【課題】 簡単な構成で、基板の処理面に対して安定的に処理液を供給して均一な処理をすることができ、また基板の非処理面に対する処理液の回込みを防止できる基板表面処理装置を提供する。
【解決手段】 基板３１の表面を処理する基板表面処理装置３０は、処理液３２を収容する処理液槽３３と、処理液槽３３に収容される処理液３２中に一部が浸漬され回転自在に設けられて基板３１を搬送する複数の搬送ローラ３４と、搬送ローラ３４を回転駆動させるローラ駆動手段とを含む構成であり、搬送ローラ３４は、その回転軸線方向の長さが基板３１の幅以上であり、その表面に凹凸が形成される。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送し片面処理を行うに際し、基板の処理面とは反対側の非処理面に対して処理液が回込むことを防止できる基板表面処理装置を提供する。
【解決手段】基板２１の表面を処理する基板表面処理装置２０は、処理液２２を収容する処理液槽２３と、処理液槽２３に収容される処理液２２中に一部または全部が浸漬され回転自在に設けられて基板２１を搬送する複数の搬送ローラ２４と、搬送ローラ２４を回転駆動させるローラ駆動手段とを含む構成であり、搬送ローラ２４は、その回転軸線方向の長さＷ２が基板２１の幅Ｗ１以上であり、その表面に回転軸線方向に延びる溝を構成する凹凸が形成される。 （もっと読む）

【課題】 基板の搬送を容易に行えるとともに、基板表面に発生する反応ガスを除去して、均一に基板の表面処理を行うことができる基板表面処理装置を提供する。
【解決手段】 処理液槽３３に収容される処理液３２中に一部が浸漬され回転自在に設けられる複数の搬送ローラ３４は、その回転軸線方向の長さが基板幅以上であり、その表面の少なくとも基板３１に接する部位に溝４３が形成され、処理液３２によって処理される基板３１の表面である処理面３１ａに接して存在する気体３８を、溝４３を通じて容易に除去することができるので、簡単な構成で、基板３１を搬送しながら基板３１の表面を均一に処理することができる。 （もっと読む）

【課題】 フットプリントが小さく、低コストでありながら、一定の高い処理能力を備えた処理装置を提供する。
【解決手段】 処理装置の一実施形態である洗浄処理装置１００は、ウエハが収容されたキャリアＣを載置するキャリア載置部１と、ウエハを洗浄処理するチャンバ２１と、キャリア載置部１とチャンバ２１との間でウエハを搬送するウエハ搬送部３を有している。ウエハ搬送部３は、チャンバ２１に複数のウエハを一括して搬入出するためのホルダー３２ａ，３２ｂと、ウエハＷを１枚ずつ搬送する搬送ピック３４ａ，３４ｂと、搬送ピック３４ａ，３４ｂとホルダー３２ａ，３２ｂをそれぞれ係脱自在で、キャリアＣとチャンバ２１にアクセス自在なロボット３１を具備している。ロボット３１は、搬送ピック３４ａ，３４ｂとホルダー３２ａ，３２ｂとを交換して、キャリアＣとチャンバ２１との間でウエハを搬送する。 （もっと読む）

【課題】設置スペースが少なく作業用スペースの活用度が向上する小型の基板用表面処理システムを提供すること。
【解決手段】表面処理を要する基板が、カセットから引き出されてチャック２１に保持され、ディスペンサー２４と連通している給液口を通じて、その表面に処理液を供給し乾燥して前記カセットに再ストックされるように形成された基板洗浄部２０と、前記ディスペンサーと連通している貯液タンク３１に貯留されている処理液の供給及び回収を制御するように形成されている処理液処理部３０が同一区画内の上部及び下部に位置するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】 処理液の液流をコントロールすることにより、洗浄，エッチング処理の均一性の向上を図れるようにし、また、周辺部の洗浄，エッチング量の向上を図れるようにすること。
【解決手段】 半導体ウエハＷを起立状態に保持するウエハ保持体３０と、ウエハ保持体によって保持されたウエハを収容する処理容器１０と、処理容器内に処理液を供給する処理液供給ノズル４０とを具備し、処理液供給ノズルを、水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成する。これにより、処理容器内に供給される処理液の液流をコントロールすることができる。 （もっと読む）

