露光装置及び画像形成装置
【課題】第１の発光部の劣化により光量が低下しても露光量を維持することができる露光装置及び画像形成装置を得る。
【解決手段】露光ヘッド３４は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と並列に配置された長尺状の副露光光源用有機ＥＬ素子７２と、を備えている。主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量はセンサ６８で検出され、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量が低下しているときは副露光光源用有機ＥＬ素子７２を発光させることにより露光ヘッド３４の露光量が補正される。
【解決手段】露光ヘッド３４は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と並列に配置された長尺状の副露光光源用有機ＥＬ素子７２と、を備えている。主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量はセンサ６８で検出され、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量が低下しているときは副露光光源用有機ＥＬ素子７２を発光させることにより露光ヘッド３４の露光量が補正される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１には、感光体の周面に沿って透明なフレキシブル基板を湾曲させて配設し、フレキシブル基板上に形成された複数の有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）発光部の光を感光体上の露光位置に集光させて露光する構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−０４７０１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、第１の発光部の劣化により光量が低下しても露光量を維持することができる露光装置及び画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に記載の発明に係る露光装置は、潜像を保持する潜像保持体に向かって露光し、前記潜像保持体に形成された潜像が現像装置で現像される際に用いられる露光装置であって、前記潜像保持体の主走査方向に沿って配置された有機電界発光素子で構成され、前記潜像保持体に露光する第１の発光部と、前記主走査方向に沿って設けられ、前記第１の発光部とで前記潜像保持体に露光する露光量を補正する第２の発光部と、を有するものである。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の露光装置において、前記第２の発光部は、有機電界発光素子で構成されているものである。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の露光装置において、前記第１の発光部は、前記主走査方向に沿って複数配置されており、前記第２の発光部は、少なくとも１つ設けられ、各第２の発光部が複数の前記第１の発光部とで前記潜像保持体に露光する露光量を補正するものである。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の露光装置において、前記第２の発光部は、複数の前記第１の発光部と並列に前記主走査方向に沿って配置された長尺状の１又は２以上の素子であるものである。
【０００９】
請求項５に記載の発明は、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の露光装置において、前記第１の発光部の光量を検出する検出手段を備え、前記検出手段で検出された光量が低下した場合に不足分を補うように前記第２の発光部を発光させるものである。
【００１０】
請求項６に記載の発明は、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の露光装置において、前記第２の発光部は、前記潜像保持体の電位が前記現像装置で現像されない電位の範囲内の光量で調整されており、前記第１の発光部の発光の際に前記第２の発光部が発光されるものである。
【００１１】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の露光装置において、前記第２の発光部の光量が一定で、前記潜像保持体を露光する光量が前記第１の発光部で調整されるものである。
【００１２】
請求項８に記載の発明に係る画像形成装置は、潜像を保持する潜像保持体と、前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の露光装置と、前記潜像保持体に形成された潜像を現像剤により現像する現像装置と、を有するものである。
【００１３】
請求項９に記載の発明に係る画像形成ユニットは、潜像を保持する潜像保持体と、前記潜像保持体を帯電させる帯電装置と、前記潜像保持体に形成された潜像を現像剤により現像する現像装置と、から選択される１つと、前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の露光装置と、を有し、画像形成装置に対し着脱可能であるものである。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に記載の発明によれば、第１の発光部の劣化により光量が低下しても、第２の発光部の発光により露光量を維持することができる。
【００１５】
請求項２に記載の発明によれば、第１の発光部と第２の発光部とを１つの基板で一体的に形成することができる。
【００１６】
請求項３に記載の発明によれば、１つの第２の発光部が複数の第１の発光部とで露光量を補正することができる。
【００１７】
請求項４に記載の発明によれば、複数の第１の発光部と第２の発光部とを一体的に形成し、１つの第２の発光部が複数の第１の発光部とで露光量を補正することができる。
【００１８】
請求項５に記載の発明によれば、第１の発光部の光量が低下しても、その光量の不足分を補うように第２の発光部を発光させることができる。
【００１９】
請求項６、７に記載の発明によれば、露光量を補正するためのフィードバックを最小限に抑えることができる。
【００２０】
請求項８、９に記載の発明によれば、潜像保持体を露光するときに、第１の発光部の劣化により光量が低下しても、第２の発光部の発光により露光量を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、第１実施形態に係る露光ヘッドを備えた画像形成装置の構成を示す概略図である。
【図２】図２は、第１実施形態に係る露光ヘッドの構成を示す概略図である。
【図３】図３は、第１実施形態に係る露光ヘッドから発光される光が感光体ドラムに結像される状態を模式的に示した模式図である。
【図４】図４は、第１実施形態に係る露光ヘッドの構成を示す概略平面図である。
【図５】図５は、ボトムエミッション型の主露光光源用有機ＥＬ素子及び副露光光源用有機ＥＬ素子の構成を示す概略図である。
【図６】図６は、感光体ドラムの表面電位と露光ヘッドによる露光エネルギーとの関係の一例を示すグラフである。
【図７】図７は、感光体ドラムの表面電位と露光ヘッドによる露光エネルギーとの関係の他の例を示すグラフである。
【図８】図８は、第２実施形態に係る露光ヘッドの構成を示す概略平面図である。
【図９】図９は、第３実施形態に係る露光ヘッドの構成を示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に、本発明に係る実施形態の一例を図面に基づき説明する。
【００２３】
（画像形成装置１０の全体構成）
まず、第１実施形態に係る露光ヘッドを備えた画像形成装置１０の構成を説明する。図１は、本実施形態に係る画像形成装置１０の構成を示す概略図である。
【００２４】
本実施形態に係る画像形成装置１０は、図１に示されるように、各構成部品を収容する装置筐体１１と、用紙等の記録媒体Ｐが収容される記録媒体収容部１２と、記録媒体Ｐにトナー画像を形成する画像形成部１４と、記録媒体収容部１２から画像形成部１４へ記録媒体Ｐを搬送する搬送部１６と、画像形成部１４によって形成されたトナー画像を記録媒体Ｐに定着させる定着装置１８と、定着装置１８によってトナー画像が定着された記録媒体Ｐが排出される記録媒体排出部（図示省略）と、を備えている。
【００２５】
記録媒体収容部１２、画像形成部１４、搬送部１６及び定着装置１８は、装置筐体１１に収容されている。
【００２６】
画像形成部１４は、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）、ブラック（Ｋ）の各色のトナー画像を形成する画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋと、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋで形成されたトナー画像が転写される中間転写体の一例としての中間転写ベルト２４と、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋで形成されたトナー画像を中間転写ベルト２４に転写する一次転写部材の一例としての一次転写ロール２６と、中間転写ベルト２４に転写されたトナー画像を記録媒体Ｐに転写する二次転写部材の一例としての二次転写ロール２８と、を備えている。
【００２７】
画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋは、潜像を保持する潜像保持体の一例として、一方向（図１において時計回り方向）へ回転する感光体ドラム３０をそれぞれ有している。
【００２８】
各感光体ドラム３０の周囲には、感光体ドラム３０の回転方向上流側から順に、感光体ドラム３０の表面を帯電させる帯電装置３２と、帯電した感光体ドラム３０の表面を露光して感光体ドラム３０の表面に静電潜像を形成する露光装置の一例としての露光ヘッド３４と、感光体ドラム３０の表面に形成された静電潜像を現像してトナー画像を形成する現像装置３６と、トナー画像が中間転写ベルト２４に転写された後の感光体ドラム３０の表面に残留しているトナーを除去する除去装置４０と、が設けられている。
【００２９】
感光体ドラム３０、帯電装置３２、露光ヘッド３４、現像装置３６及び除去装置４０は、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋに収容されてユニット化されている。画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋは、装置筐体１１に着脱可能に設けられたプロセスカートリッジとされており、交換可能となっている。
