超音波洗浄ユニット、超音波洗浄装置
【課題】被洗浄物にダメージを与えることなく、洗浄液の使用量を抑えることが可能な超
音波洗浄ユニット及び超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の超音波洗浄ユニット２０は、間隙を持って被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓ
ａに対向するように配置された超音波伝達手段２５と、前記超音波伝達手段２５に設けら
れ前記超音波伝達手段２５を介して前記被洗浄面Ｓａ上の洗浄液Ｌに超音波を与える超音
波振動子２３と、前記洗浄液Ｌが流通する流路４０ａを前記超音波伝達手段２５の外周側
面に有して囲み前記超音波伝達手段２５よりも前記被洗浄面Ｓａに近接するように配置さ
れ前記洗浄液Ｌを前記間隙に吐出する導液手段４０とを具備していることを特徴とする。
この超音波洗浄ユニット２０により、超音波伝達手段２５と被洗浄物Ｓとの間で洗浄液Ｌ
を維持され、被洗浄物にダメージを与えることなく、少量の洗浄液で効率のよい超音波洗
浄を行うことが可能となる。
音波洗浄ユニット及び超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の超音波洗浄ユニット２０は、間隙を持って被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓ
ａに対向するように配置された超音波伝達手段２５と、前記超音波伝達手段２５に設けら
れ前記超音波伝達手段２５を介して前記被洗浄面Ｓａ上の洗浄液Ｌに超音波を与える超音
波振動子２３と、前記洗浄液Ｌが流通する流路４０ａを前記超音波伝達手段２５の外周側
面に有して囲み前記超音波伝達手段２５よりも前記被洗浄面Ｓａに近接するように配置さ
れ前記洗浄液Ｌを前記間隙に吐出する導液手段４０とを具備していることを特徴とする。
この超音波洗浄ユニット２０により、超音波伝達手段２５と被洗浄物Ｓとの間で洗浄液Ｌ
を維持され、被洗浄物にダメージを与えることなく、少量の洗浄液で効率のよい超音波洗
浄を行うことが可能となる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は超音波を液体中に照射し、洗浄等の処理を行う超音波洗浄ユニット、超音波洗
浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体基板や液晶表示装置用のガラス基板等の製造工程では、種々の微細加工の前後で
、ガラス基板等の被洗浄物に付着したサブミクロンオーダのパーティクル等を洗浄除去す
る必要がある。そこで、被洗浄物に対して、ダメージの少ない５００ｋＨｚ〜１．５ＭＨ
ｚの高周波数の超音波を印加した洗浄液を照射して洗浄する超音波洗浄方法が一般的に用
いられている。
【０００３】
この他、近年、被洗浄物の上面に洗浄液を供給し、この洗浄液に対して被洗浄物上で超
音波を付与する超音波洗浄装置が開示されている（たとえば、特許文献１）。
【０００４】
この超音波洗浄装置は、被洗浄物の上面に対して略垂直に配置された円筒状の超音波付
与ヘッドを備えており、この超音波付与ヘッドには、下端部に超音波伝達手段、内部に超
音波を発振する超音波振動子とこの超音波振動子を冷却する冷却手段、さらに外側部に被
洗浄物の上面に洗浄液を供給するノズルとが備えられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３１５４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した超音波伝達手段を被洗浄物の被洗浄面に近接させる超音波洗浄装置には次のよ
うな問題があった。すなわち、超音波伝達手段と被洗浄物との間の距離が大きいと、この
距離を満たすための洗浄液の必要量が増大しコスト高を招くことになる。特に、微細構造
体の表面処理では、残留液体によるダメージを抑制するためにハイドロフルオロカーボン
のような表面張力の小さい洗浄液を用いるが、表面張力の小さい液体は被洗浄物の表面で
の液膜の維持が難しく、大量の洗浄液を使用してしまう。このため、超音波伝達手段を被
洗浄物の表面に可能な限り近付け、洗浄液の使用量を抑える必要がある。
【０００７】
しかしながら、超音波伝達手段と被洗浄物との間の距離が小さいと、被洗浄物の表面に
は微小なうねりや被洗浄物の厚さの不均一性があるため、一定の高さ位置で超音波洗浄ユ
ニットを移動させた場合、超音伝達手段と被洗浄物とが接触し、被洗浄物の表面に形成さ
れた配線等が破壊されることが考えられる。
【０００８】
そこで本発明は、超音波伝達手段の外周側面に洗浄液を流通させ、超音波伝達手段と被
洗浄物との間で洗浄液を維持されるようにすることで、被洗浄物にダメージを与えること
なく、少量の洗浄液で効率のよい超音波洗浄を行う超音波洗浄ユニット及び超音波洗浄装
置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の超音波洗浄ユニットは、間隙を持って被洗浄物の
被洗浄面に対向するように配置された超音波伝達手段と、前記超音波伝達手段に設けられ
前記超音波伝達手段を介して前記被洗浄面上の洗浄液に超音波を与える超音波振動子と、
前記洗浄液が流通する流路を前記超音波伝達手段の外周側面に有して囲み、前記超音波伝
達手段よりも前記被洗浄面に近接するように配置され、前記洗浄液を前記間隙に吐出する
導液手段と、を具備することを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の超音波洗浄装置は、前記被洗浄物の被洗浄面に対向配置される前記超音
波洗浄ユニットと、この超音波洗浄ユニットを保持し、往復移動可能な保持手段と、前記
超音波洗浄ユニットと対向して配置されており、前記被洗浄物を保持して回転させるスピ
ン処理ユニットとを備えていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、超音波伝達手段の外周側面に洗浄液を流通させ、超音波伝達手段と被
洗浄物との間で洗浄液を維持されるようにすることで、被洗浄物にダメージを与えること
