エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物およびその製造方法、ならびに反応性モノマー、反応性（メタ）アクリレートポリマーおよびその用途
【課題】新規なエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物、その製造方法、および該イソシアネート化合物から得られる反応性モノマー、反応性ポリマーおよびその用途を提供する。
【解決手段】本発明のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物は、下記式（Ｉ）
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示す。）で表され、活性水素をもつ官能基が結合した化合物と反応させることで反応性モノマーが得られる。また、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物とを反応させることで反応性（メタ）アクリレートが得られる。
【解決手段】本発明のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物は、下記式（Ｉ）
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示す。）で表され、活性水素をもつ官能基が結合した化合物と反応させることで反応性モノマーが得られる。また、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物とを反応させることで反応性（メタ）アクリレートが得られる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）
【化１】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示す。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項２】
式（Ｉ）のＲ1が、炭素数が１〜５である直鎖または分岐の飽和脂肪族基であることを
特徴とする請求項１に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項３】
式（Ｉ）のＲ3が、炭素数が０〜３である直鎖または分岐のアルキレン基であることを
特徴とする請求項１または２に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項４】
式（Ｉ）のＲ4が、水素原子、メチル基またはアリール基であることを特徴とする請求
項１〜３のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項５】
下記式（ＩＩ）
【化２】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする請求項１
に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項６】
下記式（ＩＩＩ）
【化３】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする請求項１
に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項７】
下記式（ＩＶ）
【化４】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする請求項１
に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項８】
下記式（Ｖ）
【化５】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示す。）で表さ
れるジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とから下記式（ＶＩ）
【化６】
（式中、Ｒ1は上記と同義であり、Ｘ1は鉱酸を示す。）で表されるジヒドロキシアミン鉱
酸塩化合物を得る工程と、
前記ジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物と、下記式（ＶＩＩ）
【化７】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアル
キル基、またはアリール基を示し、Ｙ1は水酸基、塩素原子、またはＲ6Ｏ−（Ｒ6は炭素
数が１〜６であるアルキル基を示す。）を示す。）で表される化合物とから、下記式（ＶＩＩＩ）
【化８】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4およびＸ1は上記と同義である。）で表されるエステル化合物を得る工
程と、
前記エステル化合物と、一般式（ＩＸ）
【化９】
（式中、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立に、塩素原子、臭素原子、Ｒ7Ｏ−（Ｒ7は炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルケニル基、または置換基を有していてもよいアリール基を示す。）、イミダゾール類の残基、またはピラゾール類の残基を示す。）で表される化合物とから、下記式（Ｘ）
【化１０】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は上記と同義である。）で表されるイソシアネート化合物を得る工程と、
前記イソシアネート化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、下記式（Ｉ）
【化１１】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は上記と同義である。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程と、を含むことを特徴とするエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項９】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と反応させる鉱酸が、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、またはリン酸であることを特徴とする請求項８に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１０】
前記各工程における反応を溶媒中で行うことを特徴とする請求項８または９に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１１】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とから、式（ＶＩ）のジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得る工程における反応を、水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる溶媒中で行うことを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１２】
式（ＶＩＩＩ）のエステル化合物を得る工程と、式（Ｘ）のイソシアネート化合物を得る工程と、式（Ｉ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程と、における反応を、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる溶媒中で行うことを特徴とする請求項８〜１１のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１３】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とを溶媒中で反応させて、式（ＶＩ）の
ジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得た後、反応溶媒を留去し、次いで式（ＶＩＩＩ）のエステル化合物を得る次工程の反応を行うことを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１４】
式（Ｘ）のイソシアネート化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、式（Ｉ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程における反応温度が、０℃〜１５０℃であることを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１５】
式（Ｘ）のイソシアネート化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、式（Ｉ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程で使用される塩基性窒素化合物が、トリエチルアミンであることを特徴とする請求項８〜１４のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１６】
下記式（Ｖ）
【化１２】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示す。）で表さ
れるジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とから下記式（ＶＩ）
【化１３】
（式中、Ｒ1は上記と同義であり、Ｘ1は鉱酸を示す。）で表されるジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得る工程と、
前記ジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物と、下記式（ＸＩ）
【化１４】
（式中、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはアリール基を示し、Ｙ1
は水酸基、塩素原子、またはＲ6Ｏ−（Ｒ6は炭素数が１〜６であるアルキル基を示す。）を示す。）で表される化合物とから、下記式（ＸＩＩ）
【化１５】
（式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4およびＸ1は上記と同義である。）で表されるエステル化合物を得る工程と、
前記エステル化合物と、一般式（ＩＸ）
【化１６】
（式中、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立に、塩素原子、臭素原子、Ｒ7Ｏ−（Ｒ7は炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルケニル基、または置換基を有していてもよいアリール基を示す。）、イミダゾール類の残基、またはピラゾール類の残基を示す。）で表される化合物とから、下記式（ＸＩＩＩ）
【化１７】
（式中、Ｒ1、Ｒ3、およびＲ4は上記と同義である。）で表されるエチレン性不飽和基含
有イソシアネート化合物を得る工程と、を含むことを特徴とするエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１７】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と反応させる鉱酸が、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、またはリン酸であることを特徴とする請求項１６に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１８】
前記各工程における反応を溶媒中で行うことを特徴とする請求項１６または１７に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１９】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とから、式（ＶＩ）のジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得る工程における反応を、水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる
溶媒中で行うことを特徴とする請求項１６〜１８のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項２０】
式（ＸＩＩ）のエステル化合物を得る工程と、式（ＸＩＩＩ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程と、における反応を、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる溶媒中で行うことを特徴とする請求項１６〜１９のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項２１】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とを溶媒中で反応させて、式（ＶＩ）のジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得た後、反応溶媒を留去し、次いで式（ＸＩＩ）のエステル化合物を得る次工程の反応を行うことを特徴とする請求項１６〜２０のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項２２】
下記式（Ｉａ）
【化１８】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示し、Ｒ5はエーテル基、チオエーテル基、またはＮＨ基を示し、Ｘは脂肪族
基、芳香族基、または複素環基を示し、ｎは１〜４の整数を示す。）で表わされる反応性モノマー。
【請求項２３】
下記式（ＩＩａ）
【化１９】
（式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする請求項２２に記載の反応性モノマー。
【請求項２４】
下記式（ＩＩＩａ）
【化２０】
（式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする請求項２２に記載の反応性モノマー。
【請求項２５】
下記式（ＩＶａ）
【化２１】
（式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする請求項
２２に記載の反応性モノマー。
【請求項２６】
式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝１である
ことを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項２７】
式（Ｉａ）のＸが、−（ＣＨ2）m（ＣＦ2）lＦで表される基（ｍは０〜２の整数を示し、ｌは０〜８の整数を示す。ｍとｌが同時に０となることはない。）であることを特徴とする請求項２６に記載の含フッ素反応性モノマー。
【請求項２８】
式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝２である
ことを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項２９】
式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフルオレン骨格を有する基であり、ｎ＝２
であることを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項３０】
式（Ｉａ）のＸが、下記式（ＸＶＩ）
【化２２】
（式中、ｈは１〜４の整数を示す。）で表される基であることを特徴とする請求項２９に記載の反応性モノマー。
【請求項３１】
式（Ｉａ）のＲ5がＮＨ基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝１であること
を特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項３２】