【００３０】
なお、感光体ドラム３０、帯電装置３２、露光ヘッド３４、現像装置３６及び除去装置４０の全てがユニット化される必要は無い。例えば、感光体ドラム３０、帯電装置３２及び現像装置３６の少なくとも１つと、露光ヘッド３４とが、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋに収容されてユニット化されていても良い。
【００３１】
中間転写ベルト２４は、二次転写ロール２８に対向する対向ロール４２、駆動ロール４４及び複数の支持ロール４６によって支持され、感光体ドラム３０と接触しながら一方向（図１において反時計回り方向）へ循環移動するようになっている。
【００３２】
一次転写ロール２６は、中間転写ベルト２４を挟んで、感光体ドラム３０に対向している。一次転写ロール２６と感光体ドラム３０との間には、感光体ドラム３０上のトナー画像が中間転写ベルト２４に一次転写される一次転写位置が形成される。この一次転写位置は、現像装置３６と除去装置４０との間に設けられている。この一次転写位置において、一次転写ロール２６が感光体ドラム３０の表面のトナー画像を圧接力と静電力により中間転写ベルト２４に転写するようになっている。
【００３３】
二次転写ロール２８は、中間転写ベルト２４を挟んで対向ロール４２と対向している。二次転写ロール２８と対向ロール４２との間には、中間転写ベルト２４上のトナー画像が記録媒体Ｐに二次転写される二次転写位置が形成される。この二次転写位置において、二次転写ロール２８が中間転写ベルト２４の表面のトナー画像を圧接力と静電力により記録媒体Ｐに転写するようになっている。
【００３４】
搬送部１６は、記録媒体収容部１２に収容された記録媒体Ｐを送り出す送出ロール５０と、送出ロール５０によって送り出された記録媒体Ｐを二次転写位置へ搬送する複数の搬送ロール対５２と、を備えている。
【００３５】
定着装置１８は、二次転写位置より搬送方向下流側に配置されており、二次転写位置で転写されたトナー画像を記録媒体Ｐへ定着させる。
【００３６】
二次転写位置より搬送方向下流側であって、定着装置１８よりも搬送方向上流側には、定着装置１８に記録媒体Ｐを搬送する搬送部材の一例としての搬送ベルト５４が配置されている。
【００３７】
以上の構成により、本実施形態に係る画像形成装置１０では、まず記録媒体収容部１２から送り出された記録媒体Ｐが、搬送ロール対５２によって二次転写位置へ送り込まれる。
【００３８】
一方、中間転写ベルト２４には、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋで形成された各色のトナー画像が重ねられて、カラー画像が形成される。二次転写位置へ送り込まれた記録媒体Ｐは、中間転写ベルト２４上に形成されたカラー画像が転写される。
【００３９】
トナー画像が転写された記録媒体Ｐは、定着装置１８へ搬送され、転写されたトナー画像が定着装置１８により定着される。トナー画像が定着された記録媒体Ｐは、記録媒体排出部（図示省略）へ排出される。以上のように、一連の画像形成動作が行われる。
【００４０】
なお、画像形成装置の構成としては、上記の構成に限られず、例えば、中間転写体を有さない直接転写型の画像形成装置でもよく、種々の構成とすることが可能である。
【００４１】
（露光ヘッド３４の構成）
次に、露光ヘッド３４の構成を説明する。図２、図３及び図４は、第１実施形態に係る露光ヘッド３４の構成を示す概略図である。
【００４２】
各露光ヘッド３４は、図２及び図３に示されるように、感光体ドラム３０の軸方向に沿った主走査方向Ｘに長尺状に形成された基板６０と、発光素子アレイの一例としての有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子アレイ６２と、有機ＥＬ素子アレイ６２により生成された光を集光し、被照射面たる感光体ドラム３０の表面に結像する結像素子アレイの一例としてのセルフォックレンズアレイ６４と、を備えている。
【００４３】
基板６０は、絶縁性を有する基板で形成され、例えば、ガラス基板や樹脂基板で構成されている。
【００４４】
図４に示されるように、有機ＥＬ素子アレイ６２は、主走査方向Ｘに沿って配置された第１の発光部の一例としての複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の副走査方向Ｙ（主走査方向Ｘと直交する方向）へ一列に配置された第２の発光部の一例としての副露光光源用有機ＥＬ素子７２と、を備えている。なお、有機ＥＬ素子は、有機電界発光素子の一例である。
【００４５】
主露光光源用有機ＥＬ素子７０は、画素数（ドット数）に応じて基板６０に複数配列されている。主露光光源用有機ＥＬ素子７０は、平面視にて略正方形状に形成されており、主走査方向Ｘに沿ってほぼ等間隔で配置されている。副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、基板６０に主走査方向Ｘに沿って複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と並列に配置された長尺状（帯状）の素子である。副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、主走査方向Ｘに沿った辺が長くされた矩形状に形成されている。本実施形態では１本の副露光光源用有機ＥＬ素子７２で構成されている。
【００４６】
主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光量は、帯電装置３２（図１参照）によって帯電された感光体ドラム３０を露光して静電潜像を形成するための光量に設定されている。副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、主露光光源用有機ＥＬ素子７０が劣化して光量が低下したときに主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量を補うものであり、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量よりも小さい光量に調整されている。
【００４７】
副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の列とほぼ平行に配置されており、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を１つの副露光光源用有機ＥＬ素子１０２で補正するように構成されている。
【００４８】
図２及び図３に示されるように、基板６０には、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２を駆動する駆動回路の一例としてのドライバＩＣ６６が複数設けられている。ドライバＩＣ６６は、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と副露光光源用有機ＥＬ素子７２を個別に駆動するようになっている。
【００４９】
セルフォックレンズアレイ６４は、結像素子の一例としてのロッドレンズ６４Ａが複数配列されて構成されており、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の光射出側に配置されている。
【００５０】
セルフォックレンズアレイ６４では、１ドットの主露光光源用有機ＥＬ素子７０に対して複数のロッドレンズ６４Ａで正立等倍結像するように、各ロッドレンズ６４Ａが２次元状に配列されている。従って、各主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２からの光は、対応する複数のセルフォックレンズアレイ６４を介して感光体ドラム３０の表面に結像される。このように、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２から発光される光によって、感光体ドラム３０が露光されて静電潜像が形成される。
【００５１】
また、露光ヘッド３４には、主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光量を検出する検出手段の一例としてのセンサ６８が設けられている。センサ６８から出力される検出信号はドライバＩＣ６６に入力され、ドライバＩＣ６６によって主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量の低下に基づき、副露光光源用有機ＥＬ素子７２から発光される光量が制御されるようになっている。
【００５２】
図６には、露光ヘッド３４の露光エネルギー（光量）と感光体ドラム３０の表面電位との関係のグラフが示されている。このグラフに示されるように、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の劣化により主露光光源用有機ＥＬ素子７０の露光エネルギーが低下したときは、露光時の感光体ドラム３０の表面電位が所定の現像電位まで下がらない可能性がある。このため、本実施形態では、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量が低下しているときは、露光時の感光体ドラム３０が所定の現像電位となるように副露光光源用有機ＥＬ素子７２の発光が制御される。具体的には、センサ６８で検出された主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量に基づき、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量の低下分を補う（補足する）ように副露光光源用有機ＥＬ素子７２を発光させ、露光時の感光体ドラム３０を所定の現像電位とするような制御が行われる。
【００５３】
なお、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２に組み合わせる光学レンズとしては、セルフォックレンズアレイ６４に限られず、シリンドリカルレンズを組み合わせても良い。また、個々の主露光光源用有機ＥＬ素子７０上にマイクロレンズを接合しても良い。
【００５４】
（主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成）
次に、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成を説明する。
【００５５】
主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成としては、後述の発光層８４から発生する光を基板６０側から取り出すボトムエミッション型の有機ＥＬ素子と、発光層から発生する光を基板６０とは反対側から取り出すトップエミッション型の有機ＥＬ素子とがある。本実施形態では、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を用いた例について説明する。なお、露光ヘッド３４は、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子に限定するものではなく、トップエミッション型の有機ＥＬ素子を用いてもよい。
