【課題】ステージの正しい高さと実際の高さとのズレを割り出し、該ズレを補正することができるパターン計測装置、ステージ高さ調整方法およびパターン計測方法を提供する。
【解決手段】パターン計測方法は、計測対象である周期構造のパターンが形成された基体を支持するステージと、前記ステージの位置と高さを制御するステージ制御手段と、電磁波を生成し、任意の仰角で前記基体へ照射する電磁波照射手段と、前記基体で散乱された電磁波の強度を検出する検出手段と、データ処理手段と、ステージ高さ補正手段と、を持つ。前記データ処理手段は、周期が既知である周期構造の領域に、照射位置を変えながら前記電磁波を照射して得られた検出信号から散乱プロファイルを作成し、該散乱プロファイルから前記周期が既知である周期構造の周期を算出し、算出された周期と前記既知の周期とのズレ量を算出して前記ステージの高さの位置のズレ量を算出する。 （もっと読む）

【課題】 従来の光の散乱を用いた異物検出と、反射結像型電子顕微鏡による異物検出とでは、全く原理が異なることから、得られた異物検査データを直接比較することはできず、総合的な異物管理ができない課題があった。また、同一のウェハを、散乱光を用いた検査装置と反射結像型電子顕微鏡との別々の装置で検査を実施すると、二つの装置間でのウェハ搬送中に新たな異物が付着する危険性を除外できず、厳密な検査データの比較ができないという課題があった。
【解決手段】 反射結像型電子顕微鏡の対物レンズの周囲に、レーザー光導入システムと、散乱光検出器を配置し、同一の装置で散乱光による異物検出と、反射結像型電子顕微鏡による異物検出とを実施できるようにした。 （もっと読む）

【課題】検査精度および検査速度の低下が防止できるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線検査装置がアーチファクトを認識するために実行する処理は、撮像条件１の再構成画像から断層画像Ｓ１を取得するステップ（Ｓ５１０）と、撮像条件２の再構成画像から断層画像Ｓ２を取得するステップ（Ｓ５２０）と、断層画像の差分（Ｓ１−Ｓ２）を計算するステップ（Ｓ５３０）と、差分の絶対値が閾値以上であればアーチファクトと判断するステップ（Ｓ５４０）とを含む。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線検査装置における撮像時間を短くする。
【解決手段】Ｘ線検査装置が実行する処理は、検査対象物中の着目点がＸ線検出器の受光中心に常に投影された状態で、Ｘ線検出器および撮像視野を、それぞれの移動のために予め設定された軌道上で連続的に移動させるステップ（Ｓ７１０）と、その移動中に、各目標位置において、連続的にＸ線を照射するようにＸ線発生器を駆動し、またはＸ線検出器が露光状態にある期間、Ｘ線を照射するステップ（Ｓ７２０）と、Ｘ線を露光し、プロジェクション画像（投影画像）を出力するステップ（Ｓ７３０）と、予め設定されたｎ回の露光が行なわれると（ステップＳ７５０にてＹＥＳ）、ｎ枚のプロジェクション画像から３次元画像を再構成するステップ（Ｓ７６０）とを含む。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線照射手段側のＸ線照射のＯＮ／ＯＦＦ状態を検出する、あるいはＸ線照射手段側のＸ線照射の異常を検出することができるＸ線制御装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線管２１も含めてＸ線発生装置３１の消費電流に基づいて、Ｘ線照射のＯＮ／ＯＦＦ状態を電流検出回路１１ａが検出することで、消費電流をモニタリングすればＸ線発生装置３１側のＸ線照射のＯＮ／ＯＦＦ状態を検出することができる。また、当該消費電流とＸ線照射条件との比較に基づいて、設定されたＸ線照射条件における電流と、実際にモニタリングされている消費電流との間に不一致が生じる場合には、Ｘ線照射の異常を電流検出回路１１ａが検出することで、消費電流をモニタリングすればＸ線発生装置３１側のＸ線照射の異常を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】対象物から過去に撮影された画像を検索することができる、または過去に撮影された画像から対象物あるいは対象物中のどの部分かがわかることができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】テーブルに過去に記憶された複数の外観像からなる外観像群Iの中から対象となる外観像Ｉ_１を選択する。選択された外観像Ｉ_１に関連付けられ、かつテーブルに過去に記憶されたＸ線透視像F_１００を読み出してモニタ１０Ｍに表示すると、選択された外観像Ｉ_１の対象物（サンプル）から、それに関連付けられたＸ線透視像F_１００を表示することができ、対象物から過去に撮影された画像を検索することができる。 （もっと読む）

