【課題】 光学素子成形用型の型母材にＦＣＶＡ法によってｔａＣ膜を成膜する工程において、開角の大きな凸形状の型の周辺の傾斜部の膜質が劣るのを防ぐ。
【解決手段】 光学素子成形用型の型母材１０に、ＦＣＶＡ法によりｔａＣ膜１４を成膜する工程で、型母材１０を保持する型母材保持部材１０の外側にリング状磁石３を配置する。成膜源を構成するフィルターコイル２２による磁力と同方向に、型母材１０の成形面の法線方向にリング状磁石３の磁力を作用させることで、成膜されるｔａＣ膜１３の膜質を均一化する。 （もっと読む）

【課題】高硬度から低硬度の材料まで広範囲の基材に対し、高硬度のＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜を最表面側に含むＤＬＣ多層膜を約３μｍ以上厚く形成しても、基材およびＤＬＣ膜の双方に対して優れた密着性を備えており、耐摩耗性にも優れたＤＬＣ成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】ＤＬＣ硬質多層膜成形体１０の製造方法は、基材１を用意する工程（ａ）と、前記基材の上に、中間層２ａをスパッタリング法によって形成する工程（ｂ）と、前記中間層の上に、第１のダイヤモンドライクカーボン系膜３ａをスパッタリング法によって形成する工程（ｃ）と、前記第１のダイヤモンドライクカーボン系膜の上に、前記第１のダイヤモンドライクカーボン系膜よりも表面硬度の高い第２のダイヤモンドライクカーボン系膜３ｂをカソード放電型アークイオンプレーティング法によって形成する工程（ｄ）と、を包含する。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、正極活物質、正極、又は蓄電装置を得られる作製方法を提供する。
【解決手段】出発材料として、３価のＦｅと、Ｌｉと、ＰＯ_４と、を少なくとも含む組成のターゲットを用いる。３価のＦｅと、Ｌｉと、ＰＯ_４と、を少なくとも含む組成のターゲットを用い、希ガス（例えばアルゴン）等のイオンでターゲットをスパッタリングすることにより、３価のＦｅを含むリン酸鉄リチウムの薄膜を得る。得られる薄膜を正極活物質として用いる。 （もっと読む）

【課題】低温度の環境下で被加工材の表面に、良好かつ高品位な炭素膜を形成することを目的とする。
【解決手段】所定の真空度に減圧可能とされる真空チャンバ１内に、被加工材４を保持し、基板電圧印加手段３により所定の電圧に印加される基板２と、上記基板２に対向配置される炭素原料基板５上で、真空チャンバ１内に導入される放電発生用の媒体ガスをパルス電源７より炭素原料基板５に出力される調整電力に基づきプラズマ化し、炭素原料基板５から上記基板２に保持される被加工材４に向けて炭素原料とともに放電するプラズマ発生源を備える。これにより被加工材４の表面に放電されるプラズマにより炭素膜を加工形成する。 （もっと読む）

【課題】酸化ガリウムの融点（１９００℃）よりも低温で酸化ガリウムの単結晶を成長させる方法を提供することを課題とする。
【解決手段】Ｇａ原子とＯ原子と昇華しやすい原子または分子を含む化合物膜（以下酸化ガリウム化合物膜と呼ぶ）を加熱し、酸化ガリウム化合物膜中から昇華しやすい原子または分子を昇華させることで、酸化ガリウムの結合エネルギーよりも低い熱エネルギーにより酸化ガリウムの単結晶を成長させる。昇華による酸化ガリウム化合物膜の消失を防ぐために、間隔を設けて別の酸化ガリウム化合物膜を配置する。 （もっと読む）

【課題】転がり軸受の保持器の摺接面に形成されたＤＬＣ膜の耐剥離性を向上させ、ＤＬＣ膜本来の特性を発揮することで、保持器摺接面の金属接触に起因する損傷などを防止できる転がり軸受を提供する。
【解決手段】転がり軸受１は、外周に内輪軌道面２ａを有する内輪２と、内周に外輪軌道面３ａを有する外輪３と、内輪軌道面２ａと外輪軌道面３ａとの間を転動する複数の転動体４と、転動体４を一定間隔で保持する保持器５とを備え、この保持器５の転動体４との摺接面に硬質膜８が成膜されてなり、この硬質膜８は、該表面に直接成膜されるＣｒを主体とする下地層と、該層の上に成膜されるＷＣとＤＬＣとを主体とする混合層と、該混合層の上に成膜されるＤＬＣを主体とする表面層とからなる構造の膜であり、混合層は、下地層側から表面層側へ向けて連続的または段階的に、ＷＣの含有率が小さくなり、ＤＬＣの含有率が高くなる層である。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法により透明導電性酸化物を成膜する際のノジュールの発生を抑制し、安定にスパッタリングを行うことのできるターゲット、このようなターゲットからなる透明導電性酸化物、およびこのようなターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも酸化インジウムおよび酸化亜鉛を含有してなるスパッタリングターゲットにおいて、Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）で表わされる原子比を０．７５〜０．９７の範囲内の値とするとともに、Ｉｎ₂Ｏ₃（ＺｎＯ）_ｍ（ただし、ｍは２〜２０の整数である。）で表される六方晶層状化合物を含有し、かつ、該六方晶層状化合物の結晶粒径を５μｍ以下の値とし、酸化インジウムを６７〜９３重量％の範囲、酸化錫を５〜２５重量％の範囲、および酸化亜鉛を２〜８重量％の範囲で含むとともに、錫／亜鉛の原子比を１以上の値とすることを特徴とするスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 アモルファス性が高く、かつ高い結晶化温度を有する磁気記録媒体等に用いられるＦｅ−Ｃｏ系合金軟磁性膜を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が（（Ｆｅ_Ｘ−Ｃｏ_{１００−Ｘ}）_{１００−Ｙ}Ｎｉ_Ｙ）_{１００−ａ−ｂ}−Ｍ_ａ−Ｂ_ｂ、１０≦Ｘ≦７０、０≦Ｙ≦２５、７≦ａ、１≦ｂ≦５、１３≦ａ＋ｂ≦２５で表され、前記組成式のＭ元素がＮｂおよび／またはＴａである磁気記録媒体用軟磁性膜であって、膜厚が１０〜５００ｎｍである磁気記録媒体用Ｆｅ−Ｃｏ系合金軟磁性膜である。 （もっと読む）

