【課題】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板の段差埋め込み性に優れ、耐溶媒性を有し、基板のエッチング中によれの発生がないだけでなく、エッチング後のパターンラフネスが良好なレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜形成方法、パターン形成方法。
【解決手段】少なくとも、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物の酸触媒縮合樹脂（Ａ）、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物（Ｂ）、フラーレン化合物（Ｃ）及び有機溶剤を含有することを特徴とするレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】スピン−オン塗布技法を利用して塗布可能であり、光学的特性、機械的特性、エッチング選択性に優れる芳香族環含有化合物を提供する。
【解決手段】式（５）に例示する芳香族環含有化合物。ｎ_１〜ｎ_６は、０または１。
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【課題】新規なトリホスファン化合物の遷移金属錯体を触媒として用い、種々のケトン類を不斉還元して高効率的、高選択的に光学活性アルコール類を製造する。
【解決手段】一般式（１）


（一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基などを表す。）で表されるトリホスファン化合物。 （もっと読む）

本開示は、非常に安価なグラフェン、およびグラフェンオールと呼ばれる新規化合物を、微粒子または溶媒中の分散物として予想外に生成させることができるプロセスを含む。プロセスはまた、金属および非金属基材上でグラフェン層を生成させることができる。さらに、グラフェンオールおよびグラフェンを使用して、前に報告されているものを超える特性改善が得られるナノ複合体を形成させることができる。
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【課題】塩基量が少なくても高収率・高選択的に基質アルコールを二量化してアルコールを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のアルコールの製造方法は、銅化合物及び基質アルコールに対して０．５〜４０ｍｏｌ％のＮａＯＨの存在下、第１級アルコール及び第２級アルコールから選択される基質アルコールを二量化するアルコールの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】アントラセン特有の特性、例えば、高炭素密度、高融点、高屈折率及び紫外線に対する蛍光性能等を備え、かつビスフェノール構造に起因する反応多様性を兼ね備えたアントラセン誘導体及びこの製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、下記一般式（１）にて示されるアントラセン誘導体である（式（１）中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立にヒドロキシアリール基を示す。）。上記Ｘ及びＹはヒドロキシフェニル基であることが好ましい。また、当該アントラセン誘導体は、非反応性含酸素有機溶媒及び酸触媒の存在下、フェノール類と、アントラセン−９−カルボアルデヒドとを反応させる工程を有する方法で製造することができる。
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【課題】 タール分等の不純物の含有量の少ない高純度の２−ヒドロキシ−６−ビニルナフタレンを工業的に効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 本発明の２−ヒドロキシ−６−ビニルナフタレンの製造方法は、分子量３００〜６００の不純物化合物の総含有量が１重量％以下である２−アセトキシ−６−ビニルナフタレンを、塩基性触媒の存在下、活性水素が結合したヘテロ原子を有する化合物と反応させて２−ヒドロキシ−６−ビニルナフタレンを得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】医農薬や電子材料の中間体として有用なアルコール類の製造方法を提供する。
【解決手段】カルボニル化合物とボロン酸類を、パラジウム化合物と一般式（１）


（式中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数２〜６のアルキル基またはハロゲン原子を示す。Ｘ⁻は対陰イオンを示す。）で表されるイミダゾリニウム塩からなる触媒および塩基の存在下に反応させてアルコール類を製造する。 （もっと読む）

【課題】 タール分等の不純物の含有量の少ない高純度のヒドロキシビニルナフタレンを工業的に効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 本発明のヒドロキシビニルナフタレン化合物の製造方法は、ナフタレン環にヒドロキシル基とビニル基とを有する粗ヒドロキシビニルナフタレン化合物を、フェノール系ラジカル捕捉剤の存在下、４５℃以上の温度で活性炭処理に付して精製する工程を含む。活性炭処理はアルコールと水の混合溶媒中で行うのが好ましい。活性炭処理後、晶析操作によりヒドロキシビニルナフタレン化合物を単離する工程を有していてもよい。ヒドロキシビニルナフタレンビニル化合物として２−ヒドロキシ−６−ビニルナフタレンが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】困難な操作を伴わないナフタレン誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表わされる化合物（Ｉ）を、触媒および水素の存在下で還元することにより、下記一般式（II）で表わされる化合物（II）を製造する。


（Ｒ₇およびＲ₈のうち少なくとも一つは−Ｑ^１−ＣＨＯを表し、Ｒ₇およびＲ₈の残りとＲ_１〜Ｒ_６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６の１価の炭化水素基、−Ｑ^２−ＯＨ、または−Ｑ^３−ＯＲ’を表わす。Ｒ_７’、Ｒ_８’は、Ｒ_７、Ｒ_８とそれぞれ同じである。ただし、Ｒ_７が−Ｑ^１−ＣＨＯであるときＲ_７’は−Ｑ^１−ＣＨ_２ＯＨを表し、Ｒ_８が−Ｑ^１−ＣＨＯであるときＲ_８’は−Ｑ^１−ＣＨ_２ＯＨを表す。Ｑ^１〜Ｑ^３はそれぞれ独立に単結合または炭素数１〜６の２価の炭化水素基を表わし、Ｒ’は炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表わす。） （もっと読む）

