【課題】
液処理モジュール２に載置されたウエハＷに対して処理液ノズル１１から処理液を供給して液処理を行うにあたって、処理液の供給量を安定させ、これによりウエハＷの間における塗布の均一性を図ること。
【解決手段】
ノズル１１がノズルバス１５に待機しているときに一定量だけサックバックバルブ５２によりサックバックを行ってノズル１１の先端部のレジスト液の液面を引き上げる。ノズル１１を液処理モジュール２の上方に移動させた後、ノズル１１を支持するアーム１３に設けられたカメラ１６により、当該ノズル１１の先端部を撮像し、画像データを取得する。この画像データに基づいて、液面レベルを検出し、その検出結果に応じて液面レベルが予め設定した基準レベルになるようにサックバックバルブ５２を制御する。このためレジスト吐出前の液面レベルが一定化し、処理液の吐出量が一定化する。 （もっと読む）

【課題】プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減すること。
【解決手段】スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、そのまま所定時間放置する。次に、プライミングローラ１４の回転を開始して、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取り、その後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて、プライミングローラ１４に巻き取られた塗布液膜の自然乾燥を促し、所定時間経過後にプライミングローラ１４の回転を停止させて該塗布液膜を所定の待機用回転角位置に着かせ、該塗布液膜の自然乾燥を継続する。その後、この塗布液膜を洗浄によって除去する。 （もっと読む）

【課題】 基板の周辺領域にレジスト等の樹脂膜を効率良く形成することができ、半導体素子製造におけるスループット向上に寄与する。
【解決手段】 素子形成に供される基板１０上の周辺部に樹脂膜を塗布する塗布装置であって、基板１０が載置され、少なくとも１８０度回転可能な回転テーブル３２と、基板１０の中心を通る第１の方向（Ｘ方向）軸で２分割された第１の基板周辺領域及び第２の基板周辺領域の一方に相当する円弧に沿って樹脂を吐出するための複数のノズルを配置してなり、該ノズルが基板１０の周辺領域に対向するように設置される樹脂膜形成ヘッド部５０と、基板１０と樹脂膜形成ヘッド部５０を相対的に、第１の方向とは直交する第２の方向（Ｙ方向）に移動させる移動機構４５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】低い粘度の塗布液を使用しても良好に製膜可能な塗布装置及び多層膜付きフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】ダイ先端部の空間を減圧するための吸引装置と、前記塗布液を貯留するためのポケットと、を備え、前記ポケットは、塗布点よりも下の位置に配置され、下流リップと、前記ウエブと、の最短距離をｄ１とし、隣接リップと、前記ウエブと、の最短距離をｄ２とし、前記隣接リップの前記走行方向の幅をＬ２とし、最上層の膜厚をｈ１とし、最上層を除く全ての膜の総膜厚をｈ２としたとき、式１〜式４の全てを満たすように前記ブロックが設置されて前記ダイが構成された塗布装置。
10μｍ≦（ｄ１−ｄ２）≦200μｍ 式１
ｄ２≦３×ｈ２ 式２
５０μｍ≦Ｌ２≦２００μｍ 式３
dP/dX＞０ 式４ （もっと読む）

【課題】たとえばフラットパネルディスプレイに用いられる基板に発生した欠陥の修正など、塗布針と塗布対象物との間に強い電界を形成することなく、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を塗布対象物上に塗布することができる、液体塗布装置、当該液体塗布装置を備えるパターン修正装置および微細パターン描画装置、ならびに液体塗布方法を提供する。
【解決手段】液体塗布装置５は、塗布針２０と、塗布針２０による液体材料の塗布に際して塗布針２０を振動させる超音波発生器２０ａとを備えている。 （もっと読む）