【００５６】
（有機ＥＬ素子の構成）
まず、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成を説明する。図５には、ボトムエミッション型の主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成が示されている。なお、図５は、図４に示す露光ヘッド３４の主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の副走査方向Ｙ（主走査方向Ｘと直交する方向）に沿った縦断面図である。
【００５７】
図５に示されるように、主露光光源用有機ＥＬ素子７０は、光透過性の基板６０の表面に形成された陽極８０Ａと、陽極８０Ａの表面に形成された正孔注入層８２Ａと、正孔注入層８２Ａの表面に形成され発光領域となる発光層８４Ａと、発光層８４Ａの表面に形成され電子を注入する陰極８６Ａと、陰極８６Ａの表面に形成された反射層８８Ａと、を備えている。さらに、反射層８８Ａの表面には封止層９０が形成されており、封止層９０は、陽極８０Ａ、正孔注入層８２Ａ、発光層８４Ａ、陰極８６Ａ、反射層８８Ａの側部を囲むように形成されている。すなわち、主露光光源用有機ＥＬ素子７０は、基板６０上に陽極８０Ａ、正孔注入層８２Ａ、発光層８４Ａ、陰極８６Ａ、反射層８８Ａ、封止層９０の順で積層された構成となっている。
【００５８】
陽極８０Ａは、それぞれの主露光光源用有機ＥＬ素子７０（図４参照）毎に分割して設けられており、発光領域に流れる電流が個別に制御される。陽極８０Ａの形状は、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の発光領域と対応するように矩形状に形成されている。
【００５９】
陰極８６Ａは、複数の陽極８０Ａと対をなすように主走査方向Ｘに沿って帯状に延びており、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の全ての発光領域に対して共通に形成されている。
【００６０】
一方、副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、基板６０上に陽極８０Ｂ、正孔注入層８２Ｂ、発光層８４Ｂ、陰極８６Ｂ、反射層８８Ｂ、封止層９０の順で積層された構成である。陽極８０Ｂ、正孔注入層８２Ｂ、発光層８４Ｂ、陰極８６Ｂ、反射層８８Ｂは、平面視にて主走査方向Ｘに沿って長尺矩形状に形成されている。
【００６１】
本実施形態では、主露光光源用有機ＥＬ素子７０と副露光光源用有機ＥＬ素子７２における陽極８０Ａと陽極８０Ｂ、正孔注入層８２Ａと正孔注入層８２Ｂ、発光層８４Ａと発光層８４Ｂ、陰極８６Ａと陰極８６Ｂ、反射層８８Ａと反射層８８Ｂは同じ材料で形成されている。以下、共通する部材を記載するときは、符号の後側のＡ、Ｂを省略する場合がある。
【００６２】
陽極８０は、光を透過する透過性を有しており、発光層８４から発生する光を基板６０側から取り出すことを許容する。陽極８０には、例えば、SnO2、In2O3、ITO（Indium-Tin-Oxide）、IZO:Al（IZO：Indium-Zinc-Oxide）などの導電性金属酸化物が用いられる。なお、陽極８０の材料は、上記に限られるものではない。また、陽極８０の厚さは、例えば、100ｎｍとされる。なお、陽極８０の厚さは、これに限られるものではない。
【００６３】
正孔注入層８２には、陰極８６と陽極８０との間に電圧が印加されることにより、陽極８０側から正孔が注入される。正孔注入層８２には、例えば、フタロシアニン類（CuPcなどを含む）またはインダンスレン系化合物などの低分子材料、ＭＴＤＡＴＡ（４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）、ポリアニリン、PEDOT/PSS（ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォネート）等の高分子材料等が用いられる。なお、正孔注入層８２の材料としては、上記に限られるものでない。また、正孔注入層８２の厚さは、例えば、30ｎｍとされる。なお、正孔注入層８２の厚さは、これに限られるものではない。なお、正孔注入層８２と陽極８０との間には、正孔注入効率を高めるために正孔輸送層などを配置しても良い。
【００６４】
発光層８４には、陰極８６と陽極８０との間に電圧が印加されることにより、陰極８６側から電子が注入される。また、発光層８４には、正孔注入層８２に注入された正孔が移動し、この正孔と電子とが発光層８４で結合することにより、発光層８４が発光する。
【００６５】
発光層８４としては、キレート型有機金属錯体、多核又は縮合芳香環化合物、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサチアゾール誘導体、又はオキサジアゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、又はポリアセチレン誘導体等が挙げられる。なお、発光層８４の材料としては、上記に限られるものでない。また、発光層８４の厚さは、例えば、50ｎｍとされる。なお、発光層８４の厚さは、これに限られるものではない。
【００６６】
陰極８６は、光を透過する透過性を有している必要性はない。主露光光源用有機ＥＬ素子７０では、発光層８４で発生した光を基板６０側から取り出すためである。本実施形態では、陰極８６は、一層で構成されている。なお、陰極８６は複数層で構成されていてもよい。
【００６７】
陰極８６は、例えば、Caで構成されている。なお、陰極８６の材料は、上記に限られるものではない。陰極８６の材料としては、例えば、SnO2、In2O3、ITO、IZO:Alなどの導電性金属酸化物を用いてもよい。陰極８６の厚さは、例えば、30ｎｍとされる。なお、陰極８６の厚さは、これに限られるものではない。また、陰極８６と発光層８４との間には、電子注入効率を高めるための電子注入層や電子輸送層などを配置しても良い。
【００６８】
反射層８８は、発光層８４からの光を発光層８４側に反射する。反射層８８には、例えば、Al、Ag、Mo、W、Ni、Crなどが用いられている。なお、反射層８８の材料としては、上記に限られるものではない。また、反射層８８の厚さは、例えば、150ｎｍとされる。なお、反射層８８の厚さは、これに限られるものではない。
【００６９】
なお、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の発光領域の幅Ｗ１（主走査方向Ｘ及び副走査方向Ｙ）は、例えば、露光ヘッド３４の解像度によるが600dpi時で20μm程度、1200dpi時で10μm程度である。また、副露光光源用有機ＥＬ素子７２の発光領域の幅Ｗ２（副走査方向Ｙ）は、例えば、20μm 程度である。
【００７０】
次に、本実施形態の露光ヘッド３４の作用について説明する。
【００７１】
露光ヘッド３４では、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の発光により感光体ドラム３０が露光されて静電潜像が形成される際に、主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光量がセンサ６８で検出される。すなわち、露光ヘッド３４による露光時に主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光量がモニターされている。
【００７２】
図６に示されるように、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の劣化により露光エネルギー（光量）が所定値Ｌ１よりも低下したときは、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の露光エネルギーを補足するように副露光光源用有機ＥＬ素子７２を発光させる。これによって、主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光と副露光光源用有機ＥＬ素子７２から発光される光を合わせることで、所定の露光エネルギーＬ１に補正される。このため、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２による感光体ドラム３０の露光によって所定の現像電位Ｖ１が得られる。
【００７３】
このような露光ヘッド３４では、１つの副露光光源用有機ＥＬ素子７２で複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量が補正される。
【００７４】
また、本実施形態の変形例に係る露光ヘッド３４として、副露光光源用有機ＥＬ素子７２の光量を、感光体ドラム３０の電位が現像装置３６で現像されない電位の範囲内となる光量で調整し、副露光光源用有機ＥＬ素子７２を初期から発光させるようにしてもよい。例えば、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の劣化による光量の低下を予め想定しておき、その光量の低下を補うように副露光光源用有機ＥＬ素子７２をほぼ一定の光量で発光させるようにしてもよい。
【００７５】
具体的には、図７に示されるように、副露光光源用有機ＥＬ素子７２を初期からほぼ一定の現像しない光量で発光させ、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量を変化させることで、感光体ドラム３０が所定の現像電位Ｖ１となるように制御してもよい。このような制御により、副露光光源用有機ＥＬ素子７２の光量制御が不要となり、光量補正のためのドライバＩＣ６６へのフィードバックが簡単になる。
【００７６】
なお、本発明は、上記の実施形態に限るものではなく、種々の変形、変更、改良が可能である。
【００７７】
次に、図８を用いて、第２実施形態に係る露光ヘッドについて説明する。
【００７８】
なお、前述した第１実施形態と同一構成部分については、同一番号を付してその説明を省略する。
【００７９】
図８に示されるように、露光ヘッド３４を構成する有機ＥＬ素子アレイ１００は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の副走査方向Ｙの片側に、主走査方向Ｘに複数に分割された第２の発光部の一例としての複数の副露光光源用有機ＥＬ素子１１２を備えている。すなわち、副露光光源用有機ＥＬ素子１０２は、第１実施形態の副露光光源用有機ＥＬ素子７２（図４参照）に比べて主走査方向Ｘの長さが短く形成された矩形状の素子である。複数列の副露光光源用有機ＥＬ素子１０２は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の列とそれぞれほぼ平行に配置されており、第１実施形態よりも少ない数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を１つの副露光光源用有機ＥＬ素子１０２で補正するようになっている。
