説明

基板の洗浄方法

【課題】洗浄液から収納カセットを引き上げる際に、収納カセットの内部において各基板が貼着してしまうのを防止することにより、基板に不良が発生してしまうのを防止するとともに、洗浄作業の効率を向上させる。
【解決手段】
各スティック基板1を保持する保持部10cと、隣位する各スティック基板1の間隙を規制する凹状のスペーサ部10bとを備え、各スティック基板1の引き上げの方向と平行な方向に貫通させた流水路10eを有する補助部材10を、各スティック基板1の両端部の途中部分に配し、補助部材10によって各スティック基板1の間隙を規制しながら、流水路10eによって補助部材10の近傍の洗浄液を流下させて、収納カセット2を洗浄液から引き上げる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は基板の洗浄方法に係り、特に、収納カセットに収納された複数の基板を洗浄槽に貯留された洗浄液に浸漬させて各基板を洗浄した後、収納カセットを洗浄液から引き上げる基板の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来より、液晶表示パネル等の表示パネルは、その製造工程において基板の表面に付着した液晶や油脂、さらには、ごみやちり、人体基因の汗やフケ等の異物を除去するために洗浄することが行われている。
【0003】
例えば表示パネルとしての液晶表示パネルを製造する工程は、まず、複数のパネル形成領域を有し各パネル形成領域に電極や配向膜等が配設された一対のマザー基板を、所定位置に配置されたシール材を介して一体に貼り合わせる。次に、両マザー基板を、各パネル形成領域が並列配置され各パネル形成領域における液晶注入口が露出するようにスティック状に切断してスティック基板とする。続いて、スティック基板を構成する一対の基板とシール材とに囲まれた各パネル形成領域の内部に液晶を注入して封止した後、スティック基板を個々のパネル形成領域ごとに切断して液晶表示パネルを製造する。この液晶表示パネルの製造工程において、各パネル形成領域の内部に液晶を注入する際に、スティック基板の表面に付着してしまった液晶や油脂等を主に除去するため、スティック基板を洗浄する。
【0004】
このスティック基板の洗浄方法としては、スティック基板の洗浄工程の効率化を図るため、複数のスティック基板を収納カセットに収納する。この収納カセットは、各スティック基板の両端部を保持する一対の端部保持部材と、両端部保持部材を支持する一対の側壁とを有している。この収納カセットを、各スティック基板を所定の間隙をもって並列配置させて各スティック基板の両端部をそれぞれ端部保持部材によって保持した状態で、洗浄槽に貯留された洗浄液に浸漬させる。そして、洗浄槽内において洗浄液を循環させるとともに、洗浄液を超音波によって振動させることにより、洗浄液中において各スティック基板に付着した異物を各スティック基板から剥離させて、各スティック基板を洗浄した後、収納カセットを洗浄液から引き上げる(例えば、特許文献1参照)。
【0005】
【特許文献1】特開2006−95462号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかし、従来の収納カセットを用いた基板の洗浄方法においては、収納カセットの内部においてスティック基板の両端部をそれぞれ端部保持部材によって保持しているので、スティック基板を洗浄した後、収納カセットを洗浄液から引き上げる際、各スティック基板が撓んでしまい、この結果、隣位する各スティック基板が洗浄液を介して貼着してしまうことがあった。このように各スティック基板が貼着してしまうと、各スティック基板を容易に引き剥がすことができなかった。また、アセトン等の溶剤を各スティック基板の貼着部分に浸透させることにより、貼着してしまった各スティック基板を引き剥がすことも考えられるが、このような場合には、各スティック基板に割れ等の不良が発生してしまうおそれがあった。さらに、割れ等の不良が発生することなく各スティック基板を引き剥がすことができた場合にも、引き剥がした各スティック基板は、再度洗浄する必要があり、手間がかかってしまうという問題を有していた。
【0007】
本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、洗浄液から収納カセットを引き上げる際に、収納カセットの内部において各基板が貼着してしまうのを防止することにより、基板に不良が発生してしまうのを防止するとともに、洗浄作業の効率を向上させることができる基板の洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
前記目的を達成するため、本発明に係る基板の洗浄方法の特徴は、複数の矩形状の基板を収納カセットに収納し、前記収納カセット内において前記各基板の両端部を保持し、前記収納カセットを洗浄槽に貯留された洗浄液に浸漬させて、前記洗浄液により各基板を洗浄した後、前記収納カセットを前記洗浄液から引き上げる基板の洗浄方法において、前記各基板の両端部の途中部分に、前記各基板を保持する保持部と、隣位する前記各基板の間隙を規制する凹状のスペーサ部とを備える補助部材を配し、前記補助部材によって前記各基板の間隙を規制しながら、収納カセットを洗浄液から引き上げる点にある。
