【課題】有機成分を含まない高純度の二酸化ケイ素膜を形成するために有用な二酸化ケイ素前駆体および二酸化ケイ素前駆体組成物を提供すること。
【解決手段】上記二酸化ケイ素前駆体は、下記示性式（１）
（Ｈ_２ＳｉＯ）_ｎ（ＨＳｉＯ_１．５）_ｍ（ＳｉＯ_２）_ｋ （１）
（式（１）中、ｎ、ｍおよびｋはそれぞれ数であり、ｎ＋ｍ＋ｋ＝１としたとき、ｎは０．５以上であり、ｍは０を超えて０．３以下であり、ｋは０〜０．２である。）
で表され、１２０℃において固体状であるシリコーン樹脂である。
上記二酸化ケイ素前駆体組成物は、上記シリコーン樹脂および有機溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】基材上に、ポリシラザンから生成されるシリカ膜を短時間で形成できる方法を提供する。
【解決手段】基材上に、ポリシラザンを含有するポリシラザン膜を形成した後、レーザ光またはマイクロ波を照射して前記ポリシラザンをシリカに転化させる工程を有するシリカ膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】粒子を規則的かつ単層に配列させ得る粒子配列方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る粒子配列方法は、所定の溶液中で表面が第一の極性に帯電する材料に金属粒子を分散させた薄膜を基板の表面に形成する過程と、上記第一の極性と反対の第二の極性に帯電させた粒子を上記溶液中に分散させる過程と、上記薄膜を上記溶液中に浸漬する過程と、上記金属粒子とプラズモン共鳴する波長の光を上記薄膜に照射する過程と、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】水垢固定防止効果が高くかつその持続性が高く、付着した水垢を容易に除去できるコーティング膜を有する製品及びその製造方法の提供。
【解決手段】製品基体の表面に、Ｓｉ含有成分とＺｒ含有成分を含む塗布液を塗布し、熱処理してＳｉ酸化物成分及びＺｒ酸化物成分を有する被膜形成物質からなる第１層を形成し、その上にＳｉ含有成分と、水に溶解若しくは分散するポリマー及び／又はモノマーから選ばれる有機物成分を含む塗布液を塗布し熱処理して、Ｓｉ酸化物成分と前記有機物成分とを含む第２層を形成して、水垢固着防止コーティング層を有する製品を製造する。 （もっと読む）

【課題】低誘電性、接着性に優れると共に十分な機械強度を有するシリカ系被膜を形成できるシリカ系被膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカ系被膜形成用組成物は、（ａ）成分：式（１）；Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ、（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉを含む基、又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、ｎが２のとき、各Ｒ^１は同一でも異なっていてもよく、ｎが０〜２のとき、各Ｘは同一でも異なっていてもよい）で表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：（ａ）成分を溶解可能な溶媒と、（ｅ）成分：ヒドロキシル基を含む側鎖を有する重合体と、を備え、重合体が、式（２）；０＜Ｍ_ＯＨ＜０．４×１０^−２、Ｍ_ＯＨ：重合体における前記ヒドロキシル基の濃度（ｍｏｌ／ｇ）、で表される関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、耐擦傷性及び耐拭き取り白化性に優れる硬化膜を与える硬化性樹脂組成物及びその硬化物からなる低屈折率層を有する反射防止膜を提供する。
【解決手段】下記成分（Ａ）〜（Ｄ）：
（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、
（Ｂ）２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、
（Ｃ）シロキサン骨格を有する、数平均分子量が４０，０００以上の化合物
（Ｄ）有機溶剤
を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明の対象は、無機表面変性された超微粒子、それらの製造方法及びそれらの使用である。 （もっと読む）

【課題】成長基板に成長したシート状基板をその成長基板から自動的に剥離するシート状基板剥離装置と、シート状基板を成長基板から剥離するシート状基板剥離方法を提供する。
【解決手段】シート状基板剥離装置１はシート状シリコン基板を成長させるための成長用基板３と、シート状基板を剥離するための真空吸着パッド１１と、シート状基板を搬送するためのベルヌーイ吸着パッド１３とを備えている。成長基板３には、成長基板３を掴むようにシート状シリコン基板を成長させる第１面、第２面および第３面が設けられている。真空吸着パッド１１は、成長基板において第２面が位置する一端側から第２面と対向する他端側に至る長さの３分の１以下の距離にところに位置する部分に成長したシート状シリコン基板の部分が吸着される。 （もっと読む）