【００８０】
このような有機ＥＬ素子アレイ１００では、複数列の副露光光源用有機ＥＬ素子１０２のうち、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の補正に必要な副露光光源用有機ＥＬ素子１０２のみを発光させるような制御が行われる。
【００８１】
次に、図９を用いて、第３実施形態に係る露光ヘッドについて説明する。
【００８２】
なお、前述した第１及び第２実施形態と同一構成部分については、同一番号を付してその説明を省略する。
【００８３】
図９に示されるように、露光ヘッド３４を構成する有機ＥＬ素子アレイ１１０は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の副走査方向Ｙの両側に、主走査方向Ｘに複数に分割された第２の発光部の一例としての複数の副露光光源用有機ＥＬ素子１１２を備えている。すなわち、副露光光源用有機ＥＬ素子１１２は、第１実施形態の副露光光源用有機ＥＬ素子７２（図４参照）に比べて主走査方向Ｘの長さが短く形成された長尺状の矩形状の素子である。複数列の副露光光源用有機ＥＬ素子１１２は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の列とそれぞれほぼ平行に配置されている。
【００８４】
このような有機ＥＬ素子アレイ１１０では、第１実施形態よりも少ない数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を副走査方向Ｙの両側の副露光光源用有機ＥＬ素子１１２で補正するような制御が行われる。
【００８５】
なお、第１〜第３実施形態の主露光光源用有機ＥＬ素子と副露光光源用有機ＥＬ素子の形状及び配列に限定するものではなく、他の形状及び配列に変更が可能である。
【００８６】
また、第１〜第３実施形態の露光ヘッドでは、第２の発光部として有機ＥＬ素子を用いたが、これに限定するものではなく、ＬＥＤなど他の第２の発光部を用いてもよい。
【実施例】
【００８７】
次に、露光ヘッドの実施例について説明する。
【００８８】
＜実施例１、２＞
実施例１、２では、図４及び図５に示されるように、基板６０としてのガラス基板に、ITO（Indium-Tin-Oxide）を20μm幅、20μmピッチでパターニングをした主露光光源用の陽極８０Ａと、その主露光光源用の陽極８０Ａの副走査方向Ｙへ20μm幅でライン状に１列パターニングした副露光光源用の陽極８０Ｂと、を形成する。次に、正孔注入層８２Ａ、８２Ｂとして、PEDOT/PSS（ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォネート）をスピンコート法により10nm均一に塗布する。さらに、発光層８４Ａ、８４Ｂとして、キシレンに「化１」に示す構造式の発光材料を1wt%溶解し、その塗布液をスピンコート法により塗布して80nmの膜を作製した。最後に主露光光源用の陽極８０Ａと直交するように開口部が20μm幅のマスクを、副露光光源用の陽極８０Ｂを覆うように開口部が40μm幅のマスクをそれぞれ用い、陰極８６Ａ、８６ＢとしてのCa、反射層８８Ａ、８８ＢとしてのAlを順次蒸着した。これによって、基板６０上に主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と並列に配置されたライン状の副露光光源用有機ＥＬ素子７２と、を形成した。
【００８９】
【化１】
【００９０】
＜実施例３、４＞
実施例３、４では、図８及び図５に示されるように、基板６０としてのガラス基板に、ITO（Indium-Tin-Oxide）を20μm幅、20μmピッチでパターニングをした主露光光源用の陽極８０Ａと、その主露光光源用の陽極８０Ａの副走査方向Ｙへ20μm幅でライン状に複数列パターニングした副露光光源用の陽極８０Ｂと、を形成する。次に、正孔注入層８２Ａ、８２Ｂとして、PEDOT/PSS（ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォネート）をスピンコート法により10nm均一に塗布する。さらに、発光層８４Ａ、８４Ｂとして、キシレンに「化１」に示す構造式の発光材料を1wt%溶解し、その塗布液をスピンコート法により塗布して80nmの膜を作製した。最後に主露光光源用の陽極８０Ａと直交するように開口部が20μm幅のマスクを、副露光光源用の陽極８０Ｂをそれぞれ個別に覆うように開口部が40μm幅のマスクを用い、陰極８６Ａ、８６ＢとしてのCa、反射層８８Ａ、８８ＢとしてのAlを順次蒸着した。これによって、基板６０上に主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と並列に配置された複数列の副露光光源用有機ＥＬ素子１０２と、を形成した。
【００９１】
＜比較例１＞
基板６０としてのガラス基板に、ITO（Indium Tin Oxide）を20μm幅、20μmピッチでパターニングをした主露光光源用の陽極８０Ａを形成する（図５の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を参照）。次に、正孔注入層８２Ａとして、PEDOT/PSS（ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォネート）をスピンコート法により10nm均一に塗布する。さらに、発光層８４Ａとして、キシレンに「化１」に示す構造式の発光材料を1wt%溶解し、その塗布液をスピンコート法により塗布して80nmの膜を作製した。最後に開口部が20μm幅のマスクを用い、陰極８６ＡとしてのCa、反射層８８ＡとしてのAlを順次蒸着した。これによって、基板６０上に主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を形成した。この比較例１では、副露光光源用有機ＥＬ素子は設けられていない。
【００９２】
（露光ヘッドの評価）
次に、実施例１〜４、比較例１で得られた露光ヘッドの評価について説明する。
【００９３】
この評価では、実施例１〜４、比較例１で得られた露光ヘッドの露光光源に対し、一定光量(6000cd/m2)を保持した場合の露光光源の寿命を評価した。露光方法は、実施例１、３では、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量をセンサ６８で検出してその光量の低下分を補足するように副露光光源用有機ＥＬ素子７２、１０２を発光させる方法で行った。実施例２、４では、現像装置で現像されない電位の範囲内のほぼ一定の光量で副露光光源用有機ＥＬ素子７２、１０２を初期から発光させておき、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量を調整する方法で行った。露光光源の寿命の評価は、露光光源の発光を持続させて露光光源の輝度を測定し、一定輝度を保持した露光時間（ｈ）でそれぞれ５回評価し、平均値を算出した。その結果を表１に示す。
【００９４】
【表１】
【００９５】
表１に示されるように、実施例１〜４は、比較例１に比べて、露光ヘッドとしての寿命（ｈ）が長いことがわかった。また、実施例２、４は、初期から主露光光源用有機ＥＬ素子の発光量を抑えることで、実施例１、３よりも露光ヘッドとしての寿命（ｈ）がさらに長くなることがわかった。
【符号の説明】
【００９６】
１０ 画像形成装置
１４ 画像形成部
３０ 感光体ドラム（潜像保持体）
３２ 帯電装置
３４ 露光ヘッド（露光装置）
３６ 現像装置
６０ 基板
６２ 有機ＥＬ素子アレイ
６８ センサ（検出手段）
７０ 主露光光源用有機ＥＬ素子（第１の発光部）
７２ 副露光光源用有機ＥＬ素子（第２の発光部）
８０Ａ 陽極
８０Ｂ 陽極
８２Ａ 正孔注入層
８２Ｂ 正孔注入層
８４Ａ 発光層
８４Ｂ 発光層
８６Ａ 陰極
８６Ｂ 陰極
１００ 有機ＥＬ素子アレイ
１０２ 副露光光源用有機ＥＬ素子（第２の発光部）
１１０ 有機ＥＬ素子アレイ
１１２ 副露光光源用有機ＥＬ素子（第２の発光部）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１には、感光体の周面に沿って透明なフレキシブル基板を湾曲させて配設し、フレキシブル基板上に形成された複数の有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）発光部の光を感光体上の露光位置に集光させて露光する構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−０４７０１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、第１の発光部の劣化により光量が低下しても露光量を維持することができる露光装置及び画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に記載の発明に係る露光装置は、潜像を保持する潜像保持体に向かって露光し、前記潜像保持体に形成された潜像が現像装置で現像される際に用いられる露光装置であって、前記潜像保持体の主走査方向に沿って配置された有機電界発光素子で構成され、前記潜像保持体に露光する第１の発光部と、前記主走査方向に沿って設けられ、前記第１の発光部とで前記潜像保持体に露光する露光量を補正する第２の発光部と、を有するものである。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の露光装置において、前記第２の発光部は、有機電界発光素子で構成されているものである。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の露光装置において、前記第１の発光部は、前記主走査方向に沿って複数配置されており、前記第２の発光部は、少なくとも１つ設けられ、各第２の発光部が複数の前記第１の発光部とで前記潜像保持体に露光する露光量を補正するものである。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の露光装置において、前記第２の発光部は、複数の前記第１の発光部と並列に前記主走査方向に沿って配置された長尺状の１又は２以上の素子であるものである。
【０００９】
請求項５に記載の発明は、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の露光装置において、前記第１の発光部の光量を検出する検出手段を備え、前記検出手段で検出された光量が低下した場合に不足分を補うように前記第２の発光部を発光させるものである。
