【課題】本発明の目的は、肉盛部の酸化を抑制し、高品質の肉盛部の作製が可能なパウダ供給ノズルおよび肉盛溶接方法を提供することにある。
【解決手段】施工対象物にレーザを照射するレーザ出射部と、レーザ出射部の外周に設置され、レーザ照射部にパウダを吐出するパウダ供給部を備えたパウダ供給ノズルにおいて、前記パウダ供給部の外周にレーザ照射部の周囲の大気をレーザ照射部外へ誘導する機構を備えたことを特徴とするパウダ供給ノズル。 （もっと読む）

【課題】補修作業の工数低減を実現したうえで、水中構造物の欠陥部を完全且つ確実に封止することが可能である水中補修溶接方法を提供する。
【解決手段】水中構造物Ｓに生じた欠陥部Ｘを含む水中構造物Ｓの底面Ｓａを被覆板１０で覆いつつ、この被覆板１０をレーザ溶接により水中構造物Ｓの底面Ｓａに溶接する水中補修溶接方法であって、被覆板１０に母材である水中構造物Ｓと同じ材料で且つ板厚０．５〜４ｍｍの薄板を用い、被覆板１０の周縁部１１から中心側に入り込んだ位置において、水中構造物Ｓの底面Ｓａにおける欠陥部Ｘを井桁状に囲むように、不活性ガスＧを供給しながらレーザ光Ｌを照射して貫通溶接を施す。 （もっと読む）

【課題】被補修面が滑らかであるか否かにかかわらず、溶接部ないしその近傍をドライ雰囲気に保つことができ、良好な水中補修溶接を行うことが可能になるガスシールド体及び水中補修溶接装置を提供する。
【解決手段】水中構造物Ｓをレーザ溶接により水中補修する水中補修溶接装置であって、レーザ発振器２と、レーザ発振器２で発振されたレーザ光Ｌを集光して水中構造物Ｓに照射する集光部５を有するレーザ溶接ヘッド７と、レーザ溶接ヘッド７の先端に位置してレーザ光Ｌと同軸にシールドガスＧを溶接部分に供給するノズル６と、ノズル６に設置されてガス保持空間１３を多数有するシールド体本体１２を具備したガスシールド体１１を備え、シールド体本体１２には、被覆板２０に接触して該被覆板２０上の凹凸を吸収可能に摺動する接触面１４と、ノズル６の先端が一端側に嵌合され且つ他端が接触面１４で開口する貫通孔１５が具備されている。 （もっと読む）

【課題】居住可能な建造物の表面を加工する。
【解決手段】レーザの基本ユニットは、レーザ発生器３１０と、レーザ発生器３１０に結合されたレーザヘッド２００とを含む。レーザヘッド２００は、気体格納器２４０を含み、当該気体格納器は、材料を閉じ込め相互作用領域から除去する。気体格納器２４０は、ゴム製シールを含み、当該シールは、建造物と接触し、相互作用領域を実質的に取り囲むので、材料の閉じ込めおよび相互作用領域からの除去が促進され、建造物内における活動に対する妨害が減少する。本装置は、固定用メカニズム１１０をさらに含み、この固定用メカニズムは、建造物に取り外し可能に結合され、レーザヘッド２００に取り外し可能に結合される。本装置は、レーザの基本ユニットに電気的に接続された制御器５００をさらに含む。制御器は、使用者の入力に応答してレーザの基本ユニット３００に制御信号を送信する。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の切断部に形状不良を生じさせることなく、ガラス板を溶断により切断する。
【解決手段】ガラス基板Ｇの切断部Ｃにアシストガスを噴射しながら、切断部ＣにレーザビームＬＢを照射し、切断部Ｃを境界としてガラス基板Ｇを製品部Ｇａと非製品部Ｇｂとに溶断分離するガラス板切断装置であって、ガラス基板Ｇの上方空間において、切断部Ｃの上方位置から切断部Ｃに向かって真下にセンターアシストガスＡ２を噴射するセンターアシストガス噴射ノズル５と、センターアシストガスＡ２よりも強い噴射圧で、製品部Ｇａとなる側の上方位置から切断部Ｃに向かって斜め下方にサイドアシストガスＡ１を噴射するサイドアシストガス噴射ノズル４とを有する。 （もっと読む）

