【課題】板状試料の大きさ、形状に関わらず、試料底面を試料台に接触させずに簡便に安定した状態で保持できる保持具を提供する。
【解決手段】板状上部保持部材２と板状下部保持部材３と両保持部材の間に試料を挟んだ状態で両保持部材を固定する固定手段（４、５、５a、５ｂ）とを備え、前記固定手段を、前記両保持部材の板中心から離れる位置に設ける構造とする。 （もっと読む）

【課題】帯電粒子ビームの角状変位を判断し、高い側壁角度均一性の側壁を含むテストオブジェクトの複数の測定値に基づく帯電粒子ビームシステムを較正する為のシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】帯電粒子ビームの経路は、複数のビーム制御パラメータにより制御される。方法は、角状変位を実質的に減少させるパラメータを判断し、これらを適用して帯電粒子ビームシステムを較正する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折させてスペクトルを採取するシステムにおいて、採取スペクトルの各ピークが、測定対象であるか、カソードルミネッセンスや高次線の複合ピークであるかの情報を提供する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部１０と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子５０と、前記回折格子で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサ６０と、前記回折Ｘ線のイメージのエネルギー分散方向を測定長手方向として前記イメージセンサに隣接して配置され、エネルギー設定範囲において前記回折Ｘ線を検出するシンチレーションカウンタ７０と、前記イメージセンサで検出された前記回折Ｘ線のスペクトルを分析すると共に、前記シンチレーションカウンタの検出結果を参照し、前記スペクトルのピークの内容を分析する分析部８０とを備える。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折させてスペクトルを採取するＸ線検出システムにおいて、適切な集光を行うＸ線集光ミラーを備えることでエネルギー分布スペクトルの検出精度を維持する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を集光させて回折格子に導くＸ線集光ミラーと、前記Ｘ線集光ミラーの位置もしくは角度を調整するＸ線集光ミラー調整部と、前記Ｘ線集光ミラーにより集光された特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサと、を備え、前記Ｘ線集光ミラー調整部は、前記Ｘ線集光ミラーの反射面において反射する前記特性Ｘ線のエネルギーに応じて反射可能な角度範囲で、前記Ｘ線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折させてスペクトルを採取するシステムにおいて、採取スペクトル中にカソードルミネッセンスが含まれているかを検出し、除去する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサと、前記イメージセンサで検出された前記回折Ｘ線の採取スペクトルを分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部と、前記エネルギー分布スペクトルのベースラインを抽出するベース抽出部と、前記ベースラインの傾きから前記エネルギー分布スペクトルに含まれるカソードルミネッセンス成分を抽出するカソードルミネッセンス抽出部と、を備え、前記分析部は、抽出された前記カソードルミネッセンス成分を前記エネルギー分布スペクトルから除去する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、ＴＥＭ画像形成の質を改善することである。
【解決手段】
透過型電子顕微鏡の検出器システムにおいて、画像取得期間の間に、画像データがピクセルから読み出され、分析される。画像取得プロセスは、分析結果に基づいて修正される。例えば、分析は、チャージングやバブル形成の画像アーチファクトのデータへの混入を示す。そして、アーチファクトを含むデータは、最終画像から取り除かれる。ＣＭＯＳ検出器は、高速なデータレートで選択的にピクセルを読み出し、リアルタイムの適応画像処理を提供する。 （もっと読む）

