【課題】グリコール系やアルコール系の有機溶剤を使用せず、環境負荷の少ない安価な洗浄方法であり、かつ０．２２ｍｍ幅や０．１４ｍｍ幅といった非常に狭い幅の印刷パターンの穴をも綺麗に洗浄可能なメタル版の洗浄方法及び洗浄装置並びメタル版洗浄用の気液噴射ノズルを提供する。
【解決手段】印刷配線基板に対してクリーム半田を印刷するために用いたメタル版１の洗浄方法であって、アルカリ性水と圧縮空気とをアルカリ性水噴射ノズル１４内において混合して、アルカリ性水を微細粒化しながら、この微細粒化したアルカリ性水をアルカリ性水噴射ノズル１４からメタル版１に向けて高速で噴き付けてメタル版１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で金属ナノ粒子表面をクリーニングする方法を提供すること。
【解決手段】粒径１〜１００ｎｍ程度の金属ナノ粒子が付着している基板に対してナノインプリント法を応用し、基板上に付着した金属ナノ粒子の表面及びその周辺部に存在する不純物を取り除き、金属ナノ粒子の表面及びその周辺部を清浄化せしめる。 （もっと読む）

【課題】環境汚染を引き起こすリン化合物や窒素化合物を実質的に含有することなくｐＨ値が１０．５〜１２．０の範囲で優れた脱脂洗浄性を発揮することができ、しかも長期間の使用によって油脂類が比較的多量に含有した場合においても脱脂洗浄性を十分に維持することが可能な脱脂液を提供すること。
【解決手段】少なくとも１種のアルカリケイ酸塩を含む２種以上のアルカリビルダーと、下記一般式（１）：
Ｒ^１Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒ^１は、炭素数が１０〜１２であるアルキル基を示し、ｎは、７〜９の整数を示す。）
で表される第一の非イオン系界面活性剤と、下記一般式（２）：
Ｒ^２Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｍ−Ｈ （２）
（式中、Ｒ^２は、１分子中に少なくとも２つの芳香族環を有する基を示し、ｍは、６〜１０の整数を示す。）
で表される第二の非イオン系界面活性剤と、を含むものであり、
ｐＨ値が１０．５〜１２．０であり、且つリン化合物及び窒素化合物を実質的に含まないことを特徴とする脱脂液。 （もっと読む）

【目的】鍛造金属素材（ワーク）等に潤滑層を塗付形成するに際して、ワークのタクト時間の短縮が可能となり、省エネルギー等につながる連続浸漬処理装置を提供すること。
【構成】ワークに薬液の浸漬処理を連続的に施すための連続浸漬処理装置。ワークＷを循環移動させるエンドレスのワーク移動装置１２を備え、該ワーク移動装置１２の周囲のワーク搬出・搬入位置Ｓ１、Ｓ２を挟んで、湯洗装置５２、浸漬装置４８及び乾燥装置５０を配する。ワーク移動装置１２は、駆動チェーン装置１４と、該駆動チェーン装置１４に昇降自在に所定ピッチで取付けられたワーク保持部材１６とを備えている。湯洗装置５２は、湯洗槽６４と一対の昇降部材６２Ａ、６２Ｂとを備え、湯洗槽６４の上方で、一方を湯洗開始位置に他方を湯洗終了位置にそれぞれ配して、両位置間をワークＷの湯洗高さに保持して移動させる。 （もっと読む）

【課題】蒸留操作を繰り返し行っても、組成比や特性がほとんど変化せず、洗浄能力が改善された共沸様洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】1-デセン２５〜４５質量％と１−ヘキサノール７５〜５５質量％とからなる［両者の合計は１００質量％］洗浄成分を含む共沸様洗浄剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】従来に比較して大単重なＮｂ材を製造でき、酸化物層も残存し難いＮｂ材の製造方法を提供すること。
【解決手段】ＮｂまたはＮｂ合金、好ましくは冷間鍛造などの冷間塑性加工を経たＮｂまたはＮｂ合金を、５００〜９００℃の温度範囲で温間塑性加工、好ましくは、温間圧延し、温間塑性加工時にＮｂまたはＮｂ合金の表面に生じた酸化物層を除去する。酸化物層の除去は、研磨、研削、ブラスト処理、および、酸洗から選択される少なくとも１つを好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】水銀や漆を用いて金メッキが施された金具の表面に付着している油脂分を、金メッキの剥離を防止しつつ除去して、金具の見栄えを、より確実に向上させるようにする。
【解決手段】銅製基板３の表面に対し水銀もしくは漆により金箔を貼り付けることにより、基板３の表面金メッキ４を施した金具２の表面から、この表面に付着した油脂分６を除去する。金具２の表面を酸性洗浄剤で洗浄し、次に、アルカリ水溶液により中和し、次に、水洗浄する。金具２を酸性洗浄剤に短時間液浴させることにより、酸性洗浄剤による洗浄をする。水洗浄後に、金具２の表面を銅用の防錆剤により防錆処理する。 （もっと読む）