なく、少量の洗浄液で効率のよい超音波洗浄を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る超音波洗浄装置の構成図。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る音波付与ヘッドの開口部の構成図。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る超音波ヘッドの上方の断面図。
【図４】本発明の第１の実施の形態に係る超音波振動板と導液管と被洗浄面との距離関係を示した図。
【図５】第２の実施の形態に係る超音波付与ヘッドの開口部の構成図。
【図６】第３の実施の形態に係る超音波付与ヘッドの開口部の構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【００１４】
（第１の実施形態）
図１は本発明の第１の実施の形態に係る超音波洗浄装置の構成図である。
【００１５】
図１に示すように、この超音波洗浄装置は、シリコンウエハなどの半導体基板や液晶表
示装置用ガラス基板などの被洗浄物Ｓを保持して回転させるスピン処理ユニット１０と、
被洗浄物Ｓに対して図示しない洗浄液Ｌを供給し、この洗浄液Ｌに超音波を付与して被洗
浄物Ｓの被洗浄面を洗浄する超音波洗浄ユニット２０とから構成される。
【００１６】
スピン処理ユニット１０は有底筒状のカップ体１１を有している。このカップ体１１は
開口部１１ａが上方に向くように配置されており、底部１１ｂには洗浄処理後の洗浄液Ｌ
を排出する複数の排出口１２が設けられている。
【００１７】
カップ体１１の下方にはモータ１３が配置されている。モータ１３の駆動軸１３ａは、
カップ体１１の底壁を貫通しており、その中途部は軸受１４により回転可能に支持されて
いる。
【００１８】
駆動軸１３ａの上端には回転テーブル１５が略水平に設けられている。回転テーブル１
５の上面外周部には複数の支持ピン１６が等間隔で配設されており、これら支持ピン１６
と被洗浄物Ｓの周縁部とを係合させることで、被洗浄物Ｓをほぼ水平に保持できるように
なっている。
【００１９】
一方、超音波洗浄ユニット２０は超音波付与ヘッド２１を有している。この超音波付与
ヘッド２１は被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａに対向配置されており、揺動アーム２２を駆動す
ることで、被洗浄面上を往復移動できるようになっている。
【００２０】
図２は、超音波付与ヘッド２１の構成図である。
【００２１】
図２に示すように、この超音波付与ヘッド２１は、ヘッド本体２１ａを有しており、ヘ
ッド本体２１ａは被洗浄面Ｓａ側に向けられて開口している。
【００２２】
超音波付与ヘッド２１は、円盤状の超音波振動子２３と、この超音波振動子２３の上方
に超音波振動子２３を冷却する冷却装置２４と、超音波振動子２３と接着固定され、被洗
浄物と対向配置された円柱型の超音波振動板２５（超音波伝達手段）と、被洗浄物Ｓに洗
浄液Ｌを供給する導液管４０（導液手段）とを備えている。
【００２３】
超音波振動子２３は、超音波振動板２５の上方に設けられており、その部材はＰＺＴや
チタン酸鉛などの圧電素子であっても構わない。
【００２４】
超音波振動子２３には、電源線を介してＲＦ電源２６が接続されており、これを制御駆
動することにより、超音波振動の発振を制御するよう構成されている。この超音波振動子
２３は、たとえば、２０Ｗ程度の電力の印加に対して、１．５ＭＨｚ程度の超音波振動を
行なうものである。
【００２５】
ＲＦ電源２６と超音波振動子２３の間には、マッチング回路２７が設けられている。こ
のマッチング回路２７は、ＲＦ電源２６と超音波振動子２３との間のインピーダンスをマ
ッチングさせるものであり、ＲＦ電源２６から供給される電力が超音波振動子２３で最も
効率よく超音波に変換されるよう予め定められている。
【００２６】
超音波振動子２３の上方には、冷却装置２４が設けられている。この冷却装置２４には
、冷却水導通路２８、冷却水を供給、排出するための冷却水給排口２９が設けられている
。この冷却水給排口２９は、図示しない冷却水供給源及び冷却水排出部に接続されている
。
【００２７】
超音波振動板２５は、超音波振動子２３が発振した超音波を被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａ
に排出された洗浄液Ｌに伝達させるものであり、平面状に形成された上端面２５ａで超音
波振動子２３に接着固定されている。一方、下端面２５ｂは、被洗浄面Ｓａ側に突出して
形成されている。本例では、下端面２５ｂは、径方向中心部に行くにつれて被洗浄面Ｓａ
側に突出するような曲面に形成されているが、これに限るものではない。
【００２８】
なお、超音波振動板２５の下端面２５ｂに、径方向中心部に切欠き部を設けても構わな
い。このような構成とすることで、被洗浄面Ｓａで反射した超音波が超音波振動板２５に
入射したとしても切欠き部を通過するときに屈折するため、超音波振動板２５の上端面２
５ａに固定された超音波振動子２３には超音波が入射し難くなる。
【００２９】
超音波振動板２５の部材としては、ＳｉＯ２を用いた超音波レンズ、ＳｉＣ、サファイ
アガラス、ステンレス、あるいはＴａのいずれか一種から構成される。超音波振動板２５
は、直接洗浄液Ｌと接するため、洗浄液Ｌの種類によっては、成分が溶出して被洗浄物Ｓ
を逆に汚染することが考えられる。したがってその材質については、使用する洗浄液Ｌの
種類によって適宜選択する必要がある。
【００３０】
導液管４０は、超音波振動板２５の外周側面を囲む外壁４０ａと、供給する洗浄液供給
口３０から供給された洗浄液Ｌが流通する洗浄液流路４０ｂ（流路）とから構成されてお
り、この洗浄液流路４０ｂに流通された洗浄液Ｌを外壁４０ａの先端から被洗浄物Ｓへ吐
出される。なお、本例においては導液管４０が超音波付与ヘッド本体２１ａの開口部と一
体形成されているが、これに限られるものではなく、たとえば、超音波付与ヘッド本体２
１ａの開口部の内側に別途備えられていても構わない。
【００３１】
図３は、本実施形態における超音波ヘッド２１の上方における（ａ）は縦断面図、（ｂ
）は（ａ）におけるＡ‐Ａ断面図である。超音波振動板２５の上端面２５ａには超音波振
動子２３が接着固定されており、下端面２５ｂは下方に突出（本例においては球面）した
円柱形状をなしている。導液管４０は、この超音波振動板２５と概ね同心円の円柱形状を