【0009】
本発明に係る基板の洗浄方法によれば、各基板が収納された収納カセットを洗浄槽の洗浄液から引き上げる際に、補助部材の保持部によって各基板の一側面が保持され、スペーサ部が各基板の間隙に配置されるので、各基板が洗浄液から引き上げられる際の洗浄液による負荷によって撓んでしまうのを防止することができる。これにより、各基板の間隙を所定寸法に維持しながら収納カセットを洗浄液から引き上げることができるので、各基板が収納カセットの内部において隣位する基板と洗浄液を介して貼着してしまうことを確実に防止することができる。
【0010】
また、前記補助部材に前記各基板の引き上げの方向と平行な方向に貫通させた流水路を形成し、前記補助部材近傍の洗浄液を流下させてもよい。これにより、基板を引き上げるときに生じる洗浄液移動速度の低下による洗浄液残りを防ぐことができるとともに、補助部材近傍における洗浄能力の低下を生じさせることがなくなり、基板の洗浄をより確実に行うことができる。
【0011】
さらに、前記保持部は前記各基板の側面に対して傾斜する傾斜面によって前記各基板を線状に保持してもよい。これにより、保持部の一側面に対向する部分を、洗浄液が流動する流水部とすることが可能となるので、各基板近傍の洗浄液を撹拌することができ、各基板の側面を確実に洗浄することができる。
【0012】
さらにまた、前記スペーサ部の各外縁部は、面取り形状とされていると好ましい。これにより、洗浄槽内における洗浄液の循環をより阻害することなく、円滑に循環させて各基板を洗浄することが可能となる。
【発明の効果】
【0013】
以上述べたように、本発明に係る基板の洗浄方法によれば、貼着してしまった各基板を引き剥がし、再洗浄する等の作業が不要となり、洗浄作業の効率化を図ることができる。また、貼着してしまった各基板の引き剥がし作業に起因する各基板の割れ等の不良を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0014】
以下、本発明に係る基板の洗浄方法の一実施形態を図1から図5を参照して説明する。ここで、本実施形態においては、基板として、複数のパネル形成領域を有するマザー基板をスティック状に切断して構成されたスティック基板の洗浄を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、スティック状に切断する以前のマザー基板や、スティック基板を個々のパネル形成領域ごとに切断した表示パネルの洗浄にも用いることができる。
【0015】
図1は、本実施形態におけるスティック基板の洗浄方法において用いられるスティック基板を収納する収納カセットを示す模式的平面図であり、図2は、図1の収納カセットに収納されるスティック基板を示す模式的斜視図である。
【0016】
図1および図2に示すように、本実施形態のスティック基板1の洗浄方法においては、まず、収納カセット2の内部に、複数のスティック基板1を並列配置して収納する。
【0017】
本実施形態において洗浄されるスティック基板1は、複数のパネル形成領域3が並列し各パネル形成領域3の注入口5が露出するように配置されており、スティック基板1を構成する一対の基板とシール材6とに囲まれた各パネル形成領域3の内部には、液晶(図示せず)が封入されている。本実施形態において、スティック基板1は、長さ寸法が300〜400mm、幅寸法が30〜50mm、厚さ寸法が0.3〜0.6mmとされている。本発明は、撓みやすい薄い基板、厚み寸法が0.1〜0.6mmのものに適用することが好ましい。
【0018】
本実施形態において用いられる収納カセット2は、各スティック基板1の両端部を保持する一対の端部保持部材8を有し、端部保持部材8には、各スティック基板1の両端部を保持するための保持溝8aが形成されている。各保持溝8aは、それぞれ所定の間隙をもって端部保持部材8の長さ方向に並列して形成されており、本実施形態においては、各保持溝8aは、4.4mmの間隔で形成されている。各スティック基板1の各保持溝8aの幅寸法は、スティック基板1の厚さ寸法よりも長く形成されており、収納カセット2は、各保持溝8aに各スティック基板1の両端部を遊嵌させることにより、各スティック基板1を両端部保持部材8によって保持して収納するようになっている。また、各保持溝8aの底部に各スティック基板1が落下しないように、ストッパが形成されている。このとき、隣位する各スティック基板1の間隙寸法は4.0mm程度となる。また、両端部保持部材8は対向して配置されており、両端部保持部材8の対向する端部がそれぞれ側壁9に支持されている。
【0019】
収納カセット2の底部であって、各スティック基板1の両端部の間の途中部分に相当する位置には、各スティック基板1の一側面における途中部分を保持する補助部材10が取り付けられている。
【0020】
