【課題】多層薄膜厚の形状及び屈折率分布を反射光度計の原理を利用して測定する非接触、非破壊性測定装置を提供する。
【解決手段】１枚以上の狭帯域光フィルタと二次元に配列された光検出器を使用し、また薄膜厚さと屈折率とが非線形関数で表示される原理上の数式を反復的な数値演算方法によって最適値を探すことによって基板上の多層薄膜厚の形状、屈折率の分布などを局部的に同時に測定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、屈折率と厚さの修正効果を有する精密光学コーティングモニタリング法を提供する。
【解決手段】
光学モニタリンググラフィックによって提供された情報により、また、極値点と終点の膜堆積の光学特性に合わせて、各フィルム層の屈折率や厚さ及び対応する補正厚さを推定でき、これにより、作業者が最初に入力した屈折率に対して即時に修正でき、また、フィルム層の終点透過率や反射率により、前のフィルム層の厚さを算出でき、モニタリング波長に対してエラー補正厚さを有する切点を推定でき、そのスペクトル位置が偏移しなく、中心極値も変更せず、そして、作業者が任意に各フィルム層に対して、予測した切点の近くに対応する感度が高いモニタリング波長を選択でき、作業者が工程状況をより把握でき、元の設計に満たす光学素子を作製できる。 （もっと読む）

【課題】 被検査体の端部の状態を効率良く検査するとともに、被検査体に生じる欠陥部分の画像を容易に取得する。
【解決手段】 薄膜が形成された円板状の被検査体を回転させながら前記被検査体の端部を撮像することで、前記被検査体の端部の状態を検査する端部検査装置において、被検査体の表面は、平坦部と、平坦部の周縁に設けられ、被検査体の周面に向けて下り傾斜する傾斜部とから構成されており、被検査体の上方から、傾斜部と平坦部の一部を含む被検査体の端部の画像を取得する第１の画像取得手段と、薄膜が形成されていない被検査体の表面の端部を示す基本画像と、第１の画像取得手段により取得された画像とを比較することで、薄膜が傾斜部に形成されているか否かを認識する画像比較手段と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 被測定膜を形成するための基板がホウケイ酸ガラス基板等のように赤外光の吸収が大きい基板であっても、被測定膜の実用的な赤外吸収スペクトルを得ることができるようにする。
【解決手段】 第１の試料１の基板１１上に形成された被測定膜１２および赤外光を半透過するＩＴＯ膜１３に赤外光を照射し、それによって反射された赤外光を検出し、この検出結果から第１の赤外吸収スペクトルを得る。また、第２の試料２の基板１１上に形成されたＩＴＯ膜１３に赤外光を照射し、それによって反射された赤外光を検出し、この検出結果から第２の赤外吸収スペクトルを得る。そして、第１の赤外吸収スペクトルから第２の赤外吸収スペクトルを差し引くと、第１の試料１の被測定膜１２の正味の赤外吸収スペクトルが得られる。 （もっと読む）

【課題】検査効率を向上させる。
【解決手段】流路ユニット４は、金属プレート２２〜３０の側面６６〜６９が揃うように順に積層された積層体である。金属プレート２２〜３０には、エッチング処理により孔が形成されている。金属プレート２２〜３０には、これらが積層された状態で、内部に副マニホールド流路、多数の個別インク流路及び多数のノズル孔が構成されるように、孔が形成されている。流路ユニット４の側面６６〜６９には、４つのスリット５６〜５９が形成されている。これら４つのスリット５６〜５９の開口幅は、積層されている金属プレート２２〜３０の位置ずれの許容誤差以下である。 （もっと読む）

【課題】円柱透明体中のコアの形状を、非破壊かつ非接触で測定するとともに、高い測定精度で測定することが可能な円柱透明体中のコア形状測定装置及びコア形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明は、コア形状を測定する検出器と光源と光学フィルタと円筒透明体の位置関係を円筒透明体の形状を補正しながら、一定に保つように制御することによって、マッチングオイル等を使用することなく、非接触、非破壊で高い測定精度を実現する。 （もっと読む）

【課題】同様の膜厚を有する層が複数存在する多層薄膜であっても、各層の膜厚を独立して短時間に高精度で測定することができる膜厚測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】膜厚測定装置１は、被測定フィルムＦに照射する白色光を発光するキセノンフラッシュランプ１１ａ，１１ｂと、白色光の反射光を分光して反射分光スペクトルを得る分光器１４ａ，１４ｂと、演算部１５とを備える。演算部１５は、分光器１４ａ，１４ｂで得られた反射分光スペクトルに対して複数の波長帯域を設定する設定部２２と、反射分光スペクトルのうち、設定された複数の波長帯域における反射分光スペクトルを波数域反射分光スペクトルに変換する波数変換部２３と、波数域反射分光スペクトルをパワースペクトルに変換するフーリエ変換部２４と、パワースペクトルから被測定フィルムＦの厚みを求める膜厚算出部２６とを備える。 （もっと読む）

