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Fターム[2G001PA14]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 測定前後の試料の動き (2,337) | 上下成分を含むもの (165)

Fターム[2G001PA14]に分類される特許

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【課題】隔壁、炉体カバー等が用いられているX線及び熱分析の同時測定装置において複数試料を自動的に順次に交換して測定できるようにする。
【解決手段】隔壁17内で炉体によって試料18を加熱し、炉体カバーで均熱化を行い、X線測定装置2及び熱分析測定装置3によって同時測定を行うX線及び熱分析の同時測定装置において、把持部材81を持った搬送装置4によって炉体カバーを隔壁17内からカバー載置部91へ取出した状態で、交換試料18を試料載置部98から隔壁17内へと搬送装置4によって搬送するようになっており、カバー載置部91には炉体カバーの位置決め用ブロック99が設けられ、試料載置部98には試料容器の位置決めを行う部材が設けられている。炉体カバーや試料容器を隔壁17内でX線通路X1に対して常に一定の相対位置に配置して、X線の進行を邪魔しないようにする。 (もっと読む)


【課題】蛋白単分子等の微小標的粒子にX線ビームを照射するX線分析装置において、コンテナレス法やコンテナ法では解決が難しかった種々の技術的課題を一挙に解決する。
【解決手段】保持基板1に保持されている標的粒子Pの位置形状測定を行うプローブ式測定手段2と、前記プローブ式測定手段2のプローブ2aを、標的粒子Pの測定が可能な位置である測定位置と、前記X線照射機構による標的粒子へのX線ビームの照射に干渉しない位置である退避位置との間で移動可能に保持する移動機構3と、前記保持基板1及びX線照射機構の相対位置を調整する位置調整機構5とを設け、前記プローブ式測定手段2で位置が特定された標的粒子Pに対し、前記保持基板1及びX線照射機構の相対位置を調整してX線ビームを照射できるように構成した。 (もっと読む)


【課題】撮影倍率を変更しても都度較正を行なうことなく寸法精度のよい断面像を得る。
【解決手段】撮影距離FCDと検出距離FDDを設定するシフト機構(撮影距離設定手段、検出距離設定手段)7と、第一の撮影距離FCDを設定してスキャンして得た既知の大きさの第一の基準体の第一の断面像上の大きさと、第二の撮影距離FCDを設定してスキャンして得た第一の基準体の断面像上の大きさとから、FCD及びFDDの誤差を求め較正する較正計算手段を有する。 (もっと読む)


【課題】被検体の着目部を簡便に回転軸上に合わせる。
【解決手段】テーブル4をxy方向に移動させるXY機構6と、z方向に移動させる昇降機構7と、ある回転位置でX線検出器3が検出した第一の透過像を表示する表示部9aと、表示部9aに表示された第一の透過像上で着目部の設定を受け付けるROI設定部9cにより第一の透過像上で着目部が設定されると、移動制御部9dによりXY機構6を制御してテーブル4を所定距離xy移動させてからあるいは昇降機構7を制御してテーブル4を所定距離z移動させてから第二の透過像をX線検出器3で検出させ、第一の透過像と第二の透過像とから着目部の透過像上の移動量を求め、求めた透過像上の移動量から着目部のxy面に沿った位置を求め、XY機構6を制御して着目部を回転軸RA上に合わせるようにテーブル4をxy移動させる。 (もっと読む)


【課題】簡素な構造でありながら空間分解能が高いX線解析装置を提供する。
【解決手段】測定物である単位セル18を保持する測定物保持機構20は、単位セル18の位置を調整可能な位置決めステージ30によって位置決めされ、且つ180°以上回転可能な回転台座74を有する回転ステージ68と、単位セル18を挟持する第1支持部材80及び第2支持部材82と、前記回転台座74と同期して回転動作することで単位セル18を第1支持部材80ごと回転動作させる回転用支持部材78と、支持軸100を介して第2支持部材82に押圧力を付与するエアシリンダ190と、支持軸100を回転自在に支持する軸受186と、エアシリンダ190が付与する押圧力を測定するロードセル188とを有する。この中、軸受186、エアシリンダ190及びロードセル188は回転しないように構成されている。 (もっと読む)


