【課題】穴欠陥の検出の確実性を高めることができる表面検査装置及び表面検査方法を提供する
【解決手段】被検査物１０の穴欠陥を画像処理で検査する表面検査装置１であって、被検査物１０を撮像する撮像手段２と、撮像手段２が撮像した撮像画像を２値化する２値化手段と、被検査物１０の穴欠陥の有無を判定する判定手段とを備えており、２値化手段は、設定に応じて変化する各輝度値を基準として２値化画像を算出し、判定手段は、異なる輝度値で２値化した複数の２値化画像に基いて穴欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】
パルスレーザ光源から発射されるパルスレーザのパルス発振周波数よりも高いサンプリングレートで試料にダメージを与えることなく検査することを可能にする。
【解決手段】
パルス光源から発射されたパルス光の１パルス分の光を複数のパルスに分割し、この分割されたパルス光を試料に照射し、照射により試料から発生した散乱光を集光して検出し、試料からの散乱光を集光して検出して得た情報を用いて試料上の欠陥を検出する欠陥検出方法において、１パルス分の光を複数のパルス光に分割することを、分割した各パルス光のピーク値がほぼ一定になるように制御して分割するようにした。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、セラミック球体を破壊することなく、表面層の内部の欠陥およびスノーフレークの有無を検出するセラミック球体検査装置を提供すること。
【解決手段】セラミック球体Ｓを所定の位置で自転可能に支持し、投光手段１１０の照射光を受光手段１２０で検出して表面層の内部状態を評価するセラミック球体検査装置１００であって、受光手段１２０が投光手段１１０から照射される照射光のセラミック球体の表面での反射光を検出しないように構成されていること。 （もっと読む）

【課題】ウェハを搬送する際に生じる振動に起因して測定データに現れるオフセット成分のバラツキを除去する。
【解決手段】Ｙ方向に光切断線を照射して平行断面形状データＺｆ＿Ｘ０を求める。Ｘ方向に光切断線を照射して直交断面形状データＺｇ＿Ｙ０，Ｚｇ＿Ｙ１，・・・，Ｚｇ＿Ｙｎを求める。平行断面形状データＺｆ＿Ｘ０と直交断面形状データとの交差位置の高さデータが等しくなるようにオフセット値ｏ（Ｙ０），ｏ（Ｙ１），・・・，ｏ（Ｙｎ）を求める。直交断面形状データＺｇ＿Ｙ０，Ｚｇ＿Ｙ１，・・・，Ｚｇ＿Ｙｎにオフセット値ｏ（Ｙ０），ｏ（Ｙ１），・・・，ｏ（Ｙｎ）を加算し、補正直交断面形状データＺｇ＿Ｙ０´，Ｚｇ＿Ｙ１´，・・・，Ｚｇ＿Ｙｎ´を求める。 （もっと読む）

【課題】ラインセンサカメラのライン周期と比べてＰＷＭ周期が十分に短くなくても、所望の光量を各ライン周期に供給することができ、撮像された画像における明暗差が出るのを防ぐことができる光照射装置を提供する。
【解決手段】検査対象Ｗに光を照射する光照射機構１と、所定のＰＷＭ周期で点灯期間及び消灯期間を交互に繰り返すＰＷＭ制御により、前記光照射機構を所定の明るさに制御するＰＷＭ制御部２と、を備え、ラインセンサカメラの各ライン周期に含まれる前記点灯期間が、１期間分又は数期間分であり、前記ＰＷＭ周期が、前記ライン周期と同期しているとともに、受光素子が１ライン周期に撮像する１画素のアスペクト比が大きくなるほど、１ライン周期に含まれる前記点灯期間の数が多くなるように設定した。 （もっと読む）

【課題】サンプルの異常を検出する光学装置において、より広範囲な用途に使用され、感度と性能が改善されたコストのより低い改良された表面検査システムを提供する。
【解決手段】サンプル１８の表面上の照明される領域に対して或る入射角度で放射光線を焦点の合った光線へと焦点を合わせる第１の光学機器１２と、第１の検出器アレイ３２と、第１の光線１６から生じ、サンプル表面上の照明される領域２０から散乱される放射線を集光すると共に前記照明される領域の一部分から集光された散乱される放射線を前記第１のアレイにおける対応する検出器へと焦点を合わせる集光光学機器３０と、を備え、前記第１の光学機器が光線をサンプルの表面に反射する集光光学機器の集光開口に反射器１０６を有し、前記反射器が集光光学機器の集光開口の妨害を低減する細長い形状を有する光学装置。 （もっと読む）

