【課題】モードロックレーザを用い高速で波長を掃引しても高コヒーレンス性を保つ光源を用いて光断層画像表示システムの分解能、および深達度を向上させること。
【解決手段】波長走査型レーザ光源１０に一対の回折格子３２，３３を対向して配置し、これを分散素子として用いる。この分散素子に半導体光増幅器３５を接続し、モードロック信号発生部３８よりクロック信号を与えて光信号を増幅する。このクロック信号のクロック周波数を変化させることによってクロック周波数に応じて発振波長を走査することで、高速で波長を可変でき、この光源を用いることで光断層画像表示システムの分解能、および深達度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】人物検出装置、人物検出方法及びプログラムにおいて、人物を正確、且つ、比較的簡単に検出することを目的とする。
【解決手段】重力方向と平行な垂直面以外の任意平面で走査範囲を走査して基準位置から走査範囲内の対象物までの距離を測定する走査部と、距離に基づいて対象物の任意平面上の断面形状に相当する第１のパターンを算出する算出部と、人物の両脚に相当する任意平面上の断面形状の第２のパターンが予め複数登録されている記憶部と、第１及び第２のパターンを比較して、比較結果に基づいて対象物から人物の脚の特徴を抽出する抽出部と、抽出した特徴に基づいて対象物が人物であるか否かを判断する判断部を備えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】光透過性を有する被測定物の形状を、精度良く迅速に測定する方法を提供する。
【解決手段】光照射手段１と光検出手段２を被測定物３の表面３ａ側に配置し、既知形状の反射面４ａを有する反射手段４を被測定物３の裏面３ｂ側に配置する。次に光照射手段１から測定光５を表面３ａに照射する。測定光５のうち、表面３ａで反射した第１の反射光８と、被測定物３を透過して裏面３ｂで反射した第２の反射光９と、被測定物３内を透過した透過光５のうち反射面４ａで反射された第３の反射光１０とを含む反射干渉光７を光検出手段２で検出する。そして反射干渉光７の光強度スペクトルを分析し、第１および第２の反射光８、９からなる第１の干渉光成分から被測定物３の厚みｔを算出し、第２および第３の反射光９、１０からなる第２の干渉光成分から裏面３ｂと反射面４ａ間の距離ｄを算出し、厚みｔと距離ｄに基づいて被測定物３の形状を求める。 （もっと読む）

【課題】溶接部のアンダーカットによる溶接欠陥の存在とその大きさを検出する簡易な溶接部アンダーカット検査装置を提供すること。
【解決手段】広がりを有する帯状のレーザ光Ｌを照射して被検査部１０の形状を検出するための２次元変位計２と、検出データを基に被検査部の断面外形を演算するコントローラ３と、演算結果を表示するディスプレイ４とを有し、被検査部１０の断面外形から母材と溶接ビードとの境界部分２２０に生じるアンダーカットを検出するものであり、コントローラ３は、断面外形によって特定される母材表面を示す母材線２２１と溶接ビード表面を示す溶接線２２５とを基に、母材線２２１から基準線２３０を求め、その基準線２３０に対する法線方向について溶接線の最大深さを算出するようにした溶接部アンダーカット検査装置１。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造方法に係り、例えばＣＤ−ＳＥＭとスキャトロメトリを併用し、処理工程等をより適切に制御できる技術を提供する。
【解決手段】本半導体装置製造方法では、半導体デバイスの製造の処理工程に関する寸法等をＣＤ−ＳＥＭ（第１の計測手段）とスキャトロメトリ（第２の計測手段）との両方で計測する（Ｓ２０２，Ｓ２０３等）。ウェハ内の複数の計測点に関し、第１及び第２の計測手段の計測値を用いて、誤計測を検出・補正する（Ｓ２１０等）。この際、例えば、ロット内の各ウェハの第２の計測手段の計測値の平均値を用いて処理する。また第１及び第２の計測手段のロットの各ウェハの計測値の平均値を用いて処理する。補正した計測値に基づき、制御対象の工程（Ｓ２０７）の処理条件の制御パラメータを計算（Ｓ２１３）し、変更する。 （もっと読む）