【課題】導電体領域から絶縁体領域までの範囲内で所望の電気抵抗値有し、且つ、電気的ストレスに対して安定性の良好なＩＧＺＯ系アモルファス酸化物薄膜を製造する
【解決手段】ＩＧＺＯ系アモルファス酸化物薄膜を基板上にスパッタ成膜し、その後アニール処理してＩＧＺＯ系アモルファス酸化物薄膜を製造する方法であって、成膜装置内の水分量とアニール処理の温度の組み合わせを変化させて、導電体領域から絶縁体領域の範囲内の任意の電気抵抗値を有するアモルファス酸化物薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】ｐ型の導電膜及びｐ型の透明導電膜としての酸化物膜の高性能化を図る。
【解決手段】
本発明の１つの酸化物膜は、ニオブ（Ｎｂ）、及びタンタル（Ｔａ）からなる群から選択される１種類の遷移元素と、銅（Ｃｕ）とを含む酸化物の膜（不可避不純物を含み得る）である。また、この酸化物膜は、図５の第１酸化物膜及び第２酸化物膜のＸＲＤ（Ｘ線回折）分析結果を示すチャートに示すように、ＸＲＤ分析では明確な回折ピークを示さない微結晶の集合体、微結晶を含むアモルファス状、又はアモルファス状であるとともに、ｐ型の導電性を有している。この酸化物膜によれば、従来と比してｐ型の高い導電性が得られる。また、この酸化物膜は、上述のとおり微結晶の集合体、微結晶を含むアモルファス状、又はアモルファス状であるため、大型基板上への膜の形成が容易になることから、工業生産にも適している。 （もっと読む）

【課題】融着トナー又はインクの支持体への移動が良好であるフューザ部材を提供することである。
【解決手段】フューザ部材は、基材と、前記基材に配置された機能層と、前記機能層上に配置された外側層であって、テクスチャーを有するシリコン、及び前記シリコン上に配置された疎油性コーティングを含む外側層とを備える。テクスチャー構造としては、ピラー構造、溝構造が例示できる。これらの構造は、極疎油性表面の形成に有効である。 （もっと読む）

【課題】より高性能なフッ素含有炭素材料（ＣＦ材料）を製造する方法および／またはより生産性の高いＣＦ材料製造方法を提供する。
【解決手段】以下の工程：（Ａ）所定の雰囲気ガス中において、基材６０に向けて加速されたガス粒子を衝突させつつ、ＦとＣを含む原料ガスを基材６０上に堆積させて堆積物を形成する工程；および、（Ｂ）所定の雰囲気ガス中において、ＦとＣを含む被処理材の表面に、該表面に向けて加速されたガス粒子を衝突させる処理を施す工程；の少なくとも一方を包含するＣＦ材料製造方法が提供される。上記所定の雰囲気ガスは、Ｈ_２Ｏを添加して調製された雰囲気ガスおよび／またはＨ_２Ｏを主成分とする雰囲気ガスである。 （もっと読む）

【課題】炭素共析型電気Ｃｒめっき膜をアンダーコートとしてその上に積層される高品質ＤＬＣ膜の密着性を向上させること、とくに膨れ現象を発生させることのないＤＬＣ膜被覆部材とそれの製造方法を提供する。
【解決手段】金属製基材と、その表面に被覆形成された、被熱処理炭素共析型電気クロムめっき膜と、その被熱処理炭素共析型電気クロムめっき膜表面に被覆形成されたＤＬＣ膜とからなるＤＬＣ膜被覆部材およびその部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ｐ型の導電膜及びｐ型の透明導電膜としての酸化物膜の高性能化を図る。
【解決手段】
本発明の１つの酸化物膜は、チタン（Ｔｉ）とアンチモン（Ｓｂ）とからなる酸化物の膜（不可避不純物を含み得る）である。また、この酸化物膜は、前述のチタン（Ｔｉ）に対する前述のアンチモン（Ｓｂ）の原子数比が、そのチタン（Ｔｉ）の原子数を１とした場合にそのアンチモン（Ｓｂ）の原子数が０．０８以上０．１８以下である。さらに、この酸化物膜は、微結晶の集合体、微結晶を含むアモルファス状、又はアモルファス状であるとともにｐ型の導電性を有する。 （もっと読む）

