本発明は、描画空間を介して点源（１２）からＸ線を放射するＸ線線源を有するＸ線スキャナを開示する。スキャナは、さらに、描画空間の周囲に配置されてＸ線の検出に反応して検出器信号を出力するＸ線検出器（２６）のアレイを含む。スキャナは、さらに、走査方向に描画空間を横切るように物体を搬送するコンベヤ（２２）と、検出器信号を処理して、物体の画像を画定する画像データセットを生成する少なくとも１つのプロセッサ（３０）とを含む。画像は、走査方向において、走査方向とは直交する１の方向、場合によっては、２つの方向の分解能に対して少なくとも９０％の分解能を有する。
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【課題】Ｘ線分析装置において、より確実に装置外部へのＸ線漏洩を防止する。
【解決手段】Ｘ線管１２を有するＸ線分析装置において、前記Ｘ線管１２が所定の取り付け位置に取り付けられているかを検知するＸ線管位置検知手段２３と、前記Ｘ線管位置検知手段２３により、Ｘ線管１２が取り付けられていないことが検知されたとき、電源１００からＸ線管１２への電力供給をオフする電力供給制御手段４２とを有する。これにより、Ｘ線管１２が所定の位置に取り付けられていない場合は、電源１００からＸ線管１２へ電力が供給されないため、Ｘ線漏洩をより確実に防止することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】保護対象に作用する磁場の変化を簡単な構成で確実に抑えることが可能な磁場変化抑制機能付き電子機器システムを提供する。
【解決手段】試料分析システム１００は、磁場を形成する超電導マグネット２に対してその磁場の影響を受ける位置に設置される保護対象としての分析装置１と、この分析装置１に作用する磁場の変化を抑える磁場変化抑制装置３とを備えている。磁場変化抑制装置３は、分析装置１を通過する超電導マグネット２からの漏れ磁場２１の磁束を囲むように分析装置１の近傍に配置されて、漏れ磁場２１が変化することに起因してその変化を打消す向きの補正磁場４１ａ，４１ｂを分析装置１に作用させるような誘導電流を発生させる補正コイル４ａ，４ｂを含んでいる。そして、補正コイル４ａ，４ｂは、漏れ磁場２１の磁束を囲むように巻回された超電導線材を有する超電導コイルである。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢにより試料を作製する際に試料の表面に形成されたアモルファス層の厚さを、試料を破壊することなく正確に確認、評価する。そして、その結果に基づいて、多くの時間と手間を掛けることなく、アモルファス層を的確に可能な限り低減、除去して、良好な観察を行うことができるＴＥＭ試料を提供する。
【解決手段】表面にアモルファス層が形成されている試料の表面に電子線を照射し、試料を透過して得られた電子回折図形の輝度に基づいて、アモルファス層の厚さを評価する。電子回折図形内の回折スポットを結ぶ直線における輝度のラインプロファイルの内、最も高い輝度をＹ２とし、最も低い輝度をＹ１としたときの輝度の比率（Ｙ１／Ｙ２）を、アモルファス層の厚さが既知である他の試料における輝度の比率（Ｙ１／Ｙ２）と比較してアモルファス層の厚さを評価して、アモルファス層の厚さが所定の値以下となるまで、アモルファス層を低減、除去する。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの照射により断面を露出させた試料を作製するため試料をイオンビームに対する所定位置に保持する試料作製装置において、イオンビームによる試料の加工中にイオンビームを遮断する遮蔽板のイオンビームに接近する方向への移動を防止し、良好な断面が現れた試料を作製する。
【解決手段】基端側を支持され先端側が自由端である第１の支持部材２と、第１の支持部材２の先端側に基端側を支持され先端側が第１の支持部材２の基端側に向けた自由端である第２の支持部材９と、第２の支持部材９に支持された遮蔽板１０と、第２の支持部材９に取り付けられた加熱ヒーター１３を備え、第２の支持部材９は加熱ヒーター１３により加熱せられて前記第１の支持部材の基端側方向に膨張する構造となされ、遮蔽板１０の第１の支持部材２の先端側に向かう一側縁をイオンビームＢの照射位置として保持し、遮蔽板１０によりイオンビームＢが遮蔽される位置に設置された試料１０１の遮蔽板１０の一側縁より露出した箇所への加工を行う。 （もっと読む）

【課題】基板の検査に際し、被検査部位の種類等に応じた検査ができ、かつ、検査時間を短縮できる、検査方法、検査装置および検査用プログラムを提供する。
【解決手段】Ｘ線源２からＸ線が出力され、検査対象である基板を透過したＸ線が、ＦＰＤ（フラットパネルディテクタ）において、Ｘ線透視画像として撮影される。Ｘ線ＣＴによる再構成データの生成のための撮影は、トモシンセシスによる再構成データ生成のための撮影と同様に、Ｘ線源２の光軸Ｌを軸とした仮想円３００上の位置３０１〜３０８で行なわれる。そして、Ｘ線ＣＴによる再構成データの生成の際には、位置３０２〜３０８のそれぞれで得られたＸ線透視画像が、位置３０２Ａ〜３０８Ａで撮影されたかのように、仮想円３００上の回転位置に応じて、各Ｘ線透視画像の中心を軸とし、アフィン変換を用いて、各画像が回転するようデータを変換された後、フィルタ処理を施される。 （もっと読む）

