【課題】 スプラッシュによる故障を防止し、スポット状欠陥の少ない高品質な機能性薄膜形成と、膜厚が安定した機能性薄膜形成が可能な真空蒸着方法の提供。
【解決手段】 蒸発源容器から原料を蒸発させ、基板上に蒸着膜を形成する真空蒸着方法において、原料を該蒸発源容器に入れる前に、前記蒸発源容器を洗浄手段を用いて洗浄液で洗浄し、乾燥した後に前記蒸発源容器に該原料を入れ、前記蒸発源容器を加熱し原料を蒸発させ、基板上に蒸着膜を形成することを特徴とする真空蒸着方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、その上にウエハが載置されるウエハステージと、このウエハステージを取り囲むウエハステージ外側リングとを有するウエハホルダであって、ウエハ裏面の汚染を防止しつつエッジエクスクルージョン（ＥＥ）を減らすためにプラズマ処理チャンバ内で使用されるウエハホルダを提供することである。
【解決手段】 ウエハステージと、このウエハステージを取り囲むウエハステージ外側リングとを有するウエハホルダであって、前記ウエハステージは、その上に載置されるウエハの直径よりも小さい直径を有し、前記ウエハステージ外側リングは、前記ウエハステージ上に載置されるウエハの直径よりも大きい内径をその上側に有し、外側リングの上面は、前記ウエハステージ上に載置されるウエハの上面よりも上側に位置するウエハホルダ。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、熱拡散法によって形成した傾斜機能材層よりも高温揮発減耗を抑制し、電極チップの高温強度を向上させることで火花減耗に対する耐久性を向上させること及び更なる細径化を図り貴金属使用量を抑えて安価であることを実現するスパークプラグ用電極チップを提供することである。
【解決手段】
本発明に係るスパークプラグ用電極チップは、イリジウム又はイリジウム合金からなる芯材の表面に、イリジウムとロジウムを主成分とする合金からなる保護被膜を被覆する際に、保護被膜を気相法によって形成し、保護被膜の組成を、芯材の表面上においてはイリジウムのみ又はイリジウムを主成分とし、膜成長方向に沿ってロジウム含有量が連続的及び／又は段階的に増加すると共にイリジウム含有量が連続的及び／又は段階的に減少し、且つ、最表面においてはロジウムを７５〜１００質量％含有する組成とする。 （もっと読む）

金属基体２と、その上にある、少なくとも１つの機能層および／または少なくとも１つの装飾層８より形成される被覆とを有する金属製品は、前記少なくとも１つの機能層および／または少なくとも１つの装飾層８の上に、厚さ１０ｎｍ〜１０μｍのクリアラッカー層９を備える。
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金属板をクロック圧延して所望厚さの圧延板とする工程を含む金属の処理方法。スパッタリングターゲットおよびその他の金属部材も開示。
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【課題】この発明は、均一な金属被膜の成膜を実現したうえで、簡便にして容易なレンズ着脱操作を実現し得るようにすることにある。
【解決手段】保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入した支柱部材２２を離脱させた状態で、第１及び第２のレンズ支持部材１４，１５間へのレンズ１６の着脱を実行し、装着したレンズ１６に成膜を施す際には、上記支柱部材２２を保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入して、支柱１３及び支柱部材２２をレンズ１６の周囲に等間隔に配した状態で、レンズ１６の成膜処理を行うように構成した。 （もっと読む）

