【課題】光学コーティングの腐食・傷耐性バリアを提供すること。
【解決手段】酸化可能な金属珪素化合物又は金属アルミニウム化合物を、光学コーティングの外層の１つとして使用する。この層は、未酸化又は一部酸化状態で付着され、この化学状態で、下の層を腐食から保護する。該金属化合物又は合金の層は、大多数の金属を超える硬さを有し、それにより傷からの保護を提供する。
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機能層を作成する方法において、基材がプロセスチャンバー内に導入される工程と、少なくとも１つのプラズマが、例えばプラズマカスケード発生源のような、少なくとも１つのプラズマ発生源（３）により発生される工程と、前記プラズマ（Ｐ）の影響下で、少なくとも１つの第１蒸着材料を前記基材（１）上に蒸着させる工程と、同時に、少なくとも１つの第２材料（６）が、第２の蒸着工程により前記基材に適用される工程と、を備えた方法である。本発明はまた、少なくとも１つのプラズマを発生させる、例えばプラズマカスケード発生源のような少なくとも１つのプラズマ発生源と、蒸着材料を各プラズマ内へ導入する手段と、前記プラズマ発生源と同時に、前記基材上に少なくとも１つの第２蒸着材料を蒸着するように配置された第２蒸着発生源（６）と、を備えた装置である。
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【課題】 ブローホールのような内部欠陥を極力減少し、反りのない大面積のアルミニウム系ターゲットを提供することを目的とする。
【解決手段】 複数のアルミニウム合金ターゲット部材からなるアルミニウム系ターゲットにおいて、摩擦撹拌接合法によりアルミニウム合金ターゲット部材を接合した接合部を備えるものとした。また、この接合部は、アルミニウム母材中に径１０μｍ以下の金属間化合物析出物が分散した組織であり、径５００μｍ以下のブローホールが０．０１〜０．１個／ｃｍ^２存在するものである。 （もっと読む）

本発明は、銀を主成分とし、第１の添加元素として希土類元素を少なくとも１種含んでなる反射率維持特性に優れる銀合金である。第１の添加元素は、サマリウム、ネオジウム、ランタン、セリウム、イッテルビウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、ユーロピウム、ガドリニウムが好ましい。また、本発明では、銅、マンガン、シリコン、クロム、ニッケル、コバルト、イットリウム、鉄、スカンジウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、タンタル、タングステン、白金、金、ロジウム、イリジウム、パラジウム、インジウム、錫、鉛、アルミニウム、カルシウム、ガリウム、ビスマス、アンチモン、ストロンチウム、ハフニウム、ゲルマニウムの少なくとも１種を更に含む。 （もっと読む）

本発明は、銀を主成分とし、第１の添加元素として貴金属元素を少なくとも１種含んでなる反射率維持特性に優れた銀合金である。本発明において、第１の添加元素は、白金、金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、イリジウムが好ましい。また、本発明では、更に、第２の添加元素として銅、マンガン、シリコン、クロム、ニッケル、コバルト、鉄、スカンジウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、タンタル、タングステン、インジウム、錫、鉛、アルミウム、カルシウム、ゲルマニウム、ガリウム、ビスマス、アンチモン、ストロンチウム、ハフニウム、ガドリニウム、サマリウム、ネオジウム、ランタン、セリウム、イットリビウム、ユーロピウムの少なくとも１種を含むものが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、銀を主成分とし、第１の添加元素として銀より高融点の元素を少なくとも１種含んでなる反射率維持特性に優れる銀合金である。本発明において、第１の添加元素は、銅、マンガン、シリコン、ニッケル、コバルト、イットリウム、鉄、スカンジウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、タンタル、タングステンが好ましい。また、本発明では、第２の添加元素として、白金、金、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、パラジウム、クロム、ゲルマニウム、インジウム、錫、鉛、アルミニウム、カルシウム、ガリウム、ビスマス、アンチモン、ストロンチウム，ハフニウム、ガドリニウム、サマリウム、ネオジウム、ランタン、セリウム、イッテルビウム、ユーロピウムの少なくとも１種を含むものが好ましい。 （もっと読む）

本発明による誘導結合プラズマ源は、半導体ウェハのコーティングやエッチングを行い得るよう、真空チャンバ（３２）内に高密度プラズマを生成するための周縁電離源（３９）を具備している。ＩＣＰ源は、複数の高放射セグメントと複数の低放射セグメントとを有してなるセグメント化構成を具備しており、チャンバの周囲まわりにおいて、プラズマに、リング形状アレイをなすエネルギー分布を付与する。エネルギーは、セグメント化された低インダクタンスアンテナ（４０）から、誘電性ウィンドウ（２５）またはウィンドウアレイ（２５ａ）を介して、さらに、セグメント化されたシールドまたはバッフル（５０）を介して、結合される。アンテナ（４０）は、稠密化して配置された複数の導体セグメント（４５）と、交互的に配置されかつ疎化して配置された複数の導体セグメント（４６）と、を備えている。
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本発明は、例えばガスタービンの部品などの様々な部品のための耐酸化性及び／または耐腐蝕性の保護層を形成する方法に関する。この方法では、基材表面を有し、基材組成を有する部品を用意する。次に、少なくともプラチナ（Ｐｔ）及びアルミニウム（Ａｌ）を含有するコーティング材料を用意する。そして、少なくともプラチナ（Ｐｔ）及びアルミニウム（Ａｌ）を含有する前記コーティング材料を、ＰＶＤ法（物理蒸着法）により、前記部品の表面に堆積させる。また、一度のＰＶＤ工程によって、コーティングを施そうとする前記部品の表面に、プラチナ（Ｐｔ）とアルミニウム（Ａｌ）とを共に堆積させる。 （もっと読む）

タンタルターゲットの表面において、全体の結晶配向の総和を１とした時に、（１００）、（１１１）、（１１０）のいずれの配向を有する結晶も、その面積率が０．５を超えないことを特徴とするタンタルスパッタリングターゲット。成膜速度が大きく、膜の均一性（ユニフォーミティ）に優れ、またアーキングやパーティクルの発生が少ない成膜特性に優れたタンタルスパッタリング用ターゲットを得ることを課題とする。 （もっと読む）

本発明は、回転炉または舟形炉（boat furnace）中で還元剤として水素を使用することにより、モリブデン酸アンモニウムまたは三酸化モリブデンを還元することによる高純度なＭｏＯ_２粉末に関する。加圧／焼結、ホットプレスおよび／またはＨＩＰによる粉末の圧密は、スパッタリングターゲットとして使用されるディスク、スラブまたは板を製造するために使用される。ＭｏＯ_２のディスク、スラブまたは板の形状物は、適当なスパッタリング方法または他の物理的手段を用いて支持体上にスパッタリングされ、望ましい膜厚を有する薄膜を提供する。薄膜は、透明度、導電率、仕事関数、均一性および表面粗さに関連してインジウム−酸化錫（ＩＴＯ）および亜鉛がドープされたＩＴＯの性質と比較可能かまたは前記性質よりも優れている性質、例えば電気的性質、光学的性質、表面粗さおよび均一性を有する。ＭｏＯ_２およびＭｏＯ_２を含有する薄膜は、有機発光ダイオード（OLED）、液晶ディスプレイ（LCD）、プラズマディスプレイパネル（PDP）、電界放出ディスプレイ（FED）、薄膜ソーラーセル、低抵抗オーミック接触ならびに他の電子デバイスおよび半導体デバイスに使用されてよい。 （もっと読む）