【課題】高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムを形成するための成膜方法、およびこれらの成膜方法を用いて形成されたガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】成膜方法は、長尺の基板をドラムの表面の所定の領域に巻き掛け、所定の搬送方向に搬送しつつ、所定の真空度のチャンバ内で基板の表面に無機膜を形成する方法であり、チャンバ内に基板の表面に無機膜を形成する成膜部と、水分を吸着する機能を有する金属を基板以外のものに蒸着する蒸着部とが設けられており、成膜部により基板の表面に無機膜を形成する前、および無機膜の形成中の少なくとも一方のタイミングで蒸着部による蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】長尺な基板を長手方向に搬送しつつ成膜を行う機能性フィルムの製造において、搬送ローラ等に付着したパーティクル等の異物に起因する特性劣化を防止して、高品位な製品を安定して製造可能にする。
【解決手段】長尺で、かつ、基板よりも短いクリーニングシートを、基板の表面に接触して積層して、この積層体を基板の搬送経路を搬送し、クリーニングシートの後端部が所定位置を通過した後に、成膜を開始することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】成膜室内の部品に付着した蒸着材料を大気解放することなく除去するためのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 成膜室１０１内に設けられた基板ホルダ１０２、蒸着マスク１０４、マスクホルダ１０５もしくは防着シールド１０６といった部品に付着した蒸着材料１１１に対して加熱処理を行う。これにより付着した蒸着材料１１１を再び昇華させ、真空ポンプにより排気して除去する。このようなクリーニング方法を電気光学装置の作製工程に含めることで、作製工程の短縮化と信頼性の高い電気光学装置の実現を図る。 （もっと読む）

【課題】容器内部に付着した金属の錯体化の効率を向上させることができる洗浄方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】容器内部にガスを供給し、容器内部に付着した金属を供給したガスと化合させ、金属及びガスが化合した金属化合物を気化させて該容器を洗浄する洗浄方法において、容器内部に酸化ガス又はハロゲン化ガスを供給して、容器内部に付着した金属に酸化処理又はハロゲン化処理を施す第一工程と、容器内部に錯体化ガスを供給して、酸化処理又はハロゲン化処理を施した金属に錯体化処理を施す第二工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】装置内の残留作業者を不可視状態、無応答状態でも検知することを可能にし、ロックアウトタグアウトに代表する安全防護の手順を作業者が怠った際にも安全確保ができる真空処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】内部で被処理物を処理する真空容器と、該真空容器に配設されて該真空容器の重量を計測する重量検知センサと、該重量検知センサからの重量情報を受信し、該重量情報に基づき装置普及のための安全確認動作を行う制御装置と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用蒸着マスクのクリーニングを行うときに、有機ＥＬ用蒸着マスクに応じた適切なエネルギーを設定することを目的とする。
【解決手段】有機材料が付着した有機ＥＬ用蒸着マスク２の表面に対してレーザ光Ｌを走査して有機材料を剥離するレーザ走査手段４と、有機ＥＬ用蒸着マスク２のうち一部の領域にレーザ光Ｌをテスト走査させるレーザ制御部５５と、有機ＥＬ用蒸着マスク２のうちテスト走査を行った部位の有機材料が剥離されたか否かを検出する画像処理部５２と、画像処理部５２の検出結果に基づいて、有機ＥＬ用蒸着マスク２に照射されるレーザ光Ｌの照射条件を補正する電流補正部５３およびフォーカス補正部５４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】マスク母材にダメージを与えることなくデポジション膜の洗浄除去が可能であり、洗浄作業性にも優れた成膜用マスクを提供する。
【解決手段】成膜用マスク１１は、基板Ｗの成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部２０が形成されたマスク本体２と、このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、このカバー部材３は、マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄの集合体で構成されている。マスク本体の表面の所定領域をカバー部材で被覆することにより、マスク本体へのデポジション膜の付着を抑え、マスク洗浄時におけるマスク母材のダメージを防ぐ。カバー部材に付着したデポジション膜の除去は、個々のカバー分割片に個片化した状態で行うことにより、洗浄作業が簡単になり、マスクの大型化にも容易に対応できるようになる。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス頻度を低減でき、適切なメンテナンス時期を見極めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は、イオンを発生させるイオン源４０と、イオン源４０からのイオンビーム４５を受けるターゲット３６と、第一真空容器１１内に収容されてターゲット３６からのスパッタ粒子４６を受けるウエハ１を保持するウエハホルダ１８と、第二真空容器２２へのスパッタ粒子４６の付着を抑制する防着板５１と、防着板５１へ付着するスパッタ粒子４６の付着量を予測する付着量予測部６１とを備える。 （もっと読む）