【課題】エポキシ樹脂組成物にした際に溶解性が良好であり、かつ、エポキシ樹脂硬化物に高い耐熱性を付与できるエポキシ樹脂用硬化剤として用いることができる、新規なカリックスアレーン誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ−１）で示されるカリックスアレーン誘導体。
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【課題】 従来のエポキシ樹脂用硬化剤より、硬化性が向上し、得られた樹脂のガラス転移温度が高い硬化剤、および硬化剤に適したジヒドロキシナフタレン系重合体を提供し、この硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物およびその硬化物を提供すること。
【解決手段】 下記式（１）のジヒドロキシナフタレン系重合体（ｎ：１〜１０、ｍ、ｍ´：０〜４、ｍ＋ｍ´≧１）を提供し、それからなるエポキシ樹脂用硬化剤、この硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物およびその硬化物を提供する。また、式（１）の重合体を、式（２）のジヒドロキシナフタレン類と、式（３）のビフェニル化合物と、式（４）の芳香族化合物を縮合反応させて得る製造方法も提供する。
【化１】
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【課題】本発明は、実用的で工業的に有利なＨＨＴＰの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の２，３，６，７，１０，１１−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法は、カテコールを硫酸の存在下で電解酸化させることにより、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサヒドロキシトリフェニレンを得る方法である。 （もっと読む）

【課題】液晶材料製造中間体である１，７，８−トリフルオロ−２−ナフトール誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１２）で表される１，７，８−トリフルオロナフタレン誘導体を、脱保護反応を行うことにより、１，７，８−トリフルオロ−２−ナフトール誘導体を製造する。


（Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、置換されていても良いＣ１〜６のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等を、Ｒ^８は、水酸基の保護基を表す。） （もっと読む）

【課題】長期耐光性、透明性、屈折率などの光学特性、誘電率などの電気特性、更には長期耐熱性などの機械物性に優れたアダマンタン誘導体、その製造方法、当該誘導体を含む組成物及び当該誘導体を使用する硬化物を提供すること。
【解決手段】特定のアダマンタン骨格、重合性基、及びこれらを結合する特定構造を有する結合基を含有するアダマンタン誘導体である。 （もっと読む）

【課題】２−ヒドロキシ−６−ビニルナフタレンを工業的に効率よく製造する方法の提供。
【解決手段】６−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒドから３段階の反応などで得た下記式（１）


［式中、ＲはＲ¹ＣＯ−、Ｒ²ＮＨＣＯ−、Ｒ³ＯＣ（＝Ｏ）−、およびＲ⁴ＳＯ₂−で表されるいずれかの基を示す（上記式中、Ｒ¹は水素原子又は炭化水素基を示し、Ｒ²〜Ｒ⁴は、それぞれ、炭化水素基を示す）］で表される２−置換オキシ−６−ビニルナフタレンを活性水素が結合したヘテロ原子を有する化合物と反応させて、２−ヒドロキシ−６−ビニルナフタレンを製造する。 （もっと読む）

【課題】 ２，３−ジフルオロフェニル酢酸を原料として、７，８−ジフルオロ−２−ナフトールをより簡便な操作でかつ安価に製造できる方法を提供すること。
【解決手段】 ２，３−ジフルオロフェニル酢酸を、ハロゲン化剤で酸ハロゲン化物とし、ルイス酸存在下でエチレンと反応させて７，８−ジフルオロ−２−テトラロンを得る工程、７，８−ジフルオロ−２−テトラロンを、酸無水物、硫酸により２−アセトキシ−７，８−ジフルオロナフタレンとし、精製する工程、およびこれを脱アセチル化する工程からなる７，８−ジフルオロ−２−ナフトールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】
熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を含有する部品から熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を可溶化する溶媒を提供すること。また、前記可溶化する溶媒を製造する技術を提供すること。
【解決手段】
バイオマスを溶媒と共に不活性ガス雰囲気下加熱処理して得られるタールを熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂の可溶化溶媒とする。バイオマスを溶媒と共に、アルカリ成分または酸成分の存在下に加熱処理して、前記可溶化溶媒を製造することもできる。
前記可溶化溶媒を安価で収率良く製造することができる。また、各種有用物質を回収することができる。 （もっと読む）

【課題】温和な条件でホモアリルアルコールを高収率で得ることのできる製造方法を提供する。
【解決手段】反応基質としてアルデヒドとアリルシランを用い、ＭＣＭ−４１をＡｌ置換して得られるＡｌ−ＭＣＭ−４１を固体触媒として用いると、穏和な条件下、短時間で対応するホモアリルアルコール誘導体のシリルエーテル体が高収率で得られ、シリルエーテル体から対応するホモアリルアルコール誘導体が簡便に得られる。 （もっと読む）

【課題】装置を腐食させるおそれのある塩酸を使用することなくアダマンタン骨格を有す化合物を効率的に酸化する。また、水素化副反応を抑制して芳香族化合物を効率的に酸化する。
【解決手段】白金／チタニア触媒等の、新周期律表の４族〜１０族から選択された元素を含む触媒であって還元処理された触媒と水素の共存下、炭化水素化合物を分子状酸素を含む酸化剤を用いて酸化して含酸素化合物を得る。 （もっと読む）