【課題】X線フラットパネル検出器を用いたX線検査装置において、クラスタ状の欠陥についても補完処理を行い、しかも、その補完処理により擬似的な像が生じても、オペレータによる良/不良判定に誤りが生じることを防止することができ、ひいては長期にわたってX線フラットパネル検出器を使用することのできるX線検査装置を提供する。
【解決手段】X線フラットパネル検出器2の欠陥画素を抽出し、その欠陥画素の出力データを周囲の画素の出力データを用いて補完して表示器に表示する欠陥画素補完手段13,15を備えるとともに、その欠陥画素補完手段による補完の対象となった画素を、表示器13の画面上で報知する補完対象画素報知手段を設けることで、欠陥画素の位置情報と、補完後の像の変化から、検査に影響を与えるか否かをユーザが判断できるようにする。 (もっと読む)


【課題】 エアーデータの収集作業に煩わされること無く被検体の断層撮影を行うことにある。
【解決手段】 予め、所定の管電圧と管電流とラミノ角において、被検体4をX線検出器2の視野から外して透過データが飽和しないようにエアーデータを収集した後、被検体4をX線検出器2の視野内で撮影位置設定するとともに断層撮影条件を設定し、回転機構8によりX線と被検体4とが相対的な回転を行いつつ、複数の回転位置で検出した透過データを取得し、先に収集したラミノ角ごとのエアーデータから、断層撮影条件に適合する推定エアーデータを求め、得られた推定エアーデータを用いてエアー補正を施して再構成処理し、被検体4の3次元画像を得る円錐軌道断層撮影装置である。 (もっと読む)


【課題】試料表面を短時間で走査し且つ試料表面に付着した粒子を高分解能で検出することができる走査型粒子検出装置を提供する。
【解決手段】導体部を有する探針8にて試料S表面を走査し、試料S表面に付着した粒子Pが存在する検査対象領域を検出する走査型粒子検出装置において、検査対象領域を検出した場合、試料S表面から離隔する方向へ探針8を移動させる探針駆動機構6と、探針8を試料S表面から離隔させた状態で、探針8から電子を放出させる引き出し電極11及び加速電極12と、探針8から放出された電子を検査対象領域の面積よりも小さい断面積を有する電子ビームに集束させ、該電子ビームを検査対象領域に照射させるコンデンサレンズコイル13及び対物レンズコイル14と、電子ビームの照射によって検査対象領域から放出された二次電子を検出する二次電子検出部15と、二次電子の検出結果に基づいてSEM画像を生成する制御部18とを備える。 (もっと読む)


【課題】層数が多くかつ層間のピッチが狭い多層基板であっても、その精細な三次元再構成画像を生成可能な放射線透過画像撮像装置および放射線透過画像撮像方法ならびにそれに用いる基板固定用治具を提供する。
【解決手段】本装置1は、放射線を基板Pに照射する放射線発生器10と、基板を透過した放射線を検出する放射線検出器20と、回転軸Aを中心として放射線の光軸Rと基板Pとを相対回転させる回転機構(ターンテーブル40)と、基板を回転軸と直交する平面上を移動させるステージ(X−Yステージ30)と、基板の撮像部位の倍率を調整する拡大倍率可変機構(昇降機構50)と、基板を保持しかつステージに対して固定するための基板固定用治具60と、を備え、光軸が回転軸に対して90度未満の角度で交差するように設定されており、基板固定用治具が、回転軸と平行になるように(または90度未満の角度で交差するように)基板をステージに固定する。 (もっと読む)


