【課題】小型で光弾性測定装置へのセッティングが容易な光弾性変調器およびそれを備えた光弾性測定装置を提供する。
【解決手段】円盤状の光学素子４６の周側面の一端に圧電素子４７を接触させ、当該圧電素子４７と対向する側をフレーム４８に接触させて光学素子４６の両端を支持する。当該構成において、光弾性変調器４５の共振周波数を光学素子４６の共振周波数より低い周波数に設定して圧電素子４７から振動させる。このとき、光学素子４６に付与される振動は減衰した後、光学素子４６には圧電素子４７の慣性による応力のみが付与されるので、光学素子４６内には均一に複屈折量が発生し、この状態で光学素子４６に光を透過させることにより、透過光に変調がかけられる。 （もっと読む）

【課題】被写体にパターン光を照射することにより取得した画像を用いて、被写体の３次元形状を正確に計測する。
【解決手段】プロジェクタ４から所定方向に偏光されたパターン光を出射して被写体に照射する。被写体におけるパターン光の反射光は、フィルタ部１４，１５により所定方向に直交する方向に偏光されて、第１および第２のカメラ２，３に入射する。これにより、第１および第２のカメラ２，３が基準画像および参照画像を取得し、演算部５が画素の対応付けを行うことにより、被写体の３次元形状を計測する。 （もっと読む）

【課題】光ドップラ方式における長さ調整用ファイバが不要で、安価な汎用部品を用いた小型のシステム構成が可能な配管の厚み測定方法および装置を提供すること。
【解決手段】予め定められた周波数帯域内を掃引して出力する電磁石発振器３００と、測定対象物の動的歪みを検出する光ファイバセンサ２００とを一体化して有するアクティブセンサを用意し、前記アクティブセンサを前記測定対象物である配管１０に取付け、前記配管の厚み方向に０〜１０ＭＨｚの間の所望周波数に指定した超音波または振動を入力し、入力した超音波または振動の反射波またはその合成波を検出し、検出した超音波または振動信号における前記配管による共振を基に前記測定対象物の厚みを測定する、配管の厚み測定方法および装置。 （もっと読む）

【課題】測定用プローブの動きの検出方法および測定機器を提供する。
【解決手段】予め定められた像平面上に物体平面を結像するようになされた対物レンズと前記物体平面との間に設けられた測定用プローブの動きを検出するための方法が開示されている。さらに、対物レンズと測定用プローブとを含む測定機器が開示されている。光の入射ビームを測定ビームおよび参照ビームに分割する。対物レンズによって測定ビームをコリメートさせるために、測定ビームを対物レンズの後側焦点面に集光させる。コリメートされた測定ビームを測定用プローブにおいて反射させる。対物レンズが反射測定ビームを後側焦点面に集光させるようにするために、反射測定ビームを対物レンズの方へ向ける。反射測定ビームがコリメートされる。コリメートされた測定ビームおよび参照ビームを重ね合わせて重畳ビームを生成し、反射測定ビームと参照ビームとの間の干渉を検出する。 （もっと読む）

【課題】測定にかかる時間を低減させることができるとともに、鉛直方向に移動する被測定物のローリング角度の変位を測定することができる光学測定装置の提供。
【解決手段】光学測定装置１は、レーザ光源２１と、平行化レンズ２５と、第１の受光素子２３とを有する装置本体２と、反射ミラー３１を有し、被測定物に取り付けられる測定体３とを備える。測定体３は、反射ミラー３１の近傍位置に設けられ、装置本体２から射出される光を反射する一対の反射手段３２Ａ，３２Ｂを備える。装置本体２は、偏光ビームスプリッタ２４と、各反射手段３２Ａ，３２Ｂにて反射され、偏光ビームスプリッタ２４にて分離される光をそれぞれ受光する一対の第２の受光素子２６Ａ，２６Ｂと、各受光素子２３，２６Ａ，２６Ｂにて受光される光の位置変位に基づいて、被測定物の角度変位を算出する算出手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】検出光の光路上にある透過体の透過率が変化する場合であっても、被検出物の表面状態の検出精度を向上させた検出装置を提供すること
【解決手段】本検出装置は、被検出物に向けて検出光を発光する発光部と、発光部から発光された検出光の光路上に設けられ、該検出光が透過する透過体と、被検出物で反射され、かつ、透過体を透過した検出光のうち、互いに特性の異なる第１検出光及び第２検出光を受光する受光部と、受光部に受光された第１検出光及び第２検出光の受光量の相対値に基づいて、被検出物の表面状態を検出する検出手段と、を備える。本検出装置によれば、当該構成を採用しない場合に比較して、検出光の光路上にある透過体の透過率が変化する場合であっても、被検出物における表面状態の検出精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】
微細な欠陥から散乱した光の取込範囲を拡大し信号強度を高める欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】
被検査基板１を搭載して光学系に対し相対移動可能なステージ部３００と、被検査基板１上の検査領域４を照明する照明光学系１００と、被検査基板１の検査領域４からの光を検出する検出光学系２００と、検出光学系２００によって結像された像を信号に変換するイメージセンサ２０５と、イメージセンサ２０５の信号を処理し欠陥を検出する信号処理部４０２と、検出光学系２００と被検査基板１の間に配置され、被検査基板１上からの光を検出光学系２００に伝達する平面反射鏡５０１とを備える。 （もっと読む）

