【課題】第１のリーフブロック群および第２のリーフブロック群相互間の隙間形状を目標形状に正確に設定すること。
【解決手段】リーフブロック１２は相手側のリーフブロック１２から離間する離間方向および相手側のリーフブロック１２に接近する接近方向のそれぞれに移動可能にされたものであり、リーフブロック１２の円弧面１４には着磁部２１および着磁部２２を交互に有する磁性層２０が形成され、磁性層２０にはＭＲセンサ２３が非接触状態で対向配置されている。この構成の場合、複数のリーフブロックモータ１９のそれぞれをＭＲセンサ２３からの出力信号に基づいて駆動制御することで複数のリーフブロック１２のそれぞれを非接触で目標位置に移動操作しているので、第１のリーフブロック群および第２のリーフブロック群相互間の隙間形状を目標形状に正確に設定することができる。 （もっと読む）

ある動いている標的の容積部の、実際の本当の放射線量の分布、特には実際の本当の有効放射線量の分布を決定するための方法は、該動いている標的の容積部の第一の動いている状態にある体積の要素の第一の位置及び該動いている標的の容積部の少なくとも一つのさらなる動いている状態にある体積の要素のさらなる位置を検出する処理、当該第一の位置を当該さらなる位置に変換することにより変換パラメーターを決定する処理、放射線照射を受けるべき複数のラスタ点を有している照射計画に従って該動いている標的の容積部を照射する処理（そこでは、あるラスタ点を照射している間、該動いている状態の何れが該動いている標的の容積部(102)によって占められているかを検出せしめている）、ラスタ点をサブ照射計画に割り当てる処理及び該サブ照射計画のラスタ点からの寄与分からそれぞれの場合について、該変換パラメーターを使用して、複数の体積の要素のうちのそれぞれについて実際の本当の線量を決定する処理を含むものである。動きにより生ずる変化を補償する訂正パラメーターを計算し、それをブラッグマキシマムの位置に適用し、適用された生物学的有効放射線量に適用する。 （もっと読む）

【課題】計画した線量分布と実際の線量分布とを一致させ、患部内に均一な線量分布を得ることができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、粒子線ビームを生成するビーム生成部と、粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御部と、照射対象の患部を粒子線ビームの軸方向に分割したスライスに対して、そのスライスに設定された所定の軌跡パターンに沿って粒子線ビームが走査されるよう、粒子線ビームの位置を２次元で順次指示するビーム走査指示部と、ビーム走査指示部からの指示信号に基づいて粒子線ビームを２次元で走査するビーム走査部と、を備え、ビーム走査指示部は、軌跡パターンを順方向に辿って走査した後、その軌跡パターンを逆方向に辿って走査するよう前記走査位置を指示する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】照射対象内の荷電粒子ビーム進行方向に垂直な方向おける線量分布を精度良く計測することができ、その結果、照射対象内の荷電粒子ビーム進行方向に垂直な方向の各位置における照射線量の制御精度を高めることができ、所望の線量分布を担保することができる荷電粒子ビーム照射システムを提供する。
【解決手段】二次元線量モニタ２１２と照射制御装置３００を設け、線量カウンタ装置３０４ａにより、二次元線量モニタ２１２のモニタ平面の領域毎に計測した線量をモニタ平面の領域毎に独立して積算してモニタ平面の領域毎に積算線量を計測する。また、比較部３０６により、モニタ平面の領域毎に計測した積算線量がモニタ平面の領域毎に予め設定した目標線量に到達するとビーム照射を停止する制御信号を出力し、目標線量に到達した領域へのビーム照射を停止させる。 （もっと読む）