【課題】半導体処理中のオンザフライ自動検出分類（ＡＤＣ）システムおよび方法を提供する。
【解決手段】このシステムの一実施形態において、光源、例えば、レーザ（２１）が検査を受けるウェーハ（２２）の狭い領域を照明する。４つの均等に配置した暗視野検出器、例えば、光電子増倍管またはＣＣＤ（２６〜２９）が、それぞれの視野が重複して検出ゾーンを形成するようにウェーハの縁に載置される。１以上の検出器（２６〜２９）の方向に散乱された光が集光され、アナライザモジュール（３４）に伝送される電気信号に変換される。アナライザモジュール（３４）は、ウェーハにある欠陥を検出し、それらを異なる欠陥タイプに分類するように作用する。任意に、システムは、暗視野検出器も含む。 （もっと読む）

【課題】長手方向に連続的に入った表面疵を精度よく検出することができるようにする。
【解決手段】長尺の被検査材２の表面を照明する照明手段１６と、被検査材２の表面を撮像する撮像手段１７と、この撮像手段１７にて撮像された被検査材２の表面の画像を処理して欠陥部２０を抽出する画像処理手段１８とを備えた表面検査装置１５において、照明手段１６を当該被検査材２の周りに揺動又は回転させる移動手段１９を備えている。移動手段１９は、被検査材２を囲うように形成され且つ照明手段１６が被検査材２を向くように当該照明手段１６を支持する支持部材２１を備え、この支持部材２１は照明手段１６が被検査材２の周りを揺動又は回転できるように移動自在となっている。 （もっと読む）

【課題】レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出するためのコンピュータに実装された方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィック変数の異なる値に対する該レティクルの画像を取得する工程において、画像は、ノミナル値で得られた二つまたはそれ以上の参照画像および一つまたはそれ以上の変調された画像を含む、該取得する工程と、該二つまたはそれ以上の参照画像から複合参照画像を生成する工程と、を含むことを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】水路トンネルなどの通水状態にあるトンネルにおいて停水又は減水せずにトンネル内状況を観測し、かつ、自律して姿勢制御が可能な壁面自動追尾型水路トンネル撮影装置を提供すること。
【解決手段】水流のあるトンネル内の水面に浮遊しつつ流下する船体と、この船体に水平面で回転自在に保持された回転体ベースと、前記船体側に取り付けられ前記回転体ベースを回転させるための回転用モータと、前記回転体ベースに設置されトンネル内を撮影するための撮影用カメラと、前記回転体ベースに設置されトンネル壁面までの距離を測定する少なくとも２つの距離測定装置とを具備してなり、前記距離測定装置の各測定結果に基づいて前記回転用モータを制御して前記回転体ベースの姿勢を一定に制御するようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の形状計測手法では検出が不可能だった、凹凸のほとんどない微小な欠陥や、異種ゴムが加硫成型された部分などのタイヤ表面の浅く小さな欠陥を、従来と比較して容易に検出することができるタイヤの外観検査方法および外観検査装置を提供する。
【解決手段】タイヤの表面に対し、タイヤ円周方向に間隔を空けて少なくとも一対の撮像領域を、タイヤ円周方向から見た際に、互いに対となる撮像領域がタイヤ径方向において少なくとも一部分で重なるように設定し、各撮像領域に対しそれぞれ光を照射して、各撮像領域からの反射光をそれぞれ測定するにあたり、タイヤ円周方向から見て互いに対となる撮像領域間で平行であって、かつ各撮像領域を横断し撮像領域に垂直な任意の面を、互いに対となる撮像領域ごとに設定し、該互いに対となる撮像領域のそれぞれにおける光の照射方向を、任意の面に対し、タイヤ円周方向から見て互いに逆方向とする。 （もっと読む）

【課題】第１回転ディスクから第２回転ディスクへのワークの移し替えを良好に行える外観検査装置を提供する。
【解決手段】第１回転ディスク１１及び第２回転ディスク１２の下面外周部分に、各エア吸引穴１１ｂ及び１２ｂと外気とを連通する圧力調整穴１１ｄ及び１２ｄが個別に設けられているため、エア吸引力が生じている全てのエア吸引穴１１ｂ及び１２ｂがワークＷによって塞がれても、各エア吸引穴１１ｂ及び１２ｂの内圧が減少し引き込み力が増加することを抑制できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スリットレーザ光等を、回転体状の測定対象に照射し、測定対象からの反射光を撮影した二次元画像に基づいて、回転体状かつ表面が高い反射率を有する測定対象の欠陥を高精度に検出する欠陥検査装置を実現することを目的とする。
【解決手段】本発明は、回転または直線移動する測定対象にスリット光を照射する光源と、前記測定対象からの反射光を受光してその二次元画像を出力する受光部と、前記二次元画像に基づいて、前記反射光がそのスリット幅に相当する領域以外の領域に現れるか否かによって、前記測定対象の欠陥を検出する欠陥検出手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一次選別部と二次選別部との間において、選別アルゴリズム及びエジェクターノズルの作動の両者を異ならせ、良粒の巻き添えによる歩留まり低下を抑制することができる色彩選別機を提供する。
【解決手段】粒状物の画像を二値化する二値化手段と、粒状物の欠陥部分を抽出する欠陥検出手段と、粒状物の外形の画像に対し収縮処理を施す収縮手段と、粒状物の欠陥部分の画像に対し膨張処理を施す膨張手段と、外形の収縮画像と欠陥部分の膨張画像とを合成する合成手段と、該合成手段により得られた画像に基づいて、一次選別部用のエジェクター手段の噴風動作と二次選別部用のエジェクター手段の噴風動作とを異ならせるエジェクター作動決定手段とを備える。 （もっと読む）

