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Fターム[2G001HA13]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 表示、記録、像化、観察、報知等 (3,732) | 撮像的;TV;CRT (1,803)

Fターム[2G001HA13]に分類される特許

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【課題】エネルギーサブトラクション法により得る2つのX線画像上の被検査物の大きさと形状を略一致させ、異物検出性能の低下を防止することができるX線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】X線管31を、搬送面に平行な平面上において搬送部2の搬送方向上流側または搬送方向下流側に位置調整可能に支持する支持機構100と、第1のX線画像データおよび第2のX線画像データから被検査物Wの搬送方向の濃淡変化を示す第1の波形および第2の波形をそれぞれ取得し、第1の波形形状と第2の波形形状の差異に基づいて、X線管31の調整方向を判定する調整判定部81と、調整判定部81により判別された調整方向を表示する表示器5と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】実際のアルミダイカスト部品の内部欠陥、特に破断チル層の状態を適正に検出することが可能なアルミダイカスト部品の欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】超音波探傷で得られる画像及びX線CTで得られる画像の同一欠陥に対する欠陥面積が同等になるように予め両者の画像出力を調整し、アルミダイカスト部品の予め設定された所定範囲の内部欠陥を超音波探傷及びX線CTし、当該所定範囲の超音波探傷による内部欠陥を画像解析して求めた欠陥面積の総和を超音波探傷による欠陥総量として算出し、当該所定範囲のX線CTによる内部欠陥を画像解析して求めた欠陥面積の総和をX線CTによる欠陥総量として算出し、超音波探傷による欠陥総量からX線CTによる欠陥総量を減じてアルミダイカスト部品の予め設定された所定範囲の破断チル層の総量を算出する。 (もっと読む)


【課題】X線等の電磁波や電子線、中性子線等の粒子線を利用し、試料の断層像を撮影するComputerized Tomography Method(CT法)において、密度等のスカラー場ではなく、磁気等のベクトル場の断層像を得る。
【解決手段】試料または入射エネルギー線をφ回転させて測定した強度Iφ(xr)のxr−φ分布から、2Iφ(x)・cos(φ)及び2Iφ(x)・sin(φ)を用いてサイノグラムを再構成し、ベクトル場の成分分離を行い、再構成することでベクトルの断層像を得る。 (もっと読む)


【課題】簡単な手段によって被検出物内への異物の混入の有無の判断を容易にするX線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】X線異物検出装置は、異物Yが混入したおそれのある被検出物にX線を照射するX線照射部1と、前記被検出物を透過したX線を受けて発光する発光部3と、前記発光した光を受光する受光部4とを備えるX線異物検出装置であって、前記受光部3が受光した光から、被検出物の白黒画像を生成し、前記白黒画像中の一定の濃度値の範囲に対して、その濃度値に応じた色彩を付したカラー画像を生成する画像生成部9を有する。 (もっと読む)


【課題】クリープ損傷を受ける金属の余寿命をDパラメータ法で診断するに際し、余寿命診断処理を容易化する。
【解決手段】
診断用コンピュータ3に、金属表面における複数の粒界に対応する粒界画像データを取得させ(S3)、粒界画像データから、各粒界の始点座標と終点座標を含む粒界データを取得させ(S4)、配管の応力方向に垂直な参照方向を示す参照方向データを、粒界画像データに設定させ(S5)、参照方向データに基づいて、複数の粒界データの中から、参照方向を中心とする所定の角度範囲に属する垂直粒界データを抽出させ(S5)、垂直粒界データに対応する粒界上のボイド形成状態に基づいて、当該垂直粒界データが損傷粒界に対応する損傷粒界データか否かを判断させ(S6)、垂直粒界データに対応する粒界の数、及び、損傷粒界データに対応する粒界の数に基づき、Dパラメータ法を用いて金属の余寿命を診断させる(S8)。 (もっと読む)


【課題】未処理の二軸延伸PETフィルム或いはシートは工業用や包装用など幅広く使われており、機能材料を塗工したり、易接着材料やプラライマー材料を予め塗工した後に機能材料を貼り合せ(ラミネート)たりして高付加価値を付与している。その際、従来はぬれ張力や接触角などでぬれ性の良いPET基材を選択してきたが、密着性との相関は高くはなかった。
【解決手段】これまでに無い密着性の指標として、XPS(X線光電子分光法)分析により検出角度45度で測定した最表面のC(炭素)、O(酸素)、Si(珪素)のナロースペクトルから得られたSi比率が0.2atomic%以下である場合は、PET基材の密着性が高いと考えられる。また、新たに加熱工程を経た場合には、Si由来のPET添加剤であるシリカフィラーがブリードして表出するので、再度XPS分析を行い、Si比率を把握することで品質管理を行うことが出来る。 (もっと読む)


