【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。
【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 （もっと読む）

【課題】層数が多くかつ層間のピッチが狭い多層基板であっても、その精細な三次元再構成画像を生成可能な放射線透過画像撮像装置および放射線透過画像撮像方法ならびにそれに用いる基板固定用治具を提供する。
【解決手段】本装置１は、放射線を基板Ｐに照射する放射線発生器１０と、基板を透過した放射線を検出する放射線検出器２０と、回転軸Ａを中心として放射線の光軸Ｒと基板Ｐとを相対回転させる回転機構（ターンテーブル４０）と、基板を回転軸と直交する平面上を移動させるステージ（Ｘ−Ｙステージ３０）と、基板の撮像部位の倍率を調整する拡大倍率可変機構（昇降機構５０）と、基板を保持しかつステージに対して固定するための基板固定用治具６０と、を備え、光軸が回転軸に対して９０度未満の角度で交差するように設定されており、基板固定用治具が、回転軸と平行になるように（または９０度未満の角度で交差するように）基板をステージに固定する。 （もっと読む）

【課題】材料におけるマイクロメートルレベルからナノメートルレベルといった極めて微小な範囲での局所的な配向度を解析することができる解析方法を提供する。
【解決手段】材料の内部構造における配向関数を解析する解析方法であって、二種類の構成成分を含む材料からなる解析対象物の内部構造を表わす三次元画像を取得する工程と、三次元画像における各画素の輝度値を二種類の構成成分間の界面を示す所定の閾値と比較して、複数の領域に分割される界面を複数の領域毎に検出する工程と、複数の領域それぞれにおける単位法線ベクトルｎを算出する工程と、単位法線ベクトルｎから一軸配向関数ｆまたは二軸配向関数ｇを算出する工程と、算出された一軸配向関数ｆ又は二軸配向関数ｇを出力する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】パッケージ材料で封止した部品中の単結晶基板の反りを、部品を破壊することなくパッケージ材料越しに回折Ｘ線を用いて測定する。
【解決手段】Ｘ線検出器１を固定したまま、入射Ｘ線４の波数ベクトル８の方向から測定した試料ステージ６の回転角ωを変化させると、ブラッグ条件が満たされるとき、すなわち試料３０内のＳｉチップの照射領域の表面と入射Ｘ線４の波数ベクトル８とのなす角αがある特定の値をとるとき、Ｘ線の結晶回折が生じＸ線検出器１で回折Ｘ線９が検出される。ここで、試料３０は、プリント基板上にＳｉチップが搭載され、それらがモールドにより封止した構造である。Ｘ線検出器１は、モールド越しに回折Ｘ線９を検出し、ロッキング曲線を取得することができる。このロッキング曲線に基づいて、Ｓｉチップの反り測定ができる。 （もっと読む）

【課題】簡単な方法で、精度よく結晶軸比を測定できる結晶軸比測定方法を提供する
【解決手段】測定対象物である結晶材料の晶帯軸［ＵＶＷ］に収束電子線を入射して、収束電子線回折パターンの透過ディスクに現れたＨＯＬＺ線（１ａ）の極座標（θ１ａ，ρ１ａ）と、晶帯軸［ＷＶＵ］，晶帯軸［ＵＷＶ］及び晶帯軸［ＶＵＷ］から選ばれる晶帯軸（なお、入れ替えた指数にはバーが付いていてもよい）に収束電子線を入射して、収束電子線回折パターンの透過ディスクに現れた、前記ＨＯＬＺ線（１ａ）と対称の線指数のＨＯＬＺ線（１ｂ）の極座標（θ１ｂ，ρ１ｂ）を測定し、ρ１ａとρ１ｂとの差分（Δρ_ＥＸＰ）を求めて、該差分（Δρ_ＥＸＰ）の値をフィッティングパラメータとして用いて結晶軸比を算出する。 （もっと読む）

