【課題】ウエハー表面に付着した粒子状汚染物質を洗浄するためのシステム並びに方法を提供する。
【解決手段】その内部に分散結合体を懸濁させた洗浄媒体をウエハー表面上に供給する。外部エネルギーを洗浄媒体に印加して、洗浄媒体内部に周期的せん断応力を発生させる。発生した周期的せん断応力により、結合体上で運動量および／あるいは抗力が作用する。この結果、結合体と粒子状汚染物質との間に相互作用が生じて、ウエハー表面から粒子状汚染物質が除去される。 （もっと読む）

【課題】洗浄液から収納カセットを引き上げる際に、収納カセットの内部において各基板が貼着してしまうのを防止することにより、基板に不良が発生してしまうのを防止するとともに、洗浄作業の効率を向上させる。
【解決手段】
各スティック基板１を保持する保持部１０ｃと、隣位する各スティック基板１の間隙を規制する凹状のスペーサ部１０ｂとを備え、各スティック基板１の引き上げの方向と平行な方向に貫通させた流水路１０ｅを有する補助部材１０を、各スティック基板１の両端部の途中部分に配し、補助部材１０によって各スティック基板１の間隙を規制しながら、流水路１０ｅによって補助部材１０の近傍の洗浄液を流下させて、収納カセット２を洗浄液から引き上げる。 （もっと読む）

【課題】反応容器の内壁側面に付着した汚れを除去するのに十分な洗浄液の流れを確実に形成し、反応容器内部の汚れを十分に洗浄すること。
【解決手段】洗浄装置２０は、供給ノズル２１１と、先端が供給ノズル２１１の先端よりも若干鉛直方向下方に位置する吸引ノズル２１３と、先端が供給ノズル２１１の先端よりも鉛直方向上方に位置するオーバーフローノズル２１５とで構成されるノズル部２１を備える。供給ノズル２１１は、反応液や洗浄水が保持される部分の面積よりも大きい内径面積を有する。そして、供給ノズル２１１は、その外壁面と反応容器Ｃの内壁面全域との間に、供給ノズル２１１から供給される洗浄水を流通させる間隙を有するように配置される。供給ノズル２１１から供給された洗浄水は、供給ノズル２１１の外壁面と反応容器Ｃの内壁面との間の間隙を流通し、オーバーフローノズル２１５により吸引される。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の雰囲気を外部に拡散させないために行うチャンバからの排気を低減できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、処理槽２０およびシャワーノズル３０を収容するチャンバ４０と、チャンバ４０を密閉するシャッタ４１とを備えている。このため、チャンバ４０から排気を行うことなくチャンバ４０の内部において基板Ｗを処理できる。また、処理槽２０の上面とシャッタ４１の下面との間の距離は２０ｍｍ以上かつ５０ｍｍ以下であり、処理槽２０の外側面とチャンバ４０の内側面との間の距離は５ｍｍ以上かつ２０ｍｍ以下である。このため、チャンバ４０の内容積は小さく、シャッタ４１を開放したときにもチャンバ４０から多量の排気を行う必要がない。 （もっと読む）

【課題】薬液の清浄度を高めることにより、基板を清浄度高く洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】薬液カートリッジ２９から薬液供給部２７を介して純水に薬液を混合させて処理液を生成させ、供給管を介して処理槽に処理液を供給させる。薬液カートリッジ２９には、補充ラインなどから薬液が補充されることがなく、薬液が汚染されることがないので、薬液の清浄度を高く維持することができる。したがって、清浄度高く基板を洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】処理液から引き上げられる複数の基板の全面を短時間で効率的に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板保持具３３０において、背板３３３の正面には、４本のアーム３４１〜３４４が取り付けられている。各アーム３４１〜３４４は、水平方向に延びている。背板３３３の背面には、４本のアーム３４１〜３４４に対応して４個のモータが取り付けられている。各アーム３４１〜３４４の軸心と垂直な方向における断面は、楕円形状となっている。各アーム３４１〜３４４に形成された径小部３４５に基板Ｗの外周端部が挿入される。それにより、複数の基板Ｗが各アーム３４１〜３４４の径小部３４５の外周面により保持される。基板Ｗが処理槽から引き上げられ、各アーム３４１〜３４４と基板Ｗとの当接部が処理液の液面に位置する際に、モータが各アーム３４１〜３４４を回転させる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理時間を短縮可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】密閉チャンバ１内に配置された処理液供給管３に、第１吐出ノズル３１１と第２吐出ノズル３１２とを取り付ける。薬液処理が行われた後に、処理液供給管３に洗浄液を供給して、第１吐出ノズル３１１と第２吐出ノズル３１２とから洗浄液を吐出させる。第１吐出ノズル３１１から吐出された洗浄液の流れによって基板Ｗに対する表面洗浄処理が実行され、第２吐出ノズル３１２から吐出された洗浄液の流れによって処理槽２の外壁面および密閉チャンバ１の内壁面が洗浄される。壁面に付着した薬液が気化して洗浄処理後の基板を汚染することがないので、薬液処理と洗浄処理とを同一処理槽で連続して実行可能となり、薬液処理用の処理槽から洗浄処理用の処理槽まで基板を搬送する必要がなくなる。これにより処理時間が短縮される。 （もっと読む）