【課題】着磁した永久磁石の磁区構造等を示す観察像が得られる磁性試料の観察方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁性試料の観察方法は、磁化された磁性試料に放射光等の入射ビームを照射し、磁性試料から放出された放出電子を検出して、磁性試料の微細状況を示す観察像を形成する磁性試料の観察方法であって、磁性試料の磁化方向の両端が磁性試料の配置される雰囲気の透磁率よりも高い透磁率を有する連結具により磁気的に連結された状態で磁性試料が観察されることを特徴とする。この連結具により、磁性試料の両端には磁気閉回路が形成され、磁性試料からの漏洩磁場が抑制される。その結果、放出電子の軌跡が歪められることが少なくなり、磁性試料の磁区構造等を示す鮮明な観察像を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡素な構造でありながら空間分解能が高いＸ線解析装置を提供する。
【解決手段】測定物である単位セル１８を保持する測定物保持機構２０は、単位セル１８の位置を調整可能な位置決めステージ３０によって位置決めされ、且つ１８０°以上回転可能な回転台座７４を有する回転ステージ６８と、単位セル１８を挟持する第１支持部材８０及び第２支持部材８２と、前記回転台座７４と同期して回転動作することで単位セル１８を第１支持部材８０ごと回転動作させる回転用支持部材７８と、支持軸１００を介して第２支持部材８２に押圧力を付与するエアシリンダ１９０と、支持軸１００を回転自在に支持する軸受１８６と、エアシリンダ１９０が付与する押圧力を測定するロードセル１８８とを有する。この中、軸受１８６、エアシリンダ１９０及びロードセル１８８は回転しないように構成されている。 （もっと読む）

【課題】光ファイバケーブルに工事を施すことなく簡易な方法で、確実に光ファイバケーブル内への水分の浸入の有無を検出することができ、また水分の浸入位置の特定も確実にできる光ファイバケーブル内の水分検出方法とその方法に用いられる中性子水分計を提供する。
【解決手段】光ファイバケーブル１を挟むようにして中性子線源３と計数管４を配置して中性子線源３から計数管４に向けて中性子を放出させ、光ファイバケーブル１内に水分が存在する場合は、その水素原子に中性子を衝突させて弾性散乱させ、光ファイバケーブル１を通過して計数管４に到達する単位時間当たりの中性子数を計数することにより、光ファイバケーブル１内への水分の浸入の有無を検出する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線フラットパネル検出器を用いたＸ線検査装置において、クラスタ状の欠陥についても補完処理を行い、しかも、その補完処理により擬似的な像が生じても、オペレータによる良／不良判定に誤りが生じることを防止することができ、ひいては長期にわたってＸ線フラットパネル検出器を使用することのできるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線フラットパネル検出器２の欠陥画素を抽出し、その欠陥画素の出力データを周囲の画素の出力データを用いて補完して表示器に表示する欠陥画素補完手段１３，１５を備えるとともに、その欠陥画素補完手段による補完の対象となった画素を、表示器１３の画面上で報知する補完対象画素報知手段を設けることで、欠陥画素の位置情報と、補完後の像の変化から、検査に影響を与えるか否かをユーザが判断できるようにする。 （もっと読む）

【課題】筐体の搬入口及び搬出口が開放される面積と時間を極力抑えてＸ線遮蔽性を向上させる。簡素な構成とするとともに、清掃性を良好にする。
【解決手段】遮蔽構造の筐体３と、被検査物Ｗを搬送するベルトコンベアと、被検査物ＷにＸ線を照射するＸ線発生部１１と、被検査物Ｗを透過したＸ線を検出するＸ線検出部１２と、筐体３の搬入口４ａ及び搬出口４ｂに設けられているＸ線遮蔽部材２１とを備えるＸ線検査装置１において、Ｘ線遮蔽部材２１として複数の金属板２２ａ〜２２ｃからなるＸ線遮蔽ユニット２１を備え、Ｘ線遮蔽ユニット２１は、複数の金属板２２ａ〜２２ｃが、その上縁部２３ａ〜２３ｃが近接して吊り下げられ、その下縁部２４ａ〜２４ｃと搬送面との間の距離が下流側の金属板２２ｃほど短く形成されており、金属板２２ａ〜２２ｃを被検査物Ｗに押された搬送方向Ｙの上流側の金属板２２ａが次の金属板２２ｂ，２２ｃを押すように配置した。 （もっと読む）

【課題】検査対象物のＸ線透過画像にモアレ縞が発生する場合において、モアレ縞を消滅させる。
【解決手段】画像処理合成装置１４は、X線源１１と輝度倍増管１２とカメラ１３とから成る構成により得られた、被検体１のＸ線画像を取得し、モアレ縞が発生しているか否かをチェックする。モアレ縞発生の場合には、回転機構制御部１５によって輝度倍増管１２とカメラ１３とを回転軸Ｃ２回りで同期回転させる（所定角度分回転）。そして、再び被検体１のＸ線画像を取得し、モアレ縞が発生しているか否かをチェックする。これをモアレ縞が発生していないＸ線画像が得られるまで繰り返す。 （もっと読む）