医療施設において使用するための患者支持デバイス。患者支持デバイスは、ベースと、ベースに結合されるテーブル・アセンブリとを備える。テーブル・アセンブリは、下側支持部と、下側支持部に結合され且つ下側支持部に対して移動可能な上側支持部とを備える。上側支持部および下側支持部の少なくとも一方は、上側支持部が下側支持部に対して移動する際の患者支持デバイスの性能を向上させることが可能なベアリング層を備える。
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放射線療法用治療システムの患者支持デバイスは、電気機械式モータと、Ｚ方向に支持デバイスを上下させるための制御システムとを備える。この制御システムは、再生型制動コンセプトを採用し、如何なる負荷であっても支持デバイスが一定の速度で下降されるように、支持デバイスが下降される際にモータを発電機へと変換する。また、電力オフ状態において（即ち、支持デバイスに対する電力がないとき）、制御システムにより支持デバイスを下降させることが可能となる。
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【課題】スポットスキャニング法による粒子線治療に好適な照射ビームが得られ、しかも、安価な粒子線治療システムを提供することにある。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００と、ビーム輸送系３００と、照射装置５００から構成される。制御装置６００は、照射装置５００に荷電粒子ビームを供給する際に、出射装置２６に印加する高周波電磁場をＯＮし、照射装置への荷電粒子ビームの供給を遮断する際に、出射装置に印加する高周波電磁場をＯＦＦするとともに、ビーム輸送系３００あるいはシンクロトロン２００に設置した電磁石で荷電粒子ビームの供給を遮断し、さらに、出射装置２６に印加する高周波電磁場のＯＮからＯＦＦに同期して、加速空胴２５に印加する高周波加速電圧をＯＮからＯＦＦにする。 （もっと読む）

【課題】呼吸や脈拍などの生体活動による反復的な位置の変動に伴って照射領域が動いてしまう場合であっても、予め設定された形状および線量に基づいて正確な照射を行うことのできる、３次元スキャニング法を用いたスキャニング照射方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るスキャニング照射方法は、線量算出ステップＳ２と、差分線量算出ステップＳ３と、照射線量設定ステップＳ４と、を含み、所定の条件を満たすまで差分線量算出ステップＳ３および照射線量設定ステップＳ４を繰り返して行う。 （もっと読む）

【課題】安全性を確保しつつビームの照射位置の精度を緩和することができ、加速器やビーム輸送系の調整時間の短縮化を図ることができる荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム照射方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム発生装置３と、この荷電粒子ビーム発生装置３から出射された荷電粒子ビームを偏向して走査面上で走査する走査電磁石２１Ａ，２１Ｂを有する照射装置５とを備えた荷電粒子ビーム照射システムにおいて、走査面をビーム断面積より小さくなるように区画した複数の区画領域のそれぞれにおける照射量を検出する第二線量モニタ２７と、同じ飛程のビームを走査面上の位置を移動させて照射したときの各区画領域における積算照射量を演算し、この演算した積算照射量が予め設定記憶された許容値を超えたと判定した場合に、荷電粒子ビーム発生装置３から照射装置５へのビーム出射を中止させる照射制御装置６とを備える。 （もっと読む）

【課題】偏向電磁石の磁場強度を急速に変化させる必要がなく、電源負荷および電源のトリップの可能性を低減でき、一様な照射ができ、ビーム損失が少なく利用効率が高く、被照射体が呼吸や鼓動によって動いている場合でも照射野の一様性を維持できる荷電粒子照射装置とその制御方法を提供する。
【解決手段】ビーム１の経路上の被照射体２から所定距離ｈを隔てて位置しビームを散乱させてビーム径を拡大する散乱体１２と、散乱体より上流側の、ビームを被照射体２に向けて偏向させる偏向電磁石１４と、偏向電磁石より上流側の、ビームに直交し、偏向電磁石により偏向するビームを含む平面内の一方向にビームを偏向させる上流側偏向電磁石１６と、散乱体より上流側かつ偏向電磁石より下流側の、ビーム方向をビームに直交する平面内で上流側偏向電磁石による偏向方向に直交する方向に偏向させる下流側偏向電磁石１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】積層原体照射において、照射線量分布を従来よりも均一化することが可能な積層原体照射システムを提供する。
【解決手段】加速器２ａで加速された粒子線を被照射体に向けて照射する照射ヘッド４を備え、照射ヘッド４は、粒子線の偏向走査用のワブラ電磁石４２ａ，４２ｂを有し、照射制御手段５は、ワブラ電磁石４２ａ，４２ｂを励磁制御して粒子線を偏向走査して積層原体照射を行う際に、粒子線が始点から開始して始点に戻るような一筆書の周回軌道を描くようにワブラ電磁石４２ａ，４２ｂを励磁制御するとともに、照射ヘッド４から出力される粒子線の照射期間Ｔｂが、粒子線が周回軌道を一周するのに要するワブラ周期Ｔｗの整数倍になるように制御する。 （もっと読む）

