【課題】塩分を含まない両性界面活性剤の製造方法を提供する。
【解決手段】イミダゾリン化合物を水性媒体中において高温でアクリル酸およびアクリル酸ナトリウムの混合物と反応させることを含み、該アクリル酸およびアクリル酸ナトリウムがそれぞれ１：６〜１：３のモル比の範囲の該混合物で配合される、改良された無機塩を含まない両性プロピオン酸塩界面活性剤組成物を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】アミノマロン酸エステル及びその無機酸塩を高収率で製造しうる方法を提供する。
【解決手段】水溶媒中でマロン酸エステルと亜硝酸ナトリウムとを酸の存在下に反応させてヒドロキシイミノマロンエステルを生成させ、それを水素化還元してアミノマロン酸エステルを得るアミノマロン酸エステル又はその無機酸塩の製造方法。 （もっと読む）

トランス−４−［（３−アミノ−５−オキソ−４，５−ジヒドロ−［１，２，４］トリアジン−６−イルメチル）−カルバモイル］−シクロヘキサンカルボン酸メチルエステルの調製、および、そのトランス−４−（４−アミノ−５−置換イミダゾ［５，１−ｆ］［１，２，４］トリアジン−７−イル）−シクロヘキサンカルボン酸化合物への変換を含む製法。 （もっと読む）

【課題】設備面、安全面および経済面に優れるトランス−１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】テレフタル酸、テレフタル酸エステルおよびテレフタル酸アミドからなる群から選択される少なくとも１種のテレフタル酸またはその誘導体を核水素化し、水添テレフタル酸またはその誘導体を得、次いで、得られた水添テレフタル酸またはその誘導体をアンモニアと接触させて、得られた１，４−ジシアノシクロヘキサンから、トランス−１，４−ジシアノシクロヘキサンを得、その後、得られたトランス−１，４−ジシアノシクロヘキサンを水素と接触させることにより、トランス−１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサンを製造する。 （もっと読む）

炭化水素をアミノ炭化水素に直接アミノ化する方法であって、
ａ）少なくとも一種の炭化水素と少なくとも一種のアミノ化剤を含む供給流Ｅの反応で、アミノ炭化水素と水素を含む反応混合物Ｒを生成させる工程と、
ｂ）反応混合物Ｒから、反応でできた水素の少なくとも一部を、少なくとも一層の選択的プロトン伝導性膜と該膜の各側上に少なくとも一つの電極触媒とを有する気密膜−電極アセンブリにより電気化学的に分離し、その際、膜の未透過物側のアノード触媒上で水素の少なくとも一部をプロトンに酸化させて、このプロトンを、膜を通過後、
透過物側のカソード触媒上で、
ｂ１）水素に還元させる工程及び／又は
ｂ２）膜の透過物側と接触する酸素含有流Ｏからの酸素と反応させて水を生成させる工程、
を含む方法。 （もっと読む）

【課題】２−（４−アミノフェノキシ）−５−アミノビフェニルおよびその誘導体の商業的製造に適したプロセスを提供する。
【解決手段】下記一般式


（式中、置換基Ｘは炭素数１〜６のアルキル基を表し、置換基の数ｎは零または１〜５の整数を表し、２個以上のＸは互いに同一または異なってもよく、Ａはアミノ基等を表す）で表される２‐（４‐ニトロフェノキシ）‐５‐置換ビフェニルまたはその誘導体を還元する。 （もっと読む）

本発明の対象は、アミノ基を有する有機酸のＮ−アシル化のための連続的方法であって、次式（Ｉ）
Ｒ^１−ＣＯＯＨ （Ｉ）
［式中、Ｒ^１は、水素または炭素原子数１〜５０の場合により置換された炭化水素残基を表す］
で表されるカルボン酸の少なくとも一種と、次式（ＩＩ）
Ｒ^２ＮＨ−Ａ−Ｘ （ＩＩ）
［式中、
Ａは、炭素原子数１〜５０の場合により置換された炭化水素残基を表し、
Ｘは、酸基またはそれの金属塩を表し、そして
Ｒ^２は、水素、炭素原子数１〜５０の場合により置換された炭化水素残基、または式−Ａ−Ｘ（式中、Ａも、Ｘも、互いに独立して、上記の意味を有する）の基を表す］
で表される少なくとも一つのアミノ基を有する有機酸の少なくとも一種とを、モノモード−マイクロ波アプリケータのマイクロ波の伝播方向にその長軸がある反応管中でマイクロ波照射下に反応させてアミドとする、方法である。 （もっと読む）

【課題】縮合生成物を与える副反応を抑制して高い収率でニトリルから一級アミンを製造する方法を提供する。
【解決手段】ニッケル、コバルトおよび鉄から選ばれる一種以上の金属を含有する水素化触媒の存在下、水素とニトリルを反応させて一級アミンを製造するに際して、反応に用いて活性が低下した触媒を水素化分解による再生処理を実施するたびに、処理剤を用いて気相で前処理することで常に高い収率で一級アミンを得る製造方法。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種の式（Ｉ）のカルボン酸エステル：Ｒ^３−ＣＯＯＲ^４（Ｉ）［式中、Ｒ^３は、５〜１００個の炭素原子を有する、場合によっては置換された芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^４は、１〜３０個の炭素原子を有する炭化水素基を表す］を、少なくとも１種の式（ＩＩ）のアミン：ＨＮＲ^１Ｒ^２（ＩＩ）［式中、Ｒ^１およびＲ^２は互いに独立に、水素、または１〜１００個のＣ原子を有する炭化水素基を表す］と、マイクロ波照射下、長軸がモノモードマイクロ波アプリケータのマイクロ波伝播方向にある反応管中で反応させてカルボン酸アミドにすることによって、芳香族カルボン酸のアミドを連続的に製造する方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、水素および触媒の存在下でのカルボニル系化合物とヒドロキシルアルキルアミンとの反応を含む、アルキルアルカノールアミン類の調製方法に関する。 （もっと読む）