【課題】軸受内部に水が侵入するために生じる潤滑不良によって発生する微小焼付きを防止するため、内輪および外輪軌道面と転動体で潤滑性能に優れた自動調心ころ軸受を提供する。
【解決手段】自動調心ころ軸受を構成する内輪１、外輪２及び転動体３のうち少なくとも１つは、鋼製であり、内輪軌道面１ｃ、外輪軌道面２ｃおよび転動体３の表面のうち少なくとも１つに潤滑被膜Lが被覆され、前記潤滑被膜Lが表面側のダイヤモンドライクカーボン層と、前記ダイヤモンドライクカーボン層と前記鋼材表面との間に形成された中間層Mで構成され、前記潤滑被膜の等価弾性定数が１００ＧＰａ以上２８０ＧＰａ以下である。 （もっと読む）

【課題】なるべくスプラッシュを発生させず、蒸発源に安定して供給できるシリコン材料を提供する。
【解決手段】薄膜を製造する際の蒸発源にシリコンを供給するために用いられる、棒状のシリコン材料であって、長軸方向に垂直な断面における中心から外周部に向かって、長さ９０％の位置に存在する、それぞれ粒界で囲まれた複数の第一領域と、前記中心から前記外周部に向かって長さ５０％の位置に存在する、それぞれ粒界で囲まれた複数の第二領域と、を含み、前記第一領域は長径の面積加重平均値が２００μｍ以下であり、かつ前記第二領域は、長径の面積加重平均値が１０００μｍ以上である、棒状のシリコン材料。 （もっと読む）

【課題】膜中にマクロパーティクル等の混入のない、平滑で、密着性が高い薄膜を生成することができ、低コストでかつメンテナンス性も優れた装置を提供することを目的とする。
【解決手段】真空アーク放電によって陰極を蒸発させて陰極物質を含むプラズマを生成する真空アーク蒸発源と、基体を収容され真空排気される真空室と、外部に磁場形成手段を有する湾曲状プラズマ輸送管とを備えた薄膜形成装置において、前記プラズマ輸送手段の内壁に、多孔質部材と針金状芯材とから構成されるパーティクル除去手段を配設したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮蔽機能をもち、酸性雨に対する耐性の高いハードコート構造を備えた透明体を提供する。
【解決手段】透明基材１と、基材１上に順に配置された、紫外線吸収層２とハードコート層３とを有する透明体であって、紫外線吸収層２として、アモルファスなＴｉＯ_２膜を用いる。紫外線吸収層２とハードコート層３との間には、アモルファスなＴｉＯ_２と、ハードコート層を構成する材料との混合物からなる混合層４が配置されている。ＴｉＯ_２膜は、耐酸性が高い性質を有し、しかも、アモルファスなＴｉＯ_２膜は光触媒性能を備えないため、基材との密着性が高い。混合層４は、紫外線吸収層２とハードコート層３との密着性を高め、冷熱サイクルを受けた場合の膜剥がれを防止する。 （もっと読む）

【課題】高温環境下での耐摩耗性および耐溶着性に優れた被膜、その被膜を含む切削工具およびその被膜の製造方法を提供する。
【解決手段】切削工具の基材上に形成される被膜であって、第１酸化物層と第１酸化物層上に形成された第２酸化物層との積層体を含み、第１酸化物層は第２酸化物層よりも基材側に位置しており、第１酸化物層はα−アルミナ型の結晶構造を有し、第２酸化物層の組成は、以下の式（１）で表わされ、
（Ａｌ_１−ｘＺｒ_ｘ）_２Ｏ_{３（１＋ｙ）} …（１）
式（１）において、ｘは０．００１≦ｘ≦０．５を満たす実数であり、ｙは−０．１≦ｙ≦０．２を満たす実数であって、第２酸化物層は非晶質である被膜である。また、その被膜を含む切削工具と、その被膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】Ｔｉ及びＡｌを含有するほかに、Ｎを任意成分として含むことがあるアモルファス膜を導電性バリア層として用いる。
【解決手段】基板２２の第１主面２２ａの上側に、導電性バリア層１４と、導電性バリア層の上側に形成された下部電極１６と、下部電極の上側に形成された強誘電性の金属酸化物からなるキャパシタ絶縁膜１８とを備え、及び導電性バリア層が、Ｔｉ及びＡｌを含むほかに、任意成分としてＮを含むことがあるアモルファス膜である。 （もっと読む）