【課題】共焦点顕微鏡からの出力される各種画像情報と電子顕微鏡の出力画像情報とが合成された特有の画像情報を出力でき、試料分析に有用な複合型顕微鏡装置を実現する。
【解決手段】観察すべき試料を保持する試料ステージが配置される試料室と、試料の電子顕微鏡画像を撮像する電子顕微鏡と、試料の共焦点画像を撮像する共焦点顕微鏡と、電子顕微鏡及び共焦点顕微鏡からの出力信号とを受取り種々の画像信号を出力する信号処理装置を具える。共焦点顕微鏡及び電子顕微鏡のビーム軸は、互いに平行に設定する。試料ステージは、共焦点顕微鏡の対物レンズの光軸及び電子顕微鏡のビーム軸と直交する２次元平面内の位置を規定する２次元座標系を有し、共焦点顕微鏡及び電子顕微鏡は座標系を共有する。この結果、電子顕微鏡画像と共焦点顕微鏡により取得された２次元カラー情報や表面高さ情報とを合成して、カラー電子顕微鏡画像又は３次元電子顕微鏡画像を表示する。 （もっと読む）

【課題】
微細なパターンの検査において、電子ビームの照射によって生じる試料表面の帯電現象による電子ビームの焦点ずれや照射位置のずれを抑制し、欠陥の誤検出を防止するとともに、検査時間を短縮できる検査装置，検査方法を提供する。
【解決手段】
ダイに設けられたアライメント用マークの画像を複数個取得し、アライメント用マークの画像の中心座標と該マークの座標との間のずれを、座標の補正値として記憶装置へ保存するとともに、試料の表面の複数の座標における高さを計測し、該計測された複数の座標の画像を撮像して焦点を調整し、該調整値と前記高さセンサで計測された高さとの関係を高さの補正値として記憶装置へ保存し、記憶装置に保存された画像の座標の補正値と高さの補正値とを含む検査条件を用いて、試料の画像の座標と高さとを補正する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料表面の粒子の蛍光Ｘ線スペクトルに基づいて粒子径を測定する粒子径測定装置、粒子径測定方法及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】Ｘ線源１３からウェハ３表面にＸ線ビームが照射され、ウェハ３表面が走査されてウェハ３表面の各粒子の蛍光Ｘ線スペクトルが測定される。測定された蛍光Ｘ線スペクトル及び標準スペクトルデータベース２８１に格納されている標準スペクトルデータに基づいて粒子に含まれる元素が同定される。測定された蛍光Ｘ線スペクトルから、同定元素の蛍光Ｘ線スペクトルが抽出され、面積分強度が算出される。検量線データベース２８２から同定元素に対応する検量線を読み出して面積分強度と対応する粒子径が特定される。 （もっと読む）

【課題】入射部での散乱Ｘ線の影響を極力排して試料で生じた回折Ｘ線を検出できる透過型のＸ線回折装置とＸ線回折方法とを提供する。
【解決手段】試料10を配置するための閉鎖された空間を構成する試料室100と、試料室100内の試料10を所定温度に加熱する加熱手段900と、Ｘ線が試料10に照射されて生じる回折Ｘ線を試料室100の外部で検出するＸ線検出部200とを備える透過型Ｘ線回折装置である。この装置は、試料室100の壁面にガラス製の入射部110と出射部150とを備え、試料室100内に第一遮蔽体300が配置される。第一遮蔽体300は、入射部110での散乱Ｘ線がＸ線検出部200の所定領域に達することを防止する。 （もっと読む）

【課題】試料台を回転させることなく、試料の透視データを任意の方向、角度から取得することができ、プリント基板に形成されたスルーホールの内壁に施された導通用メッキ処理の状態等の検査を非破壊で精度良く行うことができるＸ線検査装置を提供すること。
【解決手段】試料Ｓを載置するＸＹ軸方向に移動可能な試料台１１を上下に挟んで、Ｘ線発生器１２とＸ線検出器１３とが対向配置され、Ｘ線発生器１２から放射され、試料Ｓを透過したＸ線がＸ線検出器１３にて検出される構成のＸ線検査装置において、試料Ｓの透視ポイントＰを通過する水平軸Ｌ１を回動中心としてＸ線検出器１３を回動させる第１の回動手段１６と、透視ポイントＰを円の中心とし、透視ポイントＰを挟んで水平軸Ｌ１上のある２点を結ぶ線分を直径とする円弧に沿ってＸ線検出器１３を回動させる第２の回動手段１８とを備え、第２の回動手段１８が第１の回動手段１６に組み付けられている。 （もっと読む）