本発明は、透明基板（１）上の導電性層（２）を化学エッチングする装置に関し、該装置は、該基板（１）を支持する支持手段（４）と溶液（５）を吹き付ける手段とを備えている。本発明の特徴は、上記吹き付け手段（５）が上記基板上方に配置された複数のノズル（５０）から成り、該ノズルは、エッチング対象である上記層上に少なくとも２種類の溶液（７、８）を、別々に、または相互に、またはノズル部での混合液として、同時に吹き付けことである。
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【課題】少なくとも一の基板の表面を微細構造化するための装置を提供する。
【解決手段】本装置は少なくとも、基板が一の部材から他の部材に搬送されるときに支持体が変化しないように各部材内又は各部材に対して基板を維持するように構成された基板支持手段(15)を好ましくは含む基板(S)保持用手段(6)と、感光性樹脂層を基板に塗布する部材と、樹脂層を硬化及び／又は乾燥させる手段と、レーザ光を用いて既定のプログラムに基づいて基板上の樹脂層を自動的に露光する部材(20)と、露光済みの樹脂層部分又は未露光の樹脂層部分を除去する現像用部材と、基板を化学エッチングする部材と、基板を洗浄する部材と、制御部(7)と、を備えた支持枠体(2)を有することを特徴とする表面微細構造化装置に関する。 （もっと読む）

【課題】 吐出ノズルから基板に対し処理液を吐出して基板を処理する場合に、処理液の使用量を低減させることができ、設備の簡易化および小型化が可能である装置を提供する。
【解決手段】 基板支持手段により支持された基板の主面へ処理液を吐出する吐出ノズル１２に複数の吐出口１６ａ、１６ｂを形設し、吐出ノズル１２の各吐出口１６ａ、１６ｂからそれぞれ異なる方向へ処理液を吐出して基板の主面へ処理液を供給する。 （もっと読む）

【課題】 ＺｎＯ層を洗浄することができ並びにライン分離処理システムを行うことができ、層の湿式化学的粗面化と関連付けて層の構造化後にできるだけ少ない方法技術的な経費および時間消費量で大きな表面積、即ち一般に１ｍ^２またはそれ以上の表面積に再現可能で均質に実現できる方法および装置の提供。
【解決手段】 柔軟性のないまたは柔軟性のある支持体の上に配置された予備構造化された酸化亜鉛層を有する基板を処理する手段において、該基板をエッチング液で処理するための第一の手段、該基板を洗浄液で処理するための第二の手段および第一の手段から第二の手段に基板を運搬するための別の手段よりなることを特徴とする、上記装置。 （もっと読む）

本発明は、一般的に、基板表面の処理または加工に関する。とりわけ、本発明は、シリコンウエハの表面を改質するための方法に関する。
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処理ヘッドアッセンブリとベースアッセンブリを含むワークピース処理システムであり、処理ヘッドアッセンブリは処理ヘッドと上部ロータを有し、ベースアッセンブリはベースと下部ロータを有している。ベースおよび下部ロータは磁石を備え、この磁石が生成する磁力により、上部ロータは下部ロータと係合可能であり、係合した上下のロータは、処理を受けるために半導体ウエハーが配置される処理チャンバを形成する。ワークピースを処理する処理流体は、処理ヘッドがワークピースを回転させる間に、処理チャンバへ任意に導入される。加えて、処理チャンバの周りと、処理チャンバを通過する気流により、ワークピース上に加わるパーティクルが低減される。
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本発明は、半導体ウエハや液晶基板などの基板を回転させながら、薬液処理、洗浄処理、乾燥処理を行う基板処理装置および基板処理方法に関する。本発明はまた、半導体ウエハなどの基板を回転させながら保持する基板保持装置に係り、特に、洗浄装置やエッチング装置などに好適に使用される基板保持装置に関する。本発明の基板処理装置は、基板を回転保持する基板保持部を有し、基板を回転させて基板に流体を供給して処理を行い、前記基板保持部には前記流体を吸引する保持部吸引部が配置されている。また、本発明の基板保持装置は、基板の端部に当接して該基板を回転させる複数のローラを備え、複数のローラは基板の半径方向に沿って移動する。

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【課題】流れ攪拌器及び／又は複数電極を用いる微小特徴加工物を処理する方法及びシステムを提供する。
【解決手段】位置合せシステムを備えた装着モジュールを有するツール。装着モジュールは、反応装置と加工物を反応装置まで及び反応装置のために移動する加工物搬送装置とを正確に配置するための位置決め要素を含む。反応装置の位置決め要素間の相対位置は、反応装置が取り外されて別の反応装置と交換される時に加工物搬送装置を再較正する必要がないように固定されている。反応装置は、加工物の処理表面での処理流体を攪拌するための攪拌器を含む。攪拌器と、反応装置と、反応装置内の電極とは、攪拌器及び／又は加工物が互いに対して往復する時に加工物の表面で攪拌器によって生じる電気遮断の可能性を軽減し、電界に対する三次元の影響に対処するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、汎用性に富むとともに、スループットにも優れる基板洗浄技術を提供する。
【解決手段】 基板洗浄部Ｂは、複数種類の薬液で洗浄処理可能な多機能洗浄槽３（３ａ、３ｂ）と、専用の薬液で洗浄処理可能な単機能洗浄槽４（４ａ、４ｂ）とを組み合わせてなる洗浄槽列１（１ａ、１ｂ）が２組設けられてなり、各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、スループットにも優れる。 （もっと読む）