【課題】異種基板と貼り合わせた窒化物系化合物半導体基板の一部を異種基板から除去することにより窒化物系化合物半導体層を異種基板上に製造する方法において、窒化物系化合物半導体層におけるリーク電流を低減する。
【解決手段】シリコン基板等の支持基板２０上に窒化ガリウム層３０を有する基板生産物１を製造する方法であって、窒化ガリウム基板１０の表面１０ａにイオン注入を行う工程と、表面１０ａを洗浄する工程と、表面１０ａと支持基板２０の表面２０ａとを互いに接合させる工程と、窒化ガリウム基板１０のうち表面１０ａを含む部分を層状に残して他の部分を除去することにより、窒化ガリウム層３０を支持基板２０上に形成する工程とを含む。表面１０ａを洗浄する工程の際、洗浄後の表面１０ａにおけるＦｅ，Ｃｒ，Ｎｉ，及びＳｉの密度を合計で１×１０^１８［ｃｍ^−３］以下とする。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物に対するダメージを抑え、所望な洗浄性能を発揮することができる超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】超音波洗浄装置１は、洗浄液７００を用いて被洗浄物８００を超音波洗浄処理する洗浄処理部１００と、洗浄液７００に対して超音波振動を照射する振動子２００と、振動子２００を圧電効果によって超音波振動させるために、所望の周波数で、且つ所望の振幅の電気信号を振動子２００に付与する発振器３００と、洗浄液７００中に所望の気体４１０を溶解する気体溶解部４００と、洗浄液７００に溶解している気体４１０の濃度を測定する気体濃度測定部５００と、データベースに基づいて超音波の出力範囲を算出する制御部６００とを有している。制御部６００は、気体４１０の濃度と、超音波の出力範囲との関係に基づいて、発振器３００が振動子２００へ付与する超音波の出力値を制御し、発振器３００が振動子２００に付与する電気信号を制御する。 （もっと読む）

【課題】 従来の超音波エッジ洗浄装置では、円錐形状に形成したホーン３の先端に二股部３ａ、３ｂを形成しているため、その二股部３ａ、３ｂが非常に短いので、被洗浄物１の端部の僅かな部分しか洗浄できないという問題がある。
【解決手段】 背面部６に洗浄液の供給部７及び排出部８装着し、背面部６の上端及び下端から傾斜壁９，１０が対向するように形成され、傾斜壁９，１０の間に挿入部１１を形成し、傾斜壁９，１０の間に側壁１２，１３を形成することにより、筐体１４が形成され、挿入部１１が側壁１２，１３に延長して切り欠き部１５が形成されるように構成し、傾斜壁９，１０にそれぞれ超音波振動子１４，１５が装着され、さらに、超音波振動子１４，１５に発振器（図示せず）から発振出力が印加されており、超音波振動子１４，１５を覆うように外壁１６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面と下面とを同時に、しかも確実に洗浄することができる基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】一側面に出し入れ口２が形成された処理槽１と、この処理槽内の上記出し入れ口と対向する位置に設けられ処理槽内に搬入された半導体ウエハ１０の搬入方向と交差する径方向の両端部を保持してこの半導体ウエハを回転駆動する保持駆動手段８と、保持駆動手段に保持された半導体ウエハに処理液を供給する洗浄ノズル１２４，１２５と、処理槽内の上記保持駆動手段よりも内方に設けられ先端部に上記半導体ウエハの板面を洗浄する洗浄ブラシ７１，１２２を有するアーム６３，１２１およびこのアームを上下方向に駆動するとともに洗浄ブラシが半導体ウエハの径方向に沿って移動するよう上記アームを揺動駆動する駆動手段を有するツールユニット６１，６２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

