【課題】高温高湿下で優れた電気絶縁性を有し、かつ長期間の信頼性に優れたアクリル系エラストマー及びこれを用いたアクリル系エラストマー組成物を提供する。
【解決手段】構造単位として、少なくとも下記一般式（I）、炭素数１−１０の炭化水素基を有するアクリル系エステルモノマー、及び特定の官能基を有するアクリル系モノマーの３種を含むアクリル系エラストマー。


（Ｘは、炭素数５〜２２の脂環式炭化水素を含む置換基を示す。Ｒ１は水素又はメチル基を示す。） （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位と酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位の両方を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像とアルカリ水溶液による現像の２回の現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、有機溶剤とアルカリ水による２回の現像によって１本のラインを２本に分割し、マスクパターンの２倍の解像力を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】塗料、粘着剤、接着剤、レジスト材料、アクリルシラップなどに使用されるアクリル樹脂組成物の、加熱や紫外線照射によるラジカル重合硬化性、傷や汚染に対する自己修復性、接着性、粘着性、現像性ハンドリング性、などの性能向上を提供する。
【解決手段】分子中に２個以上のアクリロイル基を有する多官能アクリル単量体（Ａ）０．００２〜１．５重量％と、分子中に１個のアクリロイル基を有するアクリル単量体（Ｂ）８８．５〜９９．９９８重量％、分子中に（メタ）アクリロイル基以外のラジカル重合性不飽和基を有するビニル単量体（Ｃ）０．０〜１０．０重量％からなるアクリル樹脂を含むアクリル樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】露光量が変動しても得られるパターンの幅が変動しにくいパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含み、（Ｂ１）の含有量が、（Ｂ１）と（Ｂ２）との合計量に対して、５質量％以上８０質量％以下の量である感光性樹脂組成物。
（Ａ）：脂環式炭化水素構造を有する構造単位を含む樹脂
（Ｂ１）：炭素−炭素不飽和結合と脂環式炭化水素構造とを有する重合性化合物
（Ｂ２）：（Ｂ１）とは異なる重合性化合物
（Ｃ）：光重合開始剤
（Ｄ）：溶剤 （もっと読む）

【課題】再溶解性、微細パターンの実現能力に優れ、基板との密着力および分散安定性が改善されたアルカリ可溶性バインダー樹脂の提供。
【解決手段】不飽和二重結合を含んだモノマー、カルボン酸を含んだ不飽和二重結合性モノマー、およびアリル基を含む不飽和二重結合性モノマーを繰り返し単位として含み、分子量分布(Ｍｗ/Ｍｎ)が２.０〜３.５であることを特徴とするアルカリ可溶性バインダー樹脂およびこれを含むネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 重合収率が向上し、金属不純物の含有量が低減されたかご型構造を有する重合体の製造方法を提供するものである。さらには、金属不純物の含有量が低減された膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を含む有機膜及び前記有機膜を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】 分子内に、アダマンタン型のかご型構造を含む部分構造Ａと、重合反応に寄与する重合性反応基Ｂとを有する化合物を重合して、かご型構造を有する重合体を製造する方法であって、前記かご型構造を含む部分構造Ａと重合性反応基Ｂを有する化合物と、界面活性剤とを水相中で超音波処理により混合する工程を含むことを特徴とする重合体の製造方法により達成される。 （もっと読む）

【課題】粒体を用いた造形時において粒体の飛散を抑制することが可能な造形用スラリー
を提供するとともに、この造形用スラリーを用いた造形方法を提供する。
【解決手段】
造形物用スラリーは、造形物を構成する疎水性粒体と、造形物を構成するとともに疎水性
粒体と同系であるモノマー及びオリゴマーの少なくとも一方からなる疎水性液状体とを混
合してなる。同系とは、疎水性粒体を構成する繰り返し単位構造の主骨格と、疎水性液状
体の単位構造の主骨格とが同一であること、該単位構造における側鎖官能基や該単位構造
における主骨格の一部が異なるものの、疎水性液状体と疎水性粒体との相互作用が疎水性
粒体間の相互作用と略同じになる程度に、該単位構造の主骨格同士が一部重複することを
意味している。それゆえに、疎水性粒体及び疎水性液状体がそれぞれ共重合体である場合
には、これらに含まれる原子の組成比が一致していないものも同系であるとする。 （もっと読む）