【課題】反射像における濃淡差が相対的に小さい被測定物に対するフォーカス合わせをより容易に行なうことのできる光学特性測定装置およびフォーカス調整方法を提供する。
【解決手段】観察用光源が発生する観察光のビーム断面の光強度（光量）は、略均一である。マスク部２６ａがこの観察光の一部をマスクすることで、そのビーム断面においてレチクル像に相当する領域の光強度が略ゼロにされる。このレチクル像に相当する影領域が形成された観察光は、ビームスプリッタ２０で反射されて被測定物ＯＢＪへ照射される。この被測定物ＯＢＪに投射されたレチクル像に対応する反射像の濃淡差（コントラスト）に基づいて、被測定物ＯＢＪに対する測定光のフォーカス状態を判断する。 （もっと読む）

【課題】測定のＳＮ比を低下させることなく、光ファイバの先端部に窓材を付加し、光ファイバ先端部の汚れや破損を防止することのできる膜厚測定装置を簡単な構成により実現する。
【解決手段】 白色光を投光側光ファイバを介して被測定面に照射するとともに、この被測定面からの反射光を受光側光ファイバで受け、この反射光を利用して前記被測定面に形成された薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置において、前記投光側光ファイバの出射端と前記受光側光ファイバの受光端とを隣接して配置するとともに、この両光ファイバの端部の前方に窓材を配置し、前記投光側光ファイバから出射される白色光の光軸に対して前記窓材の取付角度を垂直状態から傾斜させる。 （もっと読む）

【課題】正確に表面形状を測定することができる表面形状測定装置、及び表面形状測定方法を提供する。
【解決手段】。
本実施の形態にかかる表面形状測定装置は、光源２１と、試料１１で反射した反射光を受光する光センサ２５とが設けられたセンサヘッド１２と、センサヘッド１２と試料１１との相対位置を変化させるＸ駆動機構１７と、光センサ２５上での反射光の入射位置を抽出する位置抽出部３１と、反射光の入射位置に相対位置が対応付けられた位置データを周波数領域のデータに変換する変換部３２と、周波数領域のデータに対して、一定周波数以上の成分、又は所定の周波数帯の成分をフィルタリングするフィルタ部３３と、フィルタリングされた周波数領域のデータを、空間領域のデータに逆変換する逆変換部３４と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】より簡易な構成でより簡単に薄膜が除去できたか否かの判断を行うことができ、より低コストの薄膜除去検出装置および薄膜除去検出方法を提供する。
【解決手段】シリコンウェーハ１０上の薄膜を除去する際に該薄膜が除去されたか否かを検出する薄膜除去検出装置であって、光源２０からシリコンウェーハ１０に光を照射して、シリコンウェーハ１０からの反射光のうち特定波長光のみを干渉透過フィルタ２２を介して透過させ、受光センサ２４により干渉透過フィルタ２２からの透過光を受光して該透過光の光強度を測定し、情報処理装置３０の処理部３６により、特定波長光の反射または吸収光強度が所定強度若しくは該所定強度の所定割合に達したか否かに基づきシリコンウェーハ１０上の薄膜が除去されたか否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】導電フィルムの検査方法の提供。
【解決手段】導電フィルムの検査方法は、基板を提供し、基板上方にポリイミドフィルム（カプトン膜）を具え、そのポリイミドフィルム（カプトン膜）上に導電フィルム層を設置する。光源で基板の側面を照射する。画像センサー出導電フィルム層の反射光線を受けてグレースケール画像を発生させる。ソフトでグレースケール画像を計算して厚みもしくは長さを得る。厚みもしくは長さの大小を判断し、厚みが第一閾値より小さい、もしくは長さが第二閾値より大きい場合、導電フィルム層に貼り付けミスがある。 （もっと読む）