癌細胞の増大を遅延させるのに有用なベンズアミド誘導体が開示される。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１個のメチル基で置換されたトリエチレンテトラアミンの製造法に関する（Ｍｅ−ＴＥＴＡまたはメチル置換ＴＥＴＡ化合物）。Ｍｅ−ＴＥＴＡは、ビスシアノメチルイミダゾリジン（ＢＣＭＩ）を触媒の存在で水素添加することによって製造される。更に、本発明は、メチル置換ＴＥＴＡ化合物それ自体に関する。更に、本発明は、例えば塗料または促進剤を製造する際の反応体または中間生成物としてのメチル置換ＴＥＴＡ化合物の使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、６−α−アミノモルフィナンの立体選択的合成のためのプロセスを提供する。特に、本発明は、触媒的移動水素化による６−ケトノルモルフィナンの還元アミノ化のためのプロセスを提供する。本発明の一態様は、６−α−アミノ−Ｎ１７−ホルミルモルフィナンを調製するためのプロセスを包含する。プロセスは、６−ケトノルモルフィナンを、アミン源、ギ酸イオンを含む水素供与体、遷移金属触媒、およびプロトン受容体と接触させて６−α−アミノ−Ｎ１７−ホルミルモルフィナンを形成することを含む。 （もっと読む）

本発明は、６−α−アミノＮ−置換モルフィナンの立体選択的合成のためのプロセスを提供する。特に、本発明は、触媒的移動水素化による６−ケトＮ−置換モルフィナンの還元アミノ化のためのプロセスを提供する。本発明の一態様は、６−α−アミノ−Ｎ−置換モルフィナンを調製するためのプロセスを包含する。プロセスは、６−ケトＮ−置換モルフィナンを、アミン源、ギ酸イオンを含む水素供与体、遷移金属触媒、およびプロトン受容体と接触させて６−α−アミノＮ−置換モルフィナンを形成することを含む。 （もっと読む）

式（Ｒ^１Ｒ^２ＮＲ^３）_２ＮＲ^４（式中、Ｒ^１とＲ^２のそれぞれは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、およびｎ−プロピル基からなる群から選択され；Ｒ^３は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−からなる群から選択されるアルコキシアルキル基であり；Ｒ^４は、水素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−プロピル基、および式Ｒ^１Ｒ^２ＮＲ^３を有する基からなる群から選択される）を有する第二アミンまたは第三アミンを得る方法が提供されている。該方法は、（α）Ｒ^１Ｒ^２ＮＲ^３（ＯＨ）とアンモニアとを反応させ、これにより（Ｒ^１Ｒ^２ＮＲ^３）_２ＮＲ^４を含む混合物を得る工程；および（β）前記混合物から（Ｒ^１Ｒ^２ＮＲ^３）_２ＮＲ^４を分離する工程；を含む。 （もっと読む）

特定の一般式のアミノポリアルキレンホスホン酸の製造のための方法を記載する。特に、製造される化合物と同一の一般式を有する、具体的に画定された範囲の反応物、すなわち亜リン酸; アミン; ホルムアルデヒドおよびアミノポリアルキレンホスホン酸の混合物を反応させて、それにより実質的に減少したレベルの望ましくない副生成物を伴う顕著な選択性および純度の生成物を得る。 （もっと読む）

【課題】トリフルオロメチル基を含有する新規な光学活性３−オキソピラゾリジン誘導体、及びそれを用いた光学活性アミン類の製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１）


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ^３は、炭素数１〜１０のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよい１−ナフチル基、置換基を有してもよい２−ナフチル基、置換基を有してもよいアリールエチレニル基又は置換基を有してもよいアリールアルキルを示す。）で表される光学活性３−オキソピラゾリジン誘導体、及び該オキソピラゾリジン誘導体を還元触媒で開環した後、酸で処理することによるトリフルオロメチル基を含有する光学活性アミン類の製造方法。 （もっと読む）

【課題】純度の高く、感光材料に好適な２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンを高収率で得ることができるとともに、触媒の分離除去も容易な２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンを、モルホリン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドからなる群から選ばれた少なくともいずれか１種の窒素含有化合物と、炭素数３以下の低級アルコールとの混合溶媒に溶解させた状態で触媒の存在下還元するようにした。 （もっと読む）

本発明は、芳香族ニトロ化合物を触媒的に水素化して芳香族アミンを製造する方法であって、ＳｉＯ₂を含む支持体に担持された銅触媒を用い、該ＳｉＯ₂が湿式研磨とそれに続く噴霧乾燥により製造されていることを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

本発明は一般式（Ｉ）の化合物に関し、式中：Ｒ_２は水素原子もしくはフッ素原子またはヒドロキシル、シアノ、トリフルオロメチル、Ｃ_１−６−アルキル、Ｃ_１−６−アルコキシもしくはＮＲ_８Ｒ_９基であり；ｍおよびｐは１の値を有し；ｎおよびｏは０または１である同じ値を有し；Ａは共有結合またはＣ_１−８−アルキレン基であり；Ｒ_１は場合により置換されるアリールまたはヘテロアリール基であり；Ｒ_３は水素もしくはフッ素原子またはＣ_１−６−アルキル基もしくはトリフルオロメチル基であり；Ｒ_４は場合により置換される５員複素環化合物であり；これらの化合物は塩基または酸付加塩の状態であり得る。本発明は治療において用いることができる。

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