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Fターム[2G001KA03]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 分析の目的、用途、応用、志向 (3,508) | 欠陥;損傷 (1,042)

Fターム[2G001KA03]に分類される特許

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【課題】低エネルギX線の散乱による被検査物内の異物像のコントラストの低下を防止し、簡単な操作により、様々な材質の被検査物のそれぞれに良好なコントラストの異物像を得ることができ、ひいては異物の検出性能を常に良好なものとすることのできるX線検査方法および装置を提供する。
【解決手段】X線発生器1からのX線を被検査物Wに照射し、その被検査物Wを透過したX線の空間線量分布から、被検査物内の異物の有無を判定するに当たり、X線発生器1と被検査物Wの間に、当該被検査物Wの材質と同じ材質、もしくは、当該被検査物Wの材質とX線に対して等価な物質からなるX線フィルタFを介在させることで、被検査物W(正常部位)を透過しやすいX線で、かつ、被検査物W内で散乱しにくいエネルギ帯のX線を選択的に被検査物Wに照射することを可能とし、被検査物W内でのX線の散乱による異物像のコントラストの低下を防止する。 (もっと読む)


【課題】検査対象物のX線透過画像にモアレ縞が発生する場合において、モアレ縞を消滅させる。
【解決手段】画像処理合成装置14は、X線源11と輝度倍増管12とカメラ13とから成る構成により得られた、被検体1のX線画像を取得し、モアレ縞が発生しているか否かをチェックする。モアレ縞発生の場合には、回転機構制御部15によって輝度倍増管12とカメラ13とを回転軸C2回りで同期回転させる(所定角度分回転)。そして、再び被検体1のX線画像を取得し、モアレ縞が発生しているか否かをチェックする。これをモアレ縞が発生していないX線画像が得られるまで繰り返す。 (もっと読む)


【課題】
半導体装置製造プロセスで形成されるパターンの検査前に実行されるプリチャージの最適な条件を簡易に設定できるようにし、プリチャージの良否を自動判定し、その後の動作にフィードバックするようにして、検査結果の信頼性の低下を防ぎ、常に安定した検査ができるようにする。
【解決手段】
電子ビームを照射する前に、電子ビームを発生させる電子源とは別の第二の電子源から電子を発生させて基板の表面に帯電を形成させる帯電形成手段と、該帯電形成手段により基板の表面に帯電が形成された状態で、基板に流れる電流の値を計測する電流計測手段と、該電流計測手段により計測された電流の値が予め定められた目標値になるように帯電形成手段により形成される帯電を調整する調整手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】検査基板8を短時間で検査可能な電子線式基板検査装置1を提供する。
【解決手段】検査基板8上の検査領域内に電子線9を走査させる手段11、12と、検査基板8から発生する信号を検出する手段7と、検査基板8上の走査位置と信号を対応付けて画像化する手段13と、検査基板8上に形成される複数の半導体装置の配列データと設計データ19とに基づいて、検査基板8上における複数の半導体装置の存在する範囲を示すダイ領域と、半導体装置における、論理回路の存在する範囲を示す論理回路領域と、メモリ回路の存在する範囲を示すメモリ回路領域と、周辺回路の存在する範囲を示す周辺回路領域との内の少なくとも1つの領域をレイアウト上に生成する手段15aと、生成された領域を用いて、検査領域を設定する手段15bとを有する。 (もっと読む)


【課題】物品サイズ等に関してオペレータによる設定値の入力作業が不要であり、しかも、どのような向きで物品がX線検査装置に供給された場合であっても、封止部分への内容物の噛み込みを正確に判定することが可能な、X線検査装置を得る。
【解決手段】2値化画像作成部94は、シール部分31の輝度レベルよりも低い輝度値を第1のしきい値TH1としてX線透過画像を2値化することにより、第1の2値化画像(画像データS13A)を作成し、第1のしきい値TH1よりも低く、チーズ30の部分の輝度レベルよりも高い輝度値を第2のしきい値TH2としてX線透過画像を2値化することにより、第2の2値化画像(画像データS13B)を作成し、噛み込み判定部95は、第1の2値化画像と第2の2値化画像とに基づいて、シール部分31へのチーズ30の噛み込みを判定する。 (もっと読む)


【課題】より短時間で欠陥を撮像できる欠陥観察装置および欠陥観察方法を得ること。
【解決手段】この欠陥観察方法は、観察対象物の欠陥および基準マークの位置座標を取得するステップと、欠陥を検出して、この検出された欠陥位置に応じて位置座標を補正する第1の方法で欠陥を撮像するのに必要な第1の時間を算出するステップと、基準マークを検出して、この検出された基準マーク位置に応じて位置座標を補正する第2の方法で欠陥を撮像するのに必要な第2の時間を算出するステップと、第1、第2の時間を比較するステップと、比較結果に応じて、第1または第2の方法で位置座標を補正して欠陥を撮像するステップとを具備する。 (もっと読む)