【課題】 十分に静電耐性を有する圧電デバイス（５０）を提供する。
【解決手段】 圧電デバイス（５０）はパッケージ（ＰＫＧ）内に圧電振動片（２０）を収納するものである。そして圧電デバイスは、第１面と第２面とを有し、圧電振動片を第１面に載置するとともに静電気保護回路が形成された台座（６０）と、パッケージ内に形成され台座の第２面と接続する内部電極（５９）と、を備える。台座（６０）の第１面には、圧電振動片の電極と接続する第１パット（７１）が形成され、台座の第２面には、内部電極と接続する第２パット（７２）及び静電気を拡散する第３パッド（７４）が形成され、台座には第１パッドと第２パッドとを接続する配線（７３）が形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板処理室内に石英部材を用い、高温時よりも低温時の方が石英部材のエッチング速度が大きいクリーニングガスを使用する基板処理装置において、クリーニングガスの加熱を安定して行う加熱機構を用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置を次のように構成する。すなわち、基板を収容し処理を行う基板処理室と、基板処理室内に連通するクリーニングガス供給管を経由して、前記基板処理室内にクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給系と、クリーニングガス供給管内に連通する不活性ガス供給管を経由してクリーニングガス供給管内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給系と、基板処理室外に設けられ、不活性ガス供給管からクリーニングガス供給管内に供給される不活性ガスを加熱する不活性ガス加熱部とを備え、基板処理室内をクリーニングする際は、クリーニングガスと不活性ガス加熱部により加熱された不活性ガスとを混合して基板処理室内に供給する。 （もっと読む）

【課題】大気開放することなくチャンバー内で防着シールドのクリーニングを行うことができ、メンテナンスコストの低減を図ることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、基板に対してスパッタリング成膜処理を行うときは、カソード１４に電力を印加するとともに、シリンダー部３２を伸ばしてアース電極４１を防着シールド２０に電気的に接続させ、防着シールドをクリーニングするときは、防着シールドに高周波電流を印加するとともに、シリンダー部を縮ませてアース電極と防着シールドを電気的に絶縁することができるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】高純度な有機化合物層を形成するための蒸着源を提供する。
【解決手段】固相の有機化合物の入った複数のるつぼを連結し、有機化合物を加熱し、融解帯を発生させ、融解帯を移動させることで不純物を移動させ、複数のるつぼのうち、精製された有機化合物の入ったるつぼを用いる有機化合物の精製方法。 （もっと読む）

【課題】遮蔽機構の退避のためのスペースを小さくしてコンパクトなスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置は、基板ホルダー表面の基板１８が載置される基板載置面を遮蔽可能な遮蔽部材を備える。前記基板載置面は第１領域と第２領域とを含む。前記遮蔽部材は、少なくとも前記第１領域を遮蔽可能な第１遮蔽部材１４と、少なくとも前記第２領域を遮蔽可能な第２遮蔽部材１５と、前記第１遮蔽部材１４及び前記第２遮蔽部材１５を回転させる回転機構３０と、を備える。前記第１遮蔽部材１４及び前記第２遮蔽部材１５は、前記回転機構３０による回転によって、前記第１遮蔽部材１４が少なくとも前記第１領域を遮蔽し、かつ、前記第２遮蔽部材１５が少なくとも前記第２領域を遮蔽する遮蔽位置と、前記第１遮蔽部材１４及び前記第２遮蔽部材１５が前記基板載置面の上方の領域から退避して互いに重なり合う退避位置と、の間で移動可能である。 （もっと読む）

