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Fターム[4K024AB03]の内容

電気メッキ方法、物品 (25,708) | メッキ層の構造、組織 (2,947) | 3層メッキ (317)

Fターム[4K024AB03]に分類される特許

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【課題】 樹脂フィルムとの接着力、耐熱性、耐酸性などを改善したプリント回路用銅箔の表面処理方法及びその銅箔を提供する。
【解決手段】 本発明によるプリント回路用銅箔は、表面粗さ(Rz)が2.0μm以下であって屈曲回数が60回以上である銅箔の表面に銅ノジュール層を形成する段階と、前記銅ノジュール層上にコバルト(Co)またはコバルト(Co)合金をメッキしてバリア層を形成する段階と、を含む方法で表面処理され、ポリイミド(PI)フィルムとの接着強度が1.0kgf/cm以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】線膨張係数を任意に変化させることを可能としたキャリア付き極薄銅/合金複合箔または極薄合金箔を使用することで、金属張板、プリント配線板または積層板において生じる反りや、銅箔を実装するパッケージとの接続箇所における半田クラック等の問題を抑制すること。
【解決手段】回路基板と積層するキャリア付きFe−Ni合金箔、またはキャリア付き銅箔とFe−Ni合金箔の複合箔であって、前記Fe−Ni合金箔の線膨張係数をFe成分とNi成分との配合比を変えることで前記回路基板の線膨張係数にあわせる。 (もっと読む)


【課題】硬質樹脂からなる第1の成形体と軟質樹脂からなる第2の成形体とを備えるメッキ用二色成形体において、軟質樹脂からなる成形体におけるメッキ処理による変色が十分に抑制され、十分なメッキ処理耐性を有するメッキ用二色成形体を得ることが可能なメッキ付二色成形用熱可塑性ポリウレタン樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】有機ジイソシアネート(A)と、1,2−ビニル体を含有し且つ平均官能基数が2.0以下であるポリブタジエンポリオール(b1)を主成分とする高分子ポリオール(B)と、炭素数2〜10の脂肪族ジオール(c1)を主成分とする鎖延長剤(C)とを含有することを特徴とするメッキ付二色成形用熱可塑性ポリウレタン樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】LCDドライバ等の半導体製品では高さ約15〜20μmの電極形成のための金BUMPメッキ工程がある。LCDドライバの金BUMP表面形状は実装時のコンタクト性向上のため平坦性が要求されている。一方、実装時の位置決めを画像認識で行なっている関係上、BUMP表面外観は光の反射が少ない無光沢性が要求されている。BUMP表面を無光沢にするには、光をあらゆる方向へ拡散させるために、ミクロ的に、ある程度の表面の粗さを保つことが重要であるが、マクロ的にはBUMPの断面形状は平坦にしなければならないという一見、矛盾する問題がある。
【解決手段】本願発明は2段メッキの2段目(初期低電流密度メッキ後の高電流密度メッキ・ステップ)の終了部を低電流密度にするものである。 (もっと読む)


【課題】接続端子部の電導基材表面上に、耐熱性および半田濡れ性に優れためっき被膜が形成された、電子部品を提供すること。
【解決手段】本発明による電子部品は、接続端子部の電導基材表面上に、ゲルマニウムを含むニッケルめっき被膜が形成されてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低挿入力性と接続信頼性を両立したコネクタ用金属材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】銅または銅合金により形成された条材または角線材を母材1とし、母材1の表面にスズ層またはスズ合金層2が形成されているコネクタ用金属材料において、前記スズ層またはスズ合金層2の厚さが前記金属材料の幅方向にストライプ状に変化しており、少なくともスズ層またはスズ合金層2の厚さが薄い領域の下層に銅スズ合金層3が形成されているコネクタ用金属材料。銅または銅合金の条材または角線材を母材1とし、母材1上にスズめっき層またはスズ合金めっき層2を形成して中間材料を得たのち、前記中間材料の長手方向にストライプ状のリフロー処理を行い、銅スズ合金層3を形成して前記スズめっき層またはスズ合金めっき層2の厚さを薄くするコネクタ用金属材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】低挿入力性と接続信頼性を両立したコネクタ用金属材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】銅または銅合金により形成された条材または角線材を母材とするコネクタ用金属材料において、前記金属材料の表面の一部には、前記金属材料の長手方向にストライプ状に銅スズ合金層が形成され、前記金属材料の表面の残部にはスズ層またはスズ合金層が形成されているコネクタ用金属材料。また、銅または銅合金の条材または角線材を母材とし、この母材上にスズめっき層またはスズ合金めっき層を形成して中間材料を得たのち、前記中間材料の長手方向にストライプ状のリフロー処理を行い、銅スズ合金を表面の一部に露出させるコネクタ用金属材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】電気接点部品であるスイッチの操作性を改善し、高温熱処理後における貴金属被覆層の密着性および接触抵抗値が向上する電気接点部品用金属材料を提供する。
【解決手段】導電性基材と貴金属層との間に、少なくとも2層の中間金属層が設けられ、導電性基材は1.5〜4.2質量%のNiと0.3〜1.4質量%のSiを含み、導電性基材の圧延方向に対して、0°、45°、90°の3つの引張強さの関係について、最大値が600MPa以上かつ最大値と最小値との比が85%以上100%以下であり、中間金属層は、前記導電性基材に近い順に、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金で形成される第1中間金属層と、銅または銅合金で形成される第2中間金属層を含み、300℃15分間の大気中における加熱後に導電性基材と貴金属層との密着状態が維持され、400℃15分間の大気中における加熱後の接触抵抗値が10mΩ以下である。 (もっと読む)