【課題】ウェハの評価の良い部分の領域や悪い部分の領域が分かる半導体検査装置のデータ処理方法とデータ表示方法と半導体検査装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを用いた吸収電流測定方法を用いて、ウェハ２３のコンタクトホール界面状況を評価する半導体検査装置において、電子銃１０によって所定の電子ビームサイズでコンタクトホールを照射し、その際に測定される吸収電流値をコンタクトホールサイズで正規化した値をグラフ化し、そのグラフから任意の領域を指定して、表示装置１５０に表示されるウェハ上のマップにその測定点を表示する。 （もっと読む）

【課題】
半導体装置製造プロセスで形成されるパターンの検査前に実行されるプリチャージの最適な条件を簡易に設定できるようにし、プリチャージの良否を自動判定し、その後の動作にフィードバックするようにして、検査結果の信頼性の低下を防ぎ、常に安定した検査ができるようにする。
【解決手段】
電子ビームを照射する前に、電子ビームを発生させる電子源とは別の第二の電子源から電子を発生させて基板の表面に帯電を形成させる帯電形成手段と、該帯電形成手段により基板の表面に帯電が形成された状態で、基板に流れる電流の値を計測する電流計測手段と、該電流計測手段により計測された電流の値が予め定められた目標値になるように帯電形成手段により形成される帯電を調整する調整手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】絶縁性試料の分析を正確に行う。
【解決手段】 試料２表面にＸ線３を照射すると同時に、中和用電子銃６からの電子ビームを試料２表面に照射し、試料２をセットしている試料ステージ４にバイアス電圧電源１４からバイアス電圧を印加することにより、試料表面上が一旦一様に帯電される様にしてから中和用電子銃６からの電子ビーム照射により試料表面上を一様に中和する様に成す分光分析装置において、その内部に試料ステージ４が配置される様に直方体状の容器３１を設ける。容器３１は試料２と電気的に絶縁されており、ステージ４の試料セット面に対向する容器３１の上壁中央部にはＸ線，中和用電子銃６からの電子ビーム，試料からの光電子が通過可能な孔３４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】より短時間で欠陥を撮像できる欠陥観察装置および欠陥観察方法を得ること。
【解決手段】この欠陥観察方法は、観察対象物の欠陥および基準マークの位置座標を取得するステップと、欠陥を検出して、この検出された欠陥位置に応じて位置座標を補正する第１の方法で欠陥を撮像するのに必要な第１の時間を算出するステップと、基準マークを検出して、この検出された基準マーク位置に応じて位置座標を補正する第２の方法で欠陥を撮像するのに必要な第２の時間を算出するステップと、第１、第２の時間を比較するステップと、比較結果に応じて、第１または第２の方法で位置座標を補正して欠陥を撮像するステップとを具備する。 （もっと読む）

【課題】画素の複数のデータ検出領域から取得したビームデータを用いて一画素分の強度値を算出する場合において、強度値から誤欠陥データの影響を低減し、誤欠陥データの影響による欠陥判定を防ぐ。
【解決手段】画素の複数のデータ検出領域から取得したビームデータの中から誤欠陥データを排除して選択し、選択したビームデータを用いて一画素分の強度値を算出することによって、強度値から誤欠陥データの影響を低減し、誤欠陥データの影響による欠陥判定を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】層界面領域に達する前に、照射面の層界面領域への近接を検出することが可能な電子分光分析方法を提供する。
【解決手段】試料に電子を励起させる励起線を照射し、試料から放出され、第１の層の構成元素に由来する第１の電子の信号強度を測定し、試料から第１の電子とともに放出され、第２の層の構成元素に由来する第２の電子の信号強度であって、前記第２の層が前記試料の表面を形成しているときに測定される運動エネルギーである第１の運動エネルギー（Ｅｋ（Ｓｉ２ｓ）、Ｅｋ（Ｓｉ２ｐ））よりも低い第２の運動エネルギー（Ｅｋ（１）、Ｅｋ（２）、Ｅｋ（３））を有する第２の電子の信号強度を測定し、第２の電子の信号強度の変化度合いが所定のレベルに達したときは、試料の分析条件を変更する。 （もっと読む）

【課題】
回路パターン検査装置の画像ノイズを計測し、装置状態が異常となる兆候を察知することで、回路パターン検査装置の稼動率の低下を防止する。
【解決手段】
回路パターンが形成された基板に電子線を照射して発生する二次電子または反射電子を検出し、回路パターンの異常を検出する回路パターンの検査装置において、検出された二次電子または反射電子の信号強度に基づいて画像を生成し、該画像をインターフェースの表示装置へ表示する画像処理部と、画像に含まれるノイズの周波数解析を行う制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。
【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 （もっと読む）