【課題】通行する物体が車両であるか否かを正確に判定する。
【解決手段】三次元形状記憶部２１１は、車両である物体と車両でない物体とを含む複数の物体の三次元形状を記憶する。三次元形状照合部２１２は、三次元形状測定装置が測定した物体の三次元形状と、三次元形状記憶部２１１が記憶した三次元形状とを比較して、最も近い三次元形状を判定する。種別判定部２１３は、三次元形状照合部２１２の判定結果に基づいて、三次元形状測定装置が三次元形状を測定した物体が、車両であるか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】球面部を有する球状体の曲率中心の位置を精度良く、且つ効率的に検出することのできる曲率中心検出装置及びこれを使用した孔位置検出方法を提供する。
【解決手段】一定の曲率半径を有して形成された球状体１の曲率中心を検出する曲率中心検出装置であって、前記球状体１の断面形状を計測する２次元変位センサ２１と、該２次元変位センサ２１より計測された前記断面形状に関する情報に基づいて、前記球状体１の曲率中心を演算する演算部２３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 所望の波長範囲で、安定的に発振可能で且つ高速に波長掃引可能な光源装置を提供する。
【解決手段】 発振波長を連続的に変化可能な波長掃引光源装置であって、共振器内に、光を増幅させる光増幅媒体と、該光増幅媒体より放出される光を波長に応じて分散させる第一の手段と、第一の手段により分散した波長の異なる光束同士を平行化させる非集光光学素子で構成された第二の手段と、第二の手段により平行化した光束から所定波長の光束を選択する選択手段と、を備え、前記選択手段により選択された前記所定波長の光束を前記光増幅媒体に帰還させる波長掃引光源装置。 （もっと読む）

【課題】通行する物体を正確に管理する。
【解決手段】三次元形状測定装置１００ａが、通行路の入口を通過する物体の三次元形状と進行方向とを測定する。三次元形状測定装置１００ｂが、通行路の出口を通過する物体の三次元形状と進行方向とを測定する。物体が通行路内に進入した場合、三次元形状測定装置１００ａが測定した三次元形状を、通路内物体形状記憶部２２０が記憶する。物体が通行路外へ退出した場合、三次元形状測定装置１００ｂが測定した三次元形状と、通路内物体形状記憶部２２０が記憶した三次元形状とを、通過物体判定分２４０が比較して、同一物体であるか否かを判定する。 （もっと読む）

本発明の態様は、部分的に、電磁放射光源および干渉原理を用いる光干渉断層撮影システムなどのデータ収集システムにおける強度および／またはパターンライン雑音の低減のための方法、装置、およびシステムに関する。1つの実施形態において、雑音は強度雑音またはパターンライン雑音であり、光源は掃引レーザーなどのレーザーである。1つの実施形態においては、アナログまたはデジタルフィードバックネットワークと併せて、1つ以上の制御信号に応答する1つ以上の減衰器を用いることができる。
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【課題】より簡易な構成でありながら、部品を把持する把持部とその位置を補償するためのカメラとの相対位置を補償、校正することのできるキャリブレーション装置及びキャリブレーション方法、及びこうしたキャリブレーションに用いられる位置検出用治具、及び部品検査装置を提供する。
【解決手段】キャリブレーション装置は、部品検査装置に設けられ、ＩＣチップを搬送するロボットハンドユニットが備えるＩＣチップを撮像するカメラの視野中心と、認識されたＩＣチップを吸着するノズルの軸中心との間の相対位置関係を検出する。部品検査装置には、この相対位置関係を検出するためにノズルの平行移動範囲内に設けられたフォトセンサー４１と、該フォトセンサー４１と所定の位置関係でかつカメラの撮像範囲内に設けられた認識マーク４５とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】液滴の平面視輪郭形状をより簡便な方法で接触角と共に測定可能な接触角計を提供する。
【解決手段】本発明に係る接触角計１は、試料２が載置されるステージ２０と、試料２上の液滴４を側方から撮像して液滴４の接触角を測定する第１撮像装置３０と、試料２上の液滴４を上方から撮像して液滴４の平面視輪郭形状を測定する第２撮像装置４０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ＰＴＰシートの製造過程における錠剤の欠け等の検査に際し、検査精度の飛躍的な向上を図ることのできる錠剤検査装置及びＰＴＰ包装機を提供する。
【解決手段】錠剤検査装置は、錠剤に光を照射する照明装置と、その反射光を撮像するカメラと、カメラから出力される画像信号を処理する画像処理装置とを備えている。画像処理装置は、所定の三次元計測法により錠剤の三次元データを取得し、それに基づき、錠剤の複数の断面部の輪郭を抽出し、各断面部の輪郭上の所定点における接線が当該断面部の輪郭上に他の接点を有するか否かを判定し、所定点における接線が他に接点を有する場合に、当該接線と輪郭により囲まれた領域を欠け領域として認識し、当該欠け領域の連結成分である欠け空間の大きさを認識し、欠け空間の大きさが許容範囲内か否かを判定することで良否判定を行う。 （もっと読む）