【課題】耐食性、意匠性、低電気抵抗等のNiめっき鋼材の特徴を損なうことなく、めっきピンホールに起因した鉄錆の発生を効果的に抑制した高耐食性めっき鋼材および製造方法の提供する。
【解決手段】Mnめっき、Niめっき、熱拡散処理の組み合わせにより、鋼母材上にFe−Mn拡散層またはFe−Mn−Ni拡散層を有し、表層にNi層を有する高耐食性めっき鋼材、あるいは、鋼母材上にFe−Mn拡散層またはFe−Mn−Ni拡散層を有し、表層にMn−Ni拡散層またはFe−Mn−Ni拡散層を有する高耐食性めっき鋼材などを製造する方法及びめっき鋼材。 (もっと読む)


【課題】ニッケル成分の金めっき層表面への拡散を防止することが可能な金/ニッケルめっき層構造として、簡便な工程で形成することが可能なめっき層構造を提供する。
【解決手段】めっき層構造100は、電子部品200の外部電極300の表面を被覆するために形成されるめっき層構造であって、外部電極300の側に形成されたニッケルめっき層110と、ニッケルめっき層110よりも外側に形成された金めっき層とを備え、金めっき層が、不連続な界面を介して接するように形成された複数の金めっき層部121、122からなる。 (もっと読む)


【課題】めっき物を優れた生産性と十分な耐食性とをもって低コストに製造可能なめっき物の製造方法を提供する。
【解決手段】めっき槽22の内部に、隔膜24にて陽極室26とめっき室28とを画成して、陽極室26内に、クエン酸三ナトリウム溶液からなる陽極液36と不溶性陽極30とを収容する一方、めっき室28内に、クエン酸三ナトリウムが添加されたスルファミン酸ニッケル溶液からなるめっき浴38と被めっき物たる金属素材からなる陰極32とを収容する。そして、それら不溶性陽極30と陰極32との間に電流を流して、電気めっきを行うことにより、該陰極32の表面に、ニッケルめっき層を形成するようにした。 (もっと読む)


【課題】 コネクタ、端子、リレ−、スイッチ等の導電性ばね材として好適な、耐磨耗性に優れたすずめっき条。
【解決手段】 銅合金条の表面に、下地めっき、Snめっきの順で電気めっきを施し、その後リフロー処理を施しためっき条であり、Cu−Sn合金層の平均窒素濃度が0.01〜0.1質量%、Cu−Sn合金層の厚みが0.4〜2.0μm、純Sn厚みが0.5μm以上であり、かつ母材のビッカース硬さ、リフロー後に得られるCu−Sn合金層の厚み(μm)、及びCu−Sn合金層の平均窒素濃度(質量%)が下記の関係にある耐磨耗性に優れる銅合金すずめっき条であり、下地がCuの場合、Sn層厚み0.5〜1.5μmかつCu層厚み0〜0.8μmであり、Niの場合、Sn層厚み0.5〜1.5μmかつNi層厚み0.1〜0.8μmであることが好ましい。
(Cu−Sn合金層厚み)>2.63−0.0080×(母材のビッカース硬さ)−9×(平均窒素濃度) (もっと読む)


【課題】 酸化処理やウェットエッチングを施される際の、酸の染込み等に起因した絶縁性基板に対する接着強度の低下の問題を解消して、それら酸化処理工程やウェットエッチング工程を経ても常に所定の接着強度を保つことを可能としたプリント配線板用銅箔を提供する。
【解決手段】 このプリント配線板用銅箔は、絶縁性基板11の表面に張り合わされて用いられるように設定されたプリント配線板用銅箔であって、銅箔基材1の表面上に、少なくとも、ニッケルとコバルトとの合金からなるニッケル−コバルト合金めっき層5aと、亜鉛とインジウムとの合金からなる亜鉛−インジウム合金めっき層6aとを、この順で積層してなることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】フレキシブルプリント配線板等における回路配線の微細化に対応可能な、優れたエッチング性と回路配線の優れた画像認識性とを併せ持った印刷回路用銅箔を低い製造コストで提供する。
【解決手段】本発明の印刷回路用銅箔は、銅箔上に、銅およびニッケルを含有する合金めっき層を有する印刷回路用銅箔であって、前記合金めっき層が前記銅箔表面に直接形成され、前記合金めっき層の銅含有率が8mass%以上40 mass%以下であり、かつ前記合金めっき層の付着金属量が30μg/cm2以上160μg/cm2以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】外部応力が加わった場合でもウイスカが発生しにくいめっき層を安定して形成することが可能であり、半田付け性に優れる、Pbを含まないSnめっき銅基板を提供する。
【解決手段】本発明のSnめっき銅基板1は、純銅板、銅合金板、又は銅めっきされた金属板のいずれかの金属基板2上に、中間Snめっき層3ILとCuめっき層4とを、この順に積層してなるめっき膜層5を1.5μm以上の層厚で少なくとも1膜層以上備えるとともに、このめっき膜層5上に、0.2〜1.5μmの層厚の最外Snめっき層3OLをめっき膜層5との総厚が3μm以上で備え、少なくとも中間Snめっき層3IL及び最外Snめっき層3OLの粒界3g及び粒内3cのいずれかに、Cuめっき層4及び金属基板2の少なくとも一方に由来するCuを拡散させてなるSn−Cu合金相6を有する。 (もっと読む)


