【課題】少なくとも基板と、当該基板に支持されたパターン状の第一電極と、発光層と、第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、樹脂版の寸法変化を極力抑えることができ、かつ印刷シリンダーへの取り付けも容易な版を得るための最適な樹脂版用の基材を選定し、これを基材にして構成された樹脂凸版を用いることで、エレクトロルミネッセンス素子の発光層がエレクトロルミネッセンスを用いた印刷法によって高精細に形成できるようにすることを目的とする。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子の具備する発光層を、有機発光材料を有機溶剤に溶解、または分散させた有機エレクトロルミネッセンスインキをインキとして用い、金属基材上に水現像タイプの感光性樹脂層を備えた樹脂凸版を印刷版とした凸版印刷法により前記第一電極の上方に配置して形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レーザ転写法を利用して有機膜層を形成する時、有機膜層と画素定義膜の間に閉じこめられる気体を効果的に排出させることができるようにした有機発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光素子は、基板上に形成される第１電極層４０９と、前記第１電極層上に形成されて、前記第１電極層を少なくとも部分的に露出させる開口部４１４及び前記開口部周辺の一領域に少なくとも一つの段差部３０３が形成された画素定義膜３００と、前記画素定義膜の前記開口部上に形成される有機膜層３０１と、前記有機膜層及び前記画素定義膜上に形成される第２電極層とを含む。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子の発光特性を精度よくシミュレーションする。
【解決手段】有機電界発光素子の取り出し光の発光特性を求めるシミュレーション方法であって、発光層内に存在する発光分子が励起状態から無輻射で基底状態に遷移する単位時間あたりの確率をｋｔ、角度（θ，ψ）方向を含む微小立体角ｄΩ内へ波長λからλ＋ｄλのS偏光の光子を放出して基底状態に遷移する単位時間あたりの確率をｋｒｓ（θ，ψ，λ）ｄΩｄλ、角度（θ，ψ）方向を含む微小立体角ｄΩ内へ波長λからλ＋ｄλのP偏光の光子を放出して基底状態に遷移する単位時間あたりの確率をｋｒｐ（θ，ψ，λ）ｄΩｄλとして、励起状態にある発光分子から（θ，ψ）方向を含む微小立体角ｄΩ内へ波長λからλ＋ｄλの光子が放出される確率φ（θ，ψ，λ）ｄΩｄλを数式（１）より求める。 （もっと読む）

【課題】 基板や有機膜に損傷を与えることなく、高精度で所望の有機膜等を成膜可能とした有機ＥＬ表示パネルの製造方法と、この方法で製造した有機ＥＬ表示パネルを提供する。
【解決手段】 蒸着マスク２１に表示パネルのパネルパターン領域に対応した開口部１０３を有する。この開口部１０３は、蒸着マスク２１が基板１０１と接触する面から後退させた凹面内の底面に有し、蒸着マスク１０１の開口部１０３を基板１０１から所定のギャップ空間２３をもって離間して蒸着源１０５からの蒸着粒子粒を開口部１０３を通して基板１０１に蒸着する （もっと読む）