（Ａ）それぞれの試験液（ＡＢ）の全質量に対する百分率で表して、０．０６〜４質量％の、溶解したテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂ）の存在下に、遠ＵＶ吸収発色団を含む、厚さが３０ｎｍのポリマー性バリア反射防止層について、５０℃で一定の除去速度を示す溶媒から成る群から選ばれる、少なくとも１種の極性有機溶媒、
（Ｂ）少なくとも１種の水酸化第４級アンモニウム、及び
（Ｃ）少なくとも１個の第１級アミノ基を含む、少なくとも１種の芳香族アミン、
を含む液体組成物、その製造方法、及びこの液体組成物をレジストストリッピング組成物として使用した、電気装置の製造方法、及びシリコンビアを通してパターン化、及び／又はメッキ及びバンピングすることによって３Ｄ Ｓｔａｃｋｅｄ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔｓ及び３Ｄ Ｗａｆｅｒ Ｌｅｖｅｌ Ｐａｃｋｉｎｇｓを製造する中で、ネガティブトーン及びポジティブトーンフォトレジスト、及びエッチング後の残留物を除去するために、上記液体組成物を使用する方法。 （もっと読む）

【課題】メガソニック洗浄装置での基板洗浄において、超音波によるダメージに強く、基板保持位置の変位による基板の搬送トラブルを防止でき、良好な洗浄を実施できる基板保持治具を提供することを目的とする。
【解決手段】バッチ式のメガソニック洗浄装置において、洗浄時に洗浄槽内で基板を保持する基板保持治具であって、洗浄槽内に基板を保持するための対向する側板と、側板に両端が接続された２以上の石英製支持部材と、１つの保持溝を有し、石英製支持部材に複数取り付けられた樹脂製保持部材とを具備し、樹脂製保持部材が他の樹脂製保持部材と接触しないように石英製支持部材に取り付けられたものであり、樹脂製保持部材の保持溝に基板の周縁部を嵌めることで基板が保持されるものである基板保持治具。 （もっと読む）

組成物、方法、およびシステムは、反応器の金属部（チタンおよび／またはチタン合金など）における金属酸化物を選択的にエッチングできる。エッチング組成物はアルカリ金属水酸化物および没食子酸を含む。この方法は酸化アルミニウムなどの金属酸化膜の堆積に用いられる反応チャンバの洗浄に有用である。 （もっと読む）

【課題】 振動体を用いるスピン洗浄（及びその装置）の洗浄時間を短くすること。
【解決手段】 回転中の基板の表面に供給される洗浄液に浸され状態で、前記洗浄液に超音波を照射する照射面を有する振動体と、前記振動体に固定され、前記超音波を発生する超音波振動子とを具備する超音波照射ユニットと、前記超音波照射ユニットが取り付けられ、少なくても前記表面に垂直な方向に往復運動する可動部を有する第１の往復運動ユニットとを具備すること。 （もっと読む）