多結晶シリコンを作製するためのプラズマ堆積装置は、未堆積ガスを回収する排気システムを有する、多結晶シリコンを堆積させるためのチャンバと、堆積ゾーンを定める堆積表面を有するターゲット基板を保持するため堆積チャンバ内に位置する支持体と、堆積チャンバ内に位置し且つ支持体から離間して配置された、少なくとも１つの誘導結合プラズマトーチとを含み、少なくとも１つの誘導結合プラズマトーチは、堆積表面に実質的に垂直なプラズマ火炎を発生させ、プラズマ火炎は、堆積表面に多結晶シリコンの層を堆積させるため少なくとも１つの前駆体ガス源を反応させて多結晶シリコンを生成する反応ゾーンを定める。 （もっと読む）

本発明は、多層グレージングパネルに使用されるポリマー中間層を含む。本発明の中間層は、熱可塑性ポリマー、可塑剤、および疎水特性を付与するために改質されたヒュームドシリカを含む。このような成分を取り入れた中間層は、改善された引張弾性率、耐湿気性、クリープ性能、防食効果、ガラス接着性を有し、これに限らないが音響用途を含む様々な用途に好適である。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション型の有機ＥＬ素子に用いることができるように透明性の高く、水分や芳香族炭化水素等を吸着する透明吸着材を提供し、また製造工程が簡易である上記透明吸着材の製造方法及び該透明吸着材を実装する有機ＥＬ素子を提供することである。
【解決手段】有機ＥＬ構造体内に実装される透明吸着材において、
該透明吸着材が基板上に形成され、かつ金属又は金属酸化物の骨格を有し、結晶又は非結晶構造を有する透明なメソポーラスマテリアル薄膜からなることを特徴とする透明吸着材、該透明吸着材の製造方法及び該透明吸着材を実装する有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】二酸化珪素基材の表面に深さ方向に不連続な窒化珪素層を形成する。
【解決手段】窒素ガスを固体電解質型酸素ポンプによって酸素分圧を１×１０^-28ａｔｍとして反応炉２に充填して炉内を極低酸素分圧雰囲気とした。高純度二酸化珪素質材料を反応炉２内にセットし、温度１０００℃に加熱して二酸化珪素質基材表面から酸素を解離させると共に窒素と結合させ、二酸化珪素質材料の表面に深さ方向に不連続な窒化珪素層を形成した。ＸＰＳ（Ｘ線電子分光分析装置）を使用して表面及び深さ方向の分析をＳｉ−Ｎの結合に着目して実施したところ、表面において検出された窒素は、深さ１０ｎｍで消失し、深さ４７０ｎｍから５４０ｎｍの厚さ７０ｎｍの層に窒素の存在が認められた。 （もっと読む）

【課題】本発明は、新規なシロキサン誘導体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のシロキサン誘導体は、分岐シロキサン構造を有し要部となる化合物を有する。シロキサン誘導体はデンドリティックポリマーであることが好ましい。シロキサン誘導体は、要部となる化合物にモノマーを重合したポリマーであることが好ましい。要部となる化合物としては、1,1,3,3,3-ペンタメチル-ビニルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチル-3-フェニルビニルジシロキサン、1,1,3-トリメチル-3,3-ジフェニルビニルジシロキサン、トリメチルビニルシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、1,3,3,5,5-ペンタメチル-3,5-ジフェニルビニルトリシロキサン、およびトリエトキシビニルシランを用いた。モノマーとしては1,1,3,5,5-ペンタメチル-1,5-ジビニルトリシロキサンを用いた。 （もっと読む）

【課題】 高品位の結晶性を有し、且つ精密にサイズ・位置制御がなされ、デバイスへの集積化の自由度の高められた、均質なβ-FeSi₂又はFeSi₂アモルファスドットアレイ構造体とその効率的な作製方法を提供する。
【解決手段】 β-FeSi₂結晶又はFeSi₂アモルファスをを含有するドットが基板表面に均質に設けられたFeSi₂ドットアレイ構造体。この構造体を、FeSi₂膜を有する透明板の膜面側に基板を対向させ、透明板側からパルスレーザー光を照射し、対向基板上にβ-FeSi₂結晶又はFeSi₂アモルファスを含有するドットを転写することにより作製する。 （もっと読む）