【課題】ｎＡレベルのきわめて小さい電流値の電子線を利用して反射電子像回析パターンを生成することができる反射高速電子回析装置を提供する。
【解決手段】反射高速電子回析装置１０は、真空チャンバーの内部に着脱可能に設置された蒸着源１４ａ〜１４ｃと、試料１１に形成された薄膜に向かって電子線２８を発射する電子銃１５と、薄膜の表面において反射した反射電子から生成される反射電子像回析パターンを映し出す蛍光スクリーン１８と、反射電子を電流増幅するマイクロチャンネルプレート１７ａ，１７ｂとを有する。反射高速電子回析装置１０では、ｎＡのレベルのエミッション電流値の電子線２８を電子銃１５から薄膜に向かって発射する。 （もっと読む）

【課題】 正確で明るい偏光像を取得できる電子線分析装置の提供。
【解決手段】 電子線源２０と、落射光用光源部６０と、透過光用光源部８０と、可視光又は偏光光が検出面に入射して、試料表面上の分析位置を含む領域の光学像又は偏光像を取得する画像取得部５１ｂ、７１と、落射光用光源部６０からの可視光を所定方向に反射するとともに、所定方向と逆方向からの光を透過して画像取得部７１の検出面に導くハーフミラー９２とを備える電子線分析装置１であって、ハーフミラー９２は、落射光用光源部６０から可視光が出射された際には、落射光用光源部６０からの可視光を所定方向に反射するとともに、所定方向と逆方向からの光を透過して画像取得部７１の検出面に導く第一位置に配置され、一方、透過光用光源部８０から偏光光が出射された際には、所定方向と逆方向からの光が通過しない第二位置に配置されるように移動可能とする。 （もっと読む）

【課題】第1の測定と第2の測定との間で測定サンプルが大気に触れないようにすることができ、またこれらの複数の測定にかかる時間を短縮化すること。
【解決手段】一つの気密（減圧）容器内に、第１の測定を行う第１の測定部と、第１とは異なる第２の測定を行う第２の測定部とを設ける。試料を取り付けたサンプルホルダの、第１の測定部から第２の測定部への移動は、サンプルホルダ移動手段により行う。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線検査を効率的に実施することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】対象物に欠陥を意図的に発生させたり、全ての検査位置（観察ポイント）に欠陥を持つ対象物を準備しなくとも、従来では固定であった基準画像に替えて、当該基準画像よりも後に得られるＸ線画像を新たに基準画像としてステップＳ１０で置き換えることで、必要最小限の構成により、基準画像としてより適切なＸ線画像が得られた段階で基準画像のデータを改善して、Ｘ線検査を効率的に実施することができる。さらに、好ましくは、評価値として欠陥度合い（気泡の面積比率等）を採用し、ステップＳ４，Ｓ７で画像を当該評価値として数値化することによりＸ線画像を評価し、評価値に最も近い画像を基準画像として置き換えることで、基準画像を自動的に置き換えることができる。 （もっと読む）

