ガラス積層体、支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネル、表示装置およびこれらの製造方法
【課題】ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッチピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、密着した薄板ガラス基板と樹脂層とを容易かつ短時間に分離することができるガラス積層体の提供。
【解決手段】第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板１２、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板１３、ならびに易剥離性を有する樹脂層１４を有し、前記薄板ガラス基板１２の第１主面に、前記支持ガラス基板１３の第１主面に固定された前記樹脂層１４が密着しているガラス積層体１０であって、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部１５を１箇所以上有するガラス積層体。
【解決手段】第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板１２、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板１３、ならびに易剥離性を有する樹脂層１４を有し、前記薄板ガラス基板１２の第１主面に、前記支持ガラス基板１３の第１主面に固定された前記樹脂層１４が密着しているガラス積層体１０であって、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部１５を１箇所以上有するガラス積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等に用いられるガラス基板を含むガラス積層体、それを含む支持体付き表示装置用パネル、それを用いて形成される表示装置用パネルおよびそれを含む表示装置ならびにこれらの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）、特にモバイルや携帯電話等の携帯型表示装置の分野では、表示装置の軽量化、薄型化が重要な課題となっている。
【０００３】
この課題に対応するために、表示装置に用いるガラス基板の板厚をさらに薄くすることが望まれている。板厚を薄くする方法としては、一般に、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前または形成した後に、フッ酸等を用いてガラス基板をエッチング処理し、必要に応じてさらに物理研磨して薄くする方法が行われる。
しかしながら、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、ガラス基板の強度が低下し、たわみ量も大きくなる。そのため既存の表示装置用パネルの製造ラインで処理することが困難になるという問題が生じる。
また、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成した後にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する過程においてガラス基板の表面に形成された微細な傷が顕在化する問題、すなわちエッチピット（etchpit）の発生という問題が生じる。
【０００４】
そこで、このような問題を解決することを目的として、板厚の薄いガラス基板（以下では「薄板ガラス基板」ともいう。）を他の支持ガラス基板と貼り合わせて積層体とし、その状態で表示装置を製造するための所定の処理を実施し、その後、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する方法等が提案されている。
【０００５】
例えば特許文献１には、製品用のガラス基板と補強用ガラス基板とを、ガラス基板同士の静電気吸着力または真空吸着力を利用して貼り合わせて一体化し、製品用のガラス基板を用いた表示装置を製造する方法が記載されている。
例えば特許文献２には、液晶表示装置の基板と支持体との端部をガラスフリット系の接着剤を用いて接着して、その後、電極パターン等を形成する液晶表示装置の製造方法が記載されている。
例えば特許文献３には、２枚のガラス基板の少なくとも周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して前記２枚のガラス基板を融合させる工程を有する表示装置用基板の製造方法が記載されている。
【０００６】
例えば特許文献４には、粘着材層が支持体上に設けられている基板搬送用治具に基板を貼り付け、液晶表示素子の製造工程を通して基板搬送用治具を搬送することにより、基板搬送用治具に貼り付いている基板に対して液晶表示素子形成処理を順次行い、所定の工程を終了後、基板搬送用治具から基板を剥離する液晶表示装置の製造方法が記載されている。
例えば特許文献５には、液晶表示素子用電極基板を紫外線硬化型粘着剤が支持体上に設けられた治具を用いて、液晶表示素子用電極基板に所定の加工を施した後、紫外線硬化型粘着剤に紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化型粘着剤の粘着力を低下させ、前記液晶表示素子用電極基板を前記治具から剥離することを特徴とする液晶表示素子の製造方法が記載されている。
例えば特許文献６には、粘着材によって薄板を支持板に仮固定し、前記粘着材の周縁部をシール材によって封止し、薄板を仮固定した支持板を搬送する搬送方法が記載されている。
【０００７】
例えば特許文献７には、薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラスと、前記支持ガラスと、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されていることを特徴とする薄板ガラス積層体が記載されている。そして、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離するには、薄板ガラス基板を支持ガラス基板から垂直方向に引き離す力を与えればよく、剃刀の刃等で端部に剥離のきっかけをいれたり、積層界面へのエアーの注入により、より容易に剥離することが可能であると記載されている。