【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルケニル基含有有機シラン化合物から成るＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される有機シラン化合物を含有するＳｉ含有膜形成材料を用い、化学気相成長法、特にプラズマ励起化学気相成長法によりＳｉ含有膜を形成させ、絶縁膜として使用する。
【化１】


（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は、炭素数１〜２０の炭化水素基または水素原子を表し、ｎは０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

ａ）アノードの電解質中に配置されたアノード６で、一つまたは複数のイオン性化合物を利用して、精製されるべき固体半導体材料を酸化する工程と、ｂ）カソードの電解質中に配置されたカソード５で、工程ａ）において得られた一つまたは複数の化合物を、精製された固体半導体材料への還元する工程（ここで、一つまたは複数のイオン性化合物もまた形成される）とを含み、工程ｂ）において形成された一つまたは複数のイオン性化合物が、工程ａ）において利用され、アノードおよびカソードが、電子移動のために互いに接続されている、半導体材料の精製方法。前記の形成されたイオン性化合物は、外部で精製される。本方法は、例えばシリコンの精製に利用され得る。
（もっと読む）

【課題】 簡便、かつ容易に、効率的に所定の３Ｄ（三次元）立方晶系メソ構造のシリカ、そしてその薄膜を形成することのできる新しい技術手段を提供する。
【解決手段】
シリカ前駆物質とカチオン界面活性剤並びに疎水性有機化合物とを混合して調製したゾルを乾燥し、次いで焼成することで３次元立方晶系メソポーラスシリカモノリスを形成し、さらには、シリカ前駆物質とカチオン界面活性剤並びに疎水性有機化合物とを混合して調製したゾルを固体基板上に薄層に塗布または展開して乾燥し、次いで焼成することで３次元立方晶系メソポーラスシリカ薄膜を生成させる。 （もっと読む）

本発明はナノ構造化材料の金属表面の保護コーティングとしての使用に関し、そのナノ構造化材料は官能化ナノビルディングブロックおよびポリマーまたは有機／無機複合のマトリクスを含む。
本発明は、マトリクスが少なくとも３種類のケイ素アルコキシドから調製される特定のナノ構造化材料にも関する。 （もっと読む）

【課題】 孔径の分散が小さい多孔質体およびその製造方法の提供を目的とする。また、同一組成の溶液を用いても、膜と粉体の両方の形状で多孔質体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】 メソ孔を有する多孔質体であって、Barrett-Joyner-Halenda法を用いて求められる孔径に対する孔の個数分布で、孔径範囲２ｎｍ〜１０ｎｍにある孔数が全孔数の９０％以上を占め、前記孔の個数分布の標準偏差が、孔の個数分布のピークとなる孔径に対して、１０％以下であることを特徴とする多孔質体である。
また、シリコンアルコキシドと触媒とを含む前駆体溶液と、非イオン性界面活性剤溶液とを含んでなる形成溶液を、基材に塗布した後焼成する多孔質体の製造方法において、前記非イオン性界面活性剤として特定のトリブロックコポリマーを用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな設備を必要とせずにシリコン膜を形成するための成膜材料として、ポリシラン修飾シリコン微粒子を製造する方法およびこのポリシラン修飾シリコン微粒子を用いたシリコン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】末端がシリルアニオン化されたポリジフェニルシランからなるポリシラン１１を含む液に、シリコン微粒子１２を添加することで、シリコン微粒子１２の表面にポリシラン１１を結合させたポリシラン修飾シリコン微粒子１３を製造する。そして、このポリシラン修飾シリコン微粒子１３に水素化処理を行うことで、水素化ポリシラン修飾シリコン微粒子１４を製造することを特徴とするポリシラン修飾シリコン微粒子の製造方法である。また、この水素化ポリシラン修飾シリコン微粒子１４が分散された液を基板上に塗布し、塗布膜を形成した後、塗布膜が形成された状態の基板に熱処理または光照射を行うことで、シリコン膜を形成することを特徴とするシリコン膜の形成方法である。 （もっと読む）