【課題】
マイクロチップを用いて複数元素を同時に高感度に分析できるようにする。
【解決手段】
マイクロチップ１は、基板３０と、基板３０の内部に形成された流路２３と、基板３０の平坦な表面の一部からなり、流路２３の出口が開口９ｃとして形成され、その開口９ｃから溢れ出た測定対象液が基板３０の平坦な表面にとどまって分析試料となる分析部１０とを備えている。このマイクロチップ１を使用して、分析部１０に測定対象液を分析試料として溢れ出させ、好ましくは分析試料を乾燥させた後、１次Ｘ線を全反射の条件で入射させて蛍光Ｘ線を検出する。 （もっと読む）

【課題】複数の電子線間のクロストークを防止し、放出される２次電子を効率良く検出器に導くことができ、スループットを向上した欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】２次電子の像面1005での開口角度と拡大倍率から、対物レンズから見た試料面1010での見掛けの角度を求め、該見掛けの角度と、２次電子の初期エネルギーと、対物レンズのビームポテンシャルから試料面での受け入れ角度を求め、該受け入れ角度を基に、２次電子の収率を求め、所要のＳ／Ｎ比と、開口角で決まる分解能に基づいて、隣接１次電子線の照射間隔をクロストークが問題にならないような距離以上に離す。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線回折装置にも、また示差走査熱量計等の熱分析装置にも適切に使用することができる試料ホルダーを提供する。
【解決手段】 ホルダー本体１は熱伝導性の良い硬質材料から形成し、台座２とこの台座２から突出して内部に試料充填凹部３の内壁面４を形成する矩形の壁体５とからなる。壁体５の内壁面４と台座２の上面を形成する凹部底面６とによって粉末状試料を充填する試料充填凹部３を形成する。フィルム押付具７は矩形の額縁状をなし、中心部の開口８の内周面９は、フィルム１０を壁体５の外壁面１１との間に挟んだ状態で密着嵌合する大きさに設定する。フィルム１０は例えばカプトン、マイラー、各種ラップ用フィルム等を用い、Ｘ線透過性で揮発性試料でも透過しない気密性に優れた材料であって、耐熱性のものを選択し、好ましくは１０ミクロン程度のものを使用する。 （もっと読む）

【課題】 試料から微小サンプルを切り出す作業を迅速に且つ正確に行うことができ、また、微小サンプルを試料台に配置させる作業を迅速に且つ正確に行うことができる装置及び方法を提供する。
【解決手段】 プローブに負の電圧を印加し、試料の輝度を計測する。プローブによって試料から微小サンプルを切り出す場合には、輝度が減少したときに、プローブが試料に接近したと判定し、輝度が更に減少した後に急激に増加したとき、プローブが試料に接触したと判定する。プローブに接続された微小サンプルを試料台に配置する場合には、輝度が減少したときに、プローブに接続された微小サンプルが試料台に接近したと判定し、輝度が更に減少した後に急激に増加したとき、プローブに接続された微小サンプルが試料台に接触したと判定する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程途中のウエハ検査で、高分解能を維持して浅い凹凸、微小異物のレビュー、分類を高精度に行う目的で、二次電子を検出系の中心軸を合わせると共に、検出系の穴による損失を避けて高収率な検出を実現する。
【解決手段】高分解能化可能な電磁界重畳型対物レンズにおいて、試料２０から発生する二次電子３８を加速して対物レンズ１０による回転作用の二次電子エネルギー依存性を抑制し、電子源８と対物レンズ１０の間に設けた環状検出器で二次電子の発生箇所から見た仰角の低角成分と、高角成分を選別、さらに方位角成分も選別して検出する際、加速によって細く収束された二次電子の中心軸を低仰角信号検出系の中心軸に合わせると共に、高仰角信号検出系の穴を避けるようにＥｘＢで二次電子を調整・偏向する。 （もっと読む）

【課題】コンテナー内に提供された骨セメント材料の硬化を監視する装置を提供する。
【解決手段】コンテナー内に提供された骨セメント材料の硬化を監視する装置は、骨セメント材料の温度に基づくコンテナー内のある種類のセメント材料が硬化するのに要する時間に関連するデータが記憶されたメモリ装置を含む。データプロセッサは、セメント材料の温度に関連するデータ、および、硬化の程度に関連するメモリ装置内のデータ、に基づいて、セメント材料が硬化するのに要する時間を計算するのに用いられる。出力装置は、コンテナー内のセメント材料の硬化の程度に関連する、データプロセッサからのデータ用に、設けられている。 （もっと読む）

【課題】 試料の含有成分を蛍光Ｘ線分析するために用いられる蛍光Ｘ線分析用試料保持具において、試料保持作業の効率化と簡易化を図るとともに、試料毎の測定面の高さ位置を測定面全面にわたって同一にすることにより分析精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】 試料の含有成分を蛍光Ｘ線分析するために用いられる試料保持具５であって、枠体２と、その枠体に付着された付着部１ａ、枠体２の外周よりも外側の外周部１ｃおよび前記枠体の内周よりも内側でＸ線を透過させるための透過部１ｂを有する厚さ１０μｍ未満のフィルム１とを備え、試料９を保持する。 （もっと読む）