【解決手段】 実施形態は、基板表面から、なかでも特にパターン化基板（またはウエハ）の表面から粒子を除去するための装置と方法とを提供する。洗浄の装置および方法は、微細な特徴を伴うパターン化基板を基板表面上のそれらの特徴を実質的に損傷させることなく洗浄することにおいて有利である。洗浄の装置および方法は、１０，０００ｇ／モルを上回るなどの高分子量のポリマ化合物を含む粘弾性洗浄材料を使用することを伴う。粘弾性洗浄材料は、基板表面上の粒子の少なくとも一部を取り込む。十分短い期間にわたって粘弾性洗浄材料に対して力が付与されると、材料は、取り込まれた粒子を伴った粘弾性洗浄材料の除去を促進する固体様の性質を示すようになる。粘弾性洗浄材料の固体様特性にアクセスするためには、短い期間にわたって幾種かの力を付与することが可能である。あるいは、粘弾性洗浄材料は、温度を下げられたときにも固体様の性質を示す。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物にダメージを与えることなく、洗浄液の使用量を抑えることが可能な超
音波洗浄ユニット及び超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の超音波洗浄ユニット２０は、間隙を持って被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓ
ａに対向するように配置された超音波伝達手段２５と、前記超音波伝達手段２５に設けら
れ前記超音波伝達手段２５を介して前記被洗浄面Ｓａ上の洗浄液Ｌに超音波を与える超音
波振動子２３と、前記洗浄液Ｌが流通する流路４０ａを前記超音波伝達手段２５の外周側
面に有して囲み前記超音波伝達手段２５よりも前記被洗浄面Ｓａに近接するように配置さ
れ前記洗浄液Ｌを前記間隙に吐出する導液手段４０とを具備していることを特徴とする。
この超音波洗浄ユニット２０により、超音波伝達手段２５と被洗浄物Ｓとの間で洗浄液Ｌ
を維持され、被洗浄物にダメージを与えることなく、少量の洗浄液で効率のよい超音波洗
浄を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、不揮発性記憶装置の表面に形成された壁体間に残留する液体の表面張力の影響を抑制することができるとともに、ガルバニック腐食を抑制することができる不揮発性記憶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の状態と第２の状態との間を可逆的に遷移可能な記憶層を有する不揮発性記憶装置の製造方法であって、壁体が形成された基体の表面に水よりも表面張力が小さくかつ水と実質的に相溶性のない液体を供給し、前記基体の洗浄を行う工程を有すること、を特徴とする不揮発性記憶装置の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の平面度を維持しながら洗浄を行い、被洗浄物の反り、破損及び被洗浄物の下面側に洗浄液が液侵するのを抑制しつつ、被洗浄物の支持体との接触部分の洗浄残の発生を抑制できる枚葉式洗浄装置。
【解決手段】円筒状の凹部及び該凹部の内壁面に沿って気体を吐出する吐出口を有する旋回流形成部を上面部に複数有し、被洗浄物の直下に配設される吸着浮上テーブルと、吸着浮上テーブルの周辺に配設され、吸着浮上テーブルの直上の被洗浄物の側面を支持する支持体を有し、支持体で支持した被洗浄物を中心軸で回転させるスピンテーブルとを具備し、被洗浄物を非接触な状態で吸着浮上させつつ、支持体で被洗浄物の側面を支持し、スピンテーブルによって前記被洗浄物を中心軸で回転させて上面を洗浄するものであることを特徴とする枚葉式洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】半導体基板を超音波洗浄したときに微細なパターンやホール等がダメージを受けることを極力防止する。
【解決手段】半導体基板１を薬液を用いて洗浄する構成において、薬液に含まれる水分の濃度を検出する水分濃度検出装置５を備え、薬液または半導体基板１に超音波を印加して超音波洗浄を実行する超音波振動子９を備え、水分濃度検出装置５により検出された水分濃度に基づいて超音波振動子９をオンオフする制御装置６を備えた。 （もっと読む）

超音波／メガソニック装置を用いた半導体基板の洗浄方法は、以下の工程を含む。つまり、チャックを用いて半導体基板を固定する工程と、超音波／メガソニック装置を半導体基板に隣り合うように配置する工程と、半導体基板上、及び、半導体基板と超音波／メガソニック装置との間の隙間に、薬液を注入する工程と、洗浄工程中のチャックの各回転毎に半導体基板又は超音波／メガソニック装置を時計回り又は反時計回りに回転することにより、半導体基板と超音波／メガソニック装置との間の隙間を変化させる工程とを含む。
（もっと読む）