なし、超音波振動板２５の外周側面から径方向に拡大した外壁４０ａで超音波振動板２５
を覆っている。そして、超音波振動板２５と導液管４０との間には洗浄液が流通する洗浄
液流路４０ｂが設けられている。
【００３２】
本例の導液管４０は、垂直下方向に凸形状をしており、流路４０ｂの幅に段階が設けら
れているが、これに限るものではなく、たとえば、超音波振動板２５と導液管４０との間
隔が単一であっても構わない。もっとも、洗浄液Ｌが洗浄液供給口３０から多量に排出さ
れることを防止するためにも、超音波振動板２５と導液管４０との間隔は狭いほど好まし
い。
【００３３】
図４は、本実施形態における超音波振動板２５と導液管４０と被洗浄面Ｓａとの距離関
係を示した図である。距離Ｐは、外壁４０ａの先端部ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離であ
り、距離Ｑは、超音波振動板２５の下端面２５ｂ上で最も被洗浄面Ｓａに接近する接近点
ｍから被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａまでの距離をいう。
【００３４】
ここで、距離Ｐは、距離Ｑと同一であるか、より小さくなくてはならない。具体的には
、下端面２５ｂ上の接近点ｍから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｑが３ｍｍの場合、外壁４０ａ
の先端部ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｐは１ｍｍから３ｍｍであることが望ましい。外
壁４０ａの先端部ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｐが１ｍｍ以下であると、揺動アーム２
２が被洗浄面上を往復移動する際に、導液管４０の先端が支持ピン１６に係合し、洗浄効
率が低下するおそれがあるため、距離Ｐを１ｍｍ以上にすることが好ましい。
【００３５】
次に、上記構成の超音波洗浄装置を使用する際の作用について説明する。
【００３６】
回転テーブル１５上の支持ピン１６で被洗浄物Ｓを支持したら、被洗浄物Ｓを周方向に
回転させるとともに、洗浄液供給口３０から導液管４０に洗浄液Ｌを供給する。流入され
た洗浄液Ｌは導液管４０を通過し、被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａに吐出される。超音波振動
板２５と被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａとの間が洗浄液Ｌで充たされたら、超音波振動子２３
を駆動して超音波振動板２５から被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａ上の洗浄液Ｌに超音波を与え
る。
【００３７】
導液管４０は、超音波振動板２５と概ね同心円に設置されており、超音波振動板２５の
外周側面を覆うように設けられている。このため、洗浄液供給口３０から供給された洗浄
液Ｌは、この導液管４０に流入され、被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａに吐出されることとなる
。この導液管４０の外壁４０ａの先端部ｈと被洗浄面Ｓａとの距離Ｐは、超音波振動板２
５の下端面２５ｂの接近点ｍと被洗浄面Ｓａとの距離Ｑと同一、あるいはより小さい。こ
のため、導液管４０から吐出された洗浄液Ｌは導液管４０と被洗浄面Ｓａとの間で流路抵
抗を受け、被洗浄物Ｓと超音波振動板２５との間で保持されることとなる。
【００３８】
すなわち、洗浄液Ｌが外部に流出するのをせき止め、容易に外部に排出されるのを防止
することが可能となるため、少量の洗浄液Ｌで、被洗浄面Ｓａと超音波振動板２５の下端
面２５ｂとの間の液を維持することが可能となる。
【００３９】
特に、洗浄液Ｌに、たとえばハイドロフルカーボン、ハイドロフルオロエーテル、パー
フルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボンといった表面張力の小さい液体を使
用した場合であっても、洗浄液Ｌが被洗浄面Ｓａと超音波振動板２５との間に保持される
ため、少量の洗浄液Ｌで洗浄処理を行うことが可能となる。
【００４０】
以上のように本実施の形態における超音波洗浄装置を利用して超音波洗浄を行なうと、
従来の超音波洗浄方法に比べて配線等に対するダメージや、基板等を構成する物質の結晶
状態に与えるダメージを極力低減することができ、半導体装置や液晶表示装置の製造工程
における歩留まりを大幅に向上させることが可能となる。
【００４１】
（第２の実施形態）
図５は本実施の形態に係る本発明の第２の実施の形態に係る超音波付与ヘッド２１の開
口部の構成図である。超音波付与ヘッド２１の開口部の基本構成は第１の実施形態に変わ
らないが、本実施形態では、導液管４０（導液手段）の内壁４０ｃが別途に設けて構成さ
れている。この導液管４０の内壁４０ｃは、超音波振動板２５の外周側面を超音波振動板
２５と概ね同心円で覆うように接着されており、内壁４０ｃから径拡方向に一定間隔をお
いて導液管４０の外壁４０ａが設けられている。
【００４２】
内壁４０ｃの先端部ｔと被洗浄面Ｓａとの距離Ｒは、導液管４０の外壁４０ａの先端部
ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｐより大きい。ただし、距離Ｒは、超音波振動板２５の接
近点ｍから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｑと同一、あるいは、より小さく構成される。このよ
うに本実施形態の導液管４０は、超音波振動板２５の下端面２５ｂの外周において、細い
管で構成され、洗浄液Ｌを吐出する部分が大きく開口している。
【００４３】
なお、この導液管４０の内壁４０ｃは、たとえばフッ素樹脂のような超音波吸収部材を
用いるとよい。洗浄液Ｌに超音波を付与する場合、超音波振動子２３で発振した超音波が
導液管４０の側面で反射し、その一部が超音波振動子２３に入射することがあるが、超音
波吸収部材で超音波振動板２５の外周を覆うことで、反射波が超音波振動子２３に入射さ
れることを防ぐことになるからである。
【００４４】
次に、本実施形態の作用について説明する。