【課題】電子ビーム又はイオンビーム撮像機器による極端紫外線リソグラフィ(EUVL)マスク検査の技術を提供する。
【解決手段】結合モジュールは、開口を定める上側部分と、マスク接触要素と、チャック接触要素と、マスク接触要素と上側部分の間に接続された中間要素とを含むことができる。開口の形状及びサイズは、極端紫外線(EUVL)マスクのパターン転写区域の形状及びサイズに対応することができる。結合モジュールは、マスク接触要素がEUVLマスクの上側部分に接触した状態でチャック接触要素がEUVLマスクを支持するチャックに接触するような形状及びサイズとすることができる。結合モジュールは、EUVLマスクがチャック上に位置決めされた時にEUVLマスクの上側部分とチャックの間に少なくとも1つの導電経路を更に提供することができる。 (もっと読む)


【課題】 被検体が撮像装置内に配置された後にアライメントを行うX線タルボ干渉法用撮像装置において、アライメント時に被検体に照射されるX線量を低下させること。
【解決手段】 撮像装置1は、X線源2からのX線を回折することで干渉パターンを形成する回折格子3と、回折格子を経たX線を検出する検出器5と、X線源と前記被検体の間に配置可能なX線を遮るシャッタ21と、アライメントを行う調節機構を備える。
シャッタはX線源と被検体の間に配置されたとき、シャッタによってX線の照射を遮られる第1の空間30と、シャッタによってX線の照射を遮られない第2の空間31を形成し、被検体は第1の空間に配置される。
また、調節機構は、第2の空間を経て検出器により検出されるX線の強度分布の少なくとも一部に基づいてアライメントを行う。 (もっと読む)


【課題】 簡易的なスクリーニングを迅速に実施することができるX線回折測定データの解析方法を提供する。
【解決手段】 X線回折装置5から出力されたX線回折測定データに基づき回折X線のピーク位置と積分強度を求め、当該求めた回折X線のピーク本数を計数し、あらかじめ設定したピーク本数に達したときに解析処理を開始する。解析処理は、測定開始からそれまでに得られたX線回折測定データに対して繰り返し実行する。具体的には、測定開始から当該解析処理までに得られたX線回折測定データから回折X線のピーク位置と積分強度とを求め、それらをあらかじめデータベース化してある標準ピークカードデータと照合して、測定試料Sに含まれる物質を検索する定性分析と、測定試料Sに含まれる物質の量を求める定量分析とを行う。 (もっと読む)


【課題】金属材料の破壊原因を簡易かつ精度よく推定することが可能な方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】破断した金属材料の破壊原因を電子後方散乱回折像法により推定する。破断した金属材料において破断面と垂直な面を測定面とし、この測定面上に電子線を照射して電子後方散乱回折像を取得する。この電子後方散乱回折像に基づいて各照射点における結晶方位を決定し、各照射点における方位差を決定する。そして、測定面を破断面からの深さ方向において所定間隔毎に複数の区分に分割し、各区分毎にその区分に属する複数の照射点の方位差の平均値を求め、破断面からの深さを横軸、方位差を縦軸とした座標上にプロットし、このプロットに基づいて方位差曲線を得る。得られた方位差曲線のパターンを、あらかじめ破壊原因の分かっている標準試料を用いて求めた標準方位差曲線と比較することにより、破断した金属材料の破壊原因を判定する。 (もっと読む)


【課題】適量の物品と粉粒物が充填された製品か否かの判定が行えるX線検査装置を提供する。
【解決手段】X線照射器21は、物品および粉粒物を含む被検査物にX線を照射する。X線ラインセンサ22は、被検査物を透過したX線を検出する。画像生成部82aは、X線ラインセンサ22によって検出された透過X線の透過量に応じてX線画像を生成する。暗部特定部82bは、第1の閾値に基づいてX線画像のうち所定の濃淡値を有する暗部を特定する。第1判定部82cは、X線画像に含まれる暗部の総面積と第2の閾値に基づいて、正量品を判定する。 (もっと読む)


【課題】 従来の光の散乱を用いた異物検出と、反射結像型電子顕微鏡による異物検出とでは、全く原理が異なることから、得られた異物検査データを直接比較することはできず、総合的な異物管理ができない課題があった。また、同一のウェハを、散乱光を用いた検査装置と反射結像型電子顕微鏡との別々の装置で検査を実施すると、二つの装置間でのウェハ搬送中に新たな異物が付着する危険性を除外できず、厳密な検査データの比較ができないという課題があった。
【解決手段】 反射結像型電子顕微鏡の対物レンズの周囲に、レーザー光導入システムと、散乱光検出器を配置し、同一の装置で散乱光による異物検出と、反射結像型電子顕微鏡による異物検出とを実施できるようにした。 (もっと読む)


【課題】貨物の移動方向に対して直交する平面内にX線が透過し難いものが複数重なった状態であっても、個々の被検体の形状による識別が可能である貨物多視角検査装置と方法を提供する。
【解決手段】被検体を収容した貨物1の移動方向9に対し交差し、かつ互いに交差する複数の平面A,B,C内において、貨物に対してX線21(線状X線22)を照射する1又は複数のX線発生装置12と、各平面内において、貨物を透過した透過X線23(線状透過X線24)の強度をそれぞれ検出する複数のX線検出器15と、検出した透過X線の強度から、貨物の各平面に直交する複数の透過X線画像25を作成する画像処理装置16と、複数の透過X線画像25を表示する画像表示装置18とを備える。 (もっと読む)