【課題】 レンジシフターでの散乱による荷電粒子線のビーム径の増加を低減して、被照射体への空間的に精密な照射が可能な小さなビーム径の荷電粒子線を供給できるとともに、レンジシフターを患者から離れた位置に配置して、その移動音等による威圧感を無くすることができる粒子線照射装置及び粒子線治療装置を得る。
【解決手段】 荷電粒子線のエネルギーを低下させる可変レンジシフター４と、可変レンジシフター４で低下した荷電粒子線のエネルギーに応じて励磁量が制御されて、可変レンジシフター４での散乱による前記荷電粒子線の発散を収束させる４極電磁石６と、荷電粒子線のビーム軌道を変化させるスキャニング電磁石８とを備えた。 （もっと読む）

【課題】放射線室と監視室等の監視空間との間では、相互に視認可能とした状態で、対向する放射線室間では相互に視認不可とする。
【解決手段】監視者の存する監視室１と、監視室１を挟んで対向配置され且つその内部で被検者に対して放射線治療又は放射線検査を行う放射線室２ａ，２ｂとを備え、監視室１の両側に仕切壁３ａ，３ｂを設けて監視室１と各放射線室２ａ，２ｂとの間を仕切ると共に、仕切壁３ａ，３ｂの一部又は全部を放射線遮蔽ガラス板４ａ，４ｂで形成した放射線医療設備であって、放射線遮蔽ガラス板４ａ，４ｂに偏光フィルム５ａ，５ｂを貼着し、監視室１の一方側の放射線遮蔽ガラス板４ａに貼着される偏光フィルム５ａの偏光方向を、監視室１の他方側の放射線遮蔽ガラス板４ｂに貼着される偏光フィルム５ｂの偏光方向と直交させる。 （もっと読む）

【課題】ランドマークとの相対的な位置関係がずれる軟部組織の治療部位であっても正確かつ迅速に位置決めすることができる放射線治療装置を提供する。
【解決手段】計画時ＣＴ画像１１と治療時ＣＴ画像１２との双方から骨部１３を抽出し、骨部１３のパターンの類似度に基づいて治療時ＣＴ画像１２に対応する計画時ＣＴ画像１１のスライス位置及びスライス面内位置を決定し、計画時ＣＴ画像１１の治療部位を含むスライス画像に対応する治療時ＣＴ画像１２から治療部位を含む部分画像１４を切り出し、計画時ＣＴ画像１１から部分画像１４に最も類似する領域を含むスライス画像を探索し、探索されたスライス画像からみた治療部位の相対的な位置を算出すると共に、この相対的な位置関係を用いて算出した治療時ＣＴ画像１２の部分画像の位置からみた治療部位の相対的な位置を最終的な治療部位とする。 （もっと読む）

【課題】製作の容易なリッジフィルタを有する荷電粒子ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム照射装置は、荷電粒子ビーム発生装置と、照射野形成装置とを有する。照射野形成装置がビームのエネルギー分布を拡大するエネルギー分布拡大装置であるリッジフィルタ２４を有する。リッジフィルタ２４のリッジフィルタ要素３２は、ビームの上流側の面とビーム下流側の面において、共に階段状の構造を備える。そして、階段状の構造は、ビームの上流側の面と前記ビーム下流側の面において対称である。 （もっと読む）

