【課題】被検物を高温に加熱することなく、被検物の放射率を測定する放射率測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】第１放射エネルギの赤外光を被検物に照射する赤外光照射工程と、前記赤外光を照射された前記被検物からの反射赤外光から第２放射エネルギを測定する測定工程と、前記第２放射エネルギと前記第２放射エネルギとに基づいて前記被検物の放射率を算出する算出工程と、を含む放射率測定方法である。 （もっと読む）

【課題】 孔内に挿入される導光棒に照明と受光とを行なわせて光学系を一つとし、構造を簡素化して部品数を低減するとともに、部品精度の要求を抑えて組立を簡単にして製造コストを低減した安価な孔内周面撮影装置を目的とするものである。
【解決手段】 光源光を拡散光として導光棒５の基端面に入射させる反射鏡７ｂを導光棒５の基方部周縁に設け、また、導光棒５が先端を受光と照明とを行なう円錐状面６とし、基端面を受光像投影面と光源入射面とされ、該導光棒５の基端面に入射された拡散光を全反射させて先端の円錐状面６に伝達して孔内周面を拡散光により照明するとともに、拡散光により照明された孔内周面からの反射像を前記円錐状面６により受光したうえ、導光棒５の基端面に全反射投影された受光像を撮影する撮影装置４が導光棒５の基端に設けられるものである。 （もっと読む）

【課題】内部空間形成体内側の観察対象部にレーザ光を結像させつつ、レーザ光の結像サイズを調節可能であるとともに、レーザ投光装置を狭隘な点検穴から内部空間形成体内へ挿入できるようにする。
【解決手段】内部空間形成体３内へレーザ光を投光するレーザ投光装置２０は、バリフォーカル光学系７を有する。バリフォーカル光学系７は、複数のレンズ体１１ａ，１１ｂ，１１ｃを有する。各レンズ体は、レンズ１２と、該レンズを保持するとともに光軸方向に移動可能な保持移動片１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、を有する。アクチュエータ１９ａ，１９ｂ，１９ｃが、ぞれぞれ、光軸方向に保持移動片を駆動することにより、内部空間形成体３内側でのレーザ光の結像位置と結像サイズを調節する。各保持移動片において対応するアクチュエータから駆動力を受ける駆動力伝達部分１３ａ１，１３ｂ１，１３ｃ１は、周方向において互いにずれており、各アクチュエータは、光軸方向から見て、対応する駆動力伝達部分に重なる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成でありながら、ワーク表面の明るさのムラを効果的に抑制し、無影照明等をより好適に行うことができる光照射装置を提供する。
【解決手段】光の照射対象である製品等のワークと外部観察点との間であって、かつ、それらを結ぶ観察軸線上に設けられた観察孔と、前記観察孔の周囲に設けられ前記ワークに光を照射する第１光源部と、前記外部観察点側であって前記観察孔に臨む位置に、前記観察軸線に対して斜めに設けられたハーフミラーと、射出された光が前記ハーフミラーで反射し、前記観察孔を通って前記ワークに照射される位置に設けられた第２光源部と、前記観察孔内に嵌入された透明部材と、を備えているようにした。 （もっと読む）

【課題】光学的手法を用いて被処理基板の構造をより高精度に評価することができるプロセスモニター装置を提供する。
【解決手段】プロセスモニター装置１１は、光を出射する光源部と、光の強度を検知可能な光検知部と、光源部から出射された光をウェハＷまで導き、ウェハＷから反射した反射波を光検知部まで導く第一光経路２１と、第一光経路２１と同等の光伝搬特性を有するように構成され、光源部から出射された光を、ウェハＷを経由することなく光検知部まで導く第二光経路と、第二光経路を通して光検知部により検知された光の強度情報に基づいて、第一光経路２１を通して光検知部により検知された光の強度情報を補正し、ウェハＷの構造を解析するコントローラ１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスク基板に形成された光学歪みによる不具合が解消され、欠陥検出の感度を高くできる検査装置を提供する。
【解決手段】光源装置１から出射した照明光をフォトマスク８に向けて透過検査用として投射する第１の照明光学系（４〜７）と、前記フォトマスク支持すると共に第１の方向及び第１の方向と直交する第２の方向に移動可能なステージ９と、フォトマスクを透過した透過光を対物レンズ１１及び偏光分離手段１３を介して受光する光検出手段（１７，１８）と、光検出手段から出力される輝度信号を受け取り、フォトマスクに存在する欠陥を検出する信号処理装置１９とを具える。信号処理装置は、マスクパターンが形成される前のマスク基板の透過光の輝度分布データを記憶したメモリと、前記輝度分布データに基づいて前記光検出手段から出力される輝度信号又は光源装置から放出される照明光の強度を補正する補正手段を有する。 （もっと読む）