【課題】位置調整作業を簡素化することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 カセット位置規制部２２がカセットＣの外壁面に当接して、処理槽２に対するカセットＣの位置を所定位置に規制する。また、処理槽位置規制部２３が密閉チャンバ１の内壁面に形成された嵌合部１３に嵌めあわされることによって密閉チャンバ１に対する処理槽２の位置を所定位置に規制する。したがって、処理槽２とカセットＣとの位置関係を調整する必要がなく、密閉チャンバ１と処理槽２との位置関係を調整する必要もない。すなわち、密閉チャンバ１と本体部１０１との位置関係のみを調整機構７２によって調整すればよく、位置調整作業を簡素化することができる。 （もっと読む）

板状物品の表面を洗浄する方法が開示される。この方法は、液体が分配ノズルを通して表面上に連続的液体流状で分配されるようにして表面を自由流洗浄で処理し、そして液体が噴霧ノズルを通して表面に対して小滴の形態で向けられるようにして表面を噴霧洗浄で処理する段階を含んでなる。表面は自由流洗浄段階前に噴霧洗浄段階でそして自由流洗浄段階後に噴霧洗浄段階で処理される。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の板面内における処理の均一性を向上させることができるとともに複数の処理を効率的に行うことができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、整流部材２８が内部に設けられ、整流部材の上側に位置し被処理基板Ｗを収容する第１領域１２と整流部材の下側に位置する第２領域１２ｂとを含む処理槽１２ａを用いて被処理基板を処理する方法である。処理方法は、第１の薬液を第２領域に供給しながら被処理基板を処理する工程と、第２の薬液を第１領域に供給しながら被処理基板を処理する工程と、を有する。第１の薬液は、少なくともウエハの周囲で上昇流が形成されるよう、供給される。第２の薬液は、少なくともウエハの周囲の液体を攪拌するよう、供給される。 （もっと読む）

【課題】複数の薬液について被処理基板に対する処理方法を異なるものとすることにより、各薬液を用いた場合における被処理基板に対するそれぞれの処理性能を向上させることができる基板処理装置等を提供する。
【解決手段】薬液の種類が第１の薬液に設定された場合には、処理液が貯留されるとともに被処理基板が収容された処理槽１２に対してまず第２領域１２ｂに第１の薬液を供給し、整流部材２８を介して第２領域１２ｂから第１領域１２ａに第１の薬液を流入させ、この際に第１領域１２ａ内において第１の薬液の上昇流の整流を形成する。一方、薬液の種類が第２の薬液に設定された場合には、処理液が貯留されるとともに被処理基板が収容された処理槽１２に対して第１領域１２ａあるいは第１領域１２ａおよび第２領域１２ｂの両方に第２の薬液を供給する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の板面内における処理の均一性を向上させることができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、整流部材２８が内部に設けられ、整流部材の上側に位置する第１領域１２ａと整流部材の下側に位置する第２領域１２ｂとを含む処理槽１２を用いて行われる。基板処理方法は、第１領域内に被処理基板Ｗを配置し、処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬する工程と、第２領域に薬液を供給して処理槽内の処理液を薬液で置換する工程と、第２領域に水を供給して処理槽内の薬液を水で置換する工程と、を備える。置換時に、第２領域に供給された液体は、整流部材を介して第１領域に流入し、第１領域内の少なくとも基板の近傍において上昇流が形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスク端面のレジストを薬液のみで洗浄するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、コの字型に凹んだスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の構成とした。 （もっと読む）

【課題】薬液処理時に発生する薬液蒸気が処理槽を有するシンク外へ飛散するのを効果的に抑えて高品質の基板処理を可能にした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】上方が開口した有底の容器からなる処理槽２Ａ〜２Ｄと、ウェーハＷを把持する把持機構１１と、把持機構が連結されてウェーハの処理槽内に貯留された処理液への浸漬及び処理槽内からの引き上げを行う昇降装置１０と、昇降装置が連結されてウェーハを処理槽へ搬送する搬送装置７と、を備える基板処理装置１において、処理槽から蒸気が平常時よりも多量に発生上昇するときに処理槽の開口部を覆うことができる搬送装置に連結された飛散防止カバー８を備える。 （もっと読む）