【課題】 薄膜トランジスタと電極との接続信頼性を向上させたアレイ基板を提供する。
【解決手段】 表面に薄膜トランジスタ４０が設けられた基板１１と、基板１１の表面を覆うように形成された層間絶縁層５０と、層間絶縁層５０上に形成されると共に、層間絶縁層５０に形成されたコンタクトホール２３を介して薄膜トランジスタ４０と電気的に接続された電極１９とを備え、層間絶縁層５０は、珪素を含む第１の無機絶縁膜１５と、有機絶縁膜１６と、珪素を含む第２の無機絶縁膜１８とが、この順で積層されてなると共に、第１の無機絶縁膜１５、有機絶縁膜１６及び第２の無機絶縁膜１７には、それぞれコンタクトホール２３に対応する位置に開口部１５ａ，１６ａ，１８ａが設けられ、これら開口部１５ａ，１６ａ，１８ａのうち少なくとも第２の無機絶縁膜１８の開口部１８ａが有機絶縁膜１６の開口部１６ａよりも大きいことを特徴する。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ表示パネル内に水分が浸入することを確実に防止して、水分による経時劣化を確実に防止することが可能な有機ＥＬ表示パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂層１１の中には金属層１２が形成されている。金属層１２は、有機ＥＬ表示パネルの周縁部に沿って延びる細長い突条であり、その厚み方向ｔで有機ＥＬ素子基板２と封止基板３にそれぞれ接している。金属層１２は、柔軟でかつ、耐腐食性がある金属、例えば、Ａｕから形成されていればよい。このような金属層１２は、例えば、その断面形状の少なくとも一部が厚み方向ｔに対して傾斜していればよく、図２においてはその断面が台形を成している。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィー法の現像工程における現像性を向上させる。
【解決手段】 所定の基板上に現像液を浸透する犠牲層を形成する犠牲層形成工程と、上記犠牲層上にフォトレジストからなるバンク層を形成するバンク層形成工程と、上記バンク層をマスクを介して露光する露光工程と、上記露光工程後の上記バンク層を現像液によって現像する現像工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】蒸着対象となる基板とメタルマスクとの位置ずれを抑制することが可能な表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 表示素子を画素毎に備えた表示装置の製造装置であって、有機活性層を構成する第１機能層を蒸着する第１チャンバ２１０と、各画素に対応した開口部を有するメタルマスク２２２を備え第１機能層上における画素毎にメタルマスク２２２を介して第２機能層を蒸着する第２チャンバ２２０と、第１チャンバ２１０と第２チャンバ２２０とを接続し第１機能層を蒸着済みの処理基板ＳＵＢを第２チャンバ２２０に搬送する搬送チャンバ２３０と、搬送チャンバ２３０内の処理基板ＳＵＢを所定温度に保温する保温機構２４０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗布禁止領域に付着した流動性材料を除去し、塗布領域のみに流動性材料が定着した基板を容易に得る。
【解決手段】塗布システム１は、処理ユニット群２、インデクサ３およびマルチ搬送ロボット４を備え、処理ユニット群２は、有機ＥＬ塗布ユニット２４、有機ＥＬベークユニット２５および有機ＥＬ除去ユニット２６を含む。塗布システム１では、処理ユニット群２において、有機ＥＬ塗布ユニット２４により塗布領域および塗布禁止領域に有機ＥＬ液が塗布され、有機ＥＬ除去ユニット２６により塗布禁止領域にレーザ光が照射されて塗布禁止領域から有機ＥＬ液が除去される。その後、有機ＥＬベークユニット２５により基板に対する加熱処理が行われることにより、有機ＥＬ液が基板上に定着して有機ＥＬ層が形成される。このように、塗布システム１では、塗布領域のみに有機ＥＬ液が定着されて有機ＥＬ層が形成された基板９を容易に得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子基板と封止基板とを封止するシール材が未硬化の状態で流出しても、有機ＥＬ表示パネルを構成する有機ＥＬ素子の特性を損なうことがない有機ＥＬ表示パネルを提供する。
【解決手段】 複数の陽極電極３０と陰極電極８との間に有機発光層７が挟持されてなる有機ＥＬ素子基板２と、有機ＥＬ素子基板２に対向して設けられる封止基板１１と、封止基板１１の外縁部に配設され、有機ＥＬ素子基板２と封止基板１１とを封止するシール材４とを備える有機ＥＬ表示パネルであって、複数の陰極電極３０を分離する隔壁９が形成されてなる隔壁形成領域Ｋとシール材４との間に突条２０を配置する。 （もっと読む）

【課題】凸版の低位部や凹部に有機発光材料のインキ液が流入しないように凸版の画線部である凸状部の頂部面はインキ液との親和性を有する層により形成し、凸版の非画線部である凸状部の頂部面より低位部及び凹部を形成する部分、即ち該凸状部を支持する支持体部分をインキ液に対して撥液性を有する層にて形成する。
【解決手段】凸状部を備えた印刷用凸版であって、該凸版の凸状部１Ａの被印刷物と接触する頂部面１Ｂは、有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層からなり、該頂部層１Ｂを支持する凸状部１Ａ又は該凸状部を含む凸状部形成材層は、前記塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層からなり、前記インキ液親和性樹脂層のインキ液濡れ接触角に対して、前記インキ撥液性層のインキ液濡れ接触角が少なくとも１０度以上大きい。 （もっと読む）

【課題】基板と、基板に支持された第一電極と、第一電極の上方に配置された有機発光媒体層と、有機発光媒体層の上方に配置された第二電極とを具備する有機ＥＬ素子の製造方法であって、抜けが無く厚みの均一な膜の有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光媒体層は有機発光層と発光補助層から構成され、発光補助層は、支持体上に発光補助材料を含むインキを供給して発光補助層を積層し、支持体上に発光補助層を備えた転写体と、発光補助層の不要部に対応する凸部を備えた凸刷版とを、発光補助層と凸刷版の凸部とが対面するように接触させ、転写体から、発光補助層の不要部を除去することによって発光補助層のパターニングを行い、支持体上にパターニング済みの発光補助層を備えた転写体と、基板上に第一電極を備えた被転写体とを、発光補助層と被転写体とが対面するように接触させ、転写体から発光補助層を被転写体上に転写して形成される。 （もっと読む）