【課題】設計データを制約条件として用い単調なパターンでも精度の良い連結画像を生成することを目的とする。設計データと画像データとのマッチングで大まかに基準位置を求めて、設計データとのズレ量を検索範囲として、隣接画像間でのマッチングを行い高速で精度の良い連結画像を生成する。
【解決手段】本発明の画像生成方法は、走査型電子顕微鏡を用いて電子デバイスパターンを検査する画像生成方法であって、電子デバイスパターンのレイアウト情報が記述された設計データを入力して記憶した設計データファイルと、撮像位置を変えて前記電子デバイスパターンを撮像して得た複数枚の分割画像データと、前記複数枚の分割画像データと前記設計データファイルの設計データとを用いて前記複数枚の分割画像データを１枚の画像に連結する画像連結手段とで構成される。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスやデバイスシステムの欠陥箇所や不良箇所を、３次元の電流像を用いて特定することができる３次元像測定装置を提供する。
【解決手段】３次元像測定装置１００は、走査信号を走査ミラー２３に出力する走査回路２４と、第２の対物レンズ２５を光軸に沿って移動させ、光軸方向における試料２００及び第２の対物レンズ２５間の相対距離を変化させる光軸方向移動機構２６と、制御信号を光軸方向移動機構２６に出力する光軸方向移動制御回路２７と、試料２００に流れる誘起電流を出力する導電性プローブ３１と、走査回路２４からの走査信号及び導電性プローブ３１からの電流値に基づいて試料２００の２次元電流像を構築し、光軸方向移動機構２６による各相対距離における各２次元電流像を重ね合わせた３次元電流像を構築する演算部４３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡法（ＴＥＭ）研究に適した材料試料（ＴＥＭ「薄片」）、特にＨＲＴＥＭ薄片（ＨＲ＝高分解能）、その製造プロセス、及び当該プロセスを実行する装置。
【解決手段】ＴＥＭ薄片を製造するプロセスは、厚さを有する板状基板を支持体に取り付けるステップ（Ｓ１）と、第１ストリップ状凹部を基板の第１面に、支持体に対して第１角度で、粒子ビームを用いて製造するステップ（Ｓ３）と、第２ストリップ状凹部を基板の第２面に、支持体に対して第２角度で、粒子ビームを用いて製造するステップ（Ｓ５）であって、第１ストリップ状凹部第２ストリップ状凹部が、薄肉の重なり領域を形成するようにする。薄片は、厚肉のリム領域及び薄肉の中央領域を有し、第１ストリップ状凹部を薄片の第１の平坦面に、第２ストリップ状凹部を薄片の第２平坦面に有し、第１凹部及び第２凹部は、相互に鋭角又は直角を形成する。 （もっと読む）

【課題】ポリマ材料内での無機充填剤の分散状態の解釈が容易な無機充填剤を含むポリマ材料の観察方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２種類以上の高分子材料と、１種類以上の無機充填剤を原料として混合しているポリマ材料の相分散構造解析に際し、高分子材料の内、少なくとも１種類以上と化学反応して重金属化合物を形成し、かつ無機充填剤とも化学反応する電子染色溶液に、ポリマ材料の試料片を浸漬させた後、水洗し、その試料片を走査型電子顕微鏡で観察して、化学反応した高分子材料と化学反応しない高分子材料と無機充填剤とが分散した反射電子像を収得し、その反射電子像中の無機充填剤が溶出した跡の孔の部位と溶出しない無機充填剤の部位との輝度を一致させた反射電子像を得るようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折格子により回折させてイメージセンサでスペクトルを採取するシステムにおいて、幅広いエネルギー領域の測定を行う。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折Ｘ線のエネルギー分散方向と直交方向の複数の位置に前記回折Ｘ線の結像面を振り分けるように前記回折Ｘ線の進行を振り分けるスプリッタと、前記スプリッタにより振り分けられた複数の結像面のそれぞれに配置された異なるエネルギー感度特性の複数のイメージセンサと、を有する。 （もっと読む）

【課題】単純な構成で高精度のＮＲＦ分析を行う。
【解決手段】電子加速装置１１１によって、高エネルギーまで加速された電子線１１２が図中右方向に放射される。一方、レーザー光源１２によって発せられたレーザー光１３は、回転式波長板１４を透過し、反射鏡１１３で反射され、電子線１１２中の高エネルギー電子と正面衝突するように設定される。レーザー光１３はＬＣＳガンマ線１５となり、図中右側に発せられる。試料１００における原子核は、このＬＣＳガンマ線１５を吸収し、核共鳴散乱によって、ＮＲＦガンマ線２１を発する。このＮＲＦガンマ線２１は、ＮＲＦガンマ線検出器（ガンマ線検出部）２２で検出される。回転式波長板（偏光方向切替部）１４は、垂直偏光されたレーザー光１３の偏光方向を制御する。特に、レーザー光１３の光軸を変えずに、その偏光方向を垂直な２方向に制御する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折格子により回折させてイメージセンサでスペクトルを採取するシステムにおいて、回折格子やイメージセンサに入射するＸ線の比率を大きくする。
【解決手段】試料２０に対して電子線を照射する電子線照射部１０と、電子線が照射された前記試料２０から放出される特性Ｘ線を集光させて回折格子５０に導くＸ線集光ミラー３４と、前記Ｘ線集光ミラー３４により集光された特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子５０と、前記回折格子５０で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサ７０と、を有し、前記Ｘ線集光ミラー３４の位置もしくは角度を調整するＸ線集光ミラー調整部３２を有する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】再構成画像の偽像や像の欠落を大きく低減し、再構成の精度を向上するとともに、複数成分で構成されている観察対象物に対しても、構造物の組成数が未知である試料に対しても適用できる画像処理を提供すること。
【解決手段】観察対象物を傾斜する傾斜装置と撮像装置を有した電子顕微鏡において、該観察対象物をある角度ステップで傾斜し、得られた傾斜画像を格納する手段、該傾斜画像の位置を合わせる手段、該傾斜画像を元に初期再構成画像を生成する手段、該初期再構成画像を任意の角度に投影し複数枚の投影画像を生成する手段、上記傾斜画像と上記投影画像との対応するピクセルの誤差を演算する手段、該誤差から処理の優先度を決定する手段、階調レベル毎に密度を演算する手段、該密度から処理の優先度を決定する手段、更に上記それぞれの優先度で上記初期再構成画像の各ピクセルの濃度値を変化させる手段を備えた画像処理装置。 （もっと読む）