【課題】ＦＰ法で基板上に点在する島状構造物について組成、高さおよび占有率をすべて定量できる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】基板１ｂ上に島状構造物１ｃを有する試料１に１次Ｘ線６を照射するＸ線源３と、基板表面１ａへの１次Ｘ線６の照射角度αを調整する照射角度調整手段５と、試料１からの蛍光Ｘ線７強度を測定する検出手段８と、島状構造物１ｃの組成、高さおよび占有率を仮定し、照射角度調整手段５により調整された照射角度αごとに、仮定した島状構造物１ｃの組成、高さおよび占有率に基づいて島状構造物１ｃ中の各元素からの蛍光Ｘ線７の理論強度を計算し、その理論強度と検出手段８で測定した測定強度とが合致するように、仮定した島状構造物１ｃの組成、高さおよび占有率を逐次近似的に修正計算して、島状構造物１ｃの組成、高さおよび占有率を算出する算出手段１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】
大多数のヌイサンスの中に少数のDOIが存在する状況で、少数の適切な欠陥の教示で分類性能を向上することが可能となり、ユーザの欠陥教示の負担を軽減しつつ、高い分類性能を確保すること。
【解決手段】
試料を撮像して検出した複数の欠陥の中から一つ以上の欠陥を抽出し、前記欠陥の分類クラスを教示し、欠陥の画像情報と分類クラスとから分類基準と分類性能を算出することを繰り返し行い、最終的に得られた分類基準に基づいて未知の欠陥の分類クラスを判断する。
【効果】
少数の適切な欠陥の教示で分類性能を向上することが可能となり、ユーザの欠陥教示の負担を軽減しつつ、高い分類性能を確保できる。 （もっと読む）

【課題】ＳＰＭで得られた所定範囲の高さの２次元分布画像において、他の物理量の２次元分布に基づいて抽出される関心領域に対応する凹凸形状などを容易に且つ的確に理解できるようにする。
【解決手段】関心領域を抽出する対象画像（２次元又は３次元）に対し、その画像を構成するデータ値を閾値判定することにより関心領域を抽出する（Ｓ５）。抽出された関心領域に対応する位置情報を取得し（Ｓ６）、観察画像（高さの２次元分布画像）上でその位置情報に対応する範囲の表示をそのまま維持し、範囲外の表示の輝度を落とすことにより、関心領域の範囲を強調表示する（Ｓ７）。これにより、２つの画像を重ね合わせる場合とは異なり、元の観察画像の色情報がそのまま維持されるため、凹凸形状などが最適な色付けで表示される。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線光電子分光装置並びに全反射Ｘ線光電子分光装置に関し、試料表面を極めて平坦にすることにより、高精度の試料分析ができるようにしたＸ線光電子分光装置，全反射Ｘ線光電子分光装置を提供することを目的としている。
【解決手段】試料表面上を帯電液滴エッチング法を用いてエッチングするエッチング手段と、エッチングした試料表面に全反射条件を満たす全反射臨界角以下の角度でＸ線を照射するＸ線照射手段と、Ｘ線を照射した試料表面から放出される光電子を解析することにより試料の表面近傍の深さ方向分析を行なう解析手段と、を含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】鉛直方向へ移動させる移動手段を用いなくても蓋を開けることが可能であり、かつ、搬送時であっても試料が配置された密閉空間の気密性を確保可能な分析装置を提供する。
【解決手段】分析試料を保持する試料台、及び、試料台に保持された分析試料を少なくとも覆う蓋を備え、蓋によって覆われた空間が密閉され、密閉された空間内の圧力をＰ１、蓋を境に該空間と隣接する隣接空間の圧力をＰ２、とするとき、分析試料の分析が開始されるまでに、Ｐ２＜Ｐ１とされ、少なくとも圧力差Ｐ１−Ｐ２に起因する力Ｆを受けた蓋が動くことによって空間の密閉が解除されるように、蓋の質量が決定されている、分析装置とする。 （もっと読む）