図3および図4に示すように、補助部材10は板ばね等からなる一対の係止部10aと、各スティック基板1の間隙に配置される凸状のスペーサ部10bと、各スティック基板1の一側部を保持する凹状の保持部10cとを備えており、両係止部10aは、各側壁9に固定部材10dを用いて固定されている。スペーサ部10bは、断面形状が略矩形状に形成されており、スペーサ部10bの各外縁は面取り形状とされている。保持部10cは、断面形状が略矩形状に形成されており、保持部10cにおける各スティック基板1の一側面が当接する底面には、洗浄液を流下させるための流水路10eが形成されている。
【0021】
流水路10eは、保持部10cの底面のみに形成するだけではなく、スペーサ部10bに形成してもよい。また、流水路10eは、スティック基板1の引き上げの方向と平行な方向に補助部材10を貫通させた貫通孔としている。こうすることで、スティック基板1を引き上げるときに生じる洗浄液移動速度の低下による洗浄液残りを防ぐことができる。また、洗浄槽内における浸漬洗浄時には、洗浄液の流動を助けて、スティック基板1の近傍の洗浄液を撹拌させ、スティック基板1を確実に洗浄することができる。また、流水路10eとしての貫通孔は補助部材10の全面に形成されるほうが好ましく、パンチングプレート上に貫通孔を形成してもよい。さらに、流水路10eの形状は、円形状、多角形形状であってもよい。
【0022】
補助部材10の各部の材質は、耐薬品性、耐熱性、耐摩耗性の高さ等を考慮して選択され、例えば、ポリエーテル・エーテル・ケトン(PEEK材)、ポリアセタール樹脂、ステンレス綱等を用いることができる。
【0023】
なお、補助部材10の形状は本実施形態の形状に形成されるものではなく、各スティック基板1の間隙に配置される凸状のスペーサ部10bと、各スティック基板1の一側部を保持する凹状の保持部10cとを備えた種々の補助部材10を用いることができる。例えば、図5に示すように、保持部10cの断面形状が三角形状であって、保持部10cが各スティック基板1の一側面に対して傾斜する傾斜面によって各スティック基板1の一側面における両側縁部を線状に保持する形状に形成された補助部材10を用いることもできる。保持部10cを、各スティック基板1の一側面の両側縁部を線状に保持する形状に形成することにより、保持部10cの一側面に対向する部分を、洗浄液が循環する流水部とすることが可能となる。
【0024】
また、複数のパネル形成領域3が並列したスティック基板1の洗浄方法とした場合、補助部材10の配設位置は、各スティック基板1の両端部の途中部分であって、スティック基板1におけるパネル形成領域3とパネル形成領域3との間の非パネル形成領域としたほうが好ましい。非パネル形成領域に補助部材10を配置させることで、パネルに対する洗浄の影響が最も少なくなり、清浄なパネルを形成することができる。さらに、補助部材10はスティック基板1の両端部の途中部分を移動可能に配置することができるようにすることが好ましい。こうすることで、特定のスティック基板1によらず、パネル形成領域3の大きさが異なる種々のスティック基板1に本発明を適用することができる。
【0025】
続いて、この収納カセット2を、各スティック基板1を所定の間隙をもって並列配置させて各スティック基板1の両端部をそれぞれ端部保持部材8によって保持するとともに、補助部材10によって各スティック基板1の途中部分を保持した状態で、洗浄槽に貯留された洗浄液に浸漬させる。そして、洗浄槽内において、例えば洗浄液を循環させるとともに洗浄液を超音波によって振動させることにより、洗浄液中において各スティック基板1に付着した異物を各スティック基板1から剥離させて、各スティック基板1を洗浄する。
【0026】
その後、収納カセット2の内部において、各スティック基板1の両端部をそれぞれ端部保持部材8によって保持するとともに、補助部材10によって各スティック基板1の途中部分を保持部10cによって保持し、各スティック基板1の間隙をスペーサ部10bによって所定寸法に維持しながら、収納カセット2を洗浄槽の洗浄液から引き上げる。これにより、各スティック基板1の洗浄を終了する。
【0027】
次に、本実施形態の作用について説明する。
【0028】
本実施形態によれば、各スティック基板1が収納された収納カセット2を洗浄槽の洗浄液から引き上げる際に、補助部材10の保持部10cによって各スティック基板1の一側面が保持され、スペーサ部10bが各スティック基板1の間隙に配置されるので、スティック基板1の位置が規制され、各スティック基板1が洗浄液から引き上げられる際の洗浄液による負荷によって撓んでしまうのを防止することができる。これにより、各スティック基板1の間隙を所定寸法に維持しながら収納カセット2を洗浄液から引き上げることができるので、各スティック基板1が収納カセット2の内部において隣位するスティック基板1と洗浄液を介して貼着してしまうことを確実に防止することができる。
【0029】
したがって、貼着してしまった各スティック基板1を引き剥がし、再洗浄する等の作業が不要となり、洗浄作業の効率化を図ることができる。また、貼着してしまった各スティック基板1の引き剥がし作業に起因する各スティック基板1の割れ等の不良を防止することができ、これにより、液晶表示パネルの歩留まりを向上させることができる。
