【課題】被検査物の重なり等により、被検査物の透過Ｘ線データ濃度が異物の透過Ｘ線データ濃度のほぼ同一になったとしても、確実に異物を検出するＸ線異物検出装置を提供する。
【解決手段】被検査物Ｐを透過した複数の異なるネルギー帯の透過量を検出するＸ線検出手段１０によって得られる検出信号を異なるネルギー帯毎の透過画像として記憶する透過画像記憶手段２１と、透過画像記憶手段２１に記憶された複数の異なるエネルギー帯の透過画像から独立成分として異物画像を含む複数の分離画像を分離抽出する独立成分分析手段２４を有する画像処理手段２３を備え、独立成分分析手段２４によって分離抽出された異物画像に基づいて被検査物Ｐの中に異物が含まれているか否かを判定する。
（もっと読む）

【課題】低被爆量で、生きた実験用小動物の放射線画像を生成可能な放射線画像生成装置を提供する。
【解決手段】変形窓２４は気体充填空間１４内側からの圧力により試料収容部材３０の押圧用窓３２から内側へ湾曲するように変形し、変形窓２４に押圧された押圧用窓３２も収容空間３０Ｒの内側へ湾曲するように変形しに示されるように、試料Ｔの観察部位を押し広げる。これにより、試料Ｔの観察部位は、押し広げ前よりも厚みが薄くなる。 （もっと読む）

【課題】テープ状の包装体に包装されたＩＣ製品の検査に際し、テープ状の包装体に包装されたままで連続的に包装されたＩＣ製品のＸ線検査システムが可能とされたテーピングＩＣ対応自動Ｘ線検査システムを提供することを目的とする。
【解決手段】Ｘ線照射部と、検査部と、撮影部とを備えた検査装置本体と、被検査体の良否判定を行う画像処理装置とを有し、検査部は、テーピングＩＣが巻き取られたセットリールと、巻き取り用リールと、Ｘ線被照射部とを有してなり、テーピングＩＣの送り出しは、自動ピッチ送り手段により自動的に行なわれ、自動ピッチ送りされたＩＣは、順次Ｘ線が照射され、順次撮影される共に、複数の検査画像と予めセットされたリファレンス画像とが検査比較手段によって比較検査されてなり、検査不合格品にはマーキング手段により欠陥マーキング情報が出力されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基底基準吸収回折法による定量法において基底板から正確な回折線強度情報を得ることを可能にすることにより、極めて正確な検量を行うことができるＸ線回折定量装置を提供する。
【解決手段】物質Ｓの重量をＸ線を用いて測定するＸ線回折定量装置において、物質Ｓを物質保持領域Ａｓ内に保持するフィルタ３３と、物質Ｓに照射するＸ線を発生するＸ線源Ｆと、物質Ｓで回折した回折Ｘ線を検出するＸ線検出器２０と、フィルタ３３におけるＸ線照射面の反対側に設けられ物質保持領域Ａｓよりも小さい基底板３１と、Ｘ線源Ｆから見てフィルタ３３の背面側の領域であり且つ基底板３１の外周側面の周りの領域に設けられた空間領域４１とを有するＸ線回折定量装置である。基底板３１の周囲に空間領域４１を設けたことにより、空間領域４１を形成している試料板２９Ｃからの回折線によって基底板３１からの回折線に誤差変動が生じることを防止できる。 （もっと読む）

【課題】中性子を用いて試料に含まれる過酸化物および超酸化物を検出する。
【解決手段】試料に含まれる化合物を検出するシステムは、中性子源と、試料に近接して設置された少なくとも１つのガンマ線検出器と、信号プロセッサと、を備える。中性子源は、試料に向けて中性子ビームを送る。ガンマ線検出器は、試料から放出されたガンマ線を収集し、信号プロセッサは、ガンマ線検出器によって収集されたガンマ線に基づいて、試料に含まれる化合物を同定する。同定される化合物は、過酸化物および超酸化物からなる群から選択される。 （もっと読む）

