【課題】撮像対象被検体の任意の指定された特定領域のみ高い空間分解能で撮像可能であるとともに、簡便に高精度で画像合成が可能な産業用Ｘ線ＣＴ装置および撮像方法を提供することにある。
【解決手段】制御手段２０は、Ｘ線焦点サイズ調整手段９と検出器ピクセル積算処理手段５とを制御して、被検体全体を粗い空間分解能で撮像した画像と、前記被検体の一部に指定された領域に対して、細かい分解能で撮像した画像を得る。合成画像作成手段４Ａは、全体領域の粗い画像データの中に特定の指定領域の細かい画像データを組み込み合成させて一体画像データを合成する。 （もっと読む）

【課題】微細な周期的構造について高精度かつ高スループットでの形状計測を実現するための基板計測方法を提供すること。
【解決手段】周期的構造を構成する単位構造体の形状に関する形状パラメータから注目パラメータを選択し、単位構造体の形状を計測するための計測条件を注目パラメータに応じて決定する工程と、決定された計測条件に従い、周期的構造が形成された基板上の基準面に平行な面内における方位角を変化させながら、周期的構造へ電磁波を入射させる工程と、周期的構造での反射により、基準面に平行な方向である方位角方向と、基準面に垂直な方向である仰角方向とへ散乱した電磁波を検出する工程と、を含み、計測条件は、周期的構造での反射による電磁波の散乱強度の分布を表す散乱プロファイルの算出と、注目パラメータの値を変化させるごとの散乱プロファイルを比較した比較結果に応じた最適化と、を経て決定される。 （もっと読む）

【課題】基板表面などに存在する被測定物を反応性ガスにより溶解後、その基板に溶液を滴下して保持具で保持しながら基板表面で移動させ、被測定物を回収後乾燥させて基板表面に保持する試料前処理装置などにおいて、溶液の残量の影響を受けずに、所望の一定の滴下量が得られ、被測定物の回収が正しく行われるものを提供する。
【解決手段】溶液４の残量、弁８２の開放時間および溶液４の滴下量の相関関係をあらかじめ記憶するとともに、溶液４の残量を検知し、その検知した溶液４の残量と相関関係とに基づいて、溶液４を滴下するための弁８２の開放時間を決定する。 （もっと読む）

【課題】試料の内部構造を破壊することなく分析する。
【解決手段】干渉性Ｘ線が発せられるＸ線源と、前記Ｘ線源からのＸ線をコリメートするＸ線コリメータと、Ｘ線を吸収又は反射する材料により形成されており、前記Ｘ線の可干渉となる位置に設けられた参照穴及びＸ線透過窓とを有し、前記コリメートされたＸ線が照射されるＸ線吸収部と、前記Ｘ線透過窓を透過したＸ線が照射される位置に設置される試料と、前記試料により生じる散乱Ｘ線と、前記参照穴を通過したＸ線との干渉により生じたホログラムを検出する検出器と、前記検出器により得られた前記ホログラムに基づき前記試料の内部構造のイメージ画像を得るためフーリエ変換を行う処理部と、を有し、前記試料は、前記Ｘ線吸収部に対し相対的に移動させることができるものであることを特徴とするＸ線分析装置により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】被検査体の観察に好適な断面画像が得られる放射線検査装置を提供する。
【解決手段】撮像部は、基板および電子部品を含む被検査体の複数の箇所に複数方向から放射線を照射し、複数の放射線透過画像を撮像する。断面画像生成部３８は、前記複数の放射線透過画像に基づいて前記被検査体の複数の断面画像を再構成する。検査画像特定部７４は、前記複数の断面画像に基づいて検査画像を取得する。補助画像特定部７６は、前記被検査体の少なくとも一部が映し出されている補助画像を取得する。周波数解析部４２は、前記検査画像と前記補助画像とが共通に含む周波数成分を特定する。周波数成分除去部４４は、前記共通に含む周波数成分の影響を前記検査画像から軽減する。 （もっと読む）