【００４５】
導液管４０の内壁４０ｃは、超音波振動板２５と同心円になるように接着されており、
一定間隔をおいて導液管４０の外壁４０ａが同心円の円柱形状に設けられているため、洗
浄液供給口３０から供給された洗浄液Ｌは、内壁４０ｃと外壁４０ａとの間で流入し、被
洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａに排出されることとなる。
【００４６】
内壁４０ａの先端部ｔから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｒは、導液管４０の外壁４０ａの先
端部ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｐより大きく構成されているため、洗浄液Ｌは導液管
４０の外壁４０ａで流路抵抗を受け、被洗浄物Ｓと超音波振動板２５との間で常に満たさ
れる。
【００４７】
すなわち、洗浄液Ｌが外部に流出するのをせき止め、容易に外部に排出されるのを防止
することが可能となるため、少量の洗浄液Ｌで、被洗浄面Ｓａと超音波洗浄板２５の下端
面２５ｂとの間の洗浄液Ｌを維持することができ、効率よく洗浄を行なうことができる。
【００４８】
また、本実施形態の導液管４０は、超音波振動板２５の下端面２５ｂ周辺において細微
に構成されるため、洗浄液供給口３０から多量の洗浄液Ｌを一気に流出することがない。
さらに、導液管４０は超音波振動板２５の下端面２５ｂ周辺において大きく開口している
ため、適量の洗浄液Ｌが超音波振動板２５と被洗浄面Ｓａとの間に供給されることとなる
。
【００４９】
以上のように本実施の形態における超音波洗浄装置を利用して超音波洗浄を行なうと、
従来の超音波洗浄方法に比べて配線等に対するダメージや、基板等を構成する物質の結晶
状態に与えるダメージを極力低減することができ、半導体装置や液晶表示装置の製造工程
における歩留まりを大幅に向上させることが可能となる。
【００５０】
（第３の実施形態）
図６は本実施の形態に係る本発明の第３の実施の形態に係る超音波付与ヘッド２１の開
口部の構成図である。超音波付与ヘッド２１の開口部の基本構成は第１の実施形態に変わ
らないが、本実施形態では、導液管４０の外壁４０ａの先端に導液管４０と一体形成され
たじゃま板６０を設置した。このじゃま板６０は、超音波伝達板２５の軸心に向かって水
平に設置される。
【００５１】
このような構成とすることで、洗浄液Ｌが、導液管４０の先端で被洗浄面Ｓａとの間で
、より大きな流路抵抗を受け、被洗浄物Ｓと超音波振動板２５との間で常に満たされるこ
ととなる。
【００５２】
また、洗浄液Ｌが外部に流出するのをせき止め、容易に外部に排出されるのを防止する
ことが可能となるため、少量の洗浄液Ｌで、被洗浄面Ｓａと超音波振動板２５の下端面２
５ａｂとの間の洗浄液Ｌを維持することができ、効率よく洗浄を行なうことができる。
【００５３】
以上のように本実施の形態における超音波洗浄装置を利用して超音波洗浄を行なうと、
従来の超音波洗浄方法に比べて配線等に対するダメージや、基板等を構成する物質の結晶
状態もに与えるダメージを極力低減することができ、半導体装置や液晶表示装置の製造工
程における歩留まりを大幅に向上させることが可能となる。
【００５４】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要
旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示され
ている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実
施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実
施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００５５】
２０…超音波洗浄ユニット、２１…超音波付与ヘッド、２１ａ…ヘッド本体、２３…超音
波振動子、２４…冷却装置、２５…超音波振動板（超音波伝達手段）、２５ａ…上端面、
２５ｂ…下端面、３０…洗浄液供給口、４０…導液管（導液手段）、４０ａ…外壁、４０
ｂ…洗浄液流路（流路）、４０ｃ…内壁、Ｌ…洗浄液、Ｓ…被洗浄物、Ｓａ…被洗浄面、
ｍ…接近点
【技術分野】
【０００１】
本発明は超音波を液体中に照射し、洗浄等の処理を行う超音波洗浄ユニット、超音波洗
浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体基板や液晶表示装置用のガラス基板等の製造工程では、種々の微細加工の前後で
、ガラス基板等の被洗浄物に付着したサブミクロンオーダのパーティクル等を洗浄除去す
る必要がある。そこで、被洗浄物に対して、ダメージの少ない５００ｋＨｚ〜１．５ＭＨ
ｚの高周波数の超音波を印加した洗浄液を照射して洗浄する超音波洗浄方法が一般的に用
いられている。
【０００３】
この他、近年、被洗浄物の上面に洗浄液を供給し、この洗浄液に対して被洗浄物上で超
音波を付与する超音波洗浄装置が開示されている（たとえば、特許文献１）。
【０００４】
この超音波洗浄装置は、被洗浄物の上面に対して略垂直に配置された円筒状の超音波付
与ヘッドを備えており、この超音波付与ヘッドには、下端部に超音波伝達手段、内部に超
音波を発振する超音波振動子とこの超音波振動子を冷却する冷却手段、さらに外側部に被
洗浄物の上面に洗浄液を供給するノズルとが備えられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３１５４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した超音波伝達手段を被洗浄物の被洗浄面に近接させる超音波洗浄装置には次のよ
うな問題があった。すなわち、超音波伝達手段と被洗浄物との間の距離が大きいと、この
距離を満たすための洗浄液の必要量が増大しコスト高を招くことになる。特に、微細構造
体の表面処理では、残留液体によるダメージを抑制するためにハイドロフルオロカーボン
のような表面張力の小さい洗浄液を用いるが、表面張力の小さい液体は被洗浄物の表面で
の液膜の維持が難しく、大量の洗浄液を使用してしまう。このため、超音波伝達手段を被
