【課題】次亜塩素酸塩水溶液と塩酸水溶液を段階的に希釈することにより、塩素ガスの発生を抑制した弱酸性塩素水を製造できるようにする。
【解決手段】弱酸性塩素水製造装置１の第１供給経路３には、塩酸水溶液を注入する第１注入口３１と、流量抵抗を生じさせて塩酸水溶液と希釈水とを混合する第１混合希釈部３２とが設けられ、第２供給経路５には、次亜塩素酸塩水溶液を注入する第２注入口４１と、流量抵抗を生じさせて次亜塩素酸塩水溶液と希釈水とを混合する第２混合希釈部４２が設けられ、第３供給経路７には、流量抵抗を生じさせて、第１混合希釈部３２で希釈された塩酸水溶液と第２混合希釈部４２で希釈された次亜塩素酸塩水溶液とを混合する第３混合希釈部６１が設けられている。 （もっと読む）

【課題】薬液流体を稀釈流体によって高い稀釈倍率で（超稀釈濃度に）稀釈する際に、汚染の少ない超稀釈濃度の稀釈薬液流体を正確に調合することが可能であるとともに、ｐＨの調整が容易である（多孔質媒体の交換を必要としない）薬液調合装置を提供する。
【解決手段】注入手段３０が、平面状の多孔質平膜３１と、多孔質平膜３１の一方の面上に押圧された状態で配設されるＯ−リング３２とを備え、多孔質平膜３１の、Ｏ−リング３２の内側に対応する部分に、Ｏ−リング３２が配設された一方の面側から透過した薬液流体が、他方の面側で稀釈流体に注入される注入膜面が形成されたものであり、注入膜面の膜面積が、透過した薬液流体が所定の注入割合となるように稀釈流体に注入されることが可能な面積に、Ｏ−リング３２の内径を調整することにより制御された薬液調合装置。 （もっと読む）

半導体デバイスを湿式清浄化するときに採用される装置、システム及び方法が提供される。特に、所望のＣＯ２濃度の脱イオン水を供給することのできるシステム、及び半導体デバイスを湿式清浄化するときに使用するため、所望のＣＯ２濃度の脱イオン水を生成する方法が提供される。
（もっと読む）

【課題】多量の液体組成物（例えば、洗口液）を小さいスペースで効率よく且つ安定的に製造することができ、製造する液体組成物の特性や種類の変更を行なう場合も容易に行ない得る方法及び装置を提供する。
【解決手段】混合槽内で目的濃度より高い濃度の中間混合液を製造し、混合槽の排出路中にさらに溶媒を加えてスタティックミキサーにより混合し目的濃度の液体組成物とする液体組成物の製造方法、及び、中間混合液を製造する混合槽１０と、該混合槽の排出路２０に設けられた制御ポンプ３０と、該排出路に接続され中間混合液にさらに溶媒を加える給液部４０と、加えられた溶媒と中間混合液とを混合して目的組成物を得るスタティックミキサー６０とを備えた液体組成物の製造装置。 （もっと読む）

【課題】より安定した品質の混合液体を容易に且つ確実に製造可能で且つ比較的容量の小さな混合槽で済む液体混合装置を提供する。
【解決手段】供給配管Ｓ１、Ｓ２を介して供給される原水または水溶液に薬液を混合して混合液体を作製するための混合槽Ｂ１，Ｂ２を備えた液体混合装置において、原水または水溶液に対して薬液を、調節可能な添加流量で且つ連続的に添加可能な連続注入ポンプＰ１，Ｐ２を設けた。 （もっと読む）

本発明は、キャリアガス（２）と液体複合物（３）または溶液とを蒸発チャンバ（４）に導入するための装置（１）に関し、当該装置（１）は、少なくとも−上記複合物または上記溶液（３）の吸入のための第１注入口（８）と、−キャリアガス（２）の吸入のための第２注入口（９）と、注入器（１４）の注入口に接続される排出口（１３）と、を備え、キャリアガスと上記複合物または上記溶液の液滴との混合物が単一の注入器の排出口（１４）を介して蒸発チャンバ（４）に周期的に注入される。
（もっと読む）

【課題】工程の負荷変動があったとしても所望のガス混合比を得ることができる混合ガス供給システムを提供する。
【解決手段】複数のガス導管路に流れるガスの質量流量を複数の流量制御装置によって質量流量が制御され、ガス混合器で混合されたガスを所定の工程に導くガス配管路に設けられて、ガス混合器で混合された混合ガスの濃度を計測する濃度計測部と、予め校正されて、ガス混合器で混合された各ガスの混合比と濃度計測部が計測した濃度情報との相関関係を保持する濃度情報保持部と、混合比設定部によって設定された混合比と濃度情報保持部が保持する濃度情報から導かれる各ガスの混合比との差分を求めて流量制御装置にそれぞれのガスの流量指令を出力してガス導管路に流れるガスの質量流量を制御する流量監視部を備える。 （もっと読む）