【0030】
また、補助部材10にスティック基板1の引き上げの方向と平行な方向に貫通させた流水路10eを形成することにより、この流水路10eを介して補助部材10の近傍の洗浄液を流下させ、洗浄液の流下スピードを上げて、補助部材10における洗浄液残りを防止することができる。また、補助部材10の近傍における洗浄能力の低下を生じさせることがなくなり、スティック基板1の洗浄をより確実に行うことができる。
【0031】
さらに、補助部材10における各スペーサ部10bの各外縁部を面取り形状とすることにより、洗浄槽内における洗浄液の循環をより阻害することなく、円滑に循環させて各スティック基板1を洗浄することが可能となる。
【0032】
さらにまた、補助部材10として、保持部10cの断面形状が三角形状であって、保持部10cが各スティック基板1の一側面に対して傾斜する傾斜面によって各スティック基板1の一側面における両側縁部を線状に保持する形状に形成された補助部材10を用いた場合には、保持部10cの一側面に対向する部分を、洗浄液が流動する流水部とすることが可能となる。これにより、各スティック基板1の一側面に対向する部分においても洗浄液を流動させることができるので、各スティック基板1の側面を洗浄することができる。
【0033】
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、必要に応じて種々変更することが可能である。
【0034】
例えば、本実施形態は、予め補助部材10が取り付けられている収納カセット2に各スティック基板1を収納して、この収納カセット2を洗浄液に浸漬させて各スティック基板1を洗浄した後、洗浄液から取り出すようになっているが、これに限定されるものではない。各スティック基板1の洗浄後であって収納カセット2を洗浄液から引き上げる前に、各スティック基板1の途中部分に補助部材10を手動または機械的に取り付け、収納カセット2を洗浄液から引き上げてもよい。これにより、各スティック基板1が収納された収納カセット2を洗浄槽の洗浄液から引き上げる際に、各スティック基板1が撓んでしまうのを防止し、補助部材10のスペーサ部10bによって各スティック基板1の間隙を所定寸法に維持しながら収納カセット2を洗浄液から引き上げることができる。これにより、各スティック基板1が収納カセット2の内部において隣位するスティック基板1と洗浄液を介して貼着してしまうことを確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0035】
【図1】本発明に係る基板の洗浄方法において用いらる収納カセットの一例を示す模式的平面図
【図2】本発明に係る基板の洗浄方法において洗浄される基板の一例を示す模式的平面図
【図3】図1の収納カセットを矢印A方向から視認した模式的側面図
【図4】図1の収納カセットのB−Bにおける模式的断面図
【図5】本発明に係る基板の洗浄方法において用いられる収納カセットの他の例を示す模式的断面図
【符号の説明】
【0036】
1 スティック基板
2 収納カセット
3 パネル形成領域
5 注入口
6 シール材
8 端部保持部材
8a 保持溝
9 側壁
10 補助部材
10a 係止部
10b スペーサ部
10c 保持部
10d 固定部材


【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の矩形状の基板を収納カセットに収納し、前記収納カセット内において前記各基板の両端部を保持し、前記収納カセットを洗浄槽に貯留された洗浄液に浸漬させて、前記洗浄液により各基板を洗浄した後、前記収納カセットを前記洗浄液から引き上げる基板の洗浄方法において、
前記各基板の両端部の途中部分に、前記各基板を保持する保持部と、隣位する前記各基板の間隙を規制する凹状のスペーサ部とを備える補助部材を配し、前記補助部材によって前記各基板の間隙を規制しながら、前記収納カセットを洗浄液から引き上げることを特徴とする基板の洗浄方法。
【請求項2】
前記補助部材は、前記各基板の引き上げの方向と平行な方向に貫通させた流水路を有し、前記補助部材近傍の洗浄液を流下させている請求項1に記載の基板の洗浄方法。
【請求項3】
前記保持部は前記各基板の側面に対して傾斜する傾斜面によって前記各基板を線状に保持する請求項1または2に記載の基板の洗浄方法。
【請求項4】
前記スペーサ部の各外縁部は、面取り形状とされている請求項1から3のいずれか1項に記載の基板の洗浄方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2008−246422(P2008−246422A)
【公開日】平成20年10月16日(2008.10.16)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−93096(P2007−93096)
【出願日】平成19年3月30日(2007.3.30)
【出願人】(000103747)オプトレックス株式会社 (843)
【Fターム(参考)】