【課題】
非画線部を凸部とし、画線部を凹部とする凹凸表面を有する除去版とを、前記インキ層と凸部が対面するように密着させて、前記凸部に密着した非画線部のインキ層を選択的に凸版に転写させてブランケットから除去し、次に、非画線部のインキ層が除去されたブランケットを被印刷基板に密着させて、画線部に既存するブランケット上のインキを被印刷基板に転写する凸版反転オフセット印刷法において、ダミーの基板を用意し、ダミー基板に対して印刷をおこない、インキの溶媒によってブランケットのシリコーンゴム層を膨潤させ、インキの転移状態を確認するという「空刷り」といった不必要な印刷を低減することで、インキの工数や使用量を削減することができるパターン形成方法とする。
【解決手段】
前記ブランケットのシリコーンゴム層を溶媒により膨潤させ、膨潤させたシリコーンゴム層にインキ層を備えたことを特徴とするパターン形成方法とする。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高く、消費電力が低く、均一で微細な有機ＥＬ化合物層のパターンを容易に形成可能なフルカラー有機発光素子用ドナーフィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルムと、該基材フィルムの上部に形成される光−熱変換層と、該光−熱変換層の上部に形成され、発光性高分子化合物を含んでなる転写層とからなり、該転写層にレーザーによる熱が伝達されると、該転写層のうちレーザーに照射された部分においては該転写層と該光−熱変換層との間の付着力Ｗ１２が変化することによって該転写層が該光−熱変換層から離脱し、 該レーザー照射されていない領域の発光性高分子化合物は該レーザー照射された領域の発光性高分子化合物から分離され、該基材の表面に固着される、ことを特徴とするフルカラー有機発光素子用ドナーフィルム。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、駆動電圧が低下し、かつ、長期保存においても、輝度低下のない安定な有機ＥＬ素子を得ることにある。
【解決手段】 基板上に、陽極、陰極および少なくとも１層以上の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記有機層の１層は、金属塩を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 （もっと読む）

【課題】 自発光素子が基板上に形成された自発光モジュールと、その自発光モジュールを保護するフレームとを備えた自発光ユニットを、煩雑な工程を行うことなく、短時間に製造することができる自発光ユニットの製造方法を提供すること、高精度に被取付部材に取り付け可能な自発光ユニットを提供すること。
【解決手段】 自発光ユニット１００は、自発光モジュール１０とフレーム３０を有し、フレーム３０は、自発光モジュール１０の一部又は全部を覆い当該自発光モジュール１０を保護し、自発光モジュール１０を被取付部材に取り付ける取付部３３が形成され、自発光モジュール１０に、フレーム３０が一体成形されるので、煩雑な工程を行うことなく、短時間に製造することができる。また、自発光ユニット１００を被取付部材に取り付ける際の取付位置精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】優れた特性を発揮する有機半導体素子を製造し得る有機半導体素子の製造方法、かかる有機半導体素子の製造方法により製造された有機半導体素子、この有機半導体素子を備え、信頼性の高い有機半導体装置および信頼性の高い電子機器を提供すること。
【解決手段】
有機ＥＬ素子（有機半導体素子）１は、陽極３と、正孔輸送層５ａと、正孔輸送層５ａと同一の機能を有する中間層５ｂと、発光層６と、陰極８とを備える。正孔輸送層（第１の有機半導体層）５ａと中間層５ｂと発光層（第２の有機半導体層）６とは、正孔輸送層５ａの構成材料を含有する第１の液状被膜、中間層５ｂの構成材料を含有する第３の液状被膜、および、発光層６の構成材料を含有する第２の液状被膜を固化させることにより一括して形成される。 （もっと読む）

【課題】制御電圧の変化によって生じるオフセット電流の影響を排除し、精度の高い画素駆動電流測定が可能な測定方法および装置を提供することができる。
【解決手段】上述した課題は、複数の画素を全て非点灯状態に設定したときに、配線に流れるオフセット電流を測定する第１のステップと、複数の画素のうち所定の画素のみを点灯したときに配線に流れる電流と、オフセット電流との差分に基づいて、所定の画素の画素駆動電流を測定する第２のステップと、第２のステップを繰返して、複数の画素のうち所定数の画素の画素駆動電流を順次測定し、その後、複数の画素の全てを非点灯状態に再設定する第３のステップと、第１のステップから第３のステップを繰返して、表示装置の画素駆動電流を測定する第４のステップとを有することを特徴とする画素駆動電流測定方法等により解決することができる。 （もっと読む）

【課題】 歩留まりが向上する有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 有機ＥＬ表装置の製造方法は、大型基板１５に有機ＥＬ層を駆動するためのＴＦＴ３を形成する工程を含む。大型基板１５を切断して、大型基板１５より小さな小型基板を形成する切断工程と、ＴＦＴ３に対応するように有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ層形成工程とを含む。切断工程の前に、大型基板１５のＴＦＴ３が形成された側の表面の全体を覆うように保護膜１６を形成する保護膜形成工程を行なう。切断工程の後に、保護膜１６の全てを除去する保護膜除去工程を行なう。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、有機ＥＬ素子の微細パターン化方法を提供するものである。さらに詳しくは、レーザーアブレーション加工法による有機ＥＬ素子の微細パターン化方法を提供するものである。さらには、レーザーアブレーション加工法によって微細パターン化された有機ＥＬ素子を提供するものである。
【解決手段】 対向する１対の電極間に少なくとも１層の発光層を含む有機ＥＬ素子を微細パターン化する方法であって、
１）前記発光層が発光材料として３座以上の配位子を有する金属錯体を含有し、
２）レーザーアブレーション加工法によりパターンを形成することを特徴とする。
および、該レーザーアブレーション加工法によりパターン化された有機ＥＬ素子である。 （もっと読む）