【課題】製品混合ガスの組成を原料となる混合ガスの組成変動や、製品混合ガスの使用流量に拘わらず、正確かつ安定に維持することができる混合ガス製造装置及び方法を提供する。
【解決手段】混合ガスからなる原料ガスの圧力を設定圧力に調整し、添加ガスの圧力を設定圧力に調整するとともに流量を調整し、設定圧力に調整された原料ガスと設定圧力に調整されて流量調整された添加ガスとを混合して製品混合ガスとし、該製品混合ガスの一部を取り出して該製品混合ガス中の少なくとも１種類のガスの濃度を測定するとともに、製品混合ガスの流量を測定し、あらかじめ設定された製品混合ガスの少なくとも１種類のガスの濃度と、製品混合ガス中の少なくとも１種類のガスの濃度測定値と、製品混合ガスの流量測定値の変化率とに基づいて前記添加ガスの流量を調整する。 （もっと読む）

ミキサーの混合効率を制御するための方法および装置であって、該方法は、パイプ内を流れるプロセス流体内に化学薬品を注入するステップと、第１の動作速度で動作しているミキサーにより化学薬品をプロセス流体と混合するステップとを含む。この方法は、ミキサーの下流でパイプ内で化学薬品とプロセス流体の混合効率を測定するステップと、測定された混合効率を所定の混合効率の範囲と比較するステップと、所定の混合効率の範囲に対して混合効率を調整するように、ミキサーの動作速度を制御するステップとをさらに含む。混合効率は、パイプの周辺上に配置された一組の電極を使用することにより測定されることが好ましく、混合効率は、電気インピーダンストモグラフィを使用することにより得られることが好ましい。
（もっと読む）

化学溶液浴を所望の濃度で維持するブレンダーシステムを提供する。ブレンダーシステムは、少なくとも２つの化合物（例えば、アンモニアおよび過酸化水素）を受けて、ブレンドし、化合物の混合物を選択された濃度で含む溶液を、化学溶液浴の選択された体積を維持するタンク（２）に送達するように構成されたブレンダーユニット（１００）を含む。さらに、ブレンダーシステムは、化学溶液浴中で少なくとも１つの化合物を選択された濃度範囲内に維持するように構成されたコントローラー（１１０）を含む。コントローラーは、タンクに送達される溶液内で、化合物の濃度を選択された濃度範囲内に維持するようにブレンダーユニットの少なくとも１つの動作、および、化学浴内の化合物の濃度が目標範囲から外れる場合は、タンクに入る溶液およびタンクから出る溶液の流速の変更を制御する。 （もっと読む）

溶液製造システムおよび装置が記載されている。溶液製造機は、化学物質またはスラリーと溶剤とを所望の濃度に混合する。溶液の濃度は、１つまたはそれ以上の方法で監視される。この測定に基づき、溶液の濃度は調整され得る。 （もっと読む）

希釈流体を送出するために、活性流体源（１２）、希釈流体源（１４）、活性および希釈流体の一方を分配する流体流測定装置（２４）、活性流体と希釈流体を混合して、希活性流体混合物を形成するように構成されたミキサ（２８）、および希活性流体混合物中の活性流体および／または希釈流体の濃度を感知し、それに応答して流体流測定装置（２４）を調節し、希活性流体混合物中の活性流体の所定濃度を達成するように構成されたモニタ（４２）を使用するシステム（１０）。圧力制御装置（３８）が、システムから分配される希活性流体混合物の所定圧力を維持するように、活性流体および希釈流体の他方の流れを制御するように構成される。これで、システムから分配される流体は、半導体プロセスツールなどの流体使用ユニットに所望の流れを提供するために、例えば質量流量制御装置などの流量制御装置によって調節自在に制御することができる。希活性流体混合物の送出の連続性を維持するよう流体源（１２、１５）を切り換えるために、終点監視アセンブリについても説明する。 （もっと読む）

【課題】 少ない設置スペースで人工海水の十分な供給量を確保すると共に人工海水の原料のストックを削減し得る人工海水製造システムを提供すること。
【解決手段】 人工海水の濃縮液が生成される濃縮液槽と、前記濃縮液槽から移送される前記濃縮液を希釈して所定濃度の人工海水に調整する調整槽と、を備えた人工海水製造システムが提供される。 （もっと読む）