【課題】欠陥の捕捉率、及び分類性能を向上させる。
【解決手段】互いに平行な直線群を含む回路パターンが形成された被検査物を載置して走行するステージと、スリット状の光であるスリット状ビームを複数生成し、前記被検査物の表面に第１の照明領域、及び第２の照明領域を形成する照明光学系と、前記第1の照明領域からの第１の光と前記第２の照明領域からの第２の光とを分離し、前記第１の光は第１のイメージセンサで、前記第２の光は第２のイメージセンサで検出する検出光学系と、前記第１のイメージセンサ、及び前記第２のイメージセンサで得られた信号に基づいて欠陥を示す信号を得る処理部と、を成す。 （もっと読む）

【課題】枚葉印刷物を適正に検査する。
【解決手段】枚葉印刷機のデリバリ部８に隣接した圧胴１１の周面に枚葉印刷物ａを押し付けるエア吹き付け手段１６と、エア吹き付け手段により圧胴の周面に押し付けられた枚葉印刷物に光を照射する照明手段２１と、照明手段により照明された枚葉印刷物の絵柄を撮像するカメラ２７と、カメラにより撮影した画像から印刷の良否を判定する印刷良否判定手段１９とを具備する。照明手段は、圧胴上の枚葉印刷物での反射光が、デリバリ部と圧胴との間に設置されたステップ１５の下を通るように配置され、ステップとデリバリ部のカバー８ａとの境界部の近傍には反射光をデリバリ部のカバーの裏側へと指向させる反射鏡２２が配置され、カメラはデリバリ部のカバーの裏側を通って来る反射光を受光するように配置され、少なくともデリバリ部のカバーの裏側を通ってカメラに至る反射光の光路ｅが光ダクト２５で覆われる。 （もっと読む）

【課題】欠陥の種類、材料、形状によらずコントラストを高くする。
【解決手段】実施の形態のパターン検査装置は、光源と、光透過率を変更可能な透過率制御素子と、ビームスプリッタと、偏光制御部と、位相制御部と、波面分布制御部と、検出部とを含む。前記ビームスプリッタは、前記光源から出射された光を分割し、検査対象のパターンが形成された基体と前記透過率制御素子とに照射し、前記基体からの反射光である信号光と、前記透過率制御素子からの反射光である参照光と、を重ね合わせて干渉光を生成する。前記偏光制御部は、前記参照光の偏光角および偏光位相を制御する。前記位相制御部は、前記参照光の位相を制御する。前記波面分布制御部は、前記透過率制御素子における前記参照光の波面分布を制御する。さらに、前記検出部は、前記干渉光を検出する。 （もっと読む）

【課題】検出系からの検出画像信号を補正することにより、複数の検査装置（機体）間での検査感度の機体差を低減することにある。
【解決手段】被検査対象００１に光束を照射する光源と、被検査対象から反射する反射散乱光を導く光学系１００と、導かれた反射散乱光を電気の検出信号に換える複数の光電セルが配列されている光電イメージセンサ４００と、前記光電イメージセンサを分割した複数の領域ごとに、それぞれに対応する信号補正部、Ａ／Ｄ変換器および画像生成部から構成される検出信号伝送部と、前記検出信号伝送部が出力する部分的な画像を合成する画像を作成する画像合成部と、合成された画像を処理することで被検査対象表面の欠陥あるいは異物の検査を行なう検査装置において、検出信号伝送部は、光電セルからの検出信号を各チャンネル毎に定めた基準検出信号強度の基準目標値に近づけるように補正できる検出信号補正機能を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】誤って検出される擬似欠陥の数を低減できるとともに、欠陥の検出感度を落とすことなく、本来検出されるべき真の欠陥を検出できる基板検査方法及びその基板検査用のフィルタ画像の画像作成方法を提供する。
【解決手段】
基板の欠陥の有無を検査するために擬似欠陥を除去するためのフィルタ画像を作成する画像作成方法において、登録された画像の中心位置を中心とする円の円周上に位置するいずれかの画素の画素値を、円周上に位置する画素から選択した複数の画素の画素値のうちの最大値に置換することによって、フィルタ画像を作成するフィルタ画像作成工程Ｓ１４とを有する。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルムが積層された基板の蛍光イメージと散乱光イメージ、そして反射光イメージをさらに検出して、露光工程で発生する様々な欠陥を容易に検出できるようにしたパターン欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】光を生成して出射する光源１１と、光源１１から出射される光を基板２０にスキャンするスキャンミラー１４と、基板２０で蛍光された蛍光イメージを検出する蛍光イメージ検出部１７と、基板２０で散乱された散乱光イメージを検出する散乱光イメージ検出部１９と、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】被検体の表面から反射光が得られないような場合であっても、被検体の表面性状を確実に測定でき、歩留まり及び製造効率の向上を図ることができる表面性状評価方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷをセットしていない状態において、第１参照平面５６で反射された第１参照光と、ウエハＷをセットした状態において、ウエハＷを透過して後に第１参照平面５６で反射された被検光と、に基づいてウエハＷの表面性状を評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】異常の原因を特定することが可能な検査装置および方法を提供する。
【解決手段】検査装置は、加工によりウェハ１０の表面に設けられた構造体を照明する照明光学系２０と、当該構造体で反射した照明光を検出するＣＣＤカメラ４０と、それぞれ異なる加工条件で設けられた構造体を対象として、複数の照明条件若しくは反射条件で検出される検出値を加工条件ごとに記憶するデータベース部４６と、複数の照明条件若しくは反射条件に含まれる少なくとも２条件で被検物である構造体から検出される検出値と、データベース部４６に記憶された検出結果との関連性に基づいて、構造体に対する加工の条件を求める画像処理検査部４５とを有している。 （もっと読む）