【課題】硬化した硬化物が比較的高い屈折率と十分な帯電防止能とを併せもつことができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】分子中にフルオレン骨格及び複数の重合性不飽和二重結合を有する重合性フルオレン化合物と、周期律表１５族元素のうちの少なくとも１種、好ましくはリン、が金属酸化物にドープされてなる粒子状のドープ金属酸化物とを含む、さらに好ましくは、ドープされていない粒子状の周期律表４族金属原素の金属酸化物を含む、硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】発泡性、熱融着性及び耐熱性に優れた建材を提供することを課題とする。
【解決手段】断熱材としての建材が、炭素数１０〜２０の多環式テルペノールとメタクリル酸とのエステルに由来する成分及びスチレン系単量体に由来する成分を含む樹脂と、揮発性発泡剤とを含み、（１）前記樹脂が、前記エステルに由来する成分を、前記エステルに由来する成分とスチレン系単量体に由来する成分との合計１００重量部に対して、１重量部より多く３０重量部未満含み、（２）０．３５〜６．００の範囲の吸光度比Ｘ（Ｄ１７３０／Ｄ１６００）の表層を有し（Ｄ１７３０及びＤ１６００は、赤外分光分析による赤外吸収スペクトル中、１７３０ｃｍ^-1での吸光度及び１６００ｃｍ^-1での吸光度を意味する）、（３）前記吸光度比Ｘより小さい吸光度比Ｙ（Ｄ１７３０／Ｄ１６００）の中心部を有する発泡性ポリスチレン系樹脂粒子の発泡成形体からなることを特徴とする建材により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】良好な圧縮特性を有するとともに、その表面に良好な状態でめっき層を形成することが可能なポリマー粒子を提供すること。
【解決手段】官能基を有する架橋ポリマーから形成された母粒子を、２個以上のアミノ基を有するアミノ化合物と接触させて、前記官能基とアミノ基との反応により架橋ポリマーを更に架橋する工程（ａ）を備える製造方法により得ることのできる架橋ポリマー粒子。上記アミノ化合物は、分子量５００未満の低分子量アミノ化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記化学式（３０）又は（３１）の少なくともいずれか一方で表される構成単位中のフェノール性水酸基の水素原子が、下記一般式（１）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表す。）で示される酸解離性溶解抑止基（ii）で置換されていることを特徴とする高分子化合物。
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【解決手段】一般式（１）で示されるアセタール化合物。


【効果】アセタール化合物から得られる繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜１０は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い特徴を有する。このフォトレジスト膜を用いて格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よくかつ高感度で形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】中途半端にしか清掃せずおよび／または湿った掘削孔内における表面の接着力を向上させる樹脂成分（Ａ）および硬化剤成分（Ｂ）で構成する化学的２成分モルタル物質を得る。
【解決手段】硬化可能な構成要素として、少なくとも１種類のラジカルに硬化可能な不飽和エチレン化合物（ａ）を含有する樹脂成分（Ａ）と、この不飽和エチレン化合物（ａ）から反応を阻止するよう分離させた状態で配置した硬化剤成分（Ｂ）とを有し、この硬化剤成分（Ｂ）は、樹脂成分（Ａ）における樹脂用の硬化剤を含有しており、無機質素地、例えばコンクリートにドリル掘削し、中途半端にしか清掃していないおよび／または湿った孔内における表面の接着力を向上させる、化学的２成分モルタル剤において、樹脂成分（Ａ）の他の構成要素（ｂ）として、（メタ）アクリロキシアルキルシロキサンおよびポリ（メタ）アクリロキシアルキルシルセスキオキサンのうち少なくとも一方を少なくとも１種類、０．２〜１０質量％含有する。 （もっと読む）

【課題】通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定のスルホンアミド構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）高分子化合物又は高分子化合物の混合物による膜がアルカリ性現像液に不溶性であり、酸の作用により可溶性に変化する高分子化合物又は高分子化合物の混合物、
（Ｂ）酸発生剤、
（Ｃ）酸の作用を抑制するための塩基性化合物、
（Ｄ）溶剤
を含有し、
上記（Ｃ）成分は、塩基性活性点として２級又は３級アミン構造を持つ側鎖を有する繰り返し単位を持つ高分子化合物であると共に、上記（Ａ）成分である高分子化合物の一部又は全部である電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
【効果】本発明によれば、超微細パターンを要求されるレジストパターンの形成において、上記化学増幅ポジ型レジスト組成物を用いることで、塩基の存在を均一にでき、ラインエッジラフネスの改善、更には温度依存性の抑制ができ、高解像度が期待できる化学増幅ポジ型レジスト組成物を提供できる。 （もっと読む）

【課題】 自動車内装品等において、その使用環境において、人に触れられた際汗液中の乳酸の作用により、液痕が残ったり、クラックが発生したりすることがなく、且つ、手に付着した油脂類による液痕ことがないコーティング材料。
【解決手段】 （メタ）アクリル酸イソボルニルを２０重量％以上含有するエチレン性不飽和単量体を重合して得られるガラス転移温度１１０℃以上の重合体を含有することを特徴とする耐汗性プラスチック基材コーティング剤、該耐汗性プラスチック基材コーティング剤を塗布したプラスチック基材。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂感光性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】隔壁と基板との密着性及び隔壁の耐水性を向上させたバイオチップにおける隔壁の製造方法、感放射線性組成物、バイオチップ用隔壁、バイオチップの製造方法及びバイオチップを提供する。
【解決手段】基板１０とその表面を区画する隔壁２０とを備えるバイオチップ１００における隔壁製造方法で、着色剤（Ａ）、重合性不飽和結合を３つ以上且つ６つ以下有する多官能性単量体（ｃ）、感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含む組成物を用いて基板上に第１膜を形成する工程と、第１膜をパターニングして隔壁２０を形成する工程を備える。その為の感放射線性組成物並びにバイオチップ用隔壁。前記隔壁製造方法を用いて隔壁２０を形成する工程と、領域３０にターゲット物質を固定するための固定用物質を配置する工程と、固定用物質にターゲット物質を固定する工程を備える。これにより得られたバイオチップ。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記一般式（２）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表し、Ｒ₂は水素原子、フッ素原子又は炭素数２０以下の低級アルキル基又は炭素数２０以下のフッ素化低級アルキル基を表す。）で示される化合物から誘導される構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環または多環式基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）と、を含有することを特徴とする高分子化合物。
［化１］
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