【課題】 リチウムが存在する試料を高純度の窒素雰囲気中にさらし、窒素と常温で反応させることによって窒化リチウムを生成させ、その後、大気に曝すことなく窒素雰囲気のままＥＤＸ或いはＥＰＭＡ分析装置に導入し、窒化リチウムの窒素の分析により、定性的にリチウムの存在を確認可能な分析方法を提供することにある。
【解決手段】 グローブボックス１内に、十分な置換可能な量の乾燥空気を、乾燥空気導入口５を通して流し込み置換し、その後、連続してグローブボックス１内に、露点温度−２０度以下の純度９９．９％以上の窒素を、窒素ガス導入口６を通して流し込み置換する。試料をグローブボックス１内で、高純度の窒素雰囲気中にさらし、窒素と常温で反応させることによって窒化リチウムを生成させる。ＥＤＸ分析装置９内の試料室へ試料を導入し、試料に電子線を照射しＥＤＸスペクトルより、窒素元素の特性Ｘ線のピークを分析することにより、リチウムの存在が可能となる。 （もっと読む）

【課題】微細に加工された半導体デバイス内の所望の箇所の３次元的構造を観察するための電子顕微鏡用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法を提供する。
【解決手段】試料片１０の加工にダイサーを用い、試料片上の観察対象となる部分を突起状に削り出す加工に集束イオンビーム加工を用い、試料片１０を１軸全方向傾斜試料ホルダに、突起１１の中心軸と試料傾斜軸Ｚを一致させて固定し、高角に散乱された電子で結像したＴＥＭ像を投影像として用い、再構成を行う。 （もっと読む）

【課題】有機膜からなり、パターンの形成されたフォトレジストマスクと、有機成分からなる反射防止膜と、金属化合物膜と、が上側からこの順番で積層された基板に対して、電子線を照射することによって、当該パターン上への有機成分からなる残渣の付着の有無を検査するにあたり、容易に残渣の付着を判別する技術を提供する。
【解決手段】残渣が付着した領域では、電子線の到達深さが金属化合物膜の上面よりも浅い位置となり、また残渣が付着していない領域では、電子線の到達深さが反射防止膜の下面よりも深い位置となるように、電子線の加速電圧を算出し、その加速電圧で電子線を基板に照射し、この基板から放出された２次電子像を得る。 （もっと読む）

【課題】スラグに含有される制限成分が許容値を超える高濃度スラグと、許容値以下である低濃度スラグとに、スラグを正確に分別することができるスラグ分別方法を提供する。
【解決手段】制限成分をスラグ中に投入して処理した後、同一の制限成分を投入しない次のチャージについてスラグを採取し、その採取したスラグの少なくとも９５％以上が球換算直径で５０μｍ以下となるようにスラグを粉砕し、圧力３０ｔ／ｃｍ^２以上で且つ２０秒以上プレスすることにより、厚さが２〜４ｍｍで分析面の凹凸が０．０５ｍｍ以下の試料を成形し、上記分析面に対し、電圧３０ｋＶ〜４０ｋＶ、電流５０〜７０ｍＡのＸ線を照射して制限成分含有量を分析し、分析によって得られた制限成分含有量Ｉと予め設定された制限成分許容値Ｐとを比較し、Ｉ＞Ｐの場合は制限成分高濃度含有スラグとして、また、Ｐ≧Ｉの場合は制限成分低濃度含有スラグとして分別することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】システム自体と基板の汚染を防止する蛍光Ｘ線分析システム、それに用いるプログラムを提供する。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析システム１００は、基板１を測定する蛍光Ｘ線分析装置４０と、基板１の被測定物２を反応性ガスにより溶解する気相分解装置２０と、溶液で被測定物２を回収して基板１の表面に保持する試料回収装置３０と、基板１を、蛍光Ｘ線分析装置４０から気相分解装置２０へ、気相分解装置２０から試料回収装置３０へ、および試料回収装置３０から蛍光Ｘ線分析装置４０への搬送を行う搬送装置５０と、蛍光Ｘ線分析装置４０、気相分解装置２０、試料回収装置３０および搬送装置５０を制御するとともに、被測定物２の測定値が所定の分析閾値未満の基板１であるか、否かを識別する制御装置６０とを有する制御装置６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】
半導体装置等をはじめとする回路パターンを有する基板面に白色光、レーザ光、電子線を照射して検査し、検出された表面の凹凸や形状不良、異物、さらに電気的餡欠陥等を短時間に高精度に同一の装置で観察・検査し、区別する検査装置および検査方法を提供する。また、被観察位置への移動、画像取得、分類を自動的にできるようにする。
【解決手段】
他の検査装置で検査され、検出された欠陥の位置情報をもとに、試料上の被観察位置を特定し、電子線を照射し画像を形成する際に、観察すべき欠陥の種類に応じて電子ビーム照射条件および検出器、検出条件等を指定することにより、電位コントラストで観察可能な電気的欠陥が可能になる。取得した画像は、画像処理部で自動的に分類され、結果を欠陥ファイルに追加して出力される。 （もっと読む）