【００１０】
請求項６に記載の発明は、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の露光装置において、前記第２の発光部は、前記潜像保持体の電位が前記現像装置で現像されない電位の範囲内の光量で調整されており、前記第１の発光部の発光の際に前記第２の発光部が発光されるものである。
【００１１】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の露光装置において、前記第２の発光部の光量が一定で、前記潜像保持体を露光する光量が前記第１の発光部で調整されるものである。
【００１２】
請求項８に記載の発明に係る画像形成装置は、潜像を保持する潜像保持体と、前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の露光装置と、前記潜像保持体に形成された潜像を現像剤により現像する現像装置と、を有するものである。
【００１３】
請求項９に記載の発明に係る画像形成ユニットは、潜像を保持する潜像保持体と、前記潜像保持体を帯電させる帯電装置と、前記潜像保持体に形成された潜像を現像剤により現像する現像装置と、から選択される１つと、前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の露光装置と、を有し、画像形成装置に対し着脱可能であるものである。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に記載の発明によれば、第１の発光部の劣化により光量が低下しても、第２の発光部の発光により露光量を維持することができる。
【００１５】
請求項２に記載の発明によれば、第１の発光部と第２の発光部とを１つの基板で一体的に形成することができる。
【００１６】
請求項３に記載の発明によれば、１つの第２の発光部が複数の第１の発光部とで露光量を補正することができる。
【００１７】
請求項４に記載の発明によれば、複数の第１の発光部と第２の発光部とを一体的に形成し、１つの第２の発光部が複数の第１の発光部とで露光量を補正することができる。
【００１８】
請求項５に記載の発明によれば、第１の発光部の光量が低下しても、その光量の不足分を補うように第２の発光部を発光させることができる。
【００１９】
請求項６、７に記載の発明によれば、露光量を補正するためのフィードバックを最小限に抑えることができる。
【００２０】
請求項８、９に記載の発明によれば、潜像保持体を露光するときに、第１の発光部の劣化により光量が低下しても、第２の発光部の発光により露光量を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、第１実施形態に係る露光ヘッドを備えた画像形成装置の構成を示す概略図である。
【図２】図２は、第１実施形態に係る露光ヘッドの構成を示す概略図である。
【図３】図３は、第１実施形態に係る露光ヘッドから発光される光が感光体ドラムに結像される状態を模式的に示した模式図である。
【図４】図４は、第１実施形態に係る露光ヘッドの構成を示す概略平面図である。
【図５】図５は、ボトムエミッション型の主露光光源用有機ＥＬ素子及び副露光光源用有機ＥＬ素子の構成を示す概略図である。
【図６】図６は、感光体ドラムの表面電位と露光ヘッドによる露光エネルギーとの関係の一例を示すグラフである。
【図７】図７は、感光体ドラムの表面電位と露光ヘッドによる露光エネルギーとの関係の他の例を示すグラフである。
【図８】図８は、第２実施形態に係る露光ヘッドの構成を示す概略平面図である。
【図９】図９は、第３実施形態に係る露光ヘッドの構成を示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に、本発明に係る実施形態の一例を図面に基づき説明する。
【００２３】
（画像形成装置１０の全体構成）
まず、第１実施形態に係る露光ヘッドを備えた画像形成装置１０の構成を説明する。図１は、本実施形態に係る画像形成装置１０の構成を示す概略図である。
【００２４】
本実施形態に係る画像形成装置１０は、図１に示されるように、各構成部品を収容する装置筐体１１と、用紙等の記録媒体Ｐが収容される記録媒体収容部１２と、記録媒体Ｐにトナー画像を形成する画像形成部１４と、記録媒体収容部１２から画像形成部１４へ記録媒体Ｐを搬送する搬送部１６と、画像形成部１４によって形成されたトナー画像を記録媒体Ｐに定着させる定着装置１８と、定着装置１８によってトナー画像が定着された記録媒体Ｐが排出される記録媒体排出部（図示省略）と、を備えている。
【００２５】
記録媒体収容部１２、画像形成部１４、搬送部１６及び定着装置１８は、装置筐体１１に収容されている。
【００２６】
画像形成部１４は、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）、ブラック（Ｋ）の各色のトナー画像を形成する画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋと、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋで形成されたトナー画像が転写される中間転写体の一例としての中間転写ベルト２４と、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋで形成されたトナー画像を中間転写ベルト２４に転写する一次転写部材の一例としての一次転写ロール２６と、中間転写ベルト２４に転写されたトナー画像を記録媒体Ｐに転写する二次転写部材の一例としての二次転写ロール２８と、を備えている。
【００２７】
画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋは、潜像を保持する潜像保持体の一例として、一方向（図１において時計回り方向）へ回転する感光体ドラム３０をそれぞれ有している。
【００２８】
各感光体ドラム３０の周囲には、感光体ドラム３０の回転方向上流側から順に、感光体ドラム３０の表面を帯電させる帯電装置３２と、帯電した感光体ドラム３０の表面を露光して感光体ドラム３０の表面に静電潜像を形成する露光装置の一例としての露光ヘッド３４と、感光体ドラム３０の表面に形成された静電潜像を現像してトナー画像を形成する現像装置３６と、トナー画像が中間転写ベルト２４に転写された後の感光体ドラム３０の表面に残留しているトナーを除去する除去装置４０と、が設けられている。
【００２９】
感光体ドラム３０、帯電装置３２、露光ヘッド３４、現像装置３６及び除去装置４０は、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋに収容されてユニット化されている。画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋは、装置筐体１１に着脱可能に設けられたプロセスカートリッジとされており、交換可能となっている。
【００３０】
なお、感光体ドラム３０、帯電装置３２、露光ヘッド３４、現像装置３６及び除去装置４０の全てがユニット化される必要は無い。例えば、感光体ドラム３０、帯電装置３２及び現像装置３６の少なくとも１つと、露光ヘッド３４とが、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋに収容されてユニット化されていても良い。
【００３１】
中間転写ベルト２４は、二次転写ロール２８に対向する対向ロール４２、駆動ロール４４及び複数の支持ロール４６によって支持され、感光体ドラム３０と接触しながら一方向（図１において反時計回り方向）へ循環移動するようになっている。
【００３２】
一次転写ロール２６は、中間転写ベルト２４を挟んで、感光体ドラム３０に対向している。一次転写ロール２６と感光体ドラム３０との間には、感光体ドラム３０上のトナー画像が中間転写ベルト２４に一次転写される一次転写位置が形成される。この一次転写位置は、現像装置３６と除去装置４０との間に設けられている。この一次転写位置において、一次転写ロール２６が感光体ドラム３０の表面のトナー画像を圧接力と静電力により中間転写ベルト２４に転写するようになっている。
【００３３】
二次転写ロール２８は、中間転写ベルト２４を挟んで対向ロール４２と対向している。二次転写ロール２８と対向ロール４２との間には、中間転写ベルト２４上のトナー画像が記録媒体Ｐに二次転写される二次転写位置が形成される。この二次転写位置において、二次転写ロール２８が中間転写ベルト２４の表面のトナー画像を圧接力と静電力により記録媒体Ｐに転写するようになっている。
【００３４】
搬送部１６は、記録媒体収容部１２に収容された記録媒体Ｐを送り出す送出ロール５０と、送出ロール５０によって送り出された記録媒体Ｐを二次転写位置へ搬送する複数の搬送ロール対５２と、を備えている。
【００３５】
定着装置１８は、二次転写位置より搬送方向下流側に配置されており、二次転写位置で転写されたトナー画像を記録媒体Ｐへ定着させる。
【００３６】
二次転写位置より搬送方向下流側であって、定着装置１８よりも搬送方向上流側には、定着装置１８に記録媒体Ｐを搬送する搬送部材の一例としての搬送ベルト５４が配置されている。
【００３７】
以上の構成により、本実施形態に係る画像形成装置１０では、まず記録媒体収容部１２から送り出された記録媒体Ｐが、搬送ロール対５２によって二次転写位置へ送り込まれる。
【００３８】
一方、中間転写ベルト２４には、画像形成ユニット２２Ｃ、２２Ｍ、２２Ｙ、２２Ｋで形成された各色のトナー画像が重ねられて、カラー画像が形成される。二次転写位置へ送り込まれた記録媒体Ｐは、中間転写ベルト２４上に形成されたカラー画像が転写される。
【００３９】
トナー画像が転写された記録媒体Ｐは、定着装置１８へ搬送され、転写されたトナー画像が定着装置１８により定着される。トナー画像が定着された記録媒体Ｐは、記録媒体排出部（図示省略）へ排出される。以上のように、一連の画像形成動作が行われる。
【００４０】
なお、画像形成装置の構成としては、上記の構成に限られず、例えば、中間転写体を有さない直接転写型の画像形成装置でもよく、種々の構成とすることが可能である。
【００４１】
（露光ヘッド３４の構成）
次に、露光ヘッド３４の構成を説明する。図２、図３及び図４は、第１実施形態に係る露光ヘッド３４の構成を示す概略図である。
【００４２】
各露光ヘッド３４は、図２及び図３に示されるように、感光体ドラム３０の軸方向に沿った主走査方向Ｘに長尺状に形成された基板６０と、発光素子アレイの一例としての有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子アレイ６２と、有機ＥＬ素子アレイ６２により生成された光を集光し、被照射面たる感光体ドラム３０の表面に結像する結像素子アレイの一例としてのセルフォックレンズアレイ６４と、を備えている。