式（Ｉａ）のＸがＦ（ＣＦ2）8ＣＨ2−で表される基であるか、または、Ｘ−Ｒ5が２，６−ジフルオロアニリンの残基であることを特徴とする請求項３１に記載の反応性モノマー。
【請求項３３】
式（Ｉａ）のＲ5がＮＨ基であり、Ｘがアルキル基、キシリレン基、またはノルボルナ
ン基であり、ｎ＝２であることを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項３４】
式（Ｉａ）のＸ−Ｒ5が、ｍ−キシリレンジアミンの残基、または２，３，５，６−テ
トラフルオロ−１，４−キシリレンジアミンの残基であるか、あるいは、Ｘが下記式（ＸＶＩＩ）
【化２３】
で表わされることを特徴とする請求項３３に記載の反応性モノマー。
【請求項３５】
式（Ｉａ）のＲ5がチオエーテル基であり、Ｘが直鎖または分岐の飽和脂肪族基、また
はフェニル基であることを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項３６】
下記式（Ｉ）
【化２４】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示す。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させることを特徴とする反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項３７】
前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であることを特徴とする請求項３６に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項３８】
前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩ）
【化２５】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
３６または３７に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項３９】
前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩＩ）
【化２６】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
３６または３７に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項４０】
前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、ポリエステルポリオール化合物、ポリカーボネートポリオール化合物、ポリエーテルポリオール化合物、ポリウレタンポリオール化合物、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの単独重合体または共重合体、またはエポキシ（メタ）アクリレート化合物であることを特徴とする請求項３７〜３９のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項４１】
前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、カルボキシル基を含有することを特徴とする請求項３７〜４０のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項４２】
下記式（Ｉ）
【化２７】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示す。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させて得られた反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４３】
前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であることを特徴とする請求項４２に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４４】
前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩ）
【化２８】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
４２または４３に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４５】
前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩＩ）
【化２９】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
４２または４３に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４６】
前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、ポリエステルポリオール化合物、ポリカーボネートポリオール化合物、ポリエーテルポリオール化合物、ポリウレタンポリオール化合物、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの単独重合体または共重合体、またはエポキシ（メタ）アクリレート化合物であることを特徴とする請求項４３〜４５のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４７】
前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、カルボキシル基を含有することを特徴とする請求項４３〜４６のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４８】
請求項２２〜３５のいずれかに記載の反応性モノマーと、重合開始剤と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【請求項４９】
請求項４８に記載の硬化性組成物を硬化することにより形成された硬化物。
【請求項５０】
請求項４３〜４７のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、顔料（Ｂ）と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【請求項５１】
光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項５０に記載の硬化性組成物。
【請求項５２】
エチレン性不飽和モノマー（Ｆ）を含有することを特徴とする請求項５１に記載の硬化性組成物。
【請求項５３】
１０〜４０質量％の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、２５〜６０質量％の顔料（Ｂ）と、２〜２５質量％の光重合開始剤（Ｄ）と、５〜２０質量％のエチレン性
不飽和モノマー（Ｆ）と、有機溶剤（Ｇ）と、を含有することを特徴とする請求項５２に記載の硬化性組成物。
【請求項５４】
１０〜４０質量％の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、２５〜６０質量％の顔料（Ｂ）と、２〜２０質量％の光重合開始剤（Ｄ）と、５〜２０質量％のエチレン性不飽和モノマー（Ｆ）と、有機溶剤（Ｇ）と、２〜２０質量％の多官能チオール（Ｈ）と、を含有することを特徴とする請求項５２に記載の硬化性組成物。
【請求項５５】
カラーフィルタを形成するために用いられることを特徴とする請求項５２〜５４のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項５６】
顔料（Ｂ）が、カーボンブラックであることを特徴とする請求項５５に記載の硬化性組成物。
【請求項５７】