【課題】
被検査物の転倒を強制的に防止するＸ線異物検査装置を提供する。
【解決手段】
本発明に係るＸ線異物検出装置１００は、被検査物Ｓ用の搬入口８及び搬出口９を有する検査室１と、検査室１内にＸ線を照射してＸ線照射領域Ｒを形成するＸ線照射器２と、検査室１を挟むようにＸ線照射器２と対向して配置され、Ｘ線を検出するＸ線検出器３と、Ｘ線照射領域Ｒを横切るようにして、搬入口８から搬出口９まで被検査物Ｓを搬送する搬送手段４と、複数の短冊部材１２からなり、Ｘ線照射領域Ｒの搬入口８側及び搬出口９側に設けられたＸ線漏洩防止ノレン５と、被検査物Ｓの搬送路の上方に配設され、短冊部材１２の間を抜けて被検査物Ｓの搬送方向に伸延する案内部材６と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】極微量の元素検出を可能とし、被射体内部の特定元素分布をＣＴで得られるのと同様に断層像として、高空間分解能を有する機能画像の作成を行う蛍光エックス線分析装置を提供すること。
【解決手段】単色エックス線をシートビーム状に照射する光源部と、分析試料を支持する試料支持部と、分析試料に含まれる被検元素から発生する蛍光エックス線を検出する検出部と、データ処理用コンピューターを備え、検出部がエックス線照射方向と直交するシートビーム面に配設され、検出素子からエックス線照射方向へおろした垂線上に存在する被検元素から発生する蛍光エックス線を検出し、且つ、試料支持部がシートビーム面を垂直に貫通する線を中心軸としてシートビーム面を光源部及びエックス線検出部に対して相対的に回転し、分析試料を単色エックス線で回転走査して分析試料内部の画像を得ることができる蛍光エックス線検出装置として構成する。 （もっと読む）

【課題】フェライト系ステンレス鋼板とオーステナイト系ステンレス鋼板との異材溶接継手で、優れた耐食性を有する溶接金属および耐食性評価方法を提供する。
【解決手段】ステンレス鋼異材溶接継手の溶接金属であって、Ｃｒ：１８〜２１質量％、Ｍｏ：０．１質量％以下、Ｃｕ：０．５質量％以下、Ｎｂ：０．０３〜０．２５質量％、Ｔｉ：０．０５質量％以下、Ｎ：０．０４質量％以下を含有し、粒界または粒界近傍フェライト相側のＣｒ濃度の最小値とその母相フェライト相のＣｒ濃度差が１０質量％以下、かつ粒界近傍のオーステナイト相側のＣｒ濃度の最小値と、その母相オーステナイト相のＣｒ濃度の差が５質量％以下。粒界または粒界近傍フェライト相側のＣｒ濃度の最小値とその母相フェライト相のＣｒ濃度差、および／または粒界近傍のオーステナイト相側のＣｒ濃度の最小値と、その母相オーステナイト相のＣｒ濃度の差により耐食性を評価する耐食性評価方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、超微小サイズのパターン及び異物の検査について、高感度、高速及び高スループットを実現できるインプリント用ガラス基板、レジストパターン形成方法、インプリント用ガラス基板の検査方法及び検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 インプリント用の微細パターン１５が形成されたパターン面１１を有するガラス基板１０を備えたインプリント用ガラス基板３０であって、
該パターン面に、透明導電膜２０が被覆されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】培養された細胞等からなる試料の観察又は検査を良好に行うことのできる試料保持体、試料検査装置及び試料検査方法を提供する。
【解決手段】試料保持体４０は、外部からアクセス可能なように開放された試料保持面３７ａを有する本体部３７と、第１の面３２ａを試料保持面とする膜３２とを備え、該膜３２の第１の面３２ａに配置された試料３８に、該膜３２を介して試料観察又は検査のための一次線７が照射可能であり、該本体部３７における試料保持面３７ａの反対側の面（下面３０５）に、導電性を有する領域（導電膜３０１により覆われた領域）が存在するとともに、光が透過可能な領域３０２が設けられている。ここで、光が透過可能な当該領域３０２は、導電膜３０１により覆われていない。当該領域３０２を利用すれば、光学顕微鏡による試料３８の観察・検査を良好に行うことができる。 （もっと読む）