【課題】ＢＧＡやＣＳＰなど、半田ボール等の複数の特定部位が対象物の表面ないしは内部に平面に沿って存在している回路基板等の対象物の検査において、半田ボール等が並ぶ平面による切断のための設定作業を不要としたＸ線ＣＴ装置を提供する。
【解決手段】ＣＴ撮影により得られた投影データを逆投影処理して求めた対象物Ｗの３次元画像情報から、対象物の表面または内部に平面に沿って存在するあらかじめ設定された複数の特異部位の像を捜し出し、その各特異部位の像の中心が通る平面Ｐを求める特異部位像配列平面算出手段と、その平面Ｐでスライスした断層像を３次元画像情報に基づいて作成して自動的に表示器に表示する表示手段を備えることで、半田ボール等が並ぶ平面でスライスした断層像を、オペレータによるスライス位置の設定作業を必要とすることなく直ちに表示することを可能とする。 （もっと読む）

【課題】管電圧と管電流の設定を容易にしたＣＴ装置を提供する。
【解決手段】複数の回転位置で検出された透過像から被検体５の断面像を再構成する再構成部９ｆを有するＣＴ装置において、Ｘ線管１の管電圧と管電流を設定された値に制御するＸ線制御部８と、Ｘ線管１とＸ線検出器３との距離を変更して設定するシフト機構７と、管電圧，管電流，距離それぞれの基準値の組み合わせを複数組記憶し、複数組の内の一組である管電圧Ｖｊ，管電流Ｉｊ，距離ＦＤＤｊが選択され、かつ距離ＦＤＤが設定された場合に、管電圧Ｖを管電圧Ｖｊに設定し、管電流Ｉを管電流Ｉｊから距離ＦＤＤｊ及び設定された距離ＦＤＤに応じて変更して設定する撮影条件設定部９ｄとを有するＣＴ装置。 （もっと読む）

【課題】測定値からノイズの影響を除去する。
【解決手段】測定対象物上に複数の測定点Ｐ₁〜Ｐ_Nを設定し、測定点Ｐ₁〜Ｐ_Nの並ぶ方向に沿って振動させながら測定ビームを照射する。測定ビームの振幅Ｗの範囲にＭ個の測定点Ｐ₄〜Ｐ₈が含まれているとすると、Ｍ個の測定点Ｐ₄〜Ｐ₈から得られる２Ｍ個の測定値ｆ₁〜ｆ_2Mから、下記(７ａ）（７ｂ)式、


に従って、フーリエ係数ｂ₁(振幅が測定ビーム径の１／２の場合)、又はｂ₂(振幅が測定ビーム径と等しい場合)を求め各測定点のフーリエ係数ｂ₁又はｂ₂の推移を求め、微小領域の分析を行なう。 （もっと読む）

【課題】散乱線内標準法を用いる蛍光Ｘ線分析方法において、油類、有機溶媒、水溶液などの液体試料における軽元素の濃度を正確に算出できる方法を提供する。
【解決手段】炭素、酸素および窒素のうちの少なくとも１元素と水素を主成分とする液体試料３Ａに１次Ｘ線２を照射し、液体試料３Ａ中の原子番号９〜２０の各元素から発生する蛍光Ｘ線４の強度と、液体試料３Ａで散乱する１次Ｘ線の連続Ｘ線の散乱線１２の強度とを測定し、各元素から発生する蛍光Ｘ線４の測定強度と１次Ｘ線の連続Ｘ線の散乱線１２の測定強度との比に基づいて、液体試料３Ａにおける元素の濃度を算出する蛍光Ｘ線分析方法であり、１次Ｘ線の連続Ｘ線の散乱線１２の波長を、各元素から発生する蛍光Ｘ線４の波長よりも短く、かつ、液体試料３Ａにおける組成の変動範囲内で、１次Ｘ線の連続Ｘ線の散乱線１２についての測定強度と質量吸収係数とが反比例するように、設定する。 （もっと読む）