【課題】標的位置における荷電粒子ビームの照射位置の精度を向上することができ、正常組織への照射を減少させることができる粒子線照射システムを提供することにある。
【解決手段】粒子線照射システムは、荷電粒子ビームを出射する加速装置６と、走査磁石２４，２５と、荷電粒子ビーム位置検出器２６，２７を有する。制御装置７０は、荷電粒子ビーム位置検出器２６，２７からの信号に基づき、標的位置でのビーム位置を算出し、走査磁石２４，２５を制御して荷電粒子ビームを標的位置にて所望の照射位置へ移動させる。制御装置７０は、所定の周期毎に荷電粒子ビームの位置と角度の情報を基に走査磁石２４，２５への励磁電流の値を補正する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線の誤照射の防止を図ることができる粒子線照射システムを得る。
【解決手段】粒子線加速装置２によって加速された荷電粒子線は、粒子線輸送装置４によって所定の経路に沿って粒子線照射装置３へ輸送される。粒子線照射装置３は、所定の経路を通る荷電粒子線を照射対象に照射する。粒子線輸送装置４は、軌道分岐部５を有している。軌道分岐部５は、偏向永久磁石１４と偏向電磁石１５，１６とで構成される偏向装置８と、偏向電磁石１５，１６の励磁用に偏向電磁石を構成する電磁コイルに給電する電源装置とを有している。偏向電磁石１５，１６が励磁されているときには、輸送中の荷電粒子の軌道が、粒子線照射装置３の設置された位置に荷電粒子が輸送される軌道に乗り、偏向電磁石１５，１６が励磁されていないときには、輸送中の荷電粒子の軌道が、粒子線照射装置３の設置された位置に荷電粒子が輸送される軌道とは異なる軌道に分岐される。 （もっと読む）

相対論的なもしくは準相対論的な電子および選択的にＸ線を生成することができる共振型のレーザ駆動ミクロ加速器プラットフォームである。その装置は、好適には先細とされた狭い真空ギャップによって隔てられた一対の平行スラブ対称誘電体スラブを有する。ある実施の形態では、スラブの上面には多くの周期的なスロットを有する反射性層が設けられる。この多くの周期的なスロットは、レーザ光が反射器上に向けられる際、構造電場に縦方向の周期性を作り出す。ギャップに導入された電子はスラブの長さ方向に沿って加速される。スラブの反射性表面は、高い屈折率を有する材料の層と低い屈折率を有する材料の層とが交互に積層されてなる積層構造であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】粒子線照射期間中でも、多葉コリメータ形状を監視する粒子線治療装置を得る。
【解決手段】 粒子線照射期間中に照射ヘッド１の多葉コリメータ形状を設定変更して積層原体照射を行い、多葉コリメータ１４に対向しその形状を監視する形状監視ミラー３２ａを有し、多葉コリメータ１４の下流のスノート部に着脱可能に装着された光学的形状監視ユニット３１、形状監視ミラー３２ａで反射した多葉コリメータ形状を撮影するビデオカメラ１５ａ、及び、多葉コリメータ形状を撮影するビデオカメラ１５ａの映像を表示する画像モニタ１７ａを備えた。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、陽子ビーム等の粒子ビームを走査する走査電磁石の電源容量を大きくすることなく、患部に線量を均一に照射できる粒子線治療システムの照射装置を提供することにある。
【解決手段】
陽子ビームの１スピル（１回のビーム取出し時間）で標的領域（患部）に対して陽子ビームを一往復走査する際に、陽子ビームを照射するスピルの回数に応じて、一定間隔で順番に各スピルの照射開始位置をずらして照射する。また、陽子ビームを照射するスピルの回数に応じて、一定間隔で定めた複数の位置からランダムに順番を選び、選ばれた順番に各スピルの照射開始位置をずらして照射する。 （もっと読む）