【課題】スリット開口を介した光透過の影響をほぼ排除し、光リソグラフィシステムの結像性能を正確に表現する像プロファイルを生成する空中像測定装置を提供する。
【解決手段】遮光層１１１は、互いに異なる構造を有する第１の開口及び第２の開口を有し、異なる構造は偏光成分のうち少なくとも１つの偏光成分を異なる状態で透過する。検出器１１５は、第１の開口を介して透過された光及び第２の開口を介して透過された光に対する別個のサンプルを生成する。検出器１１５により生成されたサンプルを使用して、空中像１０８の偏光成分ごとに別個の像プロファイルが生成される。測定装置１０９の第１の開口及び第２の開口を介した透過の影響を排除した空中像１０８の偏光成分ごとの推定像プロファイルを生成するために、生成像プロファイルの各々に対して像回復が実行される。 （もっと読む）

【課題】少ない情報で波形ライブラリの作成を可能にし、かつ、小さな波形ライブラリで高い計測分解能を達成する。
【解決手段】プロセスパラメータを変化させてパターンの断面形状をシミュレーションにて予測し、予測した断面形状から分光波形をシミュレーションにて算出し、各プロセスパラメータに対応づけることにより波形ライブラリを形成する。該波形ライブラリを参照することにより、所望の形状が得られるように設定されたプロセスパラメータを用いて実際に作成された計測対象としてのパターンから実際に取得した分光波形に対応する最適なプロセスパラメータを算出し、得られた最適なプロセスパラメータに対応する最適なパターン断面形状を生成して計測を行う。 （もっと読む）

【課題】
表面検査装置では、より粒径の小さいＰＳＬを使用することで、より小さい欠陥を検査することが可能となる。しかし、ＰＳＬの粒径は、有限である。このことから、従来の表面検査装置では、近い将来に半導体製造工程の検査で必要となるＰＳＬに設定の無いほど小さい粒径の欠陥をどのように検査するかということに関しては配慮がなされていなかった。
【解決手段】
本発明は、被検査物体で散乱，回折、または反射された光の、波長，光量，光量の時間変化、および偏光の少なくとも１つを模擬した光を発生する光源装置を有し、前記光を表面検査装置の光検出器に入射させる
【効果】
より微小な欠陥を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】新規な接触面積測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】接触面積測定装置は、試料３０に接する光透過性基板３１と、前記試料３０と前記光透過性基板３１を相対的に移動させる駆動手段３８と、前記試料３０とは反対側から、前記光透過性基板３１に白色光を照射する照射手段と、前記試料３０からの反射光と前記光透過性基板３１からの反射光とから生じる干渉画像を取得する干渉画像取得手段２７と、前記干渉画像の輝度値情報から輝度値ヒストグラムを作成する輝度値ヒストグラム作成手段と、前記輝度値ヒストグラムから輝度値差分ヒストグラムを算出する画像解析演算手段を有する。ここで、輝度値ヒストグラム作成手段は、干渉画像の輝度値情報をRGB輝度値情報に分離し、G輝度値ヒストグラムを作成する。また、画像解析演算手段は、輝度値ヒストグラムから輝度値差分ヒストグラムを算出し、前記輝度値差分ヒストグラムのうち正の値を有する領域を決定する。 （もっと読む）

【課題】光学系の組み立て調整が容易で、かつ、スケール部に異物等が付着した際の光量低下を抑えることが可能な光学式変位測定装置を提供する。
【解決手段】光学式変位測定装置１Ａは、スケール部１１Ａの回折格子１１Ｔで回折された２つの１回回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を再度回折格子１１Ｔに照射する反射光学系１６を備える。反射光学系１６は、直角を３つ合成した頂点を持つ三角錐のプリズムで構成されるマイクロコーナーキューブプリズムが、縦横に並べて配列されるマイクロコーナーキューブプリズム集合ミラー１７ａ，１７ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】微小な物体とそれに近接する透光性の物体との距離、または物体表面の微小領域とそれに近接する透光性の物体との距離を測定する。
【解決手段】透光性の基板とそれに近接する物体との距離を光学的に測定する微小距離測定方法および装置は、レンズで集光した光を基板を通過させて物体に投光し、その際に基板の表面に斜め角度で前記光を入射させ、物体の表面で反射して基板を通過した光を受光し、受光した光の振動方向の異なる偏光成分の位相差を検出し、検出した位相差に基づいて基板と物体との距離を決定する。基板を通過した光の非点収差に因る物体上の照射スポットの拡がりを低減する透光性部材がレンズと基板との間の光路内に挿入され、透光性部材と基板とを通過した光が物体に入射する。 （もっと読む）