【課題】線塗布及び点塗布のどちらの塗布でも精度良く塗布を行う。
【解決手段】ペースト吐出装置４は、上端が開口する断面円形の液室１２ａ及びこの液室１２ａ内のペーストを吐出するノズルＮを有する本体１２と、液室１２ａに供給するペーストを貯留するシリンジ１１と、そのシリンジ１１内に加圧気体を供給する気体供給部１１ａとを備える。本体１２は、回転駆動によってペーストをノズルＮへと送るスクリュー１３を液室１２ａ内に着脱可能に構成されると共に、そのスクリュー１３を離脱させた状態において液室１２ａの開口を塞ぐ蓋部材を着脱可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】 高効率で液滴吐出の良否を検査する。
【解決手段】 基板を保持し水平面内方向に移動させることのできるステージと、絶縁材を吐出しうる複数のノズルを備え、ステージに対向配置される吐出ヘッドと、ノズルから吐出された絶縁材の着弾跡を検出するセンサと、ステージ、吐出ヘッド、センサを制御する制御装置とを備え、ステージは基板を少なくとも一軸方向に移動させることができ、吐出ヘッドの複数のノズルは、水平面内で一軸方向と直交する方向に沿って配置され、センサはステージに対して、水平面内で一軸方向と直交する方向に相対的に移動可能に、ステージに対向配置され、制御装置はステージと吐出ヘッドを制御して、基板に絶縁材を吐出させて描画を行う機能と、ステージとセンサを制御して、吐出された絶縁材の着弾跡を検出する機能とを備え、制御装置は、吐出された絶縁材の着弾跡の検出時に、センサをステージに対して、水平面内で一軸方向と直交する方向に相対的に移動させる液滴吐出装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性に優れ、良好な塗工プロファイルおよび塗工面感を維持でき、ストリーク等の塗工欠陥の発生を抑制できるコーターブレードおよびコーターブレードの製造方法を提供する。
【解決手段】ウエブ３に塗工液を塗工するコーターブレード１であって、ウエブ３と摺接する刃先部１０の被覆部１５は、第１主面Ｕを覆う第１主面被覆部１６と、テーパ面１１ａを覆うテーパ面被覆部１８と、第１主面被覆部１６の外表面１６ａとテーパ面被覆部１８の外表面１８ａとの角部を角面取りして形成された中間被覆部１７と、を有し、テーパ面被覆部１８の厚さは４０μｍ以上１３５μｍ以下に形成されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】液剤塗布ユニットに対して、液剤貯留圧送タンクによる液剤の供給時におけるタンク内の液剤残量検出を可能とする。
【解決手段】液剤貯留圧送タンク内の液剤を加圧する落し蓋に対し、上方に立てた液剤検出ロッドがあり、タンク上部のタンク蓋より上方に液剤検出ロッドを出し、液剤の減少量を目視やセンサーにより液剤残量検出を可能とした。 （もっと読む）

【課題】 描画対象物１枚あたりの描画時間を短縮することが望まれている。
【解決手段】 保持機構に保持された描画対象物に、液滴を吐出複数のノズルを有する第１及び第２のノズルユニットが対向する。移動機構が、描画対象物に対して、第１及び第２のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第１の方向及び第２の方向に移動させる。制御装置が、ノズルユニット及び前記移動機構を制御する。第１及び第２のノズルユニットの各々のノズルは、第２の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されている。第１及び第２のノズルユニットは、第２の方向に間隔を隔てて配置されている。間隔調節機構が、制御装置からの制御により、第１及び第２のノズルユニットの間隔を変化させる。 （もっと読む）

【課題】描画対象物に均一な厚みの材料層を描画する描画装置および描画方法を提供する。
【解決手段】描画対象物５０に描画すべきパターンの液状材料を付着させるべき領域を、主走査方向に直交する仮想直線上に垂直投影した像の連続する部分の長さ、つまり配線領域の長さＬｗに基づいて、ノズルヘッド２３の１回の主走査で描画されるパス領域の幅Ｌｐを、ノズルヘッドに設けられるノズルの配列長さＬａよりも短く設定する。 （もっと読む）

【課題】 高精度の描画を行う。
【解決手段】 基板を保持して水平面内方向に移動させるステージと、基板に対向して配置され、基板に向けて絶縁材を吐出する吐出ヘッドと、基板上の一部の位置を押圧する押圧部と、押圧部が、吐出ヘッドによって絶縁材が吐出されていない基板上の位置を押圧するように制御を行う制御装置とを有する液滴吐出装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基材に形成される塗工域の始端縁の塗工膜厚みを中間域の塗工膜厚みに近似させると共に塗工域の始端縁の塗工膜厚みを幅方向に沿って均一する。
【解決手段】 基材Ｗを塗工切替用ロール３の進退で後退位置Ｂと塗工位置Ａとの間で移動させて、走行中の基材Ｗに塗工域Ｋと非塗工域Ｊとを交互に繰返すリバースロール方式の間欠塗工方法において、塗工操作は、前進で塗工位置Ａへ至った基材Ｗの走行を停止させ又は停止に近い状態まで減速させることで、基材Ｗの塗工面Ｗａと塗工ロール６の外周面６ａの間の塗工開始側の基材幅方向に形成される楔状の隙間に、塗工幅方向全域にわたって塗工液Ｑからなる連続した初期メニスカスＱａを形成し、その後に基材Ｗを走行させること。 （もっと読む）

【課題】単純な工程でハンマートン模様の塗装金属板を製造することができる、塗装金属板の製造方法を提供すること。
【解決手段】塗装金属板の製造方法は、表面に下塗り塗膜を形成した金属板を準備する工程と、下塗り塗膜の上に、有機樹脂、着色顔料、メタリック顔料、シリコーン化合物および溶媒を含む上塗り塗料を塗布する工程と、上塗り塗料が塗布された金属板を放置して不定形模様を形成させた後、塗布された上塗り塗料を乾燥させる工程とを有する。シリコーン化合物としては、ジメチルポリシロキサン、メチルハイドロポリシロキサン、シリコーンオイル、シリコーンワニス、オルガノクロルシラン、シラノール反応性シリコーンモノマーなどのシリコーン系撥水剤が使用される。 （もっと読む）