【課題】現地プラント配管撮影のように、従来CTで必要な完全データの取得が困難であり、非常に小さい角度範囲での不完全投影データのみから画像再構成演算を実施し、被検体内部の浅い減肉のような微小欠陥などを画像化できる高画質な断層画像を作成できる配管検査用断層撮影方法および装置を提供することにある。
【解決手段】断層撮影装置20は、限定された複数の方向から前記配管の投影データを撮影する。制御・画像取込装置31は、投影データを取り込む。画像再構成演算装置34は、画像取込装置31により取り込まれた投影データから配管の概略形状を画像再構成する。形状情報付与装置32は、画像再構成演算装置34により計算された配管の概略形状に対して配管の概略形状の精密な形状情報を与える。画像再構成演算装置34は、形状情報付与装置32により与えられた精密な前記形状情報を拘束条件として画像再構成を実施する。 (もっと読む)


【課題】試料表面を短時間で走査し且つ試料表面に付着した粒子を高分解能で検出することができる走査型粒子検出装置を提供する。
【解決手段】導体部を有する探針8にて試料S表面を走査し、試料S表面に付着した粒子Pが存在する検査対象領域を検出する走査型粒子検出装置において、検査対象領域を検出した場合、試料S表面から離隔する方向へ探針8を移動させる探針駆動機構6と、探針8を試料S表面から離隔させた状態で、探針8から電子を放出させる引き出し電極11及び加速電極12と、探針8から放出された電子を検査対象領域の面積よりも小さい断面積を有する電子ビームに集束させ、該電子ビームを検査対象領域に照射させるコンデンサレンズコイル13及び対物レンズコイル14と、電子ビームの照射によって検査対象領域から放出された二次電子を検出する二次電子検出部15と、二次電子の検出結果に基づいてSEM画像を生成する制御部18とを備える。 (もっと読む)


【課題】画素の複数のデータ検出領域から取得したビームデータを用いて一画素分の強度値を算出する場合において、強度値から誤欠陥データの影響を低減し、誤欠陥データの影響による欠陥判定を防ぐ。
【解決手段】画素の複数のデータ検出領域から取得したビームデータの中から誤欠陥データを排除して選択し、選択したビームデータを用いて一画素分の強度値を算出することによって、強度値から誤欠陥データの影響を低減し、誤欠陥データの影響による欠陥判定を防ぐ。 (もっと読む)


【課題】物品供給装置からX線検査装置の搬送コンベアへの物品供給量を適正に制御することにより、正確な異物検査を実行することが可能なX線検査装置を得る。
【解決手段】X線検査装置1は、検査対象である物品50にX線を照射するX線照射部7と、物品50を透過したX線を検出するX線検出部8と、上流の物品供給装置12から供給された物品50を、X線照射部7とX線検出部8との間のX線照射経路100を通過するように搬送する搬送コンベア6と、X線検出部8の検出結果(データS1)から求めた物品50の厚みに基づいて、物品供給装置12から搬送コンベア6への物品供給量を制御するコンピュータ9とを備える。 (もっと読む)


【課題】ロータディスクを結合する溶接における欠陥を検出するための改良された検査法を提供する。
【解決手段】溶接25が、ニッケル合金から形成されておりかつ、ロータディスク10,15の間の半径方向の間隙を充填しておりかつ、ロータディスク10,15のそれぞれと異なる微細構造を有している方法において、a)第1のロータディスク10の内面12又は外面11から第1のロータディスク10内へ部分的に延びた少なくとも1つのスロットを第1のロータディスク10に形成するステップと、b)溶接25の欠陥27を検査するために第1のスロット20から溶接25に検査信号を通過させるステップとを特徴とする。 (もっと読む)


本発明では、缶巻締部断面と缶巻締部シワとをX線で検査するための位置決め装置であって、X線出射口領域に被検査缶用第1の止め要素を付設されたX線源と、X線を受信するための検出器とを含むものに関する。このため、互いにずらして配置される少なくとも3つの止め要素によって前記被検査缶が前記X線源に対して位置決め可能であり、さまざまな缶直径及び所望の入射角度に適応可能にするために前記止め要素の内の2つが、該止め要素の内の2つにおける位置を積極的に変更可能とする構成となっていることが提案される。 (もっと読む)


【課題】引け巣を鋳造金型内の所望位置に容易に発生させ、該引け巣の挙動を観察することのできる引け巣発生方法及び引け巣観察方法を提供する。
【解決手段】本引け巣発生方法及び引け巣観察方法によれば、鋳造金型2内に予め引け巣の発生源3を配置することにより、溶湯の流入後に引け巣を容易に発生させて、その後引け巣の挙動を観察することができる。 (もっと読む)


