シート。
【化１】
【化２】
【化３】
上記式（３）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素、炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基を示す。
【請求項８】
前記絶縁シートが樹脂粒子（Ｅ）をさらに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項９】
前記ポリマー（Ａ）が、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が３万以上であるポリマーである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項１０】
前記ポリマー（Ａ）がフェノキシ樹脂である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項１１】
前記フェノキシ樹脂のガラス転移温度が９５℃以上である、請求項１０に記載の絶縁シート。
【請求項１２】
前記樹脂（Ｂ）が、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の内の少なくとも一方のモノマーを含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項１３】
前記ポリマー（Ａ）と、前記樹脂（Ｂ）と、前記硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シート中の樹脂成分の合計１００重量％中、前記ポリマー（Ａ）の含有量が２０〜６０重量％、前記樹脂（Ｂ）の含有量が１０〜６０重量％、かつ前記ポリマー（Ａ）と前記樹脂（Ｂ）との合計の含有量が１００重量％未満である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項１４】
絶縁層と、該絶縁層の少なくとも一方の面に積層されている導体層とを備え、
前記絶縁層が、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている、積層板。
【請求項１５】
積層された複数の絶縁層と、前記複数の絶縁層の間に配置された導体層とを備え、
前記絶縁層が、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている、多層積層板。
【請求項１６】
前記導体層がめっきにより形成されている、請求項１５に記載の多層積層板。
【請求項１】
表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上、３μｍ以下であり、
重量平均分子量が１万以上であるポリマー（Ａ）と、重量平均分子量が１万未満であるエポキシ樹脂（Ｂ１）及び重量平均分子量が１万未満であるオキセタン樹脂（Ｂ２）の内の少なくとも一方の樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）と、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であるフィラー（Ｄ）とを含み、
絶縁シート１００体積％中の前記フィラー（Ｄ）の含有量が２０〜９０体積％の範囲内である、絶縁シート。
【請求項２】
前記フィラー（Ｄ）が、アルミナ、結晶性シリカ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも１種である、請求項１に記載の絶縁シート。
【請求項３】
前記フィラー（Ｄ）の形状が、破砕状、略多面体状又は板状である、請求項１又は２に記載の絶縁シート。
【請求項４】
前記硬化剤（Ｃ）がフェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項５】
前記硬化剤（Ｃ）が、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂である、請求項４に記載の絶縁シート。
【請求項６】
前記硬化剤（Ｃ）が、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物である、請求項４に記載の絶縁シート。
【請求項７】
前記硬化剤（Ｃ）が、下記式（１）〜（３）の内のいずれかで表される酸無水物である、請求項６に記載の絶縁シート。
【化１】
【化２】
【化３】
上記式（３）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素、炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基を示す。
【請求項８】
前記絶縁シートが樹脂粒子（Ｅ）をさらに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項９】
前記ポリマー（Ａ）が、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が３万以上であるポリマーである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項１０】
前記ポリマー（Ａ）がフェノキシ樹脂である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項１１】
前記フェノキシ樹脂のガラス転移温度が９５℃以上である、請求項１０に記載の絶縁シート。
【請求項１２】
前記樹脂（Ｂ）が、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるエポキシモノマー（Ｂ１ｂ）及び芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が６００以下であるオキセタンモノマー（Ｂ２ｂ）の内の少なくとも一方のモノマーを含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項１３】
前記ポリマー（Ａ）と、前記樹脂（Ｂ）と、前記硬化剤（Ｃ）とを含む絶縁シート中の樹脂成分の合計１００重量％中、前記ポリマー（Ａ）の含有量が２０〜６０重量％、前記樹脂（Ｂ）の含有量が１０〜６０重量％、かつ前記ポリマー（Ａ）と前記樹脂（Ｂ）との合計の含有量が１００重量％未満である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の絶縁シート。
【請求項１４】
絶縁層と、該絶縁層の少なくとも一方の面に積層されている導体層とを備え、
前記絶縁層が、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている、積層板。
【請求項１５】
積層された複数の絶縁層と、前記複数の絶縁層の間に配置された導体層とを備え、
前記絶縁層が、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の絶縁シートを硬化させた絶縁硬化シートにより形成されている、多層積層板。
【請求項１６】
前記導体層がめっきにより形成されている、請求項１５に記載の多層積層板。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１０−２１８９７５（Ｐ２０１０−２１８９７５Ａ）
【公開日】平成２２年９月３０日（２０１０．９．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−６６８１２（Ｐ２００９−６６８１２）
【出願日】平成２１年３月１８日（２００９．３．１８）
【出願人】（０００００２１７４）積水化学工業株式会社 (5,781)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月３０日（２０１０．９．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月１８日（２００９．３．１８）
【出願人】（０００００２１７４）積水化学工業株式会社 (5,781)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]