【課題】
基板面内でのパーティクル除去均一性を向上することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】
基板洗浄装置１は、処理液を貯留する処理槽１０と、基板Ｗを保持する基板保持部２１を備え、基板を昇降移動させるリフタ２０と、伝播水を貯留する伝播槽３０と、伝播槽３０の底部に設けられた超音波振動子３１と、分散発生部８０とを備え、処理槽１０に浸漬した基板Ｗと超音波振動子３１との間に分散発生部８０を配置することにより、超音波振動が付与された分散発生部８０の反対側で、基板面内におけるキャビテーションのバラツキを抑制することができる。そのため、基板Ｗ面内でのパーティクルの除去均一性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】微小気泡を含む液体を用いて基板を処理する際に、微小気泡の圧壊力を基板に十分作用させることができ、効果的に基板処理が可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は、基板Ｗの面Ｓに液体を供給して基板の面を処理する基板処理装置であり、基板Ｗの面Ｓに対面して配置されるノズルヘッド装置１２と、ノズルヘッド装置１２に対して微小気泡Ｈを含む液体Ｌを供給する微小気泡生成部２０と、ノズルヘッド装置１２から基板Ｗの面Ｓに対して供給される微小気泡Ｈを含む液体Ｌ中の微小気泡Ｈに対して、微小気泡Ｈが基板Ｗに到達するタイミングで超音波を間欠的に照射して微小気泡Ｈを圧壊させる超音波振動子３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面の汚染に起因するパターン不良を十分に防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面に膜が形成される前に、密着強化ユニットＡＨＬにより基板Ｗの密着強化処理が行われる。密着強化ユニットＡＨＬにおいては、基板Ｗが基板載置プレート９３１上に載置される。この状態で、基板Ｗの裏面は複数の球体ＰＵおよび環状部材９３５により支持される。基板Ｗの裏面の周縁部は環状部材９３５に当接する。基板Ｗの裏面と基板載置プレート９３１の上面との間に隙間空間ＢＳが形成される。基板Ｗの表面に密着強化剤が供給される際には、第１の排気装置９９０により隙間空間ＢＳの内部の雰囲気が排気され、隙間空間ＢＳの外周部が環状部材９３５により閉塞される。密着強化処理後の基板Ｗの表面には膜が形成される。その後、基板Ｗの裏面が洗浄される。裏面が洗浄された基板Ｗは露光装置へ搬送される。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、１つのプログラムで複数の振動子タイプに対応することにより、コストを削減すると共に容易に振動子切換えを行うことができる超音波発振器を提供することにある。
【解決手段】本発明は、タイプの異なる複数種類の振動子１２と、前記振動子１２の種類に対応して設定するディップスイッチ１４と、前記振動子１２の種類別のパラメータが保存された保存部１６_１，１６_２，…，１６_ｎと、前記ディップスイッチ１４で設定された振動子１２の種類をプログラムで判定し、当該振動子用パラメータを前記保存部１６_１，１６_２，…，１６_ｎからプログラムで読み込んで処理して超音波を発振出力する制御部１５とを具備することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】パターニングされた基板（パターン基板）の物理力アシスト洗浄で誘起されるダメージを低減する。
【解決手段】洗浄プロセスは、ａ）少なくとも１つのパターン表面を有する基板を準備する工程と、ｂ）洗浄液３をパターン表面に供給する工程と、ｃ）パターン表面に接触した洗浄液に物理力を供給し、これにより物理力が洗浄液中に気泡を形成する工程と、を含み、物理力を供給する前に、添加剤が表面に供給され、所定の時間、添加剤は表面に接触するように保持され、添加剤と時間は、洗浄液により表面の実質的に完全な濡れが達成されるように選択する。 （もっと読む）

【課題】処理対象物の表面の損傷を抑制して表面処理の高効率化を図ることができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射部１０の窓１４から出力された電子ビームは、薄膜２７を通過して配管２４内の処理溶液８０に照射され、その処理溶液８０を活性化する。その活性化された処理溶液８０は、溶液タンク２３に注がれ、その溶液タンク２３の中に入れられた処理対象物９０の表面処理に使われる。処理溶液８０が酸またはアルカリを含む場合、その処理溶液８０に電子ビームが照射された後でも、その処理溶液８０の活性化状態は充分に長い時間に亘って持続する。したがって、電子ビームが照射されて活性化された処理溶液８０が処理対象物９０の表面に供給される場合にも、その処理対象物９０の表面処理の効率化を図ることができる。 （もっと読む）