【課題】高速な試料検査を提供すること。
【解決手段】被検査試料からの透過光、又は反射光を検出して測定パターンデータを取得する測定パターンデータ取得装置と、被検査試料の設計データから複数層の展開パターンデータを生成する展開パターンデータ生成装置と、透過光又は反射光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータを上層とし、複数の層の展開パターンデータの中の１つの層の画素を抽出して、測定パターンデータに対応した合成パターンデータを生成する合成パターンデータ生成装置と、合成パターンデータの画素が抽出された展開パターンデータの層を示す層識別データを生成する層識別データ生成装置と、合成パターンデータと層識別データから測定パターンデータに類似する基準パターンデータを生成する基準パターンデータ生成装置と、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較装置とを備え被検査試料を検査する試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】被検眼の画像を取得するときに被検眼を効果的に固視させる。
【解決手段】眼底観察装置1（光画像計測装置）は、低コヒーレンス光Ｌ０を眼底Ｅｆに向かう信号光ＬＳと参照ミラー１７４に向かう参照光ＬＲとに分割し、眼底Ｅｆを経由した信号光ＬＳと参照ミラー１７４を経由した参照光ＬＲとを重畳させて干渉光ＬＣを生成し、この干渉光ＬＣを検出して断層画像を形成する。放射状の複数の走査線Ｒｉに沿って信号光ＬＳを走査することにより、放射状の複数の断面における断層画像Ｇｉが得られる。３次元画像形成部２３１は、走査線Ｒｉの間隔が閾値以下である領域における３次元画像を形成する。また、眼底Ｅｆの領域を指定すると、この指定領域のサイズに応じた本数の走査線Ｒｉを自動設定する。また、走査線Ｒｉの本数を指定すると、その指定本数に応じた領域の３次元画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】膜厚の計測誤差を低減すること。
【解決手段】薄膜の膜厚計測に用いられる波長を選択する波長選択方法であって、膜質状態及び膜厚が異なる薄膜が基板上に製膜された複数のサンプルに対して異なる波長の照明光を照射し、各波長の照明光を照射したときの透過光の光量に関する評価値をそれぞれ計測し、該計測結果に基づいて、波長毎に、各膜質状態における膜厚と評価値との相関関係を示す膜厚特性を作成し、各膜厚特性において、膜質状態による評価値の計測差が所定範囲内にある波長を選択する波長選択方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】先行材の後端部と後行材の先端部とを重ね合わせて接合した帯状材の接合箇所を、簡単な構成の装置を使用して容易に検出できる接合箇所の検出方法を提供する。
【解決手段】それぞれ帯状の先行材１０の後端部と後行材１１の先端部とを重ね合わせて接合した帯状材の接合箇所１２を検出する方法において、先行材１０の後端面および後行材１１の先端面のいずれか一方の検出部１３を、非接触式の光反射型検出器１４を使用して検出する。 （もっと読む）

【課題】光計測を用いて、検査される構造体を特徴付けるプロファイルモデルを提供する。
【解決手段】ウエハ上への構造体の製造プロセス工程は、１組のプロファイルモデルと１以上の重要プロファイル形状の変数との相関を決定することによって制御される。各プロファイルモデルは、構造体の形状を特徴付ける１組のプロファイルパラメータを用いて定義される。様々なプロファイルパラメータの組が、その組内でプロファイルモデルを定義する。１のプロファイルモデルは、プロファイルモデルの組から選択される。構造体は、プロセス工程及び少なくとも１の重要プロファイル形状変数の値を用いることによって、第１製造プロセスクラスタ内で製造される。測定回折信号は、構造体を回折したときに得られる。その構造体の１以上のプロファイルパラメータは、測定回折信号及び選択されたプロファイルモデルに基づいて決定される。 （もっと読む）

第１のモードおよび第２のモードで動作するように設定された干渉計システムを備える装置を開示する。この際、第１のモードは、試験光による試験対象物の異なる照射角に対応する、第１セットの複数の干渉計シグナルを生成し、第２のモードは、試験対象物の異なる表面位置に対応する、第２セットの複数の干渉計シグナルを生成する。干渉計システムに連結される電子プロセッサは、第１のセットの干渉計シグナルを受けるよう設定されており、かつ第１セットの複数の干渉計シグナルから導き出せる情報を試験対象物の複数のモデルに相当する情報と比較して、試験対象物の１つ以上の特徴を測定し、かつ情報を出力するようプログラムされている。一部の実施形態は、解像限界以下の特徴を含む。
（もっと読む）

【課題】多くの基準となる板状部材の膜厚とパラメータとの関係を用いなくても広い範囲の膜厚測定が可能となる膜厚測定方法及び膜厚測定装置を提供することである。
【解決手段】板状部材に含まれる膜層の厚さを測定する膜厚測定方法及び装置であって、前記板状部材の面に対して透過可能な検査光を、その波長を所定範囲にわたって変化させつつ照射し、照射される各波長の検査光が前記板状部材を透過して出てくる透過光の強度を検出し、前記検査光の各波長とその透過光の強度との関係を表す特性曲線における極大点及び極小点に基づいて注目波長を決定し、前記決定された注目波長から前記膜層の厚さを算出するようにした膜厚測定方法及び装置である。 （もっと読む）

【課題】歪みを有する薄膜結晶層と前記薄膜結晶層を支持する支持層を有する試料において前記薄膜結晶層の歪みを測定する歪み測定装置を提供する。
【解決手段】本発明による薄膜結晶層の歪みを測定する装置は、可視光と紫外光を励起光として共通光軸で発生できる励起光源（１〜５）を備えている。顕微鏡室７には試料１１を支持するステージ１２が設けられている。投射光学系８，９，１０は、ステージ１２に支持された試料１１に前記励起光を投射する。分光器１８に設けられた分光手段は試料１１からの各ラマン散乱光をそれぞれ分光する。演算手段は、前記分光手段の出力から前記歪みと支持層の状態を演算する。 （もっと読む）