【課題】被洗浄物の表面に付着した塵埃などの汚染物質を効率良く除去すると共に、洗浄後に汚染物質が被洗浄物の表面に再付着することを防止した湿式洗浄装置及び湿式洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの洗浄を湿式で行うための洗浄槽２と、洗浄槽２の下方側から槽内へと洗浄液Ｌを供給する供給口９ａと、洗浄槽２の上方側から槽外へと洗浄液Ｌを排出する排出口１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、基板Ｗを洗浄槽２内で搬送させる搬送機構１４とを備え、洗浄槽２内の下方から上方へと向かう洗浄液Ｌの流れと共に、基板Ｗの搬送方向Ｘとは逆向きの洗浄液Ｌの流れを発生させるように、供給口９ａと排出口１３ａ，１３ｂ，１３ｃとの何れかによって供給及び／又は排出される洗浄液Ｌの流れを調整する。 （もっと読む）

【課題】往復揺動による表面処理において、処理効率が高く、かつ処理時間の短い、耐久性に優れた表面処理方法を提供する。
【解決手段】揺動槽１内に処理材１２及び被処理物１３を収容し、揺動槽１を略等速で往復揺動させて被処理物１３の表面を処理する表面処理方法であって、往復揺動において、少なくとの２以上の速度の異なる揺動区間を有し、揺動区間のうち、揺動端を含む揺動区間における速度が最も小さい。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、酸化剤を有効成分とする分離膜用の洗浄剤であって、更に洗浄力を高めた洗浄剤および、これを用いる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 酸化剤、ニトロキシラジカルおよび亜硝酸塩からなる組成を有する分離膜用洗浄剤とする。このような組成とすることにより、洗浄剤の有効成分である酸化剤が分離膜の目詰まり物質を化学的に酸化分解する際に、ニトロキシルラジカルが触媒として作用し、亜硝酸塩が助触媒として作用するので、洗浄剤の洗浄力を高めることができる。この結果、分離膜に強固に付着・堆積した目詰まり物質の除去が促進される他、酸化剤の使用量を減らしたり、洗浄時間を短くすることも可能となり、更には膜濾過装置への負荷が軽減されるので同装置の寿命を長くすることも期待される。
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【課題】チャンバー内のダクトから遠い位置にあるミストもダクト側に運ぶことができ、従来よりも効率よくチャンバー内を排気する。
【解決手段】チャンバー４０内の保持テーブル１０上にワークＷを保持し、保持テーブル１０を回転させた状態でワークＷの上面に洗浄水Ｃを供給するスピンナ洗浄装置において、保持テーブル１０の外周側面１２に形成した複数の羽１３によって保持テーブル１０の外周周囲に該外周周囲に沿った空気の流れを発生させ、この空気の流れによってチャンバー４０内におけるダクト５０の反対側のミストもダクト５０側に導く。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、超音波による洗浄装置および洗浄方法に関するものである。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、超音波を発生する超音波振動子と、超音波振動子に固定されて超音波を洗浄液に照射する超音波照射面が扁平な振動体とを具備する振動体ユニットと、振動体ユニットを回転して超音波照射面に交わる方向を軸として超音波照射面の角度を変える照射面角度制御部と、洗浄対象の基板を保持し基板を回転させる基板回転部と、振動体の超音波照射面を洗浄面に向けて一定間隔を保持しながら振動体ユニットを移動させる振動体移動機構と、超音波照射面と洗浄面との間に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を備えるよう構成する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物から剥離して洗浄水の液面に浮遊した油分を効果的に除去することができる洗浄装置及び洗浄方法を得る。
【解決手段】ガラスリング１８の内周面１８Ａと接触する洗浄水Ｗの液面の縁部Ｅが、液面の一般部Ｇに比べて鉛直方向で高くなっている。このため、洗浄槽１２に供給された洗浄水Ｗによって溢れ出た洗浄水Ｗ及び洗浄水Ｗの液面に浮遊した油分Ａは、回収筒３４に流れ込む。このように、液面に浮遊する油分Ａが効果的に、回収筒３４に流れ込んで回収される。 （もっと読む）