低ｋ誘電体材料、エッチング停止材料、および／または金属スタック材料を、その上にこれらを有する不良微小電子素子構造から除去する除去組成物およびプロセス。除去組成物はフッ化水素酸を含む。組成物は、これらをその上に有する微小電子素子構造の表面からの材料の少なくとも部分的な除去を、前記構造のリサイクルおよび／または再使用のために、半導体構造に用いられている下位のポリシリコンまたはベアシリコン層に損傷をあたえることなく達成する。
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【課題】 半田付け基板等における半田用フラックスと、ドライフィルムレジストとの同時洗浄が可能な両用洗浄剤およびそれを用いた被洗浄物の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 半田フラックスと、ドライフィルムレジストと、を同時洗浄することが可能な両用洗浄剤であって、全体量に対して、ベンジルアルコールの添加量を５〜９４重量％の範囲内の値、アミン化合物を１〜５０重量％の範囲内の値、かつ、水を３〜９０重量％の範囲内の値とする。 （もっと読む）

金属部品の洗浄方法。
金属部品の洗浄方法であって、金属部品を式（1）で表される化合物であって、式中、Aが(CH₂)_aまたはフェニレンであり、R¹、R²、R³およびR⁴が同一でもしくは互いに独立してC₁〜C₆-n-および／またはイソ-アルキルであり、aは0〜4の整数を表す前記化合物で処理する、前記の洗浄方法に関する。

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【課題】電子ビーム溶接等の高エネルギー処理における、処理前の洗浄において、溶接阻害性が少なく、金属吸着性がある成分を洗浄液に添加して金属表面をプロテクトし、ワーク表面の変色を防止する。
【解決手段】脂環式アミン０．０００１〜０．０１２ｗｔ％と、液状脂肪酸０．０００１〜０．００６ｗｔ％と、非イオン界面活性剤０．０００１〜０．００１５ｗｔ％とを主剤として含有し、更に高分子多価カルボン酸モルホリン中和剤を０．０００１〜０．００５ｗｔ％含むことを特徴とする水溶性洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】洗浄用溶剤を用いる場合において、その洗浄力の低下を防ぐために酸化防止剤を添加することがあるが、洗浄力の管理が容易となる洗浄用溶剤ないし洗剤を提供し、これら洗浄用溶剤ないし洗剤を用いる場合の管理方法、管理するための指示薬を提供する。
【解決手段】洗浄用溶剤及び／または洗剤にフェノール系酸化防止剤を含有させる。また、洗浄用溶剤の主成分がリモネンであり、フェノール系酸化防止剤が分子構造中に３単位以下のフェノール骨格を有するものを用いる。更に、フェノール系酸化防止剤がジブチルヒドロキシトルエンであるのが良い。管理に当たっては、洗浄作業が洗浄に供する溶液の循環浄化工程を含むもので有り、浄化に当り、活性炭層に通過させた後、さらに吸着剤層を通過させるものである。洗浄用溶剤の酸化の程度を計るためには、その一部を採取し酸化促進剤を指示薬とする滴定を行うものである。 （もっと読む）

【課題】ワークの各面に対して洗浄液の高速噴射がなされ、以て、切粉等の除去のための洗浄を十分且つ効率よく行なうことができ、しかも洗浄液の浄化機能を有しているために、より信頼性の高い洗浄作業を行ない得る機械部品等のワーク洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】内部に高速洗浄ノズルを備えた複数の洗浄槽２、３と、ロボットアーム先端のチャック８でワークをクランプして前記洗浄槽２、３内に運び入れ、前記高速洗浄ノズルに対向させて当該ワークの洗浄を行なうロボット１とを含むワーク洗浄装置において、前記複数の洗浄槽２、３はそれぞれ洗浄液の循環清浄化機能を備え、前記ロボット１は、前記複数の洗浄槽２、３に対し、選択的に前記ワーク洗浄のための動作を行なう。 （もっと読む）