【課題】粒子統計が著しく改善されたＸ線透過回折分析方法および装置の提供。
【解決手段】サンプルを基板に配置する段階、中心部分が平面に沿って延在する帯形Ｘ線ビームをＸ線放射線源により生成する段階、サンプルがビームの経路内となり、サンプルの薄片部がビームによって照射される初期位置に、基板およびサンプルを配置する段階、基板の初期位置に対する基板の以下の運動、すなわち、基板に垂直な回転軸線の周りの回転であって、所定の回転角にわたる基板およびサンプルの回転と、傾斜軸線の周りのビームの中心部分が延在する平面と回転軸線がなす角度として定義される傾斜角にわたる基およびサンプルの傾動であって、第１所定値と第２所定値の間で変化する傾斜角にわたる傾動とを実施する段階、及び基板の運動が実施される時間間隔の間にサンプルを透過し回折されたＸ線放射を前記検出器で検出する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】 光電子顕微鏡内において、基板表面に直接吸着するガスと、先ず他の媒体に吸着した後に基板表面に移動供給されるガスとの反応を観察できる光電子顕微鏡用ガス反応観察試料を提供する。
【解決手段】 光電子顕微鏡内で基板の表面に吸着したガスの反応を観察するための試料であって、基板の表面に、開口を持ち該開口を除く基板全面を覆う外周薄膜と、該開口に内接し上記基板表面のガス反応領域を露出する反応窓を持つ環状の内周薄膜とを備え、電気陰性度の大きさが、基板＞内周薄膜＞外周薄膜の順であることを特徴とする。典型的には、上記基板は貴金属から成り、上記外周薄膜および上記内周薄膜は酸化物から成る。 （もっと読む）

【課題】 ＦＰ法で試料の組成や面積密度を分析する蛍光Ｘ線分析装置などにおいて、種々の試料について、簡便にしかもジオメトリ効果を十分現実に則し加味して理論強度を計算し、十分正確に定量分析できるものを提供する。
【解決手段】 仮定した組成に基づいて、試料13中の各元素から発生する２次Ｘ線6 の理論強度を計算し、その理論強度と検出手段9 で測定した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが一致するように、仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、試料13の組成を算出する算出手段10とを備え、その算出手段10が、理論強度を計算するにあたり、試料13の大きさ、ならびに試料表面13a の各位置に照射される１次Ｘ線2 の強度および入射角φをパラメータとして、光路ごとに２次Ｘ線6 の理論強度をシミュレーション計算する。 （もっと読む）

【課題】 面内回転を必要とする試料とスリットとを一体に支持して正確な測定を行うことができるＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線を発生するＸ線焦点Ｆと、試料Ｓを支持する試料ホルダ１７と、試料ホルダ１７に着脱可能に取り付けられると共にＸ線焦点Ｆから見て試料Ｓの前に配置されるマスクスリット１９を備えたマスク部材１８と、試料Ｓで回折したＸ線を検出するＸ線検出装置４と、Ｘ線光軸Ｘ０に対して直角であって試料Ｓを通るθ軸線を中心として試料ホルダ１７をθ回転させるθ回転装置５、１３と、θ回転した試料ホルダ１７をθ軸線に対して直角であってＸ線光軸Ｘ０と交差するβ軸線を中心として面内回転させるβ回転装置３７とを有するＸ線分析装置１である。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で、大気圧で分析すべき試料が真空で分析されるのを防止できる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】 真空と大気圧に雰囲気が切り替えられる分析チャンバ11内で、試料ホルダ8 に収納された試料3 に１次Ｘ線2 の照射などを行う分析装置本体10と、複数の試料ホルダ8 が載置される試料テーブル21を有し、分析装置本体10に対して試料ホルダ8 の搬出入を行う試料交換機20と、試料テーブル21における試料ホルダ8 の載置場所21a ごとに、試料3 に適用される雰囲気などの分析条件が設定される分析条件設定手段33と、その分析条件に従い分析装置本体10および試料交換機20の動作を制御する制御手段34とを備える。試料テーブル21における試料ホルダ8 の各載置場所21a に、分析チャンバ11内のいずれかの雰囲気が割り当てられており、その割り当て状況が表示手段31または試料テーブル21自体に表示される。 （もっと読む）

【課題】蛍光Ｘ線装置の操作条件変動の影響を回避し、オンラインでの単一相溶液の分析に適用することができ、装置ドリフトによる測定誤差を最小にし、分析すべき溶液中の媒体変動又はガス相の存在についての検出を可能にした分析装置。
【解決手段】励起Ｘ線により溶液を励起し、励起した溶液から放出された分光Ｘ線を分析するための励起及び分析手段（１２、１４）、励起及び分光Ｘ線及び基準Ｘ線に対し透明な領域（１８）を有する溶液受容手段（４、８、１０）、及び溶液に対し外部にある基準素子で、受容手段と一体になっており、前記領域とこの素子との間に前記溶液が存在するような仕方で前記領域に相対して配置され、励起放射線を受けた時、分光Ｘ線とは異なった基準Ｘ線を放出することができ、基準Ｘ線及び分光Ｘ線を分析して前記溶液の分析中に起き易い測定ドリフトを補正することを可能にする、基準素子（６）、を備えた分析装置。 （もっと読む）