請求項４３〜４７のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、熱硬化性ポリマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、熱重合触媒（Ｅ）と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【請求項５８】
ソルダーレジストとして用いられることを特徴とする請求項５７に記載の硬化性組成物。
【請求項５９】
請求項５８に記載の硬化性組成物を用いて形成された絶縁保護被膜。
【請求項６０】
請求項５９に記載の絶縁保護被膜を有するプリント配線基板。
【請求項１】
下記式（Ｉ）
【化１】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示す。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項２】
式（Ｉ）のＲ1が、炭素数が１〜５である直鎖または分岐の飽和脂肪族基であることを
特徴とする請求項１に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項３】
式（Ｉ）のＲ3が、炭素数が０〜３である直鎖または分岐のアルキレン基であることを
特徴とする請求項１または２に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項４】
式（Ｉ）のＲ4が、水素原子、メチル基またはアリール基であることを特徴とする請求
項１〜３のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項５】
下記式（ＩＩ）
【化２】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする請求項１
に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項６】
下記式（ＩＩＩ）
【化３】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする請求項１
に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項７】
下記式（ＩＶ）
【化４】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表されることを特徴とする請求項１
に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物。
【請求項８】
下記式（Ｖ）
【化５】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示す。）で表さ
れるジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とから下記式（ＶＩ）
【化６】
（式中、Ｒ1は上記と同義であり、Ｘ1は鉱酸を示す。）で表されるジヒドロキシアミン鉱
酸塩化合物を得る工程と、
前記ジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物と、下記式（ＶＩＩ）
【化７】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアル
キル基、またはアリール基を示し、Ｙ1は水酸基、塩素原子、またはＲ6Ｏ−（Ｒ6は炭素
数が１〜６であるアルキル基を示す。）を示す。）で表される化合物とから、下記式（ＶＩＩＩ）
【化８】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4およびＸ1は上記と同義である。）で表されるエステル化合物を得る工
程と、
前記エステル化合物と、一般式（ＩＸ）
【化９】
（式中、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立に、塩素原子、臭素原子、Ｒ7Ｏ−（Ｒ7は炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルケニル基、または置換基を有していてもよいアリール基を示す。）、イミダゾール類の残基、またはピラゾール類の残基を示す。）で表される化合物とから、下記式（Ｘ）
【化１０】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は上記と同義である。）で表されるイソシアネート化合物を得る工程と、
前記イソシアネート化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、下記式（Ｉ）
【化１１】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は上記と同義である。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程と、を含むことを特徴とするエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項９】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と反応させる鉱酸が、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、またはリン酸であることを特徴とする請求項８に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１０】
前記各工程における反応を溶媒中で行うことを特徴とする請求項８または９に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１１】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とから、式（ＶＩ）のジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得る工程における反応を、水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる溶媒中で行うことを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１２】
式（ＶＩＩＩ）のエステル化合物を得る工程と、式（Ｘ）のイソシアネート化合物を得る工程と、式（Ｉ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程と、における反応を、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる溶媒中で行うことを特徴とする請求項８〜１１のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１３】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とを溶媒中で反応させて、式（ＶＩ）の
ジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得た後、反応溶媒を留去し、次いで式（ＶＩＩＩ）のエステル化合物を得る次工程の反応を行うことを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１４】
式（Ｘ）のイソシアネート化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、式（Ｉ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程における反応温度が、０℃〜１５０℃であることを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１５】
式（Ｘ）のイソシアネート化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、式（Ｉ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程で使用される塩基性窒素化合物が、トリエチルアミンであることを特徴とする請求項８〜１４のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１６】
下記式（Ｖ）