【課題】共通の体積流量計を用いて種類の異なるシールドガスの流量を制御することのできるシールドガス流量制御装置を提供する。
【解決手段】種類が異なるシールドガス３Ａ，３Ｂを供給する複数のシールドガス供給源３と、レーザ溶接加工位置へシールドガスを噴射するガス噴射ノズル１３と、当該ガス噴射ノズル１３と前記シールドガス供給源３とを接続した接続管路１４中に配置され、前記ガス噴射ノズル１３へのシールドガスの流量を制御するための体積流量計１１と、当該体積流量計１１に流入されるシールドガスの圧力を所望の圧力に制御自在の圧力制御弁９とを備え、前記体積流量計１１に対してシールドガスの流量を指令する流量指令制御部２９に、前記圧力制御弁９の設定圧とシールドガスのガス種とガス流量とを関連付けして格納した流量・圧力データテーブル３５を備えている。 （もっと読む）

【課題】集光レンズを保護する保護ガラスに付着した汚れ物質を検出するために、保護ガラスを全面的に照射する機能を備えたレーザ加工ヘッドを提供する。
【解決手段】レーザ発振器から発振されたレーザ光を集光してワークへ照射する集光レンズ５と、当該集光レンズ５を保護するために、当該集光レンズ５のワーク側に備えられた保護ガラス３１と、当該保護ガラス３１の汚れを検出するための汚れ検出手段３３とを備えたレーザ加工ヘッドであって、前記レーザ光の光軸に対して傾斜した方向から前記保護ガラス３１の全面に検出光を照射するための検出光照射手段４９を備え、前記検出光照射手段４９は、リング状部材５７を備え、このリング状部材５７の内周面に形成したテーパ面５７Ｔに複数の点光源５９を備え、前記保護ガラス３１のワーク側に、汚れ物質を一方向へ吹き飛ばすエアーカーテンを形成するためのエアー噴出手段３５を備えている。 （もっと読む）

【課題】高速加工をも可能とする簡単な構成で、レーザ加工ノズルからワークまでの距離を容易に調整可能とし、レーザ加工の品質を安定させるレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】レーザ加工ノズル４から射出するレーザ光ＬでワークＷを加工する際に、レーザ加工ノズル４からアシストガスＡＧをワークＷの加工部位に吹き付けるレーザ加工方法であって、ワークＷとレーザ加工ノズル４との間のアシストガス流のベルヌーイ効果による負圧によって、ワークＷとレーザ加工ノズル４との少なくとも一方を、両者を近づける方向に引き寄せる作用と、アシストガスＡＧの吹き付けによって、ワークＷとレーザ加工ノズル４との少なくとも一方を、両者を遠ざける方向に引き離す作用と、を利用して、ワークＷとレーザ加工ノズル４との間の距離を一定の範囲内に保ちながらワークＷを加工する。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工付近の気流の流れを制御して加工時に発生する加工デブリを効率的に除去できるようにする。
【解決手段】レーザ加工装置は、ワークに対してレーザ光を相対的に移動させながら照射することによってワークに所定の加工を施す。恒温室はこのレーザ加工装置の加工エリアを覆うように設けられる。恒温室には、上方から下方の加工エリアに向かうように恒温エアを供給するエア供給部と、加工エリア側から恒温室外に排気するエア排気部とを備えている。加工エリアを覆うように恒温室手段を設け、上方から下方に向けて恒温エアを流すことによって、恒温エアをワーク表面に接触させると共にワーク表面から横方向の流れによって、加工デブリを効率的にワーク表面から除去するようにした。 （もっと読む）

【課題】１工程で切断加工や貫通孔形成加工ができ、切断速度や貫通孔形成速度が速く、切断幅や貫通孔径の狭いセラミック基板の加工方法を提供することを目的とする。
【解決手段】波長１０００ｎm以上１１００nm以下の光の反射率が８０％以上であるセラミック基板の表面に、連続発振のレーザ光を照射して前記セラミック基板を切断加工する、レーザ光によるセラミック基板の加工方法であって、前記セラミック基板の加工点における前記レーザ光のパワー密度が、１．０×１０^７W／ｃｍ^２以上である加工方法。 （もっと読む）