【目的】本発明は、パターンを転写するモールド上に作成されたパターンを検査するモールド検査方法およびモールド検査装置に関し、微細寸法のモールド（押し型）上のパターンの検査をする新たな方法を提供し、しかも、極めて短時間に微細寸法のモールド上のパターンを検査することを目的とする。
【構成】モールド上に作成されたパターンに対応する部分とそれ以外の部分との電子放出を異ならせて予め作成した転写板に、励起源を照射して励起させ、転写板上から放出された電子を、電圧により引き出して拡大画像を生成するステップと、生成された拡大画像をもとにモールド上に作成されたパターンを検査するステップとを有するモールド検査方法である。 （もっと読む）

【課題】ウェハに打ち込んだイオンの影響や、パターン接続の有無、パターンエッジの形状などの影響による検出画像誤差を生じることなく画像を検出する。
【解決手段】パターン検査方は、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて予め座標データで登録した領域、又は予め登録したパターンと一致するパターンをマスクして欠陥を検出し、この検出した欠陥を表示するようにした。又本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて欠陥を検出し、この検出した欠陥のうち登録した特徴に一致する欠陥の表示非表示を切替えるか他と識別可能なように表示するようにした。 （もっと読む）

【課題】被検査物を連続的に検査して、短時間にその材質を識別することができ、かつ予めＸ線の検出出力と対象物の厚みとの特性データを求める必要がない材質識別検査装置および方法を提供する。
【解決手段】検査物５を搬送する搬送装置１２と、被検査物に対し、搬送方向に直交する同一断面内で、２以上の異なる方向から、所定のエネルギー分布を有する入射Ｘ線７を、同時又は時間をずらして照射するＸ線照射装置１４と、入射Ｘ線が被検査物を透過した透過Ｘ線８から２以上のエネルギー領域のＸ線強度を弁別して計測するＸ線検出装置１６と、２以上のエネルギー領域における入射Ｘ線と透過Ｘ線の強度から、被検査物の実効原子番号Ｚ_effと電子密度ρ_eを算出し、これから被検査物の材質を識別する演算装置１８とを備える。 （もっと読む）

本発明が、Ｘ線蛍光分光分析による測定用の試料を調製する装置を含む。装置が、一つ以上のスルーホールを有するプレートを含み、プレートの一側面上で膜がホールを覆う位置での一つの寸法にて、ホールが５００マイクロメートル未満の直径を有する。膜が、Ｘ線に対し半透明である。他の実施形態において、プレートに対し防水密封を形成する取外し可能なカバーによって、ホールがプレートの一側面上で覆われる。カバーが、オスミウム、イットリウム、インジウム、リン、ジルコニウム、白金、金、ニオビウム、水銀、タリウム、モリブデン、硫黄、鉛、ビスマス、テクネチウム、ルテニウム、塩素、ロジウム、パラジウム、アルゴン、銀、及びトリウムの元素を実質的に含まない。また、本発明が、約２マイクロリットルから約２ミリリットルの間の体積及び約１０マイクロモル未満の溶液を提供する段階を含む。溶液が濃縮され、Ｘ線蛍光分光分析を使用して分析される。
（もっと読む）