【課題】改善された出力安定性を有するＸ線源アセンブリおよび動作方法を提供する。
【解決手段】アセンブリ２７００は、電子２１２０が上に当たるソーススポットを有するアノード２１２５、および出力構造に対するアノードソーススポットの位置を制御する制御システム２７１５，２７２０を含む。制御システムは、Ｘ線ソースアセンブリの１つまたは複数の動作条件にもかかわらず、出力構造２７１０に対するアノードソーススポットの位置を維持することができる。開示する一態様は、石油をベースとする燃料の硫黄の分析に最も適している。 （もっと読む）

【課題】被検査物の搬送装置上への供給の仕方を変更することなく、従来のこの種の検査装置に比して被検査物の重なりの影響を可及的に少なくすることのできるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線源１とＸ線ラインセンサ２を収容するＸ線防護箱３の入口３ａに配置され、被検査物Ｗの通過により押し上げられて搬送経路を開くＸ線遮蔽部材７ａ〜７ｃを、その自重により、搬送装置４上で重なった被検査物Ｗを均すように構成することで、被検査物Ｗが重なった状態で搬送されてきても、これをＸ線源１とＸ線ラインセンサ２の手前で自動的に解消し、Ｘ線透視画像上に、被検査物が重なった像が存在することをなくし、正確な異物判定を可能とする。 （もっと読む）

【課題】電子線マイクロアナライザ分析用の試料ホルダであって試料の着脱が容易で且つチャージアップが発生しない試料ホルダを備えた電子線マイクロアナライザを提供する。
【解決手段】包埋試料を収納する空間を形成するＵ字形保持枠を有し、枠の底部に設置したコイルバネにて包埋試料を力が作用した状態で保持し、しかも上面には試料マスクを載置してホルダと試料間の導電系を保持させつつ保持するものである。したがってチャージアップは生起しない。 （もっと読む）

【課題】転動装置内に存在する空気領域を示すＸ線断層像のハレーション発生を防止することで、転動装置内に封入されている潤滑剤の分布、形状を正確に観察する。
【解決手段】内側軌道部材、外側軌道部材、転動体及び潤滑剤を備えた転動装置１にＸ線を照射することで転動装置の断面のＸ線吸収率を得るとともに、この断面のＸ線吸収率をグレースケール処理して画像データとして取得し、この画像データを画像表示装置で表示することにより前記転動装置の内部状態を観察する方法である。Ｘ線照射部からフィルタ２４を介して転動装置１にＸ線が照射される。フィルタは、転動装置内部に存在する空気に仮想的な肉厚を存在させてＸ線吸収率を持たせることが可能な所定のＸ線の照射線量を通過させる。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡において、従来、複数の方向からの試料の観察を一度に実施することは不可能であり、例えば、試料の３次元形状を求めるには、試料を様々な角度に傾斜させ、得られた各々の画像から３次元形状を再構築するトモグラフィー法、右視野像、左視野像の２枚の画像を試料の傾斜もしくは電子線の照射角度の変化によって作り出し、立体観察を可能成らしめるステレオ法などがあるが、いずれも複数枚の画像を得るには画像枚数回の画像取得作業を必要としており、時間分解能が低く、動的観察、実時間観察には至っていない。
【解決手段】照射光学系中に第１の電子線バイプリズムを設置し、角度の異なる２つの電子線を試料の観察領域に同時に照射する。この同時に試料を透過した２つの電子線を結像光学系に配置した第２の電子線バイプリズムにより空間的に分離して結像させ、照射角度の異なる２つの電子顕微鏡像を得る。この２つの画像を検出手段で取得しこれを元に試料の立体像や異なる情報を有する２つの像を生成し、表示装置に表示する。 （もっと読む）