【課題】有機シリカ膜を成膜したのちのプラズマ反応室の内壁のクリーニング時間を短縮する。
【解決手段】まずプラズマ反応室内壁をプリコート膜で被覆する（プリコート工程）。次いで基板上に、シリコン炭素組成比（Ｃ／Ｓｉ）が１以上である有機シリカ膜を成長させる（基板処理工程）。次いで、基板を取り出した後、プラズマ反応室内壁に付着した有機シリカ膜とプリコート膜とをプラズマを用いて除去する（クリーニング工程）。プリコート膜としては、基板上に成膜された有機シリカ膜よりも少なくとも炭素含有率が低い有機シリカ膜である高酸素含有プリコート膜を用いる。 （もっと読む）

【課題】成膜対象物に形成される膜の膜質の低下が抑えられたスパッタリング装置を得ること。
【解決手段】複数の第１小型マグネトロンカソード３１ａおよび第２小型マグネトロンカソード３１ｂの中央磁石３２ａ，３２ｂ付近に生じる非エロージョン領域は、分断されて個々で存在するので、連続した一体の中央磁石で構成されたマグネトロンカソードと比較して狭くできる。個々の非エロージョン領域が狭いことで、非エロージョン領域に形成された厚膜に発生する応力を緩和でき、膜応力等による剥がれが減少することで、パーティクルの発生を抑えることができる。したがって、基板に形成される膜に取り込まれるパーティクルを減少でき、膜質の低下が抑えられるスパッタリング装置を得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、コーティング設備の副次面に適用されるべき洗浄法に関する。コーティングの前に、付着防止層（１０）が副次面に塗布される。コーティング材料が付着防止層に付いた後、ドライアイス噴射またはＣＯ_２スノー噴射によって副次面が洗浄される。
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【課題】成膜装置の稼働率と被処理物の処理効率を向上させることができるハースライナーカバー交換機構を提供する。
【解決手段】小径孔１６Ｂと大径孔１６Ａとで構成された鍵穴状の穴１６が形成された鍔部１０Ｂを有し成膜装置のハース１４の上部に設けられるハースライナーカバー１０を交換するハースライナーカバー交換機構であって、垂直方向に移動可能となり、かつ垂直方向に延びる軸３０の軸回りに回転可能になるハンド３６を有し、ハンド３６は穴１６に引っ掛けてハースライナーカバー１０を保持する保持部３８を備え、ハンド３６が軸の軸回りに回転するときの回転方向の接線は小径孔１６Ｂから大径孔１６Ａに延びる穴１６の中心線と一致し、保持部３８が穴１６に挿入された状態でハンド３６が軸３０の軸回りに回転することにより保持部３８と穴１６が係合する。 （もっと読む）

【課題】 成膜装置の搬送路に複数の基板ホルダを保管する基板ホルダ保管室を設けることにより、基板ホルダの表面に堆積した膜の除去の工程および基板ホルダの交換工程、または膜の除去の工程若しくは基板ホルダの交換工程に影響を受けることなしに基板の生産を効率的に行うことができる成膜装置及び成膜装置用ストックチャンバーを提供すること。
【解決手段】真空状態に連結した複数の真空チャンバー、前記複数の真空チャンバー内に設けられた搬送路、前記搬送路に沿って移動可能に設けた複数の基板ホルダ、前記基板ホルダを移動させる駆動手段、前記搬送路からの基板ホルダの回収、及び／又は前記搬送路への基板ホルダの供給が可能であり、かつ前記複数の真空チャンバーの一つと連結したストックチャンバー、を備え、前記ストックチャンバーは、基板ホルダを回転機構の中心軸の周りに垂直の状態で配置可能な構成とした。 （もっと読む）

【課題】駆動機構の複雑化やフットプリントの増加を最小限に抑えつつ、防着板によって構成されたシールド空間の排気コンダクタンスを向上し、残留ガスを効果的に減少させた成膜装置を提供する。
【解決手段】シールド空間に開口部を設け、真空ポンプと真空チャンバとの間の排気口を封止可能な可動板を、成膜時に前記開口部を塞ぎ前記排気口を開く第１のポジションと、被処理基板搬送時に前記開口部と前記排気口の両方を開く第２のポジションと、前記排気口を封止する第３のポジションと、に移動可能なように構成された成膜装置。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布の均一性の高い表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る表示装置の作製方法は、基板１０１を蒸着室に搬送し、蒸着源１０４から薄膜材料を気化させ、前記薄膜材料を気化させている間、前記基板に対する前記蒸着源の位置を移動させることにより、前記基板上に薄膜を成膜することを特徴とする。 （もっと読む）