【課題】 酸化還元電位水の製造効率を向上することが可能な酸化還元電位水製造装置の提供を目的とする。
【解決手段】 本実施形態によれば、酸化還元電位水の製造時には、溶存水素計Ｈｍにより溶存水素量を実測しなくても設定した値に近い溶存水素量の酸化還元電位水を製造することができる。また、酸化還元電位計ＲｍによりＯＲＰ値を実測しなくても、設定した許容最大値Ｒ，ｍａｘよりも小さいＯＲＰ値の酸化還元電位水を最小限の水素ガス供給量で製造することができる。これにより、従来の酸化還元電位水製造装置のように、溶存水素計Ｈｍ、酸化還元電位計Ｒｍのメンテナンスや故障により酸化還元電位水の製造を中断されることが無くなり、製造効率を向上することができる。 （もっと読む）

化学溶液のブレンディング及び供給のための方法及び装置。本発明の方法は、連続ブレンディングシステムを含んでいる。この連続ブレンディングシステム（１００）は、出力を監視し、ブレンディングシステムを連続的に調節して、少なくとも第１溶液（１１４）の所定の配合を達成する。集中監視システム（１２４）は、溶液を連続的に評価し、必要に応じてブレンダ（１１３）の出力を調節して溶液の所定の配合を維持する。システムは、第１タンクシステム（１１７）を少なくとも含んでいる。このタンクシステムから配送されるあらゆる溶液（１２０）もまた、集中監視システムによって、連続的に監視され、評価され、必要に応じて調節される。 （もっと読む）

光学流体濃度センサを含む流体流動配列が開示される。一つの配列は、流体流動をセンサ窓に向かうあるいは当たる方向に向ける。一つの配列は、センサが感知する領域への光の侵入を阻止する。一つの配列は、混和流体を監視する複数のセンサを含む。すなわち、ａ）流入開口、流出開口、および前記流入開口と前記流出開口との間に配置された空洞を有する流動部材と、ｂ）感知面が空洞と連通するように、流動部材に組み付けられた流体濃度センサであって、空洞は、流体が常に感知面と接触しているように、流体流動を感知面に当たる方向に向ける流体濃度センサとを備える、流体濃度感知配列が開示される。
（もっと読む）

【課題】 供給配管を介して供給される原水または水溶液に薬液を混合して混合液体を作製するための混合槽を備えた液体混合装置及び液体混合方法において、より簡単な構成で且つ混合能力の高い液体混合装置、及び、より安定した品質の混合液体を製造可能な液体混合方法を提供する。
【解決手段】 混合槽Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３に供給配管Ｐ１，Ｐ２と比して管路径の大きな流入部Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３を設け、薬液を原水または水溶液に添加する添加位置Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３と、流入部内の溶液中に磁束によってイオン分極電流を発生させ混合を促進させる磁気処理装置Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３とを、流入部または流入部よりも上流側に配置した。 （もっと読む）

【課題】井水の浄化装置やその他の薬液注入ポンプを用いる多くの施工例では、薬液注入ポンプに薬液より発生する気体によりエアロックが生じ、ポンプ吐出機能が停止し、円滑な運転に支障がある。
【解決手段】井水等を流す主配管にエジェクターを設置し、エジェクターの吸引部から薬液を吸引して井水等と混合することにより、薬液ポンプを用いることなく、薬液中に多量の気体が存在してもエアロック現象が発生しない薬液注入装置を得る。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、液体粘度を一定に保つように温度及び水素イオン濃度指数を常時監視コントロールしながら、液体の増粘状態に応じて希釈液である溶剤を断続的に自動で添加し液体粘度を調整するために用いられる液体粘度調整管理システムに関するものである。
【解決手段】本発明は、インキに代表される液体の粘度管理及び調整を長時間にわたって安定的に可能とするために、温度調整装置を使用して、液体温度及び液体タンクの保温又は冷却のための循環液の温度を常時測定記録し、両方の温度の差に応じて循環液の温度をＰＩＤ制御によって調整し、液体温度を周囲の温度変化に左右されず、常に一定に保つことができるシステムを構築したものである。必要に応じてｐＨ管理及び調整もできる機能を有しているほか、少量の液体を一定量安定して供給し、泡の発生を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】 被処理水の水質の急激な変化にも追従して被処理水を適切に処理可能な水処理装置を提供することを課題とするものである。
【解決手段】 オゾン発生機３から供給されたオゾンにより被処理水を処理する、エゼクタ、オゾン溶解ポンプ、あるいはスタテイックミキサを含むオゾン処理装置４を有し、オゾン処理装置４から排出されたオゾン処理済み水をろ過する膜ろ過装置５、および膜ろ過装置５でろ過される前のオゾン処理済み水中の残留オゾン濃度が０．１〜１ｍｇ／リットルとなるようにオゾン発生機３からのオゾン供給量を制御するオゾン濃度制御装置７を備えたものである。 （もっと読む）