【００４３】
基板６０は、絶縁性を有する基板で形成され、例えば、ガラス基板や樹脂基板で構成されている。
【００４４】
図４に示されるように、有機ＥＬ素子アレイ６２は、主走査方向Ｘに沿って配置された第１の発光部の一例としての複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の副走査方向Ｙ（主走査方向Ｘと直交する方向）へ一列に配置された第２の発光部の一例としての副露光光源用有機ＥＬ素子７２と、を備えている。なお、有機ＥＬ素子は、有機電界発光素子の一例である。
【００４５】
主露光光源用有機ＥＬ素子７０は、画素数（ドット数）に応じて基板６０に複数配列されている。主露光光源用有機ＥＬ素子７０は、平面視にて略正方形状に形成されており、主走査方向Ｘに沿ってほぼ等間隔で配置されている。副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、基板６０に主走査方向Ｘに沿って複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と並列に配置された長尺状（帯状）の素子である。副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、主走査方向Ｘに沿った辺が長くされた矩形状に形成されている。本実施形態では１本の副露光光源用有機ＥＬ素子７２で構成されている。
【００４６】
主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光量は、帯電装置３２（図１参照）によって帯電された感光体ドラム３０を露光して静電潜像を形成するための光量に設定されている。副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、主露光光源用有機ＥＬ素子７０が劣化して光量が低下したときに主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量を補うものであり、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量よりも小さい光量に調整されている。
【００４７】
副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の列とほぼ平行に配置されており、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を１つの副露光光源用有機ＥＬ素子１０２で補正するように構成されている。
【００４８】
図２及び図３に示されるように、基板６０には、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２を駆動する駆動回路の一例としてのドライバＩＣ６６が複数設けられている。ドライバＩＣ６６は、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と副露光光源用有機ＥＬ素子７２を個別に駆動するようになっている。
【００４９】
セルフォックレンズアレイ６４は、結像素子の一例としてのロッドレンズ６４Ａが複数配列されて構成されており、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の光射出側に配置されている。
【００５０】
セルフォックレンズアレイ６４では、１ドットの主露光光源用有機ＥＬ素子７０に対して複数のロッドレンズ６４Ａで正立等倍結像するように、各ロッドレンズ６４Ａが２次元状に配列されている。従って、各主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２からの光は、対応する複数のセルフォックレンズアレイ６４を介して感光体ドラム３０の表面に結像される。このように、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２から発光される光によって、感光体ドラム３０が露光されて静電潜像が形成される。
【００５１】
また、露光ヘッド３４には、主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光量を検出する検出手段の一例としてのセンサ６８が設けられている。センサ６８から出力される検出信号はドライバＩＣ６６に入力され、ドライバＩＣ６６によって主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量の低下に基づき、副露光光源用有機ＥＬ素子７２から発光される光量が制御されるようになっている。
【００５２】
図６には、露光ヘッド３４の露光エネルギー（光量）と感光体ドラム３０の表面電位との関係のグラフが示されている。このグラフに示されるように、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の劣化により主露光光源用有機ＥＬ素子７０の露光エネルギーが低下したときは、露光時の感光体ドラム３０の表面電位が所定の現像電位まで下がらない可能性がある。このため、本実施形態では、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量が低下しているときは、露光時の感光体ドラム３０が所定の現像電位となるように副露光光源用有機ＥＬ素子７２の発光が制御される。具体的には、センサ６８で検出された主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量に基づき、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量の低下分を補う（補足する）ように副露光光源用有機ＥＬ素子７２を発光させ、露光時の感光体ドラム３０を所定の現像電位とするような制御が行われる。
【００５３】
なお、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２に組み合わせる光学レンズとしては、セルフォックレンズアレイ６４に限られず、シリンドリカルレンズを組み合わせても良い。また、個々の主露光光源用有機ＥＬ素子７０上にマイクロレンズを接合しても良い。
【００５４】
（主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成）
次に、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成を説明する。
【００５５】
主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成としては、後述の発光層８４から発生する光を基板６０側から取り出すボトムエミッション型の有機ＥＬ素子と、発光層から発生する光を基板６０とは反対側から取り出すトップエミッション型の有機ＥＬ素子とがある。本実施形態では、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を用いた例について説明する。なお、露光ヘッド３４は、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子に限定するものではなく、トップエミッション型の有機ＥＬ素子を用いてもよい。
【００５６】
（有機ＥＬ素子の構成）
まず、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成を説明する。図５には、ボトムエミッション型の主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の構成が示されている。なお、図５は、図４に示す露光ヘッド３４の主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２の副走査方向Ｙ（主走査方向Ｘと直交する方向）に沿った縦断面図である。
【００５７】
図５に示されるように、主露光光源用有機ＥＬ素子７０は、光透過性の基板６０の表面に形成された陽極８０Ａと、陽極８０Ａの表面に形成された正孔注入層８２Ａと、正孔注入層８２Ａの表面に形成され発光領域となる発光層８４Ａと、発光層８４Ａの表面に形成され電子を注入する陰極８６Ａと、陰極８６Ａの表面に形成された反射層８８Ａと、を備えている。さらに、反射層８８Ａの表面には封止層９０が形成されており、封止層９０は、陽極８０Ａ、正孔注入層８２Ａ、発光層８４Ａ、陰極８６Ａ、反射層８８Ａの側部を囲むように形成されている。すなわち、主露光光源用有機ＥＬ素子７０は、基板６０上に陽極８０Ａ、正孔注入層８２Ａ、発光層８４Ａ、陰極８６Ａ、反射層８８Ａ、封止層９０の順で積層された構成となっている。
【００５８】
陽極８０Ａは、それぞれの主露光光源用有機ＥＬ素子７０（図４参照）毎に分割して設けられており、発光領域に流れる電流が個別に制御される。陽極８０Ａの形状は、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の発光領域と対応するように矩形状に形成されている。
【００５９】
陰極８６Ａは、複数の陽極８０Ａと対をなすように主走査方向Ｘに沿って帯状に延びており、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の全ての発光領域に対して共通に形成されている。
【００６０】
一方、副露光光源用有機ＥＬ素子７２は、基板６０上に陽極８０Ｂ、正孔注入層８２Ｂ、発光層８４Ｂ、陰極８６Ｂ、反射層８８Ｂ、封止層９０の順で積層された構成である。陽極８０Ｂ、正孔注入層８２Ｂ、発光層８４Ｂ、陰極８６Ｂ、反射層８８Ｂは、平面視にて主走査方向Ｘに沿って長尺矩形状に形成されている。
【００６１】
本実施形態では、主露光光源用有機ＥＬ素子７０と副露光光源用有機ＥＬ素子７２における陽極８０Ａと陽極８０Ｂ、正孔注入層８２Ａと正孔注入層８２Ｂ、発光層８４Ａと発光層８４Ｂ、陰極８６Ａと陰極８６Ｂ、反射層８８Ａと反射層８８Ｂは同じ材料で形成されている。以下、共通する部材を記載するときは、符号の後側のＡ、Ｂを省略する場合がある。
【００６２】
陽極８０は、光を透過する透過性を有しており、発光層８４から発生する光を基板６０側から取り出すことを許容する。陽極８０には、例えば、SnO2、In2O3、ITO（Indium-Tin-Oxide）、IZO:Al（IZO：Indium-Zinc-Oxide）などの導電性金属酸化物が用いられる。なお、陽極８０の材料は、上記に限られるものではない。また、陽極８０の厚さは、例えば、100ｎｍとされる。なお、陽極８０の厚さは、これに限られるものではない。
【００６３】