【課題】小型車両から大型車両までの被検車両の前輪を持ち上げて搬送することができ、Ｘ線の影になる範囲が狭く実質的に被検車両全体をＸ線検査することができ、移動台車に動力源が不要であり、すべての操作を地上から制御することができるワイヤ操作式車両搬送装置を提供する。
【解決手段】被検車両１の走行面１１より低く両側面より外側に位置する１対の台車用通路１３内に設けられた１対の走行レール１２に沿ってそれぞれ独立に移動可能な１対の移動台車１４にそれぞれ設けられ、被検車両１の前輪１ａを持ち上げ可能で走行面より下方に退避可能な１対の前輪リフト装置１６と、移動台車１４の移動範囲の前方及び後方に設けられ、牽引ワイヤ１９ａ，１９ｂにより移動台車を牽引して走行レール１２に沿って移動させるワイヤ牽引装置１８と、駆動ワイヤ２５ａ〜２５ｄ、２６ａ〜２６ｄにより前輪リフト装置１６を駆動するワイヤ駆動装置２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハに形成された半導体チップのメモリマット部の最周辺部まで高感度に欠陥判定できる検査装置およびその検査方法を提供する。
【解決手段】所定パターンがＸ方向，Ｙ方向ないしＸＹ両方向に所定のピッチで繰返し形成された回路パターンの形成領域を備えるダイの画像を取得して欠陥を判定する回路パターン検査装置において、前記取得された回路パターンの画像を記憶する画像メモリと、該画像メモリに記憶された画像を、当該画像データを前記Ｘ方向，前記Ｙ方向ないし前記ＸＹ両方向のいずれかの方向に加算平均して得られる加算平均画像と比較して差分画像を生成し、該差分画像の差分値が予め定められたしきい値より大きい領域を欠陥と判定するプロセッサエレメントと、を備える。 （もっと読む）

【課題】層状構造を有する被検体の断面像を短い断層撮影時間で得るＣＴ装置を提供する。
【解決手段】層状構造を有する被検体５の断面像を撮影するＣＴ装置であって、回転・昇降機構７とＸ線検出器３を制御して、第一の角度範囲で回転をさせつつ第一の角度間隔毎に検出された複数の透過像を第一のスキャンデータとして取り込んで記憶する第一のスキャン、および、第二の角度範囲で前記回転をさせつつ第一の角度間隔より小さな第二の角度間隔毎に検出された複数の透過像を第二のスキャンデータとして取り込んで記憶する第二のスキャンを実施するスキャン制御部９ｃと、第一のスキャンデータに基づいて、層面が放射線光軸Ｌと平行となる回転位置から±６０°内にあって平行となる回転位置を包含する第二の角度範囲を設定する角度範囲設定部９ｄと、少なくとも第二のスキャンデータを用いて被検体５の断層撮影面に平行な断面像を再構成する再構成部９ｅとを有するＣＴ装置。 （もっと読む）

【課題】簡単な操作により、所要の領域のパノラマ透視像を確実に得ることのできるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】複数の部分画像を合成してパノラマ透視像を得る機能を備えるとともに、ステージ３上の被検査物Ｗを撮影する光学カメラ５を設け、その光学カメラ５による被検査物Ｗの外観像を表示器１５に表示し、その外観像上に、得るべきパノラマ透視像の領域を枠で指定することにより、ステージ３とＸ線発生装置１およびＸ線検出器２の相対位置を移動させる移動機構４を自動的に駆動し、所定の透視倍率にしたうえで指定された枠内の領域を順次撮影して複数の部分画像を取得し、これらを合成して指定された領域のパノラマ透視像を構築することで、パノラマ透視像の撮影のための設定操作を容易化する。 （もっと読む）

【課題】効率的な試料表面検査システムを提供する。
【解決手段】試料の表面を平坦化する表面平坦化機構と、試料上に抵抗膜を形成する抵抗膜コーティング機構と、試料表面の評価を行う表面検査機構を備えている。表面検査機構は、紫外線発生源３０と、電磁波を試料表面に斜め方向から導く光学系と、試料表面から放出された電子を試料表面に直交する方向に導く写像光学系４０と、検出器５０と、画像形成／信号処理回路６０とを備えている。写像光学系は、３つのレンズ系４１〜４３と、アパーチャ４４とを備えている。紫外線源の代わりにＸ線源を用いてもよい。また、電子線源から生成された電子線を試料の表面上に導く装置を設け、電磁波照射装置及び電子線照射装置の一方又は両方を駆動して、電磁波又は電子線の一方又は両方を試料の表面に照射するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＣＴ値のレベル変動や不均質が少ない着目部の断面像を得る。
【解決手段】Ｘ線管１と回転軸ＲＡとの距離を変更して撮影倍率を設定し、被検体５について第一の撮影倍率で実施された第一のスキャンで得られた第一のスキャンデータと、被検体５の着目領域について第一の撮影倍率より大きな第二の撮影倍率で実施された第二のスキャンで得られた第二のスキャンデータとを入力し、再構成部９ｆを制御して、第一のスキャンデータからローパス処理を施した所定マトリックス数の着目領域の第一の断面像を作成し、第二のスキャンデータからハイパス処理を施した所定マトリックス数の着目領域の第二の断面像を作成し、第一の断面像と第二の断面像を加算して着目領域の合成断面像を作成する画像合成部９ｇとを有することを特徴とするＣＴ装置。 （もっと読む）