【課題】廃棄物における特定の材質部分を迅速かつ分かり易く表示することにより、密閉装置内で行わなければならない有害廃棄物の弁別処理を迅速かつ正確に行うことができるようにする。
【解決手段】被検体に放射線を照射し、透視画像データを撮影する工程と、被検体容器の個体ナンバーと撮影方向とを特定する工程と、前記被検体から除去すべき材質部分を透視画像データより自動的に認識する工程と、前記被検体の撮影方向と測定結果とを同時に保存する工程と、前記被検体の個体ナンバーに対応する測定結果を適宜呼び出し、参照しながら前記被検体を分解処理する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】キャピラリーを回転させながらガスフロー測定が可能なキャピラリー及びガス供給装置の提供。
【解決手段】透過法のＸ線回折測定等に好適なキャピラリー２である。このキャピラリー２は、試料２２を配置するための管状部４と、この管状部４の一端側に設けられたガス導入部６とを備えている。管状部４の両端は開放されている。ガス導入部６の内部から管状部４の内部にまで至るガス通路１６が形成されている。ガス導入部６は、その外面から上記ガス通路に至るガス導入孔１８を有している。ガス導入部の外面は円周面部を有している。この円周面部は、少なくとも、上記ガス導入孔１８よりも軸方向一方側の位置及び上記ガス導入孔１８よりも軸方向他方側の位置に設けられている。上記円周面部の中心軸線Ｚ１と、管状部４の中心軸線Ｚ２とが、実質的に一致している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液体物品のパッケージを開けないままその液体物品に麻薬が隠れているかを判断することができる、液体物品に隠れている麻薬を検査する方法及び装置を開示している。
【解決手段】前記方法は、放射線ビームを発生して前記液体物品を透過させるステップと、前記液体物品を透過した放射線ビームを受け取って多角度投影データを形成するステップと、前記液体物品の均一性に基づき、前記多角度投影データに対して逆演算を行うことにより、被検液体物品の属性値を計算して取得するステップと、前記液体物品の識別情報を索引として、予め作成したデータベースから参照属性値を検索し、計算した属性値と参照属性値との差分値を算出するステップと、前記差分値が所定の閾値より大きいかを判断するステップと、を含み、前記差分値が所定の閾値より大きい場合には、前記液体物品に麻薬が隠れていると認める。 （もっと読む）

【課題】本発明は、１次光学系にプレチャージの機能も持たせてプレチャージユニットの設置を省略できるとともに、試料に対するプレチャージの領域と量を制御し、試料に応じた最適なプレチャージを行うことができる電子線装置を提供することを目的とする。
【解決手段】試料Ｓを載置するステージ３０と、
所定の照射領域１５を有する電子ビーム生成し、該電子ビームを前記試料に向けて照射する１次光学系１０と、
前記電子ビームの前記試料への照射により発生した、前記試料の構造情報を得た電子を検出し、所定の視野領域２５について前記試料の像を取得する２次光学系２０と、
前記所定の照射領域の位置を、前記所定の視野領域に対して変更可能な照射領域変更手段１３、１４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コンタクトホール等の半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハ上の欠陥を検査し、ドライエッチングによる非開口欠陥等の欠陥の位置や欠陥の種類等の情報を高速に取得し、得られた欠陥情報から欠陥の発生プロセスや要因の特定を行ない、歩留まりを向上やプロセスの最適化の短期化を実現する方法の提供。
【解決手段】半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハ１８に１００ｅＶ以上１０００ｅＶ以下の照射エネルギ−の電子線を走査・照射し、発生した２次電子の画像から高速に欠陥検査を行う。二次電子画像取得前にウエハ１８を移動させながら高速に電子線を照射し、ウエハ１８表面を所望の帯電電圧に制御する。取得した二次電子画像から欠陥の種類の判定を行ない、ウエハ１８面内分布を表示する。 （もっと読む）