正孔注入層８２には、陰極８６と陽極８０との間に電圧が印加されることにより、陽極８０側から正孔が注入される。正孔注入層８２には、例えば、フタロシアニン類（CuPcなどを含む）またはインダンスレン系化合物などの低分子材料、ＭＴＤＡＴＡ（４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）、ポリアニリン、PEDOT/PSS（ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォネート）等の高分子材料等が用いられる。なお、正孔注入層８２の材料としては、上記に限られるものでない。また、正孔注入層８２の厚さは、例えば、30ｎｍとされる。なお、正孔注入層８２の厚さは、これに限られるものではない。なお、正孔注入層８２と陽極８０との間には、正孔注入効率を高めるために正孔輸送層などを配置しても良い。
【００６４】
発光層８４には、陰極８６と陽極８０との間に電圧が印加されることにより、陰極８６側から電子が注入される。また、発光層８４には、正孔注入層８２に注入された正孔が移動し、この正孔と電子とが発光層８４で結合することにより、発光層８４が発光する。
【００６５】
発光層８４としては、キレート型有機金属錯体、多核又は縮合芳香環化合物、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサチアゾール誘導体、又はオキサジアゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、又はポリアセチレン誘導体等が挙げられる。なお、発光層８４の材料としては、上記に限られるものでない。また、発光層８４の厚さは、例えば、50ｎｍとされる。なお、発光層８４の厚さは、これに限られるものではない。
【００６６】
陰極８６は、光を透過する透過性を有している必要性はない。主露光光源用有機ＥＬ素子７０では、発光層８４で発生した光を基板６０側から取り出すためである。本実施形態では、陰極８６は、一層で構成されている。なお、陰極８６は複数層で構成されていてもよい。
【００６７】
陰極８６は、例えば、Caで構成されている。なお、陰極８６の材料は、上記に限られるものではない。陰極８６の材料としては、例えば、SnO2、In2O3、ITO、IZO:Alなどの導電性金属酸化物を用いてもよい。陰極８６の厚さは、例えば、30ｎｍとされる。なお、陰極８６の厚さは、これに限られるものではない。また、陰極８６と発光層８４との間には、電子注入効率を高めるための電子注入層や電子輸送層などを配置しても良い。
【００６８】
反射層８８は、発光層８４からの光を発光層８４側に反射する。反射層８８には、例えば、Al、Ag、Mo、W、Ni、Crなどが用いられている。なお、反射層８８の材料としては、上記に限られるものではない。また、反射層８８の厚さは、例えば、150ｎｍとされる。なお、反射層８８の厚さは、これに限られるものではない。
【００６９】
なお、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の発光領域の幅Ｗ１（主走査方向Ｘ及び副走査方向Ｙ）は、例えば、露光ヘッド３４の解像度によるが600dpi時で20μm程度、1200dpi時で10μm程度である。また、副露光光源用有機ＥＬ素子７２の発光領域の幅Ｗ２（副走査方向Ｙ）は、例えば、20μm 程度である。
【００７０】
次に、本実施形態の露光ヘッド３４の作用について説明する。
【００７１】
露光ヘッド３４では、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の発光により感光体ドラム３０が露光されて静電潜像が形成される際に、主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光量がセンサ６８で検出される。すなわち、露光ヘッド３４による露光時に主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光量がモニターされている。
【００７２】
図６に示されるように、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の劣化により露光エネルギー（光量）が所定値Ｌ１よりも低下したときは、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の露光エネルギーを補足するように副露光光源用有機ＥＬ素子７２を発光させる。これによって、主露光光源用有機ＥＬ素子７０から発光される光と副露光光源用有機ＥＬ素子７２から発光される光を合わせることで、所定の露光エネルギーＬ１に補正される。このため、主露光光源用有機ＥＬ素子７０及び副露光光源用有機ＥＬ素子７２による感光体ドラム３０の露光によって所定の現像電位Ｖ１が得られる。
【００７３】
このような露光ヘッド３４では、１つの副露光光源用有機ＥＬ素子７２で複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量が補正される。
【００７４】
また、本実施形態の変形例に係る露光ヘッド３４として、副露光光源用有機ＥＬ素子７２の光量を、感光体ドラム３０の電位が現像装置３６で現像されない電位の範囲内となる光量で調整し、副露光光源用有機ＥＬ素子７２を初期から発光させるようにしてもよい。例えば、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の劣化による光量の低下を予め想定しておき、その光量の低下を補うように副露光光源用有機ＥＬ素子７２をほぼ一定の光量で発光させるようにしてもよい。
【００７５】
具体的には、図７に示されるように、副露光光源用有機ＥＬ素子７２を初期からほぼ一定の現像しない光量で発光させ、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量を変化させることで、感光体ドラム３０が所定の現像電位Ｖ１となるように制御してもよい。このような制御により、副露光光源用有機ＥＬ素子７２の光量制御が不要となり、光量補正のためのドライバＩＣ６６へのフィードバックが簡単になる。
【００７６】
なお、本発明は、上記の実施形態に限るものではなく、種々の変形、変更、改良が可能である。
【００７７】
次に、図８を用いて、第２実施形態に係る露光ヘッドについて説明する。
【００７８】
なお、前述した第１実施形態と同一構成部分については、同一番号を付してその説明を省略する。
【００７９】
図８に示されるように、露光ヘッド３４を構成する有機ＥＬ素子アレイ１００は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の副走査方向Ｙの片側に、主走査方向Ｘに複数に分割された第２の発光部の一例としての複数の副露光光源用有機ＥＬ素子１１２を備えている。すなわち、副露光光源用有機ＥＬ素子１０２は、第１実施形態の副露光光源用有機ＥＬ素子７２（図４参照）に比べて主走査方向Ｘの長さが短く形成された矩形状の素子である。複数列の副露光光源用有機ＥＬ素子１０２は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の列とそれぞれほぼ平行に配置されており、第１実施形態よりも少ない数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を１つの副露光光源用有機ＥＬ素子１０２で補正するようになっている。
【００８０】
このような有機ＥＬ素子アレイ１００では、複数列の副露光光源用有機ＥＬ素子１０２のうち、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の補正に必要な副露光光源用有機ＥＬ素子１０２のみを発光させるような制御が行われる。
【００８１】
次に、図９を用いて、第３実施形態に係る露光ヘッドについて説明する。
【００８２】
なお、前述した第１及び第２実施形態と同一構成部分については、同一番号を付してその説明を省略する。
【００８３】
図９に示されるように、露光ヘッド３４を構成する有機ＥＬ素子アレイ１１０は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の副走査方向Ｙの両側に、主走査方向Ｘに複数に分割された第２の発光部の一例としての複数の副露光光源用有機ＥＬ素子１１２を備えている。すなわち、副露光光源用有機ＥＬ素子１１２は、第１実施形態の副露光光源用有機ＥＬ素子７２（図４参照）に比べて主走査方向Ｘの長さが短く形成された長尺状の矩形状の素子である。複数列の副露光光源用有機ＥＬ素子１１２は、主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０の列とそれぞれほぼ平行に配置されている。
【００８４】
このような有機ＥＬ素子アレイ１１０では、第１実施形態よりも少ない数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を副走査方向Ｙの両側の副露光光源用有機ＥＬ素子１１２で補正するような制御が行われる。
【００８５】
なお、第１〜第３実施形態の主露光光源用有機ＥＬ素子と副露光光源用有機ＥＬ素子の形状及び配列に限定するものではなく、他の形状及び配列に変更が可能である。
【００８６】
また、第１〜第３実施形態の露光ヘッドでは、第２の発光部として有機ＥＬ素子を用いたが、これに限定するものではなく、ＬＥＤなど他の第２の発光部を用いてもよい。
【実施例】
【００８７】
次に、露光ヘッドの実施例について説明する。
【００８８】
＜実施例１、２＞
実施例１、２では、図４及び図５に示されるように、基板６０としてのガラス基板に、ITO（Indium-Tin-Oxide）を20μm幅、20μmピッチでパターニングをした主露光光源用の陽極８０Ａと、その主露光光源用の陽極８０Ａの副走査方向Ｙへ20μm幅でライン状に１列パターニングした副露光光源用の陽極８０Ｂと、を形成する。次に、正孔注入層８２Ａ、８２Ｂとして、PEDOT/PSS（ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォネート）をスピンコート法により10nm均一に塗布する。さらに、発光層８４Ａ、８４Ｂとして、キシレンに「化１」に示す構造式の発光材料を1wt%溶解し、その塗布液をスピンコート法により塗布して80nmの膜を作製した。最後に主露光光源用の陽極８０Ａと直交するように開口部が20μm幅のマスクを、副露光光源用の陽極８０Ｂを覆うように開口部が40μm幅のマスクをそれぞれ用い、陰極８６Ａ、８６ＢとしてのCa、反射層８８Ａ、８８ＢとしてのAlを順次蒸着した。これによって、基板６０上に主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と並列に配置されたライン状の副露光光源用有機ＥＬ素子７２と、を形成した。
【００８９】
【化１】
【００９０】
＜実施例３、４＞