【課題】 凹凸のある試料でも装置と試料との衝突を回避することが可能なX線分析装置及びX線分析方法を提供すること。
【解決手段】 試料S上の照射ポイントに1次X線X1を照射するX線管球2と、試料Sから放出される特性X線及び散乱X線を検出し該特性X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出器3と、信号を分析する分析器4と、試料Sを載置する試料ステージ1と、該試料ステージ1上の試料SとX線管球2及びX線検出器3とを相対的に移動可能な移動機構6と、試料Sの最大高さを測定可能な高さ測定機構7と、測定した試料Sの最大高さに基づいて移動機構6を制御して試料SとX線管球2及びX線検出器3との距離を調整する制御部8と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】入射部での散乱X線の影響を極力排して試料で生じた回折X線を検出できる透過型のX線回折装置とX線回折方法とを提供する。
【解決手段】試料10を配置するための閉鎖された空間を構成する試料室100と、試料室100内の試料10を所定温度に加熱する加熱手段900と、X線が試料10に照射されて生じる回折X線を試料室100の外部で検出するX線検出部200とを備える透過型X線回折装置である。この装置は、試料室100の壁面にガラス製の入射部110と出射部150とを備え、試料室100内に第一遮蔽体300が配置される。第一遮蔽体300は、入射部110での散乱X線がX線検出部200の所定領域に達することを防止する。 (もっと読む)


【課題】X線照射に代表される電子線照射によって得られた転動装置の断層データによって内部の状態を把握することに適した転動装置を提供する。
【解決手段】内側軌道部材3と、外側軌道部材2と、前記内側軌道部材及び前記外側軌道部材との間で転動する転動体4と、前記内側軌道部材及び前記外側軌道部材の間に充填した潤滑剤6とを転動装置構成部材とし、これら転動装置構成部材にX線を照射することで当該転動装置構成部材の断面についてのX線吸収率データを得るとともに、このX線吸収率データに基いて、前記断面内でのX線吸収率を所定の階調でもって表すデータを取得し、当該データに基づいて画像表示装置で表示することにより前記内側軌道部材と前記外側軌道部材の間の内部状態を観察することが可能な転動装置1において、前記内側軌道部材、前記外側軌道部材、前記転動体及び前記潤滑剤のX線吸収係数を異なるものとした。 (もっと読む)


【課題】 測定位置特定の操作性に優れていると共に、高精度で距離測定を行うことができるX線分析装置及びX線分析方法を提供すること。
【解決手段】 試料S上の照射ポイントに1次X線X1を照射するX線管球2と、試料Sから放出される特性X線及び散乱X線を検出し該特性X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出器3と、信号を分析する分析器4と、照射ポイントP1を決定するために試料S上を光学的に観察可能な第1観察系5と、該第1観察系5よりも被写界深度が小さくかつ狭域を光学的に観察可能であると共に決定した照射ポイントP1との距離を焦点調整によって測定可能な第2観察系6と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】本発明はX線光電子分光装置並びに全反射X線光電子分光装置に関し、試料表面を極めて平坦にすることにより、高精度の試料分析ができるようにしたX線光電子分光装置,全反射X線光電子分光装置を提供することを目的としている。
【解決手段】試料表面上を帯電液滴エッチング法を用いてエッチングするエッチング手段と、エッチングした試料表面に全反射条件を満たす全反射臨界角以下の角度でX線を照射するX線照射手段と、X線を照射した試料表面から放出される光電子を解析することにより試料の表面近傍の深さ方向分析を行なう解析手段と、を含んで構成される。 (もっと読む)