【課題】地上物の表面の点群の位置の座標情報から柱状の３次元モデルを生成することができる３次元モデル生成装置を提供する。
【解決手段】３次元モデル生成装置１は、所定の３次元空間内に存在する地上物の表面の点群の位置の座標情報を取得する点群座標情報取得部１１１と、３次元空間内に平行な平面の対で挟まれた層状の空間を複数設定する層状空間設定部１１２と、層状の空間に含まれる点群を平面の一方である仮投影面に仮投影する仮投影部１１３と、それぞれの仮投影面に存在する共通の図形を抽出する共通図形抽出部１１４と、図形に特徴点を設定して各仮投影面の特徴点を結ぶ直線に垂直な実投影面を設定するとともに、点群を実投影面に垂直に投影した実投影点群を生成する実投影部１１５と、実投影点の分布に基づいて基準図形を生成する基準図形生成部１１６と、基準図形を底面とする柱状の３次元形モデルを生成する３次元モデル生成部１１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】光の干渉現象を利用して検出した干渉光（光ビート信号）が正規の像を取得させるものであるのか折り返し像を取得させるものであるのかを簡易に判定することができる光干渉計測方法を提供する。
【解決手段】光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割し、前記参照光と、前記測定光が照射された測定対象１１から反射または後方散乱した光と、が干渉した干渉光を検出し、前記参照光の光路に設けられた光路長可変機構１３を駆動させて前記参照光の光路長を変化させ、前記参照光の光路長の変化に応じた前記干渉光の変化に基いて、検出された前記干渉光に基づく画像が正規の像か折り返し像かを判定し、その判定の結果に基いて前記干渉光から前記測定対象を計測する。 （もっと読む）

【課題】光干渉断層画像診断を精度よく行うのに好適な基準格子等を提供する。
【解決手段】本発明に係る基準格子１００は、光干渉断層画像の診断に用いられる基準格子であって、光を透過する部材から構成され、当該部材に複数のグリッド線１１０を備え、複数のグリッド線１１０は、光干渉断層画像に表示される。そして、基準格子１００を対象物に固定し、基準格子１００及び対象物に低干渉光を照射し、当該基準格子１００及び当該対象物により当該低干渉光が反射された反射光に基づいて、当該基準格子１００及び当該対象物を測定し、基準格子１００が備えるグリッド線１１０間の測定寸法と当該グリッド線１１０間の実寸法との差に基づいて、測定された対象物の測定寸法に含まれる誤差を特定する。 （もっと読む）

【課題】光コヒーレンストモグラフィ（以下「ＯＣＴ」という。）手法を用いて紙葉類の断面構造情報を検出する。
【解決手段】搬送機構部２０にセットされた検出対象である紙葉類１０に対し、ＯＣＴ信号検出部３０から低干渉性（コヒーレンス）光を照射し、紙葉類１０からの反射光を受光して、参照光との間で得られる干渉光の強さを検出する（ＯＣＴ生信号の検出）。得られたＯＣＴ生信号は、データ処理および判定部５０へ与えられて、データ処理および判定処理として、「反射率の深さ方向のプロファイル算出処理」（Ｓ１）、「反射率の深さ方向プロファイル解析処理」（Ｓ２）および「判定処理」（Ｓ３）が行われる。 （もっと読む）

【課題】１種類の投影パターンを用いた簡便な方法で被検物の三次元形状を測定することができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置１は、被検物５の一部の領域に縞パターンを投影するパターン投影部１０と、被検物５に投影された縞パターンを撮像する撮像部２０と、縞パターンの画像において、画像表面を通る所定の直線上での画像のコントラスト分布を算出し、そのコントラスト分布に基づいて前記所定の直線上におけるパターン投影領域の中心位置を算出し、前記所定の直線を画像表面に沿って移動させつつ前記中心位置の算出を行って取得した各々の前記中心位置に基づいて被検物５の断面形状を算出するコンピュータ４０とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウェハの外周端部を全周にわたって短時間のうちに形状検出できる形状検出装置を提供する。
【解決手段】形状検出装置1は、ウェハ保持部２０に支持されたウェハ１０の外周端部形状を検出する装置であって、ウェハ１０の外周端部に対して径方向外側の所定位置に配置されて外周端部を照明する拡散照明部３５と、ウェハ１０の表面に直交する方向に配置されて外周端部に対向し、拡散照明部３５から照射されて外周端部において反射した反射光の径方向に沿った輝度情報を検出する撮像部３０と、撮像部３０において検出された輝度情報を基にして外周端部形状を算出する演算制御部４０とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】試料に形成された周期構造の特性を実時間で分析する。
【解決手段】波長の関数としての信号を発生させる分光計測モジュールがを使用する。出力信号はプロセッサーにより方形構造の理論的な初期モデルを構築する。次いで、プロセッサーは、この試料の広帯域放射に対する理論的な光学的応答を計算する。光学的応答の計算結果は、複数の波長において計測され正規化された値と比較される。この比較に基づいて、モデルの構成は実際の計測された構造により近づくよう修正される。プロセッサーは修正されたモデルの光学的応答を再計算し、計算結果を正規化されたデータと比較する。最適な方形が得られるまでこの処理が反復して繰り返される。その後、モデルを各々幅と高さを持つ層に分割しモデルの複雑さを反復して増大させる。構造が周期構造に類似するような最適なモデルが得られるまで、反復処理によりデータが最適化される。 （もっと読む）