【課題】欠陥観察装置、欠陥観察方法、及び半導体装置の製造方法において、欠陥観察装置と基板との位置合わせ精度を向上させること。
【解決手段】基板Wの表面の欠陥D_iのそれぞれの欠陥座標を取得するステップＳ１と、欠陥D_iのそれぞれに所定領域Rを設定し、その中に含まれる欠陥の総個数N_iを計数するステップと、ステージ座標を一番目の欠陥D₁の欠陥座標に合わせることにより、顕微鏡の視野２２ｆ内に第１の欠陥D₁を導入するステップと、視野中心２２ｃと第１の欠陥D₁とのズレ量を取得するステップと、上記ズレ量に基づいて、第１の欠陥D₁よりも上記総個数が多い第２の欠陥D₂の欠陥座標を補正するステップと、補正後の第２の欠陥D₂の欠陥座標にステージ座標を合わせることにより、顕微鏡の視野２２ｆ内に第２の欠陥D₂を導入するステップとを有する欠陥観察方法による。 （もっと読む）

【課題】 多量の反応ガスを流しながらＸ線回折で試料（亜鉛フェライト脱硫剤）の反応過程（炭素析出）をその場で観察する。
【解決手段】 試料を流通する前と流通した後の反応ガスの組成が変化しない状態に試料２１を保持する微分反応評価試料保持部１５を備え、検証条件を保持した状態でＸ線回折装置（Ｘ線発生手段２５、二次元Ｘ線検出手段２６）により試料２１の組成の形態変化をその場で直接解析し、炭素の析出が生じる過程での形態変化を検証する。 （もっと読む）

【課題】電気電子製品製造工程でのＰＣＢに部品を装着した上、ハンダ付け作業後に製品の信頼性を確保するために、被測定物をｘ、ｙ、ｚ軸への移動だけでなく、回転して多様な角度での検査が可能なＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】ケース内部に設けられたステージ、Ｘ線チューブ、ディテクターから構成され、被測定物を前記ステージに載置させ、前記Ｘ線チューブでＸ線を照射し前記ディテクターで撮像し被測定物を検査するＸ線検査装置において、前記ステージは回転自在に構成される回転ステージ、または一側に偏って通孔された部分に回転自在に設けた円形の回転ステージを有し、前記回転ステージは、下部に連結棒が構成され、この連結棒の下段に回転モーターが取り付けられ、この回転モーターは固定フレームによって前記ステージに固定されるように構成し、前記回転モーターの回転によって前記回転ステージが回転するように構成することで解決した。 （もっと読む）

【課題】欠陥画像を記憶するメモリのオーバフローが発生した場合でも基板の全面についての欠陥分布を早期に得ることができる基板の検査装置、および、基板の検査装置における基板の欠陥分布を得る方法を提供する。
【解決手段】基板の画像を取得し、画像比較により差のある画素を抽出し、該画素の信号量が予め設定された閾値を超えた場合に欠陥候補と判定し、欠陥候補の代表画素の座標を記憶装置へ記憶し、記憶装置の容量がオーバフローした場合、またはオーバフローの前に、閾値の値を変更して欠陥候補の判定を継続し、基板の欠陥分布をディスプレイへ表示する。 （もっと読む）

【課題】 異物起因のコントラストのみを明確に判別して過検出及び誤検出を防ぐこと。
【解決手段】 測定試料に含まれる一つの元素のＸ線吸収端より低く、かつ、検出元素のＸ線吸収端より高いエネルギーの特性Ｘ線を試料に照射するＸ線管球１１と、Ｘ線が試料を透過した際の透過Ｘ線を検出するＸ線検出器１３と、透過Ｘ線の透過像からコントラスト像を得る演算部１５と、を備えたＸ線透過装置及びＸ線透過方法とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、観察対象である試料の伸縮の変化を抑えることにより、観察対象の位置ずれを解消し、大幅なスループット向上を図った荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】本発明は、試料を保持する試料保持手段と、前記試料の温度の調整が可能な温度調節手段と、各種条件に基づき前記温度調節手段の制御が可能な温度調整手段制御手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）