【課題】 基板面内や基板間の処理のバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理基板１が収容される槽ＴＫと、処理槽ＴＫ内に液体、気体、又は液体と気体との両方を送り出す送出機構ＴＢ、Ａと、処理基板１に対して、液体、気体、又は気体と液体との両方が槽ＴＫ内へ送り出される位置と対向する位置から槽ＴＫ内の液体、気体、又は気体と液体との両方を排出する排出手段１０、２０、３０、４０と、を備えた基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】 部品洗浄加熱器ポンプモジュールの提供。
【解決手段】 部品洗浄機は、洗浄液中に懸濁する金属粒子を回収するためにポンプ入口近くに配置された磁石と、取扱時に衝撃からポンプ機構を保護するケーシングと、一連の垂直層内での洗浄液の分離をうまく行う水平配向されたポンプと、貯留槽内の洗浄液の液位を計測する二つの液位センサーと、洗浄液の蒸発分を制限するために貯留槽と容器との境界部に位置する蒸発制限板と、衝撃から装置を保護するために制御部の操作部の隣りに設置された保護ハンドルバーと、可変調整器なしのポンプを使用して洗浄液の流量を低流量にできるポンプモーター制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】不純物を確実に除去して優れた洗浄効果を得るとともに、作業性を向上させることのできる多結晶シリコンの洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽２の洗浄室２１〜２５内に、異なる勾配の載置面６１を有する支持台６が複数配設され、バスケット３は、その両側部に、吊り上げ機４２により係止される突出部３５がバスケット３の幅方向外方に突出し、かつ、長さ方向に間隔をあけて相互に平行に一対ずつ設けられてなり、支持台６は、その両側部に、載置面６１にバスケット３を載置する際に、一対の突出部３５の間に配置され、支持台６の載置面６１よりも上方に突出する一対のガイドフレーム７が上下方向に沿って立設されている。 （もっと読む）

【課題】貯留槽における飲食物容器の滞留によって水流の循環が停滞することがない飲食物容器搬送装置を提供すること。
【解決手段】貯留槽１２内の水が、貯留槽１２底部に設けた吸水口１２ｂにより、循環手段６０による水流６１で飲食物容器３を搬送する回収水路１４，１５，１６を形成して再び貯留槽１２内に戻る飲食物容器搬送装置１であって、貯留槽１２内には、回収水路１４，１５，１６で搬送される複数の飲食物容器３を載置する貯留部２０を備え、回収水路１４，１５，１６から貯留槽１２に戻った水は、貯留部２０と貯留槽１２との間に形成された連通部１８ｃを介して吸水口１２ｂに連通するとともに、貯留部２０に形成したバイパス手段２３ａ，２３ｂを介して吸水口１２ｂに連通している。 （もっと読む）

【課題】処理液を効率的に利用しつつ処理性能を向上させることのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。
【解決手段】
処理液を基板Ｐの表面に向けて吐出して基板Ｐの全幅にわたって処理液を吹付ける第１ノズルユニット１０と、第１ノズルユニット１０より基板Ｐの搬送方向の下流側に当該第１ノズルユニット１０と向き合うように配置され、処理液を基板Ｐの表面に向けて吐出して当該基板の全幅にわたって処理液を吹付ける第２ノズルユニット２０とを有し、相互に向き合う第１ノズルユニット１０及び第２ノズルユニット２０から吐出される処理液が基板Ｐの表面上でぶつかりあって基板Ｐの幅方向に延びる処理液の盛り上がり部分Ｍが形成されるように第１ノズルユニット１０及び第２ノズルユニット２０からの処理液の吐出方向が設定された構成となる。 （もっと読む）

【課題】 気泡微細化に有利な高速流を大流量にて効果的に発生でき、ひいては気泡の微細化効果を劇的に向上させるとともに、マイクロバブル領域あるいはナノバブル領域の気泡の発生量を、従来達成し得なかったレベルにまで高めることができる気泡微小化ノズルを提供する。
【解決手段】 流れ方向下流側に下り勾配にて形成される流れガイド面２２Ｇと、流れ方向上流側にて流路ＦＰ内面に対し流れガイド面２２Ｇよりも急峻に立ち上がるように形成される流れ受け面２２Ａとを有する絞りギャップ材２２Ｑを流路ＦＰ内に配置する。それら流れ受け面２２Ａと流れガイド面２２Ｇとの交差位置に、流路ＦＰの軸断面内周縁上の第一位置ＰＰから該第一位置ＰＰと異なる第二位置ＰＳに向けて軸断面を横切るエッジ部２２Ｅが形成され、該エッジ部２２Ｅと流路ＦＰの内面との間に絞りギャップ２１Ｇがされる。 （もっと読む）

【課題】より簡素な構成によってダウンフローを発生させること。
【解決手段】スピンナ洗浄装置１は、ワークを保持するスピンナテーブル３０と、鉛直方向を回転軸としてスピンナテーブル３０を回転させるモータ４２と、スピンナテーブル３０に保持されたワークに洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル５０と、スピンナテーブル３０を収容するケーシング２０と、モータ４２に接続された羽３６Ａを備え、羽３６Ａは、モータ４２によってスピンナテーブル３０が回転する際に同時に回転し、ケーシング２０内にダウンフローを発生させる。 （もっと読む）