【課題】試料分析装置において、観察しようとする試料に形成されたデバイスに含まれるプラグや配線構造をはじめとする試料特定箇所に、単一または多数系統の外部電圧を印加し、デバイスをオン・オフさせたときの構造、組成、電子状態の変化を分析できるものにおいて、試料を自由に回転・傾斜させることを可能にする。
【解決手段】試料傾斜機構を備えた試料ホルダ本体を有する試料分析装置において、サンプルキャリアは、第一の固定部材と、第二の固定部材と、前記第一の固定部材と前記第二の固定部材とを接続する変型可能な接続部と、当該接続部上に形成され前記第一の固定部材と第二の固定部材とを導通させる単一または多数の配線構造と、を備える。前記試料傾斜機構を操作して傾斜角を調整し、試料ホルダ本体先端に設けた回転ピボットを中心に試料ホルダ本体を回して回転角を調整する。 (もっと読む)


【課題】断層像の座標変換を伴うことなくリングアーチファクトを除去することを可能とし、断層像の精度を低下させることなく確実にリングアーチファクトを除去した断層像を得ることのできるX線CT装置を提供する。
【解決手段】互いに対向配置されたX線発生装置1とX線検出器2の対と、これらの間に配置された試料ステージ3とを相対回転させることにより、複数の角度での対象物WのX線投影データを収集し、その投影データを用いて回転軸Rに直交する面に沿った断層像を構築するX線CT装置において、断層像を構成する各画素について、当該断層像上で回転軸Rに相当する位置を中心とした扇形状のコンボリューションフィルタカーネルを用いてフィルタ処理を施すことにより、断層像に現れるリングアーチファクトを抽出し、その抽出した画像をフィルタ処理を施す前の画像から減算することにより、リングアーチファクトを実空間において除去または低減することを可能とし、当初の断層像の精度を維持したままリングアーチファクトの除去を実現する。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の面取斜面の異物を発見することができる検査方法及び検査装置及びガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ステージ上に搭載したガラス基板の表面の欠陥に電子線を照射して検査する検査方法において、ガラス基板の面取斜面を検査する際の面取斜面と電子線との照射角度が、ガラス基板の磁性層形成面を検査する際の磁性層形成面と電子線との照射角度と同じとなるように、ステージを傾けることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】多価イオンを用いて、試料表面の分析を高精度で短時間に行うことができる表面分析装置を提供する。
【解決手段】表面分析装置1は、試料5を搭載する試料台6と、試料台6に搭載した試料5に価数が15以上の多価イオンビーム4を照射する多価イオン発生源3と、試料5に多価イオンビーム4を照射することにより生じる二次イオン7を検出する質量分析部8と、試料5に多価イオンビーム4を照射することにより生じる二次電子9を検出する二次電子検出部10と、二次電子検出部10からの二次電子検出信号を受け分析開始信号を生成し質量分析部へ送信する質量分析制御部12を、備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】軽元素から成る微小な試料に対しても充分な高分解能、高コントラストを得ることができ、in-situの状態で試料を観察することができるX線顕微装置を提供する。
【解決手段】電子銃の電子源からの電子線をX線ターゲットに当ててX線を発生させるX線発生手段と、試料に照射されたX線の透過X線を撮像素子で撮像する撮像手段とを具備したX線顕微装置において、X線発生手段は波長0.1〜1.2nmの長波長の特性X線を発生し、X線ターゲットを真空封止するX線透過窓基材はベリリウムで成り、X線透過窓基材の厚さが10〜60μmであると共に、撮像手段の試料室が密封構成であり、試料室にガスを充填して試料の透過画像を撮像手段で得る。 (もっと読む)


【目的】二次イオン質量分析装置などの試料ホルダーにおいて、測定窓より小さな複雑な形状を持つ試料や微小試料を安定に保持して分析ができる試料ホルダーを提供する。
【解決手段】試料ホルダー100の試料設置部4aに導電性を持つ熱可塑性樹脂4a−1を配し、試料設置部4aを加熱し、該樹脂4a−1が変形可能となった時点で試料5の下部を埋め込み、冷却、硬化させることで、測定窓8より小さな粒子や微小試料など複雑な形状の試料5を容易に固定することが出来るようになり、二次イオン質量分析を行なうことができる。 (もっと読む)


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