【化１２】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示す。）で表さ
れるジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とから下記式（ＶＩ）
【化１３】
（式中、Ｒ1は上記と同義であり、Ｘ1は鉱酸を示す。）で表されるジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得る工程と、
前記ジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物と、下記式（ＸＩ）
【化１４】
（式中、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはアリール基を示し、Ｙ1
は水酸基、塩素原子、またはＲ6Ｏ−（Ｒ6は炭素数が１〜６であるアルキル基を示す。）を示す。）で表される化合物とから、下記式（ＸＩＩ）
【化１５】
（式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4およびＸ1は上記と同義である。）で表されるエステル化合物を得る工程と、
前記エステル化合物と、一般式（ＩＸ）
【化１６】
（式中、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立に、塩素原子、臭素原子、Ｒ7Ｏ−（Ｒ7は炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルケニル基、または置換基を有していてもよいアリール基を示す。）、イミダゾール類の残基、またはピラゾール類の残基を示す。）で表される化合物とから、下記式（ＸＩＩＩ）
【化１７】
（式中、Ｒ1、Ｒ3、およびＲ4は上記と同義である。）で表されるエチレン性不飽和基含
有イソシアネート化合物を得る工程と、を含むことを特徴とするエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１７】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と反応させる鉱酸が、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、またはリン酸であることを特徴とする請求項１６に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１８】
前記各工程における反応を溶媒中で行うことを特徴とする請求項１６または１７に記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項１９】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とから、式（ＶＩ）のジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得る工程における反応を、水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる
溶媒中で行うことを特徴とする請求項１６〜１８のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項２０】
式（ＸＩＩ）のエステル化合物を得る工程と、式（ＸＩＩＩ）のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程と、における反応を、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類、およびハロゲン系炭化水素類から選ばれる溶媒中で行うことを特徴とする請求項１６〜１９のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項２１】
式（Ｖ）のジヒドロキシアミン化合物と、鉱酸とを溶媒中で反応させて、式（ＶＩ）のジヒドロキシアミン鉱酸塩化合物を得た後、反応溶媒を留去し、次いで式（ＸＩＩ）のエステル化合物を得る次工程の反応を行うことを特徴とする請求項１６〜２０のいずれかに記載のエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
【請求項２２】
下記式（Ｉａ）
【化１８】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示し、Ｒ5はエーテル基、チオエーテル基、またはＮＨ基を示し、Ｘは脂肪族
基、芳香族基、または複素環基を示し、ｎは１〜４の整数を示す。）で表わされる反応性モノマー。
【請求項２３】
下記式（ＩＩａ）
【化１９】
（式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする請求項２２に記載の反応性モノマー。
【請求項２４】
下記式（ＩＩＩａ）
【化２０】
（式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする請求項２２に記載の反応性モノマー。
【請求項２５】
下記式（ＩＶａ）
【化２１】
（式中、Ｒ2、Ｒ5、およびＸは上記と同義である。）で表されることを特徴とする請求項
２２に記載の反応性モノマー。
【請求項２６】
式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝１である
ことを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項２７】
式（Ｉａ）のＸが、−（ＣＨ2）m（ＣＦ2）lＦで表される基（ｍは０〜２の整数を示し、ｌは０〜８の整数を示す。ｍとｌが同時に０となることはない。）であることを特徴とする請求項２６に記載の含フッ素反応性モノマー。
【請求項２８】
式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝２である
ことを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項２９】
式（Ｉａ）のＲ5がエーテル基であり、Ｘがフルオレン骨格を有する基であり、ｎ＝２
であることを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項３０】
式（Ｉａ）のＸが、下記式（ＸＶＩ）
【化２２】
（式中、ｈは１〜４の整数を示す。）で表される基であることを特徴とする請求項２９に記載の反応性モノマー。
【請求項３１】
式（Ｉａ）のＲ5がＮＨ基であり、Ｘがフッ素を含有する基であり、ｎ＝１であること
を特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項３２】
式（Ｉａ）のＸがＦ（ＣＦ2）8ＣＨ2−で表される基であるか、または、Ｘ−Ｒ5が２，６−ジフルオロアニリンの残基であることを特徴とする請求項３１に記載の反応性モノマー。
【請求項３３】
式（Ｉａ）のＲ5がＮＨ基であり、Ｘがアルキル基、キシリレン基、またはノルボルナ
ン基であり、ｎ＝２であることを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項３４】
式（Ｉａ）のＸ−Ｒ5が、ｍ−キシリレンジアミンの残基、または２，３，５，６−テ
トラフルオロ−１，４−キシリレンジアミンの残基であるか、あるいは、Ｘが下記式（ＸＶＩＩ）
【化２３】
で表わされることを特徴とする請求項３３に記載の反応性モノマー。
【請求項３５】
式（Ｉａ）のＲ5がチオエーテル基であり、Ｘが直鎖または分岐の飽和脂肪族基、また
はフェニル基であることを特徴とする請求項２２〜２５のいずれかに記載の反応性モノマー。
【請求項３６】
下記式（Ｉ）
【化２４】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示す。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させることを特徴とする反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項３７】