【課題】 従来では測定試料として作製することが困難であった粗くて硬い粉体を試料についても、均一な成形体とすることができる蛍光Ｘ線分析用試料の作製方法及びその作製に用いる加圧成形治具を提供することである。
【解決手段】 鏡面を有する２つの加圧片２０ａ，２０ｂのうちの一方の加圧片の鏡面と、第１の粉体保持リング２２の内周面とで囲まれた空間に試料成形用補助粉体を供給し、平板層状の下地層を形成する工程、該平板層状の下地層の表面と前記第１の粉体保持リングの内側に所定の間隔を隔てて配置される第２の粉体保持リング２４の内周面とで囲まれた空間に、被分析用試料粉体を供給し平板層状の試料層を形成する工程、及び前記平板層状の下地層と前記平板層状の試料層と少なくとも第２の粉体保持リング全体とを、前記２つの加圧片の鏡面により同時に加圧成形する工程を含む蛍光Ｘ線分析用試料の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブ電子源のエミッション変動や、エミッション特性の個体差による試料表面の帯電不均一を解消する。帯電制御の処理中に試料表面の帯電をリアルタイムで計測する。
【解決手段】電子照射密度の不均一に起因した帯電不均一を解消する手段として、照射する電子と試料とを相対的に移動させ、電子照射密度の平均化を行う。また、試料表面の帯電をリアルタイムでモニタする手段として、試料に流れ込む吸収電流や試料より放出される２次電子及び反射電子の数を計測する。 （もっと読む）

【課題】被検査液体中に含まれている重金属イオンを簡単に定性分析および定量分析が可能な分析方法を提供することにある。
【解決手段】 被検査液体を、重金属イオン吸着剤を充填したケースに通し、被検査液体中に含まれている重金属陽イオンや重金属陰イオンなどの重金属イオンを重金属イオン吸着剤に吸着させ、重金属イオンが吸着した上記吸着剤を乾燥することなくケースごと蛍光Ｘ線分析装置にかけて、被検査液体中の重金属イオンの種類および含有量を分析する。 （もっと読む）

【課題】
非破壊検査による検査・試験パスの短縮を図り例えば薬剤開発期間の短縮、しいては製造・品質の安定化を図った分子構造複合同定装置を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、被検試料載置板１６に載置された同じ被検試料１７に対して０．５ｍｍ以下の直径に制限したＸ線ビームと赤外線・可視光・紫外線の何れか一つあるいは複数の波長ビームを照射する照射光学系（１，１２；２，２２，１１）と、前記被検試料から得られるＸ線回折パターン及び前記被検試料から放出される反射光又は散乱光を検出する検出光学系（９；１１，３，５）とを備え、前記被検試料から同時または連続して少なくともＸ線回折スペクトル及び可視光による反射光像を検査できるように構成した分子構造複合同定装置である。 （もっと読む）

【課題】半導体基板を処理する方法及び装置、特に、半導体基板の処理に用いるための計測ツールを提供する。
【解決手段】本発明の１つの態様により、半導体基板を処理するための半導体基板処理装置及び方法が提供される。本方法は、表面と各形態が第１の座標系の第１のそれぞれの点でこの表面上に位置決めされたこの表面上の複数の形態とを有する半導体基板を準備する段階と、第２の座標系の第２のそれぞれの点で各形態の位置をプロットする段階と、第１及び第２の座標系の間の変換を発生させる段階とを含むことができる。変換を発生させる段階は、第１及び第２の座標系の間のオフセットを計算する段階する段階を含むことができる。オフセットを計算する段階は、第１の座標系の基準点と第２の座標系の基準点の間のオフセット距離を計算する段階、及び第１の座標系の軸線と第２の座標系の軸線の間のオフセット角度を計算する段階を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 基板表面に形成された膜の表面または膜中に存在する被測定物を溶解、乾燥させて基板表面に保持する気相分解装置などにおいて、基板表面に形成された膜が厚くてもマッピング分析が可能なものを提供する。
【解決手段】 基板表面１ａに形成された膜の表面または膜中に存在する被測定物を前記膜とともに反応性ガスにより溶解し、反応副生成物である水を不活性ガスおよび／または減圧により乾燥させて、被測定物を基板表面１ａに保持する気相分解装置２０であって、前記溶解と乾燥を繰り返すことにより、被測定物の基板表面１ａにおける位置を維持する。 （もっと読む）

集束イオンビーム３１２のスパッタリングエッチング加工を行って薄片を作製すると同時に、薄片の側壁に対して平行な方向から電子ビーム３１４の照射を行って走査電子顕微鏡観察をし、薄片の厚さを測定する。そして、薄片の厚さが所定の厚さになったことを確認して、集束イオンビーム３１２による加工を終了する。
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