【課題】大規模な機構部を用いることなく負荷が掛かったタイヤを検査するタイヤ検査装置を提供する。
【解決手段】ホイール3に装着保持され内部の空気が加圧されたタイヤ2に対し、接地面に加圧板4cを押し付けて負荷を掛ける負荷機構4bと、負荷を掛けられたタイヤ2を撮影して複数の互いに平行な断面像7(7a,7b,7c)を撮影するCT部5と、複数の互いに平行な断面像7から断面変換してホイール3の回転軸HAを通る複数の互いに傾斜した断面像を作る画像処理部6を有することを特徴とするタイヤ検査装置。 (もっと読む)


【課題】皮膜付き鋼板などの試料の表面に生じたクラックをより適切に評価し得るクラック評価方法を提供する。
【解決手段】試料表面に発生したクラックを評価するクラック評価方法であって、上記試料表面に金属薄膜を成膜する工程と、走査電子顕微鏡(SEM)を用いて上記金属薄膜の反射電子像(BSE像)を取得する工程と、上記取得したBSE像に基いて上記クラックを評価する工程と、を備えるクラック評価方法。 (もっと読む)


【課題】液体の蒸発に無関係な微量液滴の体積の測定を、精度良くかつ正確に実現する。
【解決手段】基板上に複数の空間を形成し、空間の一部に標識物質を含む測定用液体を分注するとともに、他の一部の空間に標識物質のみの液体を入れ、分注した測定用液体中の標識物質の物性を検出するとともに、標識物質のみの液体の物性を検出し、両検出値により分注後の測定用液体の体積を測定する。前記空間は前記基板とは別体に形成した隔壁の上下に貫通する複数の通孔とし、開口上下端の周囲に形成した溝にはOリングを設ける。また、前記空間の一部を液体を入れない空間とし、前記標識物質の液体の物性検出時の参照用空間として用いる。また、隔壁の空間を密封する蓋を備え、標識物質のみを入れる空間には標識物質を全て充填して蓋により密封して光路長を規定しても良い。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、プラント配管のように狭隘部に設置された被検体を、放射線源と放射線検出器の並進走査による断層撮影方法により、形状再現性の高い放射線断層撮影方法および放射線断層撮影装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、前記並進走査の方向と直交する面内における、前記被検体の周囲の円軌道上の少なくとも2つの異なる位置から前記被検体の方向に前記放射線を照射し、それぞれの照射方向で前記並進走査して撮影することを特徴とする。
【効果】本発明によれば、プラント配管のように狭隘部に設置された被検体を、放射線源と放射線検出器の並進走査による断層撮影方法により、形状再現性の高い放射線断層撮影方法および放射線断層撮影装置を提供できる。 (もっと読む)


【課題】X線を放出する曝射タイミングと撮影したデータを読み出す読み出しタイミングとを厳密に管理する必要があるX線透視システムでは、曝射ユニットとセンサユニットを物理的に分離して、ワイヤレスでタイミング管理する装置を提供する。
【解決手段】無線通信手段のビーコン信号を撮影フレームレートに関連づけた周期で発生すると共に、同ビーコン信号からのオフセット時間を設定可能なカウンタタイマを設け、そのカウンタタイマへの設定値によって、曝射や読み出しなどの各種トリガ信号を生成する。両ユニット間の同期は、フレーム周期ごとに発生するビーコン信号によって担保される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表面の粗さをより低減し得る位相型回折格子および該製造方法ならびにこれを用いたX線撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の位相型回折格子は、第1光学的距離に対応する第1厚さを有して所定の規則に従って配列された複数の第1光学的距離部分12aと、これらを通過したX線に対して所定の位相差を生じさせる第2光学的距離に対応する第2厚さを有して複数の第1光学的距離部分12aに応じて配列された第2光学的距離部分12bとを入射面と射出面との間に備え、第2光学的距離部分12bは、複数の光学的要素で構成され、これら複数の光学的要素のうちで最も外部に露出する最外露出の光学的要素部分12b2の光学的要素は、仕様によって許容される表面粗さを持つ厚さであり、第1光学的距離部分12aは、第2光学的距離部分12bの複数の光学的要素における各屈折率よりも高い屈折率を持つ1個の光学的要素で構成される。 (もっと読む)


【課題】実際のゴム材料から精度良くシミュレーション用のゴム材料モデルを定義しうる方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料のシミュレーション方法であって、走査型透過電子顕微鏡を用いてゴム材料の電子線透過画像を取得する撮像工程S1と、撮像工程で得られた画像からトモグラフィー法により前記ゴム材料の3次元構造を構築する工程S2と、前記3次元構造からゴム材料モデルを設定するモデル設定工程S3乃至S4と、前記ゴム材料モデルに基づいて変形シミュレーションを行う工程S5とを含み、前記ゴム材料モデルは、充填剤モデルと、前記充填剤モデルを囲むとともにゴムが有限個の要素で分割されたゴムモデルとを含み、該ゴムモデルには、変形速度に応じて発生する応力が異なる変形速度依存性が定義されたことを特徴とする。 (もっと読む)


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