前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であることを特徴とする請求項３６に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項３８】
前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩ）
【化２５】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
３６または３７に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項３９】
前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩＩ）
【化２６】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
３６または３７に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項４０】
前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、ポリエステルポリオール化合物、ポリカーボネートポリオール化合物、ポリエーテルポリオール化合物、ポリウレタンポリオール化合物、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの単独重合体または共重合体、またはエポキシ（メタ）アクリレート化合物であることを特徴とする請求項３７〜３９のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項４１】
前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、カルボキシル基を含有することを特徴とする請求項３７〜４０のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマーの製造方法。
【請求項４２】
下記式（Ｉ）
【化２７】
（式中、Ｒ1は炭素数が１〜１０である直鎖または分岐の飽和脂肪族基を示し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3は炭素数が０〜５である直鎖または分岐のアルキレン基
を示し、Ｒ4は水素原子、炭素数が１〜６である直鎖または分岐のアルキル基、またはア
リール基を示す。）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させて得られた反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４３】
前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であることを特徴とする請求項４２に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４４】
前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩ）
【化２８】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
４２または４３に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４５】
前記エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物が、下記式（ＩＩＩ）
【化２９】
（式中、Ｒ2は水素原子またはメチル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項
４２または４３に記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４６】
前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、ポリエステルポリオール化合物、ポリカーボネートポリオール化合物、ポリエーテルポリオール化合物、ポリウレタンポリオール化合物、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの単独重合体または共重合体、またはエポキシ（メタ）アクリレート化合物であることを特徴とする請求項４３〜４５のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４７】
前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、カルボキシル基を含有することを特徴とする請求項４３〜４６のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー。
【請求項４８】
請求項２２〜３５のいずれかに記載の反応性モノマーと、重合開始剤と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【請求項４９】
請求項４８に記載の硬化性組成物を硬化することにより形成された硬化物。
【請求項５０】
請求項４３〜４７のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、顔料（Ｂ）と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【請求項５１】
光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項５０に記載の硬化性組成物。
【請求項５２】
エチレン性不飽和モノマー（Ｆ）を含有することを特徴とする請求項５１に記載の硬化性組成物。
【請求項５３】
１０〜４０質量％の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、２５〜６０質量％の顔料（Ｂ）と、２〜２５質量％の光重合開始剤（Ｄ）と、５〜２０質量％のエチレン性
不飽和モノマー（Ｆ）と、有機溶剤（Ｇ）と、を含有することを特徴とする請求項５２に記載の硬化性組成物。
【請求項５４】
１０〜４０質量％の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、２５〜６０質量％の顔料（Ｂ）と、２〜２０質量％の光重合開始剤（Ｄ）と、５〜２０質量％のエチレン性不飽和モノマー（Ｆ）と、有機溶剤（Ｇ）と、２〜２０質量％の多官能チオール（Ｈ）と、を含有することを特徴とする請求項５２に記載の硬化性組成物。
【請求項５５】
カラーフィルタを形成するために用いられることを特徴とする請求項５２〜５４のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項５６】
顔料（Ｂ）が、カーボンブラックであることを特徴とする請求項５５に記載の硬化性組成物。
【請求項５７】
請求項４３〜４７のいずれかに記載の反応性（メタ）アクリレートポリマー（Ａ）と、熱硬化性ポリマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、熱重合触媒（Ｅ）と、を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【請求項５８】
ソルダーレジストとして用いられることを特徴とする請求項５７に記載の硬化性組成物。
【請求項５９】
請求項５８に記載の硬化性組成物を用いて形成された絶縁保護被膜。
【請求項６０】
請求項５９に記載の絶縁保護被膜を有するプリント配線基板。
【図１】
【公開番号】特開２００７−５５９９３（Ｐ２００７−５５９９３Ａ）
【公開日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３２１２４２（Ｐ２００５−３２１２４２）
【出願日】平成１７年１１月４日（２００５．１１．４）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１１月４日（２００５．１１．４）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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