シート状基材を処理するための方法および設備を提供する。前記方法および設備は、シート状基材の両主表面上へのコーティングの蒸着に有用である。また、両主表面上にコーティングを有する基材を提供する。好ましくは、基材の対向する主表面上のコーティングは、構造が異なるが、少なくとも２つの膜領域、いくつかの実施形態においては、少なくとも３つの膜領域の構造配列が共通している。
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【課題】コンプレッサの潤滑条件が厳しい位置に使用された場合でも、寿命の長い転がり軸受を提供する。
【解決手段】第１のレース１０１および第２のレース１０２の軌道輪１０１ａ，１０２ａと、円筒ころ１０３の周面（転動面）に、下地層および中間層を介したＤＬＣ層か、拡散浸透処理によるバナジウムカーバイト（ＶＣ）、チタンカーバイト（ＴｉＣ）、ジルコニウムカーバイト（ＺｒＣ）、ニオブカーバイト（ＮｂＣ）、またはタンタルカーバイト（ＴａＣ）からなる金属炭化物層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 化学的方法や熱プラズマによる溶融精錬といった高価な方法を利用することなく、使用済みの高融点金属系ターゲット材から、高融点金属系粉末を容易にかつ安価に安定して製造する方法を提供する。
【解決手段】 使用済みの高融点金属系ターゲット材を、削出し処理してダライ粉とし、該ダライ粉を粉砕処理して微粉末とした後、さらに真空または還元雰囲気で熱処理をする高融点金属系粉末の製造方法である。また、使用済みの高融点金属系ターゲット材を、削出し処理してダライ粉とし、該ダライ粉を真空または還元雰囲気で熱処理をした後、さらに粉砕処理して微粉末とする高融点金属系粉末の製造方法である。 （もっと読む）

耐酸化性物品の製造方法が開示される。該方法は、（ａ）支持体上へ白金族金属の層を沈着させることによって白金族金属沈着化支持体を形成させ、次いで（ｂ）白金族金属沈着化支持体層上へ、Ｈｆ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｚｒ及びこれらの混合物から選択される反応性元素を沈着させることによって該白金族金属沈着化支持体上へ表面改質領域を形成させる工程を含む。この場合、該表面改質領域は、白金族金属、Ｎｉ、Ａｌ及び反応性元素を、γ−Ｎｉ＋γ’−Ｎｉ_３Ａｌ相組成が形成されるような相対濃度で含有する。
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成膜チャンバ（１１）の前段にロードロックチャンバ（１２）が、ダンパ等を介して連結されている。ロードロックチャンバ（１２）には、Ｎ_２ガス及び気体又は霧状のＨ_２Ｏが供給される配管が連結されている。この配管は、ベーパライザ（１３）から繋がっている。ロードロックチャンバ（１２）内には、ウェハ（２０）が載置される搬送部（１５）が設けられ、ロードロックチャンバ（１２）の外部には、液体窒素を用いて搬送部（１５）を冷却する冷却器（１４）が配置されている。搬送部（１５）の温度は、例えば−４℃に保持される。
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【課題】１段階（アンモ）酸化プロセスの収率を増加させるためにさらに改善すること。
【解決手段】本発明は混合金属酸化物（ＭＭＯ１）触媒に関する。ＭＭＯ１触媒の性能は、蒸着によるその表面上へのＴｅのサブモノレイヤー堆積によって改善される。アクリル酸に対する選択性が約６％改善され、アクリル酸収率が絶対量で３％改善された。湿式含浸法で同様のＴｅをＭＭＯ１上に適用した場合は、触媒性能は改善されなかった。Ｔｅを蒸着したＭＭＯ１触媒を、高温において酸素で後処理すると、同じ高温において不活性ガスを使用して対応する試料を処理した場合と比較して、改善された触媒性能が得られた。 （もっと読む）