【課題】往復移動するプランジャー用いた液滴吐出装置において、微量かつ高精度に吐出する。
【解決手段】吐出口１１を構成する吐出路１２と、プランジャー３０と、プランジャーが挿通される液室５０と、プランジャーを進退動させるプランジャー駆動機構と、プランジャーの先端部の位置を規定するプランジャー位置決定機構とを備え、プランジャーの先端部３１と液室の壁面５３が非接触の状態でプランジャーを前進移動することで液材に慣性力を与えて液滴の状態に吐出する液滴吐出装置において、プランジャーを前進移動させることにより所望の液滴を形成するのに必要となる量の液材を吐出口から押し出し、続いてプランジャーを後退移動させることにより吐出口から押し出された液材を分断して微量の液滴を形成する。 （もっと読む）

【課題】キャリッジの走査時の姿勢変動を抑制して記録位置のずれを解消し、画質を向上させることができるインクジェット記録方法およびインクジェット記録装置を提供する。
【解決手段】インクを吐出する記録ヘッドを搭載するキャリッジを走査しながら記録を行うインクジェット記録方法が、キャリッジの走査中に、キャリッジの走査方向の位置と姿勢変動とを検知するステップと、走査方向の各位置における姿勢変動を打ち消すように、各位置においてキャリッジの姿勢をそれぞれ補正するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】長距離にわたり連続的に液体材料を塗布することができる、液体塗布機構、当該液体塗布機構を備える液体塗布装置および液体塗布方法を提供する。
【解決手段】液体塗布機構２５は、液体材料１２を微細領域に塗布する液体塗布機構であって、先端部において液体材料１２を塗布する塗布部１０と、液体保持部１１とを備えている。塗布部１０と液体保持部１１とは、塗布部１０と液体保持部１１との間に液体材料１２を保持可能な液体保持空間が形成され、液体保持空間に保持されるべき液体材料１２が液体保持空間と塗布部１０の先端部との間において連続的に存在可能となるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】塗布した箇所を視認し易く、且つその後確実に無色となることで塗布した箇所を目立たなくし得る特性を有する塗布製品を提供する。
【解決手段】塗布製品である転写具１は、特定の波長を有する特定波長光たる紫外光が照射されると発色し可視光が照射されると無色となるフォトクロミック化合物を含み、特定波長光が照射されると発色状態となり可視光が照射されると消色状態となる塗布物たる粘着剤５５と、当該粘着剤５５を収納する容器たるケース２と、このケース２に取り付けられ、このケース２内において粘着剤５５が対象物へ塗布される際に通過する通過領域Ｘへ向けて紫外光を照射し粘着剤５５を発色状態とし得る照射部３４とを具備する。 （もっと読む）

【課題】従来の処理装置では、処理効率を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持する２つのワークテーブル２５と、ワークテーブル２５のそれぞれを、２つのワークテーブル２５間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイドレール２３及びガイドレール２４と、前記共通経路において、ワークテーブル２５のそれぞれに支持されたワークＷに対向した状態で、対向するワークＷに対して描画処理を施す吐出ヘッド１９と、前記共通経路においてワークテーブル２５のそれぞれが吐出ヘッド１９に対向し得る領域である処理領域７３の外側に設けられ、ワークテーブル２５に支持されたワークＷの高さ位置を、処理領域７３の外側で検出する第１検出装置１４及び第２検出装置１５と、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量を調整する昇降モーター１８と、を有する、ことを特徴とする処理装置。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ダイコータを用いて光学素子を作成する場合の厚みムラの問題を解決し、より薄い塗工膜を、広範囲に、厚みムラを抑えつつ、高い精度にて形成することができるダイコーティング法を提供することを目的とする。
【解決手段】 塗料を吐出可能に開口してなるスリット８を形成するとともに該スリット８に向かってマニホールド７から延びて塗料の通路をなすスロット９を形成した口金４を、所定の基体に対して相対的に移動可能に構成されたダイ本体２に設けてなり、且つ、スロット９の周囲の所定位置に口金４を加熱する加熱機構３を設けたダイコータ１を用い、加熱機構にて口金を加熱しながらスリットの位置から、光透過性を有する基材を備えた基体の面上に、液晶化合物を含有する液晶組成物にてなる塗料を吐出して塗工膜を形成することを特徴とするダイコーティング方法により、塗工膜を、広範囲に、厚みムラを抑えつつ、高い精度にて形成することができる。 （もっと読む）