洗浄物の表面に可能な限り近付け、洗浄液の使用量を抑える必要がある。
【０００７】
しかしながら、超音波伝達手段と被洗浄物との間の距離が小さいと、被洗浄物の表面に
は微小なうねりや被洗浄物の厚さの不均一性があるため、一定の高さ位置で超音波洗浄ユ
ニットを移動させた場合、超音伝達手段と被洗浄物とが接触し、被洗浄物の表面に形成さ
れた配線等が破壊されることが考えられる。
【０００８】
そこで本発明は、超音波伝達手段の外周側面に洗浄液を流通させ、超音波伝達手段と被
洗浄物との間で洗浄液を維持されるようにすることで、被洗浄物にダメージを与えること
なく、少量の洗浄液で効率のよい超音波洗浄を行う超音波洗浄ユニット及び超音波洗浄装
置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の超音波洗浄ユニットは、間隙を持って被洗浄物の
被洗浄面に対向するように配置された超音波伝達手段と、前記超音波伝達手段に設けられ
前記超音波伝達手段を介して前記被洗浄面上の洗浄液に超音波を与える超音波振動子と、
前記洗浄液が流通する流路を前記超音波伝達手段の外周側面に有して囲み、前記超音波伝
達手段よりも前記被洗浄面に近接するように配置され、前記洗浄液を前記間隙に吐出する
導液手段と、を具備することを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の超音波洗浄装置は、前記被洗浄物の被洗浄面に対向配置される前記超音
波洗浄ユニットと、この超音波洗浄ユニットを保持し、往復移動可能な保持手段と、前記
超音波洗浄ユニットと対向して配置されており、前記被洗浄物を保持して回転させるスピ
ン処理ユニットとを備えていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、超音波伝達手段の外周側面に洗浄液を流通させ、超音波伝達手段と被
洗浄物との間で洗浄液を維持されるようにすることで、被洗浄物にダメージを与えること
なく、少量の洗浄液で効率のよい超音波洗浄を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る超音波洗浄装置の構成図。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る音波付与ヘッドの開口部の構成図。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る超音波ヘッドの上方の断面図。
【図４】本発明の第１の実施の形態に係る超音波振動板と導液管と被洗浄面との距離関係を示した図。
【図５】第２の実施の形態に係る超音波付与ヘッドの開口部の構成図。
【図６】第３の実施の形態に係る超音波付与ヘッドの開口部の構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【００１４】
（第１の実施形態）
図１は本発明の第１の実施の形態に係る超音波洗浄装置の構成図である。
【００１５】
図１に示すように、この超音波洗浄装置は、シリコンウエハなどの半導体基板や液晶表
示装置用ガラス基板などの被洗浄物Ｓを保持して回転させるスピン処理ユニット１０と、
被洗浄物Ｓに対して図示しない洗浄液Ｌを供給し、この洗浄液Ｌに超音波を付与して被洗
浄物Ｓの被洗浄面を洗浄する超音波洗浄ユニット２０とから構成される。
【００１６】
スピン処理ユニット１０は有底筒状のカップ体１１を有している。このカップ体１１は
開口部１１ａが上方に向くように配置されており、底部１１ｂには洗浄処理後の洗浄液Ｌ
を排出する複数の排出口１２が設けられている。
【００１７】
カップ体１１の下方にはモータ１３が配置されている。モータ１３の駆動軸１３ａは、
カップ体１１の底壁を貫通しており、その中途部は軸受１４により回転可能に支持されて
いる。
【００１８】
駆動軸１３ａの上端には回転テーブル１５が略水平に設けられている。回転テーブル１
５の上面外周部には複数の支持ピン１６が等間隔で配設されており、これら支持ピン１６
と被洗浄物Ｓの周縁部とを係合させることで、被洗浄物Ｓをほぼ水平に保持できるように
なっている。
【００１９】
一方、超音波洗浄ユニット２０は超音波付与ヘッド２１を有している。この超音波付与
ヘッド２１は被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａに対向配置されており、揺動アーム２２を駆動す
ることで、被洗浄面上を往復移動できるようになっている。
【００２０】
図２は、超音波付与ヘッド２１の構成図である。
【００２１】
図２に示すように、この超音波付与ヘッド２１は、ヘッド本体２１ａを有しており、ヘ
ッド本体２１ａは被洗浄面Ｓａ側に向けられて開口している。
【００２２】
超音波付与ヘッド２１は、円盤状の超音波振動子２３と、この超音波振動子２３の上方
に超音波振動子２３を冷却する冷却装置２４と、超音波振動子２３と接着固定され、被洗
浄物と対向配置された円柱型の超音波振動板２５（超音波伝達手段）と、被洗浄物Ｓに洗
浄液Ｌを供給する導液管４０（導液手段）とを備えている。
【００２３】
超音波振動子２３は、超音波振動板２５の上方に設けられており、その部材はＰＺＴや
チタン酸鉛などの圧電素子であっても構わない。
【００２４】
超音波振動子２３には、電源線を介してＲＦ電源２６が接続されており、これを制御駆
動することにより、超音波振動の発振を制御するよう構成されている。この超音波振動子
２３は、たとえば、２０Ｗ程度の電力の印加に対して、１．５ＭＨｚ程度の超音波振動を
行なうものである。
【００２５】
ＲＦ電源２６と超音波振動子２３の間には、マッチング回路２７が設けられている。こ
のマッチング回路２７は、ＲＦ電源２６と超音波振動子２３との間のインピーダンスをマ
ッチングさせるものであり、ＲＦ電源２６から供給される電力が超音波振動子２３で最も
効率よく超音波に変換されるよう予め定められている。
【００２６】
超音波振動子２３の上方には、冷却装置２４が設けられている。この冷却装置２４には
、冷却水導通路２８、冷却水を供給、排出するための冷却水給排口２９が設けられている
。この冷却水給排口２９は、図示しない冷却水供給源及び冷却水排出部に接続されている
。
【００２７】
超音波振動板２５は、超音波振動子２３が発振した超音波を被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａ
に排出された洗浄液Ｌに伝達させるものであり、平面状に形成された上端面２５ａで超音
波振動子２３に接着固定されている。一方、下端面２５ｂは、被洗浄面Ｓａ側に突出して
形成されている。本例では、下端面２５ｂは、径方向中心部に行くにつれて被洗浄面Ｓａ
側に突出するような曲面に形成されているが、これに限るものではない。
【００２８】
なお、超音波振動板２５の下端面２５ｂに、径方向中心部に切欠き部を設けても構わな
い。このような構成とすることで、被洗浄面Ｓａで反射した超音波が超音波振動板２５に
入射したとしても切欠き部を通過するときに屈折するため、超音波振動板２５の上端面２
５ａに固定された超音波振動子２３には超音波が入射し難くなる。
【００２９】
超音波振動板２５の部材としては、ＳｉＯ２を用いた超音波レンズ、ＳｉＣ、サファイ
アガラス、ステンレス、あるいはＴａのいずれか一種から構成される。超音波振動板２５
は、直接洗浄液Ｌと接するため、洗浄液Ｌの種類によっては、成分が溶出して被洗浄物Ｓ
を逆に汚染することが考えられる。したがってその材質については、使用する洗浄液Ｌの
種類によって適宜選択する必要がある。
【００３０】
導液管４０は、超音波振動板２５の外周側面を囲む外壁４０ａと、供給する洗浄液供給
口３０から供給された洗浄液Ｌが流通する洗浄液流路４０ｂ（流路）とから構成されてお
り、この洗浄液流路４０ｂに流通された洗浄液Ｌを外壁４０ａの先端から被洗浄物Ｓへ吐
出される。なお、本例においては導液管４０が超音波付与ヘッド本体２１ａの開口部と一
体形成されているが、これに限られるものではなく、たとえば、超音波付与ヘッド本体２
１ａの開口部の内側に別途備えられていても構わない。
【００３１】
図３は、本実施形態における超音波ヘッド２１の上方における（ａ）は縦断面図、（ｂ
）は（ａ）におけるＡ‐Ａ断面図である。超音波振動板２５の上端面２５ａには超音波振
動子２３が接着固定されており、下端面２５ｂは下方に突出（本例においては球面）した
円柱形状をなしている。導液管４０は、この超音波振動板２５と概ね同心円の円柱形状を
なし、超音波振動板２５の外周側面から径方向に拡大した外壁４０ａで超音波振動板２５
を覆っている。そして、超音波振動板２５と導液管４０との間には洗浄液が流通する洗浄
液流路４０ｂが設けられている。
【００３２】
本例の導液管４０は、垂直下方向に凸形状をしており、流路４０ｂの幅に段階が設けら
れているが、これに限るものではなく、たとえば、超音波振動板２５と導液管４０との間
隔が単一であっても構わない。もっとも、洗浄液Ｌが洗浄液供給口３０から多量に排出さ
れることを防止するためにも、超音波振動板２５と導液管４０との間隔は狭いほど好まし
い。
【００３３】
図４は、本実施形態における超音波振動板２５と導液管４０と被洗浄面Ｓａとの距離関
係を示した図である。距離Ｐは、外壁４０ａの先端部ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離であ
り、距離Ｑは、超音波振動板２５の下端面２５ｂ上で最も被洗浄面Ｓａに接近する接近点
ｍから被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａまでの距離をいう。
【００３４】
ここで、距離Ｐは、距離Ｑと同一であるか、より小さくなくてはならない。具体的には
、下端面２５ｂ上の接近点ｍから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｑが３ｍｍの場合、外壁４０ａ
の先端部ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｐは１ｍｍから３ｍｍであることが望ましい。外
壁４０ａの先端部ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｐが１ｍｍ以下であると、揺動アーム２
２が被洗浄面上を往復移動する際に、導液管４０の先端が支持ピン１６に係合し、洗浄効
率が低下するおそれがあるため、距離Ｐを１ｍｍ以上にすることが好ましい。
【００３５】
次に、上記構成の超音波洗浄装置を使用する際の作用について説明する。
【００３６】
回転テーブル１５上の支持ピン１６で被洗浄物Ｓを支持したら、被洗浄物Ｓを周方向に
回転させるとともに、洗浄液供給口３０から導液管４０に洗浄液Ｌを供給する。流入され
た洗浄液Ｌは導液管４０を通過し、被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａに吐出される。超音波振動
板２５と被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａとの間が洗浄液Ｌで充たされたら、超音波振動子２３
を駆動して超音波振動板２５から被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａ上の洗浄液Ｌに超音波を与え
る。
【００３７】
導液管４０は、超音波振動板２５と概ね同心円に設置されており、超音波振動板２５の
外周側面を覆うように設けられている。このため、洗浄液供給口３０から供給された洗浄
液Ｌは、この導液管４０に流入され、被洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａに吐出されることとなる
。この導液管４０の外壁４０ａの先端部ｈと被洗浄面Ｓａとの距離Ｐは、超音波振動板２
５の下端面２５ｂの接近点ｍと被洗浄面Ｓａとの距離Ｑと同一、あるいはより小さい。こ
のため、導液管４０から吐出された洗浄液Ｌは導液管４０と被洗浄面Ｓａとの間で流路抵
抗を受け、被洗浄物Ｓと超音波振動板２５との間で保持されることとなる。
【００３８】
すなわち、洗浄液Ｌが外部に流出するのをせき止め、容易に外部に排出されるのを防止
することが可能となるため、少量の洗浄液Ｌで、被洗浄面Ｓａと超音波振動板２５の下端
面２５ｂとの間の液を維持することが可能となる。
【００３９】
特に、洗浄液Ｌに、たとえばハイドロフルカーボン、ハイドロフルオロエーテル、パー
フルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボンといった表面張力の小さい液体を使
用した場合であっても、洗浄液Ｌが被洗浄面Ｓａと超音波振動板２５との間に保持される