【課題】被検査体の検査効率を低下させることなく異なる角度の走査画像を取得し、欠陥判定の精度を高める表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置は、被検査体の軸に沿って導かれたレーザ光を反射するミラー手段と、ミラー手段によって反射され、被検査体の内側表面に印加されて反射されたレーザ光を受光する受光手段と、ミラー手段を被検査体の軸と同軸で回転させて周方向走査を行う周方向走査手段と、ミラー手段を被検査体の軸に沿って移動して軸方向走査を行う軸方向走査手段と、ミラー手段の被検査体の軸に対する反射角度を変更する反射角度変更手段とを備えている。 （もっと読む）

【目的】より高精度に光軸調整がなされたレーザ光で検査可能なパターン検査装置を提供する。
【構成】パターン検査装置１００は第１から第４象限の面で独立に受光するフォトダイオードアレイ２１２が受光したレーザ光の光量を用いて、レーザ光と供に発生するノイズ成分光の発生方向を特定するノイズ方向特定回路１２８と、レーザ光の光量を用いて、ノイズ成分光の光量を演算するノイズ光量演算回路１３０と、ノイズ成分光の発生方向の重心値の絶対値がノイズ成分光の光量をレーザ光の総光量で除した値になり、ノイズ成分光の発生方向と直交する方向の重心値が０になるように、ミラー２０２，２０４の反射面の位置を制御するミラー制御部１２１，１２２と、光軸が調整されたレーザ光を用いて、被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部１５０と、参照画像を入力し、光学画像と参照画像とを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、チップ部品を装填するためにチップ部品位置決め用の撮像と、チップ部品の側面の割れなどの検査するためにチップ部品位置決め用の撮像とを同一ステーションで同一の撮像装置を行い、スループットの高いテーピング装置及びテーピング方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、キャリアテープの各収納溝内に吸着装填ノズルによりチップ部品を順次装填し、カバーテープで当該収納溝の開口部を閉塞するテーピング装置またはテーピング方法において、前記吸着装填ノズルにより吸着保持された状態のチップ部品の底面と側面を異なる位置で同一の撮像カメラで撮像し、前記側面の撮像結果に基づいて前記側面を検査し、前記底面の撮像結果に基づいて前記チップ部品を前記収納溝に装填する位置決めすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査データと組み合わせて設計データを使用するためのさまざまな方法及びシステムが実現される。
【解決手段】設計データ空間における検査データの位置を決定するための一コンピュータ実施方法は、ウェハ上のアライメント部位に対する検査システムにより取り込まれたデータを所定のアライメント部位に対するデータにアラインさせることを含む。この方法は、さらに、設計データ空間における所定のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置を決定することを含む。それに加えて、この方法は、設計データ空間におけるウェハ上のアライメント部位の位置に基づいて設計データ空間における検査システムによりそのウェハについて取り込まれた検査データの位置を決定することを含む。一実施形態では、検査データの位置は、サブピクセル精度で決定される。 （もっと読む）

【課題】被検光学部品の表面によって反射された検査光を受光して被検光学部品の表面を撮像する検査装置でありながら、ゴースト像の発生を効果的に抑制することにより検査精度を高くできる被検光学部品検査装置を提供する。
【解決手段】回転対称形状をなす被検光学部品Ｌの表面に検査光Ｒを照射する検査用光源２４、３３と、被検光学部品によって反射された検査光を受光して被検光学部品の表面を撮像する撮像手段３６と、被検光学部品の中心軸Ａの延長方向に配設した該撮像手段から該被検光学部品を見たときに、該被検光学部品の一部と該撮像手段の間に位置する部分遮光手段３１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】試料を検査するために使用される検査システムの欠陥検出を強化する。
【解決手段】光電子増倍管（ＰＭＴ）検出器の測定検出範囲の制限要因として陽極飽和に対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路、方法が提供される。検査システムの測定検出範囲の制限要因として増幅器及びアナログ・デジタル回路の飽和レベルに対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路及び方法も提供される。加えて、表面検査の走査の間に試料に供給される入射レーザ・ビームパワー・レベルを動的に変更することによって大きな粒子に対する熱破損を削減することにより欠陥検出を強化するための検査システムや回路、方法が提供される。 （もっと読む）