【課題】イメージインテンシファイアおよび／またはＣＣＤカメラの幾何学的歪に起因する輝度ムラを確実に取り除くことができ、ひいては被検査物のＸ線画像の画質を向上させることのできるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】イメージインテンシファイア２ａおよび／またはＣＣＤカメラ２ｂの幾何学的歪に基づいてＸ線検出器２からのＸ線透過情報を補正する画像歪補正手段１３に加えて、同じくイメージインテンシファイア２ａおよび／またはＣＣＤカメラ２ｂの幾何学的歪に基づいてＸ線透過情報の輝度ムラを補正する輝度ムラ補正手段１４を設けることにより、検査対象物のＸ線画像の画質を向上させることができ、ひいては検査精度や測定精度の向上を達成することを可能とする。 （もっと読む）

【課題】電子ビームを放出中であっても高真空を維持可能な小型荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の電子光学系の差動排気の上流に非蒸発ゲッター
ポンプを配し，下流に必要最小限のイオンポンプ配して，両者を併用することにより達成
される。さらに，取り外し可能なコイルを電子銃部に実装することにより，別の課題を解
決する。
【効果】カラム内の真空度を１０^−８Ｐａ台の高真空で維持できる小型荷電粒子線装置，例えば，小型の走査型電子顕微鏡，複数のカラムを有する荷電粒子ビーム装置を得ることができる。さらに，半導体の電気特性を直接計測するプローバ装置の探針の位置をモニタする小型ＳＥＭカラムを容易に内蔵できる。その他にも，半導体素子検査用のミラープロジェクション方式の電子線検査装置の電子線照射カラムの小型化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】試料が搭載される基板（基材）の元素と、試料に含まれる元素が同一でも、安定して、微小部分の成分計測が可能な微小部Ｘ線計測装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線発生装置と、放出されるＸ線を５０μｍ径以下の断面積に収束照射するＸ線光学素子と、蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、光学像を撮像可能な光学顕微鏡と画像認識機能を備え、試料を二次元で移動して位置決めが可能で、かつ、高さ方向にその位置調整が可能な試料相対移動機構とを備え、試料の特定位置における蛍光Ｘ線計測が可能であり、かつ、基材の上に置かれた測定試料からの蛍光Ｘ線も計測可能な微小部Ｘ線計測装置では、Ｘ線の照射位置と前記Ｘ線検出器との間の蛍光Ｘ線の光路を蛍光Ｘ線の減衰を抑制する構造（真空又はヘリウム置換）とし、かつ、基材上の測定試料が基材と同一の金属元素を含んでも、測定試料の同一の金属元素の含有が判定可能なデータ処理機能を備えたデータ処理部を備えている。 （もっと読む）

【課題】幾何条件を変更した後に最初に断層撮影をする場合に、スキャン開始から断面像の完成までの時間を短くできるＣＴ装置を提供する。
【解決手段】透過像の回転中心位置を求め記憶する回転中心求出部９ｅと、スキャン制御部９ｄと回転中心求出部９ｅと再構成部９ｆとを制御して、被検体５に対し第一のスキャンを実施して、第一のスキャンデータから回転中心位置の求出と記憶を行い、引き続き、被検体５に対し第二のスキャンを実施して第二のスキャンデータを記憶しつつ、第二のスキャンデータから順次、回転中心位置を用いて再構成処理を前記第二のスキャンと並行して行い、被検体５の断面像を再構成する撮影制御部９ｃを有するＣＴ装置。 （もっと読む）