【課題】 対向ターゲット式のスパッタリング装置を用いて有機発光素子の電極膜や金属膜を形成するようにした有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の有機発光素子の製造方法は、基板上に第１の電極を形成し、該第１の電極上に有機膜を形成し、有機膜上に対向ターゲット式のスパッタリング装置で第２の電極を形成し、有機膜に対するプラズマの損傷なく、低温で有機発光素子の電極膜を形成することによって、有機発光素子の発光効率、電気的、光学的の特性を向上できるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】基板（３０）と、基板（３０）を覆う保護構造（３４）とを含む保護物品を提供すること。
【解決手段】保護構造（３４）が、基板（３０）を覆う拡散障壁層（３６）であって、少なくとも約７０重量パーセントのイリジウムを含む拡散障壁層（３６）と、拡散障壁層（３６）が基板（３０）と保護層（４０）との間にあるように拡散障壁層（３６）を覆う保護層（４０）とを備える。保護層（４０）は、少なくとも約７０重量パーセントの白金族元素である。セラミック遮熱コーティング（４４）が保護層（４０）を覆う場合もある。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理の際に生じるドロップレットや飛散粒子の被処理体への到達を抑えることができる表面処理装置及びそれによって表面処理される光学素子成形用型を提供すること。
【解決手段】 表面処理装置１は、真空チャンバ２と、陰極とされるターゲット３と、ターゲット３から離間して配され、ターゲット３との間に形成される空間にアーク放電を誘起するアーク電極（陽極部）５とを有し、アーク放電によって生じるターゲットイオンを含むプラズマ６をターゲット３の先端方向に放出する蒸着源７と、光学素子成形用型母材（被処理体）８を載置する支持台１０と、蒸着源７から放出されるプラズマ６の進行方向を支持台１０の中心軸線Ｃ方向に変える偏向部１１と、支持台１０表面をターゲット３に対して回転移動させる移動部１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 窓枠形状のフレームにテンションを付加した状態のメタルマスクを固定した構造のメタルマスクユニットにおいて、フレームの厚さを増大させて剛性を高めることなくメタルマスクユニットに生じる反りを抑制して平面度を高める。
【解決手段】 窓枠形状のフレーム１３の表面に、縦方向及び横方向にテンションを付加したメタルマスク１１を取り付けたメタルマスクユニット１０において、フレーム１３の４辺の裏面に、テンションを付加した状態の金属テープ１７、１８を取り付けて、フレーム１３の反りを抑制する構造とする。 （もっと読む）

【課題】 均一な粒径のＷターゲットが得られ、それによりスパッター時のパーティクルやシート抵抗値が低下し、製品生産性並びに歩留を顕著に向上し得るスパッターリングターゲット材を提供すること。
【解決手段】 スパッターリングターゲット材は、Ｗ圧延材を熱処理する事により得られる再結晶板であって、再結晶粒径の平均が１００μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】蒸着率が一定であり，再現性の良い蒸着ソースおよびそれを備えた蒸着装置を提供すること。
【解決手段】開口部を有する加熱容器１３，２３と，加熱容器１３，２３の開口部に結合される，加熱容器１３，２３の開口部の長手方向に沿って複数の孔１７，２７が形成されたカバー１５，２５と，を備え，加熱容器１３，２３の開口部の長手方向に沿って，カバー１５，２５に形成された互いに隣接した孔１７，２７間の距離が変わることを特徴とする蒸着ソースである。 （もっと読む）

【課題】プラスチック単層フィルムでなるベースフィルムに熱変形を生じさせることなく金属膜を成膜することができる生産性に優れた巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】金属膜の蒸着前において原料フィルム１２に電子ビームを照射する電子ビーム照射器２１を配置すると共に、キャンローラ１４には直流バイアス電源２２の正極を接続し、補助ローラ１８には直流バイアス電源２２の負極を接続する。これにより、金属膜の蒸着前は電子ビームの照射により帯電させた原料フィルム１２をキャンローラ１４に密着させ、金属膜の蒸着後は補助ローラ１８に電気的に接続される金属膜とキャンローラ１４との間に印加したバイアス電圧によって原料フィルム１２をキャンローラ１４へ密着させる。 （もっと読む）

【課題】基板上に薄膜を良好且つ均一な膜厚に形成することができるスパッタリング方法、スパッタリング装置、圧電素子の製造方法及び圧電素子を具備する液体噴射ヘッドを提供する。
【解決手段】 ターゲット４０２に対向して配置された基板１１０の表面に、ターゲット４０２をスパッタリングすることによって薄膜を形成する際、ターゲット４０２の表面と基板１１０の表面との間隔（ＴＳ）が１００ｍｍ以上となるようにする。 （もっと読む）