【課題】
デバイス等の不良原因となる数μｍ程度の有機微小異物をＳＥＭ中で高感度に分析できる質量分析手法を提供することを目的とする。
【解決手段】
ＳＥＭチャンバ内に、微小試料を加熱するための加熱機構、気化した試料を分析するための質量分析計を取り付ける。こうすることにより、ＳＥＭ中で観察した異物をＳＥＭの真空チャンバから取り出すことなく、そのまま微小有機異物の質量分析が可能となる。またＥＤＸとの併用で無機／有機異物ともに同定可能となり、異物分析を高スループットに行うことができる。 （もっと読む）

【課題】試料の先端部分が破損し難く、且つ、（メッシュが搭載される試料ホルダの窪み（凹部）形状を専用形にすることが不要な）汎用性の高い、試料保持用のメッシュ、及び元素分析方法を提供する。
【解決手段】透過型電子顕微鏡に用いられるリング状平板形状を有する試料保持用メッシュ１４において、前記リング状平板の上面に設けられた溝２２により、前記リング状平板を第１および第２の半リング状平板形状に２分して形成された第１および第２のメッシュと、を有し、前記第１および前記第２のメッシュからなる前記リング状平板形状の前記第１のメッシュ上に試料を搭載した状態で、前記第２のメッシュを前記溝から前記リング状平板の下面方向に折り曲げて、前記第１のメッシュの下面側に折りたたむことができる。 （もっと読む）

【課題】収束電子回折を用いた、物性の新規な測定方法を提供する。
【解決手段】物性の測定方法は、透過型電子顕微鏡により、試料の収束電子回折実験像を取得する工程と、収束電子回折実験像のＺｅｒｎｉｋｅモーメントの強度を計算する工程と、試料に関し物性を変化させて計算された収束電子回折計算像のＺｅｒｎｉｋｅモーメントの強度と、収束電子回折実験像のＺｅｒｎｉｋｅモーメントの強度とを比較する強度比較工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハに形成された半導体チップのメモリマット部の最周辺部まで高感度に欠陥判定できる検査装置およびその検査方法を提供する。
【解決手段】所定パターンがＸ方向，Ｙ方向ないしＸＹ両方向に所定のピッチで繰返し形成された回路パターンの形成領域を備えるダイの画像を取得して欠陥を判定する回路パターン検査装置において、前記取得された回路パターンの画像を記憶する画像メモリと、該画像メモリに記憶された画像を、当該画像データを前記Ｘ方向，前記Ｙ方向ないし前記ＸＹ両方向のいずれかの方向に加算平均して得られる加算平均画像と比較して差分画像を生成し、該差分画像の差分値が予め定められたしきい値より大きい領域を欠陥と判定するプロセッサエレメントと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 高抵抗体の帯電特性評価をミクロンスケールで行うことのできる高抵抗体の帯電特性評価装置、帯電特性評価方法および帯電特性評価プログラムを得る。
【解決手段】 真空内に載置された高抵抗体の帯電特性の均一性を評価する帯電特性評価装置。高抵抗体を帯電させる電子銃２と、２次電子検出器７０と、検出された２次電子を潜像画像データに変換する画像データ変換部８２と、変換された潜像画像データを２値化する２値化部８３と、２値化された潜像画像データのうち明部の画素数を計測する明部画素カウント部８４と、計測手段による計測結果に基づいて高抵抗体の帯電特性の均一性を評価するコンピュータと、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、エッジの変形、或いはコントラストの変動等に依らず、高精度にパターンマッチングを行うパターンマッチング方法，画像処理装置、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、以下に設計データに基づいて形成されたテンプレートを用いて、画像上でパターンマッチングを実行するパターンマッチング方法、或いは装置であって、パターンの輪郭を定義する線分によって、区分けされる内側領域、及び／又は外側領域について、画像の特徴量を求め、当該特徴量が所定の条件を満たした位置をマッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置と決定するパターンマッチング方法、及び装置を提案する。 （もっと読む）