【課題】 長い距離を高い精度でしかも短時間に測定することが可能な距離計および距離測定方法を提供する。
【解決手段】
第１の光源１から出射されて基準面４に照射される基準光Ｓ_１と第２の光源２から出射されて測定面６に照射される測定光Ｓ_２と干渉光Ｓ_３を基準光検出器３により検出して得られる干渉信号と、上記基準面４により反射された基準光Ｓ_１’と上記測定面５により反射された測定光Ｓ_２’との干渉光Ｓ_４を測定光検出器６により検出して得られる干渉信号を信号処理部７に供給して、上記信号処理部７により、上記干渉光Ｓ_３を検出した干渉信号と上記干渉光Ｓ_４を検出した干渉信号の時間差から、光速と測定波長における屈折率から上記基準面までの距離と上記測定面までの距離の差を求める。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動の影響を抑制して被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 面位置検出装置は、第１パターンからの第１の光と第２パターンからの第２の光とを被検面（Ｗａ）へ入射させて、被検面に対して第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１０）と、被検面で反射された第１の光および第２の光をそれぞれ第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３０〜２４）と、第１観測面および第２観測面における第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、例えば第２パターンの中間像を第１パターンの中間像に対して所定方向に反転された像として投射する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、被検査体全面において短時間で不良領域を検出でき、かつ検出結果を検査工程以降の工程に反映することのできる検査装置及び検査方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明は、基体の表面に微細な凹凸パターンを形成した被検査体に放射波を照射する照射機構と、被検査体を透過した放射波を検出する検出機構を備えた検査装置、検査方法において、前記照射機構は前記被検査体の表面または裏面のいずれか一方に配置され、前記検出機構は被検査体を介して照射機構とは相対する面に配置されており、検出機構で得られた被検査体の面内の透過率分布から凹凸パターンの不良領域を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被測定物が高速回転する場合であっても、その表面に傷等を付けることなく、２次元平面内変位を測定する。
【解決手段】変位計は、被測定物１０の表面の第１スポットＳ１で反射されたビームに含まれる前記２次元平面内を通過するビームを、第１偏光反射ビーム４０として受光するとともに、第２スポットＳ２で反射されたビームに含まれる前記２次元平面内を通過するビームを、第２偏光反射ビーム４２として受光し、ビームスプリッタ６００を介して、光軸に平行なビームが撮像手段の撮像面に結像するように形成されたテレセントリック光学系に導く。二つの光路には、前記第１、第２偏光ビームを前記２次元平面内と交差する方向に光学的に位置シフトさせるプリズム４００，４１０が設けられ、更に第２の反射光路には、撮像面までの光学倍率を第２の反射光路の光学倍率と等価的に同一に補正する光学倍率補正光学系５００が設けられている。 （もっと読む）

【課題】真直度を効率よく測定することができる真直度測定装置を提供すること。
【解決手段】本発明の真直度測定装置１０は、被測定物Ｍ上を自走可能であり反射ミラーを載置した筐体１１と、筐体１１とは別に設置されたオートコリメータ１２と、筐体１１の走行距離データ、及びオートコリメータ１２からの傾斜データを処理し被測定物Ｍの真直度を算出する解析用コンピュータ１３とを備えている。筐体１１は、その底面側にタイヤ８ａ、８ｂを有し、タイヤ８ｂの回転によって筐体１１の走行距離が求められ、その走行距離は解析用コンピュータ１３に入力されて被測定物Ｍ上における筐体１１の位置が算出される。 （もっと読む）

【課題】 所定領域の歪の値を迅速に測定することを可能にする。
【解決手段】 成形し徐冷されて移動するガラスリボンの帯状領域を、既知の偏光光を通過させ、この帯状領域の各点を通過した光の偏光方位の変化を画素単位で検出して算出し、前記算出した各点の偏光方位の変化量から前記ガラスリボンの帯状領域の各点の歪を一度に求め、前記ガラスリボンの移動にあわせて所定の間隔で、前記帯状領域の歪を求めることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成される膜の状態を、ランニングコストを抑制しつつ、高精度に測定できる状態測定装置および状態測定方法を提供する。
【解決手段】吸光度に周期的な変動を生じさせる干渉位相角の影響をゼロにするために、被測定物ＯＢＪに対して、ｓ偏光成分を極力低減して、ｐ偏光成分を主体とする光を、所定の入射角φ_０で照射する。入射角φ_０は、薄膜２４と基板２２との界面、および真空雰囲気と薄膜２４との界面において、ｐ偏光成分についての振幅反射率が極小値となる入射角をそれぞれ含む所定の角度範囲内の値である。 （もっと読む）