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Fターム[4J100HC13]の内容

Fターム[4J100HC13]に分類される特許

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【課題】
簡便で効率のよいポリマースルホン酸エステルの製造方法を提供すること。
【解決手段】
ポリマースルホン酸と、下記式で示されるオルトカルボン酸トリエステルと、を反応させるポリマースルホン酸エステルの製造方法。
【化1】
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【課題】 熱安定性が高く、不純物が少なく、リガンドと担体との結合が化学的に安定で、アフィニティ性の高いポリマー、及び該ポリマーを含むリガンド固定化用担体を提供すること。
【解決手段】 少なくともスチレン系モノマーとt−ブチルメタクリレートとを含んで重合されてなるポリマーであって、前記スチレン系モノマーが30mol%以上90mol%以下であり、該ポリマーの少なくとも一部が、下記一般式(1)で表されるマレイミジル基を含む官能基で置換されてなることを特徴とするポリマー。
【化1】


式中、Xは−O−又は−NH−を表し、Qはスペーサー基を表す。 (もっと読む)


【課題】 末端に水酸基を導入した飽和炭化水素系重合体は高耐候性ウレタン原料として有用である。これまでは、重合終了後にオレフィン末端へと変換し、さらにハイドロボレーション反応を行うといった多段階の反応が必要であった。
【解決手段】カチオン重合によって得られるハロゲン末端炭化水素系重合体に、水酸基を保護した置換基および不飽和結合を含む化合物を反応させることによって、保護した水酸基を末端に有する飽和炭化水素系重合体を容易に得ることができる。この化合物は加水分解によって容易に水酸基末端の重合体に変換が可能である。 (もっと読む)


【課題】 高エネルギー線、X線、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
【解決手段】(A)特定のスチレン骨格を有する繰り返し単位を2種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)有機塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】 フィルムに形成した際に耐湿性及び透明性に優れ、好ましい波長分散性を示すポリビニルアセタールの簡易に製造する。
【解決手段】下記式(I)(式中、R、R及びRは水素原子、C1〜4のアルキル基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、水酸基又はチオール基を示し、Rは水素原子又はC1〜12のアルキル基を示す。lは10〜30モル%、mは60〜75モル%、nは15モル%以下)で表される複屈折性を示すポリビニルアセタールの製法。
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【課題】 優れた流動保持性を達成でき、かつ硬化遅延性の小さいセメント混和剤の製造方法を提供する。
【解決手段】 下記の一般式(1)で表される構成単位(I)を必須の構成単位として含有する重合体(A)と、炭素原子数1〜30の炭化水素基を末端に有するオキシアルキレン基の平均付加モル数が1〜300のポリアルキレングリコール/アミドを反応させることを特徴とするセメント混和剤の製造方法。
【化1】


(但し、式中pは0〜2の整数を表わし、Xは水素、一価金属、二価金属、アンモニウム基、有機アミン基又は炭素原子数1〜30のアルキル基を表わす。) (もっと読む)


【課題】 高エネルギー線、X線、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも2種の特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂であって、該樹脂中の残存するモノマーの割合が10質量%以下である樹脂、及び活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、さらにそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)



エキシマレーザー等の真空紫外線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを容易に形成できるレジスト組成物を提供する。 シクロアルキル基、シクロアルキル基を1個以上有する有機基またはビシクロアルキル基等を有するブロック化基によりブロック化されている酸性基を有する含フッ素ポリマー(A)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)および有機溶媒(C)を含むことを特徴とするレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】 低誘電率、低吸水性、高耐熱性、耐熱分解性、耐薬品性、および無色透明性な光学特性を兼ね備えたフッ素含有脂環式構造重合体およびその製造方法、並びに該重合体を含有してなる組成物および成形体を提供することを目的とする。
【解決手段】 フッ化アルキル基を含有する化合物で変性された、フッ素含有脂環式構造重合体、好ましくは厚みが1mmである板状成形体における黄色度YI値が10以下であるフッ素含有脂環式構造重合体および製造方法並びに該重合を含有してなる組成物および成形体の提供。 (もっと読む)


【課題】 高い熱安定性を有し、高い加工安定性および流れ抵抗を有するレジスト組成物のバインダーとして適しているフェノール樹脂の提供。
【解決手段】 このフェノール樹脂は、ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のヒドロキシル基の10〜90%が、式I


の保護基によって置換されており、重量平均分子量対数平均分子量の比率、Mw/Mnが1.03〜1.80の範囲のものである化学増幅型ポジレジスト用フェノール樹脂。 (もっと読む)


【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、LER、DOF、およびELマージンの少なくとも1つを改善できるようにする。
【解決手段】フェノール性水酸基を有する構成単位(a1)と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位(a2)と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a3)とを有する共重合体。 (もっと読む)


【課題】 解像度が高く、かつLERが小さいレジストパターンを形成できるようにする。
【解決手段】下記一般式(I)で表される構成単位(a4)を有することを特徴とする化学増幅型フォトレジスト用重合体。
【化1】


(式中、R1は水素原子又はメチル基であり、R2は炭素数1〜20個の直鎖状、分岐状又は環状の炭化水素基であり、R3、R4、R5、R6は各々独立して水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、R7は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、アルキレンエーテル基、シクロへキシレン基またはアリーレン基を表す。) (もっと読む)


【課題】 ムーニー粘度を低下させ、かつ粘弾性特性を改善する、シリカ配合系ゴム組成物用粘弾性改良剤を提供する。
【解決手段】 ポリエーテルおよびアルコキシシランを側鎖に有するポリマー、あるいはポリエーテル、アルコキシシランおよび二重結合を側鎖に有するポリマーよりなるゴム用粘弾性改良剤。 (もっと読む)



本発明は、アミド基及びエステル基を有するポリマー(P)の調製方法であって、第一工程において、(メタ)アクリル酸のホモポリマーまたはコポリマー(P1)とモノヒドロキシル化合物(E)とを上限200℃の温度で反応させて、エステル基に加えて無水物基を形成させ、第二工程において、第一工程で形成した無水物基とモノアミン化合物(A)とを100℃よりも著しく低い温度で反応させて、アミドを得ることを特徴とする方法に関する。本発明はさらに、上記方法により調製されるポリマー、その水硬性組成物中における使用、並びに水の添加による硬化前もしくは後の前記水硬性組成物にも関する。 (もっと読む)



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