本発明は、薄いウェハ（６）を洗浄する装置で、ウェハ（６）が各々の一辺で担持装置（２）に固定されており、２つの隣接する基板間に空隙（７）が形成されている。本装置は、流体を各空隙（７）内に注入するシャワー装置（１５）と、流体を満たすことができ且つ担持装置（２）を収容できる寸法を有する槽（１４）とから実質上構成される。本発明によれば、任意選択的に、シャワー装置（１５）が移動不能な担持装置（２）に対して移動可能であるか、あるいは担持装置（２）が移動不能なシャワー装置（１５）に対して移動可能であるか、あるいは担持装置（２）とシャワー装置（１５）が相対的に移動可能である。本発明による方法は、好ましい洗浄処理において、担持装置（２）を槽内で移動しながらまず温流体でシャワー洗浄を行った後、冷流体で超音波洗浄を行い、さらに温流体でシャワー洗浄を再度行うことを特徴とする。
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【課題】単純且つ確実な洗浄を可能にする、管を洗浄する方法及び装置を提供する。
【解決手段】洗浄媒体１１を収容する容器２と、回転軸に相当するベアリング４を中心として両方向に回転するドラム３とを備え、該ドラム３の外側に開口を設けると共に、ドラム３から独立して回転できる毛細菅６を収容する収容装置５をドラム３の周囲に配置し、洗浄媒体をドラム３内に噴霧するための４つの噴霧ノズル１２を半径方向外向きに向けることによって、毛細菅６は霧化された洗浄媒体で少なくとも部分的に満たされ、洗浄媒体の液滴は、少なくとも一部において基本的に毛細菅６の中心軸の方向に加速される。 （もっと読む）

【課題】開口を有する円板形の基板の効率的な乾燥方法及び装置を提供する。
【解決手段】開口を有するワークピースを乾燥するための方法であって、前記ワークピースを液体中に提供する段階と、前記ワークピースと前記液体の液面との間の相対的な動きを引き起こして、前記ワークピースが前記液体と接触しない状態まで取り出す段階と、前記ワークピースを乾燥する段階と、を備え、この乾燥段階の少なくとも一部は、前記相対的な動きを引き起こす動作の間に起こり、前記相対的な動きは、前記開口の上部が前記液面を通過する間第１速度であり、前記相対的な動きは、前記開口の上部が前記液面を通過した後、前記ワークピースの一部が前記液体と接触したままである期間第２速度であり、前記第１速度は前記第２速度より遅い。 （もっと読む）

【課題】二つの動作を二つのリンクの差動で行うことにより、各リンク長の組み合わせで、浸漬深さを維持したまま設備を小型化することが可能な、湿式表面処理装置を提供する。
【解決手段】搬送機構部１３において、搬送歯車１８が１回転する間に上下動ケース２７が６回転する必要から、内歯歯車１７と遊星歯車２２のギア比が３：１、第１、第２伝達ギア２５，２６のギア比を２：１として、搬送歯車１８：上下動ケース２７の回転比を１：６とする設定とする。
また、前記搬送機構部１３により、差動動作を行うために、上記第１上下動歯車２８と第３上下動歯車３０とのギア比を１：２とする一方、第１揺動歯車３２と第３揺動歯車３４とのギア比を２：１とする設定とする。 （もっと読む）

【課題】リンス処理に要する時間を短くして、半導体ウエハや液晶基板などの製造のスループットを向上させること。
【解決手段】本発明では、リンス処理時に、リンス液の液面位置(LV1)から被処理体(ウエハ２)の上端位置(LV2)までの距離(L1)が薬液処理時の薬液の液面位置(LV3)から被処理体(ウエハ２)の上端位置(LV4)までの距離(L2)よりも短くなるように、或いは、リンス液の液面位置(LV1)から被処理体(ウエハ２)の上端位置(LV2)までの距離(L1)がリンス液の底面位置(LV5)から被処理体(ウエハ２)の下端位置(LV6)までの距離(L3)よりも短くなるようにした。 （もっと読む）

【課題】ワークの取付冶具の構造やシャワー構造が複雑ではなく、ワークを洗浄ムラなく洗浄処理することができる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】上記課題を解決する洗浄装置１は、ワーク４４を洗浄液に浸して洗浄する洗浄槽３７と、洗浄槽３７に設けられた超音波洗浄手段６０と、ワーク４４を取り付けた状態で洗浄槽３７に搬入搬出する取付冶具１０と、取付冶具１０に取り付けられた１又は複数のワーク４４に対向配置されるシャワー手段７０とを備えている。シャワー手段７０は、複数の洗浄液噴出孔が設けられたシャワー面７２を有し、シャワー面７２の面積がワーク４４の被洗浄領域の面積と同じ又はそれよりも大きく形成されている。 （もっと読む）