残渣を表面から除去する方法であって、表面を、式Ｅ−またはＺ−Ｒ^１ＣＨ＝ＣＨＲ^２を有する化合物（式中、Ｒ^１およびＲ^２は独立に、Ｃ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基、またはＣ_１〜Ｃ_６ヒドロフルオロアルキル基である）からなる群から選択される少なくとも１つの不飽和フッ素化炭化水素を含む組成物と接触させるステップと、表面を組成物から回収するステップとを含む方法が開示されている。フッ素系潤滑剤を表面に被着させる方法、および少なくとも水の一部分を濡れた基板の表面から除去する方法において、フッ素化炭化水素は溶媒組成物としても使用される。 （もっと読む）

【課題】 皮膜の耐久性と、有彩色性とを兼備した表面層を持つ金属ガラス部品及びその表面層の形成方法を提供する。
【解決手段】 金属ガラス部品(10)の表面に、硝酸とふっ酸の合せ水溶液(18)を反応させて酸化皮膜(12)除去を行うと共に、アンカー結合形状(14)を金属ガラス部品(10)の表面に準備する界面活性処理を行い、次いで、電気メッキまたは無電解メッキを行うことにより金属ガラス部品(10)の表面にメッキ皮膜(16)を形成する。
これにより、耐久性と有彩色とを兼備した金属ガラス表面層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】乾燥室を効率的に加熱できる洗浄乾燥装置及び洗浄システムを提供する。
【解決手段】被処理体を加熱された洗浄液によって洗浄する洗浄室Ｓ１と，被処理体を乾燥させる乾燥室Ｓ２とを備えた洗浄乾燥装置２において，洗浄室Ｓ１に洗浄液を供給する洗浄液供給路４２ａを備え，被処理体を入れるバスケット２３を乾燥室Ｓ２内で回転させるバスケット回転機構９０を備え，乾燥室Ｓ２の内部には，加熱された洗浄液を送液する送液管４５を設けた。 （もっと読む）

少なくとも部分的に半田レジストマスクによって覆われ、かつ、銅構造体上にトップ層を備えられたプリント回路基板上のイオン性汚染物を減少するために、少なくとも一つのエタノールアミン化合物及び／またはその塩、少なくとも一つのアルコール性溶媒、及び、必要に応じて少なくとも一つのグアニジン化合物及び／またはその塩を含む水性洗浄液が用いられる。 （もっと読む）

【課題】活性状態とされた酸素による処理をした後でも、金よりなる構造体の表面に、ボンディングワイヤーの形成や電着膜の形成が正常に行えるようにする。
【解決手段】制御電極１１８及び可動部電極１０９の表面に残渣するカーボン系汚染物（有機物）を除去するために、これらの酸素プラズマが照射された状態とする。次に、この酸素プラズマによる処理がなされた基板１０１が、例えば、ｐＨ４．８程度とされた塩酸溶液に浸漬された状態とし、塩酸が、制御電極１１８及び可動部電極１０９の表面に作用する状態とする。この酸処理により、金からなる制御電極１１８及び可動部電極１０９の表面に、酸素を含むプラズマが照射されたことにより形成された酸化金が、除去されるようになる。 （もっと読む）

【解決手段】 全体が希土類金属で形成された希土類金属部材であって、最表面から深さ２μｍ以内の部分における希土類金属元素以外の金属元素の１種以上の含有量がそれぞれ１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする希土類金属部材。
【効果】 希土類金属元素以外の金属元素の１種以上の含有量がそれぞれ１００ｐｐｍ以下である希土類金属を用いて部材を作成し、加工後の希土類金属部材を有機酸系封鎖剤で洗浄することにより、表面が高純度で結晶径が大きく粒界の少ない、耐ハロゲン性（耐食性）に優れた希土類金属部材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 プラズマダメージがない状態で被処理体の表面を改質させる処理ができ、しかも被処理体の設置場所の自由度が大きい表面処理方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】 Ｎ_２Ｏ、ＮＯ、ＮＯ_２のいずれかの窒素酸化物を含む処理ガスを表面処理ユニット３０にて生成し、その処理ガスを給気連結管２０及び給気部２２を介して被処理体１０の表面に形成された金属酸化物に接触させて、その窒素酸化物により被処理体１０の金属酸化物を還元し、または、窒素酸化物により被処理体の金属酸化物を置換して、被処理体の表面を処理する。 （もっと読む）