【課題】判定結果の信頼性を向上させることができる物品検査装置を提供すること。
【解決手段】被検査物Wを搬送する搬送部2と、搬送部2により搬送される被検査物Wを同一検査条件で複数回検査して、検査毎に被検査物Wが良品または不良品のいずれであるかの仮判定を行う仮判定部5と、仮判定部5が検査毎に複数行った仮判定に基づいて、被検査物Wが良品または不良品のいずれであるかの本判定を行う本判定部6と、を備えた。また、本判定部6が、仮判定部5が行った複数の仮判定のうち良品の仮判定が不良品の仮判定よりも多かったとき、被検査物Wが良品であるとの本判定を行う。 (もっと読む)


【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。
【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 (もっと読む)


【課題】鋳巣の種類の判別を確実に行なうことができる鋳造内部欠陥検査支援装置及び方法を提供する。
【解決手段】鋳造品の各部分に対応する部分対応三次元形状モデル32pの変形量を算出し、モデル32p毎の変形量に基づいて、モデル32p毎の計算対象範囲Kを設定し、判別対象とされる鋳巣(鋳巣モデル34)を含むモデル32pの計算対象範囲Kでベストフィット処理し、鋳巣の種類(引け巣及びガス巣)の判別を行う。ベストフィット処理を判別対象とされる鋳巣モデル34を含む部分対応三次元形状モデル32pの計算対象範囲Kで行うので、鋳造品の加熱処理に伴って部分的に大きい値となる変形量に起因して先行技術で生じ得る、計算対象範囲Kからの対象となる鋳巣モデルの逸脱を回避でき、この分、鋳巣の種類の判別をより確実に行なうことができる。 (もっと読む)


【課題】非水電解質二次電池内部の電極間に存在する気泡およびX線吸収率の低い異物を検出することができる非水電解質二次電池検査装置を提供する。
【解決手段】非水電解質二次電池100に平行X線310を照射するX線照射手段300を設け、X線照射手段によって照射された平行X線が非水電解質二次電池を透過したときに生ずる透過X線311を、屈折像によりX線検知手段320で検知する。 (もっと読む)


【課題】層数が多くかつ層間のピッチが狭い多層基板であっても、その精細な三次元再構成画像を生成可能な放射線透過画像撮像装置および放射線透過画像撮像方法ならびにそれに用いる基板固定用治具を提供する。
【解決手段】本装置1は、放射線を基板Pに照射する放射線発生器10と、基板を透過した放射線を検出する放射線検出器20と、回転軸Aを中心として放射線の光軸Rと基板Pとを相対回転させる回転機構(ターンテーブル40)と、基板を回転軸と直交する平面上を移動させるステージ(X−Yステージ30)と、基板の撮像部位の倍率を調整する拡大倍率可変機構(昇降機構50)と、基板を保持しかつステージに対して固定するための基板固定用治具60と、を備え、光軸が回転軸に対して90度未満の角度で交差するように設定されており、基板固定用治具が、回転軸と平行になるように(または90度未満の角度で交差するように)基板をステージに固定する。 (もっと読む)


【課題】 高拡大率で、被検体の高分解能高品位の3次元画像を得ることにある。
【解決手段】 X線ビームを照射するX線源3と、被検体1から透過してくるX線ビーム2を検出するX線検出器4と、X線ビーム内で、X線ビーム中心線の方向に対し90度より小さなラミノ角で交差する回転軸RAに対し、被検体1とX線ビームとを相対回転させる回転手段6と、X線検出器4で検出したX線透過像から3次元画像を作成する制御処理部12とを備え、制御処理部12は、被検体1とX線源3との間で干渉しない回転可能範囲に基づき、半回転を超え1回転を満たない角度範囲で回転され所定の回転角度毎にX線ビームの透過像をX線検出器4で撮影するスキャン制御部12aと、X線検出器4で検出された多数の透過像から被検体の3次元画像を作成する再構成部12cとを設けた構成である。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、三次元的に形成されたパターンの深部の状況や試料の帯電の状況に依らず、安定した位置合わせ、或いは特定層の選択的な情報抽出を行うことを目的とした方法、及び当該目的を達成するための装置の提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するために、パターン上部の形状が選択的に表現された第1のテンプレートを用いて、複数層が表現された画像情報上で第1のパターンマッチングを行う方法、及び装置を提案する。また、特定層の選択的な抽出を行うために、上記複数層が表現された画像情報、或いは形状情報から、パターン上部の形状に関する情報を差し引く方法、及び装置を提供する。 (もっと読む)


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