【目的】焦点位置の異なる検査画像を取得することでマスクの高精度な欠陥検出を実現するマスク欠陥検査装置を提供する。
【構成】光源と、光源から出射された光を第１および第２の検査光に分岐してマスクの同一面の異なる領域に照射する照明光学系と、マスクに照射された第１および第２の検査光を、第１および第２の像として同一像面に結像する結像光学系と、第１の像と第２の像を、それぞれ拡大する第１および第２の拡大光学系と、第１および第２の拡大光学系で拡大された第１および第２の像をそれぞれ撮像する第１および第２の画像センサと、第１および第２の画像センサで撮像された第１および第２の像の画像である、第１および第２の検査画像と、基準画像とを比較して前記マスクの欠陥を検出する比較部と、を備え、第１の拡大光学系の像面に対する焦点位置と、第２の拡大光学系の像面に対する焦点位置とを所定の量だけずらす機構を有することを特徴とするマスク欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】マスク基板に対して洗浄加工を行なった場合の洗浄加工後にマスク基板に残る欠陥が洗浄加工プロセスによるものなのか、マスク基板自体の内部欠陥によるものなかを容易に判定する。
【解決手段】第１及び第２の受光手段に受光された散乱光に基づいて基板の両面（表面及び裏面）に存在する欠陥を検出することができるので、基板の洗浄加工の前後で両面の欠陥の存在位置をそれぞれ比較することによって、洗浄加工によって基板両面に存在していた欠陥が除去されたか否かを容易に判定することができる。すなわち、基板の洗浄加工処理によって基板から所定数の欠陥が除去されなかった場合には、マスク基板の内部に欠陥が存在する可能性が高いので、基板内部の欠陥の検出処理行い。その結果に基づいて洗浄加工によって除去できなかった欠陥が基板内部の欠陥であるのか、洗浄加工プロセスの問題によるものかを容易に判定することができるようになる。 （もっと読む）

【課題】ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電極パターンを有するガラス板（被検査物１０６）の表面に光を照射する投光装置１０１と、この電極パターンを撮像する撮像装置１０２と、電極パターンを撮像装置１０２に結像させるレンズ系１０３と、撮像装置１０２で撮像した電極パターンの画像と予め登録した電極パターンの原画像とを比較して電極パターンの形状欠陥部を検出する処理装置とを備え、電極パターンで反射した反射光の輝度と、ガラス板で反射した反射光の輝度との差が所定以上になるように投光装置の光量が設定されている。 （もっと読む）

【課題】ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電極パターンを有するガラス板（被検査物１０６）の裏面に光を照射する第１投光装置１０１と、ガラス板の表面に斜め方向から光を照射する第２投光装置１０９と、ガラス板の表面を撮像する撮像装置１０２と、ガラス板の表面を撮像装置１０２に結像させるレンズ系１０３と、撮像装置１０２で撮像したガラス板の表面の画像を画像処理して、電極パターンの形状欠陥部を検出する処理装置とを備え、第１、第２投光装置１０１、１０９による照明条件が、ガラス板の内部に形成された内部気泡の画像、ガラス板の画像、電極パターンの画像の順に輝度が高くなるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】
試料全面を短時間で走査し，試料に熱ダメージを与えることなく微小な欠陥を検出することができるようにする。
【解決手段】
光源から発射されたパルスレーザをパルス分割し、パルス分割したパルスレーザを回転しながら一方向に移動している試料の表面に照射し、パルス分割されたパルスレーザが照射された試料からの反射光を検出し、反射光を検出した信号を処理して試料上の欠陥を検出し、検出した欠陥に関する情報を表示画面に出力する欠陥検査方法において、パルス分割したパルスレーザの光強度の重心位置をモニタし、モニタしたパルス分割されたパルスレーザの光強度の重心位置を調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】回転によって容器の水平方向から容器の内壁に沿って異物が移動して落下による移動軌跡が長く形成されるようにして、この状態における連写による撮像画像を用いることによって正確な異物の検査を行う異物検査装置および異物検査方法を提供する。
【解決手段】回転装置が、容器の水平軸に対して水平もしくは一定の傾斜角度に容器を保持する容器保持部材及び容器を６０°以上の角度で回転させて、次に静止させる回転動作を実行させる回転制御手段を備え、異物検出手段が、一定の時間で、回転動作毎に連写して取得した撮像画像を用いて形成される異物移動軌跡によって異物の検出を行う。 （もっと読む）