ため、少量の洗浄液Ｌで洗浄処理を行うことが可能となる。
【００４０】
以上のように本実施の形態における超音波洗浄装置を利用して超音波洗浄を行なうと、
従来の超音波洗浄方法に比べて配線等に対するダメージや、基板等を構成する物質の結晶
状態に与えるダメージを極力低減することができ、半導体装置や液晶表示装置の製造工程
における歩留まりを大幅に向上させることが可能となる。
【００４１】
（第２の実施形態）
図５は本実施の形態に係る本発明の第２の実施の形態に係る超音波付与ヘッド２１の開
口部の構成図である。超音波付与ヘッド２１の開口部の基本構成は第１の実施形態に変わ
らないが、本実施形態では、導液管４０（導液手段）の内壁４０ｃが別途に設けて構成さ
れている。この導液管４０の内壁４０ｃは、超音波振動板２５の外周側面を超音波振動板
２５と概ね同心円で覆うように接着されており、内壁４０ｃから径拡方向に一定間隔をお
いて導液管４０の外壁４０ａが設けられている。
【００４２】
内壁４０ｃの先端部ｔと被洗浄面Ｓａとの距離Ｒは、導液管４０の外壁４０ａの先端部
ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｐより大きい。ただし、距離Ｒは、超音波振動板２５の接
近点ｍから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｑと同一、あるいは、より小さく構成される。このよ
うに本実施形態の導液管４０は、超音波振動板２５の下端面２５ｂの外周において、細い
管で構成され、洗浄液Ｌを吐出する部分が大きく開口している。
【００４３】
なお、この導液管４０の内壁４０ｃは、たとえばフッ素樹脂のような超音波吸収部材を
用いるとよい。洗浄液Ｌに超音波を付与する場合、超音波振動子２３で発振した超音波が
導液管４０の側面で反射し、その一部が超音波振動子２３に入射することがあるが、超音
波吸収部材で超音波振動板２５の外周を覆うことで、反射波が超音波振動子２３に入射さ
れることを防ぐことになるからである。
【００４４】
次に、本実施形態の作用について説明する。
【００４５】
導液管４０の内壁４０ｃは、超音波振動板２５と同心円になるように接着されており、
一定間隔をおいて導液管４０の外壁４０ａが同心円の円柱形状に設けられているため、洗
浄液供給口３０から供給された洗浄液Ｌは、内壁４０ｃと外壁４０ａとの間で流入し、被
洗浄物Ｓの被洗浄面Ｓａに排出されることとなる。
【００４６】
内壁４０ａの先端部ｔから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｒは、導液管４０の外壁４０ａの先
端部ｈから被洗浄面Ｓａまでの距離Ｐより大きく構成されているため、洗浄液Ｌは導液管
４０の外壁４０ａで流路抵抗を受け、被洗浄物Ｓと超音波振動板２５との間で常に満たさ
れる。
【００４７】
すなわち、洗浄液Ｌが外部に流出するのをせき止め、容易に外部に排出されるのを防止
することが可能となるため、少量の洗浄液Ｌで、被洗浄面Ｓａと超音波洗浄板２５の下端
面２５ｂとの間の洗浄液Ｌを維持することができ、効率よく洗浄を行なうことができる。
【００４８】
また、本実施形態の導液管４０は、超音波振動板２５の下端面２５ｂ周辺において細微
に構成されるため、洗浄液供給口３０から多量の洗浄液Ｌを一気に流出することがない。
さらに、導液管４０は超音波振動板２５の下端面２５ｂ周辺において大きく開口している
ため、適量の洗浄液Ｌが超音波振動板２５と被洗浄面Ｓａとの間に供給されることとなる
。
【００４９】
以上のように本実施の形態における超音波洗浄装置を利用して超音波洗浄を行なうと、
従来の超音波洗浄方法に比べて配線等に対するダメージや、基板等を構成する物質の結晶
状態に与えるダメージを極力低減することができ、半導体装置や液晶表示装置の製造工程
における歩留まりを大幅に向上させることが可能となる。
【００５０】
（第３の実施形態）
図６は本実施の形態に係る本発明の第３の実施の形態に係る超音波付与ヘッド２１の開
口部の構成図である。超音波付与ヘッド２１の開口部の基本構成は第１の実施形態に変わ
らないが、本実施形態では、導液管４０の外壁４０ａの先端に導液管４０と一体形成され
たじゃま板６０を設置した。このじゃま板６０は、超音波伝達板２５の軸心に向かって水
平に設置される。
【００５１】
このような構成とすることで、洗浄液Ｌが、導液管４０の先端で被洗浄面Ｓａとの間で
、より大きな流路抵抗を受け、被洗浄物Ｓと超音波振動板２５との間で常に満たされるこ
ととなる。
【００５２】
また、洗浄液Ｌが外部に流出するのをせき止め、容易に外部に排出されるのを防止する
ことが可能となるため、少量の洗浄液Ｌで、被洗浄面Ｓａと超音波振動板２５の下端面２
５ａｂとの間の洗浄液Ｌを維持することができ、効率よく洗浄を行なうことができる。
【００５３】
以上のように本実施の形態における超音波洗浄装置を利用して超音波洗浄を行なうと、
従来の超音波洗浄方法に比べて配線等に対するダメージや、基板等を構成する物質の結晶
状態もに与えるダメージを極力低減することができ、半導体装置や液晶表示装置の製造工
程における歩留まりを大幅に向上させることが可能となる。
【００５４】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要
旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示され
ている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実
施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実
施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００５５】
２０…超音波洗浄ユニット、２１…超音波付与ヘッド、２１ａ…ヘッド本体、２３…超音
波振動子、２４…冷却装置、２５…超音波振動板（超音波伝達手段）、２５ａ…上端面、
２５ｂ…下端面、３０…洗浄液供給口、４０…導液管（導液手段）、４０ａ…外壁、４０
ｂ…洗浄液流路（流路）、４０ｃ…内壁、Ｌ…洗浄液、Ｓ…被洗浄物、Ｓａ…被洗浄面、
ｍ…接近点