【課題】Ni層、Cu−Sn合金層及びSn層を有する3層構造のSnめっき材において挿入力の低減及び耐熱性の改善を図る。
【解決手段】銅又は銅合金の表面に、厚さ0.2〜1.5μmのNi又はNi合金からなる下地めっき層と、厚さ0.1〜1.5μmのCu−Sn合金からなる中間めっき層と、厚さ0.1〜1.5μmのSn又はSn合金からなる表面めっき層がこの順に形成されており、前記中間めっき層を形成するCu−Sn合金の平均結晶粒径が、該めっき層の断面を観察したときに、0.05μm以上、0.5μm未満であるSnめっき材。 (もっと読む)


【課題】プレス加工時等の加工性を良好に保ちつつ、接点の繰り返し開閉動作においても銀被覆層が剥離せず、かつ長期間の使用においても接触抵抗の上昇が抑えられて長寿命の可動接点が得られ、さらに製品の歩留まりの飛躍的な向上を図ることができる、可動接点用銀被覆複合材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】可動接点用銀被覆複合材料100は、鉄またはニッケルを主成分とする合金からなる基材110と基材110の表面の少なくとも一部に形成されたニッケル、コバルト、ニッケル合金およびコバルト合金の何れか1つからなる下地層120と、下地層120の上に形成された銅または銅合金からなる中間層130と、中間層130の上に形成された銀または銀合金からなる最表層140とを備え、下地層120と中間層130との密着性を高めるために、両者の界面に凹凸150が形成されている。 (もっと読む)


【課題】コネクタや端子等の電子部品の導電性ばね材として好適な、Cu/Ni二層下地めっきリフローSnめっき材について、耐熱性を向上させるためNi相中の酸素濃度を適度に制御することにより高温環境下における接触抵抗の経時劣化を改善する技術を提供する。
【解決手段】コネクタや端子等の各種電子部品の要求特性に従って適宜選択された銅又は銅合金の表面に、Ni、Cu、Snをこの順に電気めっきした後、リフロー処理を行い、Ni相、Cu−Sn合金相及びSn相からなる各めっき相をこの順に形成させたSnめっき材であって、Niめっき相中の酸素濃度が0.3〜1.5質量%であるSnめっき材。 (もっと読む)


【課題】プレス加工時等の加工性を良好に保ちつつ、接点の繰り返し開閉動作においても銀被覆層が剥離せず、かつ長期間の使用においても接触抵抗の上昇が抑えられて長寿命の可動接点が得られ、さらに製品の歩留まりの飛躍的な向上を図ることができる、可動接点用銀被覆複合材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】可動接点用銀被覆複合材料100は、鉄またはニッケルを主成分とする合金からなる基材110と、基材110の表面に形成されたニッケル、コバルト、ニッケル合金およびコバルト合金の何れか1つからなる下地領域120と、下地領域120の上に形成された銅または銅合金からなる中間層130と、中間層130の上に形成された銀または銀合金からなる最表層140とを備え、中間層130が基材110の表面と直接接するように、下地領域120の一部に下地欠落部121が形成されている。 (もっと読む)


【課題】銅又は銅合金母材の表面にCu−Sn合金層とSn層がこの順に形成された表面被覆層付板材から製造されたメス端子とオス端子からなる嵌合型コネクタにおいて、摩擦係数を低減しかつ耐微摺動摩耗性を改善する。
【解決手段】メス端子とオス端子のいずれか一方又は双方について、表面がリフロー処理されていて、Cu−Sn合金層6の平均の厚さが0.1〜3.0μm、かつCu含有量が20〜70at%、Sn層7の平均の厚さが0.2〜5.0μm、前記Cu−Sn合金層の一部が材料表面に露出しその露出面積率が3〜75%の表面被覆層付板材を用いる。同時に、少なくともオス端子の接触部の表面にフッ素系樹脂微粒子とフッ素系油が混合した塗膜を付着させる。 (もっと読む)


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