【課題】２６〜４０質量％の水酸化ナトリウムとエチレンジアミン四酢酸および／またはその塩を含有する洗浄剤組成物において、常温、つまり−５〜４０℃において長期間結晶析出、あるいは凍結することのない安定で且つ高濃縮化した硬質表面用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分として水酸化ナトリウムを２６〜４０質量％、（Ｂ）成分としてエチレンジアミン四酢酸および／またはその塩、（Ｃ）成分としてトリエチレンテトラアミン六酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミン二コハク酸およびこれらの塩から選択される少なくとも１種の可溶化剤、および（Ｄ）成分として水を含有することを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】処理対象基板を良好に迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、溶液保持容器１３０に収容されている基板処理溶液ＴＬに処理対象基板ＰＢが浸漬される。このような溶液保持容器１３０に溶液供給機構１４１が基板処理溶液ＴＬを上方から下方に落下させて順次供給する。このように上方から下方に落下する基板処理溶液ＴＬを溶液乱流機構１４２が処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳに圧送する。このため、処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳは基板処理溶液ＴＬが単純に上方から下方へ落下するだけではなく、乱流となって圧送されることになる。 （もっと読む）

【課題】 ワーク載架用のステージに接離可能となる二重カップによる洗浄槽において、二重カップの内側カップに洗浄ノズルを付設し、内外側カップで構成される通路を、排液、又は排気用の流路とする構造であり、密封型の清浄槽である。渦状の流れをつくり、ワークに均一に洗浄液が噴射され、均一な清浄が可能となる。通路による吸引効果と、内側カップの周辺部には吸引力が生成し、渦の発生は可能である。しかし、渦発生力が弱いので、渦のトルネード効果は期待できないと考えられる。
【解決手段】 本発明は、カプセル型の開閉自在の洗浄室と、洗浄室の一方に設けたノズルと、他方に設けた吸引部と、洗浄室内に設けた回転自在のワーク支持台とで構成したカプセル型の洗浄機であり、洗浄室において、ノズルより噴射される洗浄液、洗浄水、又は空気を旋回するとともに、吸引部に誘導可能とする構成としたカプセル型の洗浄機である。 （もっと読む）

【課題】基板主面の全面に亙るウェット処理の均一化を図り、処理の歩留まりの向上や品質改善を達成することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】スプレーパイプ部２２と、スプレーパイプ部２２の長手方向に一列に互いに近接して形設され薬液をその吐出口２６から基板Ｗの表面１０２へ吐出する複数のノズル部２４から構成される複数のスプレーノズル１４とを備え、基板Ｗの表面１０２に対する複数のノズル部２４の吐出口２６の対向角度を、傾斜させた姿勢で搬送される基板Ｗの表面１０２の傾斜下端方向に向けて、基板Ｗの表面１０２の傾斜上端部付近から傾斜下端部付近にかけて、基板Ｗの表面１０２の法線３００に対して漸次小さくなるように、複数のノズル部２４を複数のスプレーパイプ部２２に形設することにより、基板Ｗの表面１０２上において吐出後の薬液の流速を傾斜上端部付近では相対的に小さく傾斜下端部付近では相対的に大きくする。 （もっと読む）

【課題】小型化を図ることのできる洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄システム１０は、貯留タンク３０から洗浄部１６に洗浄液を導入する導入通路１７や、洗浄部１６内の洗浄液を貯留タンク３０に戻すための排出通路１８、吸入通路２１、吐出通路２２を備える。吸入通路２１や吐出通路２２内の流体を貯留タンク３０に圧送するポンプ２０を備える。貯留タンク３０の上壁部３１に貫通孔３９が形成される。ポンプ２０の駆動時における貯留タンク３０への流体の流入量を可変設定する変更装置を備える。流入量が多くなる態様での変更装置の作動時には貫通孔３９を介して貯留タンク３０の外部に放出される空気量より上記流入量が多くなり、且つ流入量が少なくなる態様での変更装置の作動時には上記流入量が貫通孔３９を介して放出される空気量以下になるように、貫通孔３９の開口形状と変更装置の作動態様とが設定される。 （もっと読む）

【課題】殺菌効果の高い洗浄水を簡便に生成できる医療機器洗浄装置を提供する。
【解決手段】医療機器洗浄装置（10）には、洗浄槽（40）と、放電発生機（50）が設けられる。洗浄対象の内視鏡（100）は、洗浄槽（40）内に収容されて洗浄水に浸漬される。放電発生機（50）の放電ユニット（50a）は、洗浄槽（40）内に設置され、洗浄水に浸った状態となる。放電ユニット（50a）の電極対（51,52）には、直流電源（65）が接続される。直流電源（65）が電極対（51,52）に電圧を印加すると、電極対（51,52）の間でストリーマ放電が行われ、過酸化水素が生成される。洗浄槽（40）内では、ストリーマ放電によって生成した過酸化水素を用いて内視鏡（100）の殺菌が行われる。 （もっと読む）

【課題】ガスタービン翼を補修・再生する際に、ガスタービン翼母材の機械的性質の変化を低減させること。
【解決手段】ガスタービン翼１Ａの内部に設けられた内部冷却媒体通路内に強アルカリ性洗浄液、水、弱酸性洗浄液を供給し、かつ、流通させる洗浄液・洗浄水供給手段６０，６１が、支持手段２の底部に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）