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間隙を持って被洗浄物の被洗浄面に対向するように配置された超音波伝達手段と、
前記超音波伝達手段に設けられ前記超音波伝達手段を介して前記被洗浄面上の洗浄液に超
音波を与える超音波振動子と、
前記洗浄液が流通する流路を前記超音波伝達手段の外周側面に有して囲み、前記超音波伝
達手段よりも前記被洗浄面に近接するように配置され、前記洗浄液を前記間隙に吐出する
導液手段と、
を具備することを特徴とする超音波洗浄ユニット。
【請求項２】
間隙を持って被洗浄物の被洗浄面に対向するように配置された超音波伝達手段と、
前記超音波伝達手段に設けられ前記超音波伝達手段を介して前記被洗浄面上の洗浄液に超
音波を与える超音波振動子と、
前記洗浄液が流通する流路を前記超音波伝達手段の外周側面に有して囲み、前記被洗浄面
との距離が前記超音波伝達手段と前記被洗浄面との距離と同一になるように配置され、前
記洗浄液を前記間隙に吐出する導液手段と、
を具備することを特徴とする超音波洗浄ユニット。
【請求項３】
前記導液手段は、円柱型の前記超音波伝達手段と同心円であり、前記超音波伝達手段の
外周を径方向に拡大された円筒型を形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項
２記載の超音波洗浄ユニット。
【請求項４】
前記導液手段は、前記超音波伝達手段の軸心に向かって水平に設置されたじゃま板を備
えており、このじゃま板から前記洗浄液を前記間隙に吐出されることを特徴とする請求項
１乃至請求項３のいずれか１項に記載の超音波洗浄ユニット。
【請求項５】
前記洗浄液は、水よりも表面張力が小さい液体であることを特徴とする請求項１乃至請
求項４のいずれか１項に記載の超音波洗浄ユニット。
【請求項６】
前記超音波伝達手段は、前記超音波振動子で発振された超音波が、前記被洗浄面で反射
し前記超音波伝達手段を介して前記超音波振動子に入射するのを防止する防止手段を具備
することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の超音波洗浄ユニット
。
【請求項７】
前記導液手段は、前記超音波伝達手段の外周側面に接着され超音波吸収部材からなる内
壁を具備することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の超音波洗浄
ユニット。
【請求項８】
前記被洗浄物の被洗浄面に対向配置される請求項１乃至７いずれか１項記載の超音波洗
浄ユニットと、
この超音波洗浄ユニットを保持し、往復移動可能な保持手段と、
前記超音波洗浄ユニットと対向して配置されており、前記被洗浄物を保持して回転させる
スピン処理ユニットと、
を備えていることを特徴とする超音波洗浄装置。
【請求項１】
間隙を持って被洗浄物の被洗浄面に対向するように配置された超音波伝達手段と、
前記超音波伝達手段に設けられ前記超音波伝達手段を介して前記被洗浄面上の洗浄液に超
音波を与える超音波振動子と、
前記洗浄液が流通する流路を前記超音波伝達手段の外周側面に有して囲み、前記超音波伝
達手段よりも前記被洗浄面に近接するように配置され、前記洗浄液を前記間隙に吐出する
導液手段と、
を具備することを特徴とする超音波洗浄ユニット。
【請求項２】
間隙を持って被洗浄物の被洗浄面に対向するように配置された超音波伝達手段と、
前記超音波伝達手段に設けられ前記超音波伝達手段を介して前記被洗浄面上の洗浄液に超
音波を与える超音波振動子と、
前記洗浄液が流通する流路を前記超音波伝達手段の外周側面に有して囲み、前記被洗浄面
との距離が前記超音波伝達手段と前記被洗浄面との距離と同一になるように配置され、前
記洗浄液を前記間隙に吐出する導液手段と、
を具備することを特徴とする超音波洗浄ユニット。
【請求項３】
前記導液手段は、円柱型の前記超音波伝達手段と同心円であり、前記超音波伝達手段の
外周を径方向に拡大された円筒型を形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項
２記載の超音波洗浄ユニット。
【請求項４】
前記導液手段は、前記超音波伝達手段の軸心に向かって水平に設置されたじゃま板を備
えており、このじゃま板から前記洗浄液を前記間隙に吐出されることを特徴とする請求項
１乃至請求項３のいずれか１項に記載の超音波洗浄ユニット。
【請求項５】
前記洗浄液は、水よりも表面張力が小さい液体であることを特徴とする請求項１乃至請
求項４のいずれか１項に記載の超音波洗浄ユニット。
【請求項６】
前記超音波伝達手段は、前記超音波振動子で発振された超音波が、前記被洗浄面で反射
し前記超音波伝達手段を介して前記超音波振動子に入射するのを防止する防止手段を具備
することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の超音波洗浄ユニット
。
【請求項７】
前記導液手段は、前記超音波伝達手段の外周側面に接着され超音波吸収部材からなる内
壁を具備することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の超音波洗浄
ユニット。
【請求項８】
前記被洗浄物の被洗浄面に対向配置される請求項１乃至７いずれか１項記載の超音波洗
浄ユニットと、
この超音波洗浄ユニットを保持し、往復移動可能な保持手段と、
前記超音波洗浄ユニットと対向して配置されており、前記被洗浄物を保持して回転させる
スピン処理ユニットと、
を備えていることを特徴とする超音波洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−２３８７４４（Ｐ２０１０−２３８７４４Ａ）
【公開日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−８２３３２（Ｐ２００９−８２３３２）
【出願日】平成２１年３月３０日（２００９．３．３０）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月３０日（２００９．３．３０）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【Ｆターム（参考）】
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