実施例３、４では、図８及び図５に示されるように、基板６０としてのガラス基板に、ITO（Indium-Tin-Oxide）を20μm幅、20μmピッチでパターニングをした主露光光源用の陽極８０Ａと、その主露光光源用の陽極８０Ａの副走査方向Ｙへ20μm幅でライン状に複数列パターニングした副露光光源用の陽極８０Ｂと、を形成する。次に、正孔注入層８２Ａ、８２Ｂとして、PEDOT/PSS（ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォネート）をスピンコート法により10nm均一に塗布する。さらに、発光層８４Ａ、８４Ｂとして、キシレンに「化１」に示す構造式の発光材料を1wt%溶解し、その塗布液をスピンコート法により塗布して80nmの膜を作製した。最後に主露光光源用の陽極８０Ａと直交するように開口部が20μm幅のマスクを、副露光光源用の陽極８０Ｂをそれぞれ個別に覆うように開口部が40μm幅のマスクを用い、陰極８６Ａ、８６ＢとしてのCa、反射層８８Ａ、８８ＢとしてのAlを順次蒸着した。これによって、基板６０上に主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と、複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０と並列に配置された複数列の副露光光源用有機ＥＬ素子１０２と、を形成した。
【００９１】
＜比較例１＞
基板６０としてのガラス基板に、ITO（Indium Tin Oxide）を20μm幅、20μmピッチでパターニングをした主露光光源用の陽極８０Ａを形成する（図５の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を参照）。次に、正孔注入層８２Ａとして、PEDOT/PSS（ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォネート）をスピンコート法により10nm均一に塗布する。さらに、発光層８４Ａとして、キシレンに「化１」に示す構造式の発光材料を1wt%溶解し、その塗布液をスピンコート法により塗布して80nmの膜を作製した。最後に開口部が20μm幅のマスクを用い、陰極８６ＡとしてのCa、反射層８８ＡとしてのAlを順次蒸着した。これによって、基板６０上に主走査方向Ｘに沿って配置された複数の主露光光源用有機ＥＬ素子７０を形成した。この比較例１では、副露光光源用有機ＥＬ素子は設けられていない。
【００９２】
（露光ヘッドの評価）
次に、実施例１〜４、比較例１で得られた露光ヘッドの評価について説明する。
【００９３】
この評価では、実施例１〜４、比較例１で得られた露光ヘッドの露光光源に対し、一定光量(6000cd/m2)を保持した場合の露光光源の寿命を評価した。露光方法は、実施例１、３では、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量をセンサ６８で検出してその光量の低下分を補足するように副露光光源用有機ＥＬ素子７２、１０２を発光させる方法で行った。実施例２、４では、現像装置で現像されない電位の範囲内のほぼ一定の光量で副露光光源用有機ＥＬ素子７２、１０２を初期から発光させておき、主露光光源用有機ＥＬ素子７０の光量を調整する方法で行った。露光光源の寿命の評価は、露光光源の発光を持続させて露光光源の輝度を測定し、一定輝度を保持した露光時間（ｈ）でそれぞれ５回評価し、平均値を算出した。その結果を表１に示す。
【００９４】
【表１】
【００９５】
表１に示されるように、実施例１〜４は、比較例１に比べて、露光ヘッドとしての寿命（ｈ）が長いことがわかった。また、実施例２、４は、初期から主露光光源用有機ＥＬ素子の発光量を抑えることで、実施例１、３よりも露光ヘッドとしての寿命（ｈ）がさらに長くなることがわかった。
【符号の説明】
【００９６】
１０ 画像形成装置
１４ 画像形成部
３０ 感光体ドラム（潜像保持体）
３２ 帯電装置
３４ 露光ヘッド（露光装置）
３６ 現像装置
６０ 基板
６２ 有機ＥＬ素子アレイ
６８ センサ（検出手段）
７０ 主露光光源用有機ＥＬ素子（第１の発光部）
７２ 副露光光源用有機ＥＬ素子（第２の発光部）
８０Ａ 陽極
８０Ｂ 陽極
８２Ａ 正孔注入層
８２Ｂ 正孔注入層
８４Ａ 発光層
８４Ｂ 発光層
８６Ａ 陰極
８６Ｂ 陰極
１００ 有機ＥＬ素子アレイ
１０２ 副露光光源用有機ＥＬ素子（第２の発光部）
１１０ 有機ＥＬ素子アレイ
１１２ 副露光光源用有機ＥＬ素子（第２の発光部）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
潜像を保持する潜像保持体に向かって露光し、前記潜像保持体に形成された潜像が現像装置で現像される際に用いられる露光装置であって、
前記潜像保持体の主走査方向に沿って配置された有機電界発光素子で構成され、前記潜像保持体に露光する第１の発光部と、
前記主走査方向に沿って設けられ、前記第１の発光部とで前記潜像保持体に露光する露光量を補正する第２の発光部と、
を有する露光装置。
【請求項２】
前記第２の発光部は、有機電界発光素子で構成されている請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１の発光部は、前記主走査方向に沿って複数配置されており、
前記第２の発光部は、少なくとも１つ設けられ、各第２の発光部が複数の前記第１の発光部とで前記潜像保持体に露光する露光量を補正する請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第２の発光部は、複数の前記第１の発光部と並列に前記主走査方向に沿って配置された長尺状の１又は２以上の素子である請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１の発光部の光量を検出する検出手段を備え、
前記検出手段で検出された光量が低下した場合に不足分を補うように前記第２の発光部を発光させる請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第２の発光部は、前記潜像保持体の電位が前記現像装置で現像されない電位の範囲内の光量で調整されており、前記第１の発光部の発光の際に前記第２の発光部が発光される請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第２の発光部の光量が一定で、前記潜像保持体を露光する光量が前記第１の発光部で調整される請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
潜像を保持する潜像保持体と、
前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の露光装置と、
前記潜像保持体に形成された潜像を現像剤により現像する現像装置と、
を有する画像形成装置。
【請求項９】
潜像を保持する潜像保持体と、前記潜像保持体を帯電させる帯電装置と、前記潜像保持体に形成された潜像を現像剤により現像する現像装置と、から選択される１つと、
前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の露光装置と、
を有し、画像形成装置に対し着脱可能である画像形成ユニット。
【請求項１】
潜像を保持する潜像保持体に向かって露光し、前記潜像保持体に形成された潜像が現像装置で現像される際に用いられる露光装置であって、
前記潜像保持体の主走査方向に沿って配置された有機電界発光素子で構成され、前記潜像保持体に露光する第１の発光部と、
前記主走査方向に沿って設けられ、前記第１の発光部とで前記潜像保持体に露光する露光量を補正する第２の発光部と、
を有する露光装置。
【請求項２】
前記第２の発光部は、有機電界発光素子で構成されている請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１の発光部は、前記主走査方向に沿って複数配置されており、
前記第２の発光部は、少なくとも１つ設けられ、各第２の発光部が複数の前記第１の発光部とで前記潜像保持体に露光する露光量を補正する請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第２の発光部は、複数の前記第１の発光部と並列に前記主走査方向に沿って配置された長尺状の１又は２以上の素子である請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１の発光部の光量を検出する検出手段を備え、
前記検出手段で検出された光量が低下した場合に不足分を補うように前記第２の発光部を発光させる請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第２の発光部は、前記潜像保持体の電位が前記現像装置で現像されない電位の範囲内の光量で調整されており、前記第１の発光部の発光の際に前記第２の発光部が発光される請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第２の発光部の光量が一定で、前記潜像保持体を露光する光量が前記第１の発光部で調整される請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
潜像を保持する潜像保持体と、
前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の露光装置と、
前記潜像保持体に形成された潜像を現像剤により現像する現像装置と、
を有する画像形成装置。
【請求項９】
潜像を保持する潜像保持体と、前記潜像保持体を帯電させる帯電装置と、前記潜像保持体に形成された潜像を現像剤により現像する現像装置と、から選択される１つと、
前記潜像保持体に光を照射して潜像を形成する請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の露光装置と、
を有し、画像形成装置に対し着脱可能である画像形成ユニット。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−１９４６７２（Ｐ２０１１−１９４６７２Ａ）
【公開日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−６２９８９（Ｐ２０１０−６２９８９）
【出願日】平成２２年３月１８日（２０１０．３．１８）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．セルフォック
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月１８日（２０１０．３．１８）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．セルフォック
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
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