例えば特許文献８には、薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラス基板と、前記支持ガラス基板と、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されており、かつ前記シリコーン樹脂層と、前記支持ガラス基板と、には互いに連通する少なくとも１つの孔が設けられていることを特徴とする薄板ガラス積層体が記載されている。そして、支持ガラス基板に設けられた孔から薄板ガラス基板とシリコーン樹脂層の界面に圧縮気体を注入することにより、薄板ガラスにガラスの破損につながるような応力を加えることなく、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離することが可能であると記載されている。
【０００８】
また、ガラス積層体ではないが、特許文献９には、ガラス製の部品又は該部品を用いてなる製品に貼付される貼り付けシートにおいて、切り欠き部を設けてあることを特徴とする貼り付けシートが記載されている。そして、切り欠き部を設けるために切り込んだ部分を折り返してあるので、剥離のための道具の先端が入り易くなるとともに、折り返した部分により浮き上がり易くなり、容易に剥離することができると記載されている。
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−２４１８０４号公報
【特許文献２】特開昭５８−５４３１６号公報
【特許文献３】特開２００３−２１６０６８号公報
【特許文献４】特開平８−８６９９３号公報
【特許文献５】特開平９−１０５８９６号公報
【特許文献６】特開２０００−２５２３４２号公報
【特許文献７】国際公開第２００７／０１８０２８号パンフレット
【特許文献８】特開２００７−３２６３５８号公報
【特許文献９】特開２００３−３０８０１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１に記載のガラス基板同士を静電吸着力や真空吸着力を利用して固定する方法、特許文献２に記載のガラス基板の両端をガラスフリットを用いて固定する方法、または特許文献３に記載の周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して２枚のガラス基板を融合させる方法では、ガラス基板同士を何らの中間層を介さず積層密着させるので、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によってガラス基板にゆがみ欠陥が生じる。そのため、表面が平滑なガラス基板積層体を得ることは困難である。
【００１１】
また、特許文献４〜６に記載のガラス基板間に粘着層等を配置する方法では、上記のようなガラス基板間への気泡等の混入によるゆがみ欠陥の発生を回避し得るものの、両ガラス基板を分離することが困難であり、分離する際に薄板ガラス基板が破損するおそれがある。また分離後の薄板ガラス基板への粘着剤の残存も問題となる。
【００１２】
これに対して特許文献７に記載の薄板ガラス積層体によれば、上記のようなガラス基板間への気泡等の混入によるゆがみ欠陥は発生し難い。また、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを剥離することも可能である。さらに分離後の薄板ガラス基板への粘着剤の残存の問題は解決される。しかし、両ガラス基板の分離は、より容易に、より短時間で行うことが望まれる。特にガラス基板が大型の場合は、工業的に利用する上で重要な点となる。
また、特許文献８に記載のガラス積層体の場合、薄板ガラス基板上に皮膜等を形成する熱処理工程において、薄板ガラス基板におけるシリコーン樹脂層と接している部分と、孔に接している部分とで、熱容量の違いに起因して皮膜する痕跡が生じ易いという欠点を有していた。
【００１３】
また、上記のようなガラス積層体を形成する場合、通常、真空積層プレス法、すなわち、支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを樹脂層を介して仮積層した状態でプレス機にセットし、真空引き（減圧）した後にプレスする方法を適用するが、プレスしても薄板ガラス基板と樹脂層との間の泡が残存するという問題が生じる。特に薄板ガラス基板のサイズが大きいと顕著となる。この対策としては、例えば薄板ガラス基板を上側の加圧手段に吸着して保持することで、支持ガラス基板と薄板ガラス基板との間に隙間を保ちつつ、両基板が存する空間を真空にし、その後両基板を接触させプレスする方法が考えられる。しかしこの場合、真空吸着法によって薄板ガラス基板を加圧手段に吸着させて保持することはできないので、現に存する代替法として静電吸着法によって保持することとなる。しかしながら、静電吸着装置は非常に高価である。
【００１４】
なお、特許文献９には容易に剥離できる貼り付けシートが記載されており、ガラス積層体とは無関係である。
【００１５】
本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものである。すなわち、まず本発明の第１の目的は、密着した薄板ガラス基板と樹脂層とを容易かつ短時間に分離することができるガラス積層体を提供することを目的とするものである。
加えて、本発明の第２の目的は、前記のようなガラス積層体を、ガラス基板間に気泡や塵芥等の異物を存在させず、簡易かつ経済的に製造することできる方法を提供することを目的とする。
また、このようなガラス積層体を含む支持体付き表示装置用パネルを提供することを目的とする。また、このような支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネルおよび表示装置を提供することを目的とする。
さらに、このような支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネルおよび表示装置を製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を重ね、本発明を完成した。
本発明は以下の（１）〜（１６）である。
（１）第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板ならびに樹脂層を有し、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層が密着しているガラス積層体であって、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を１箇所以上有するガラス積層体。
（２）前記凹陥部の面積が１箇所につき５ｍｍ2以上である、上記（１）に記載のガラス積層体。
（３）前記樹脂層がアクリル樹脂層、ポリオレフィン樹脂層、ポリウレタン樹脂層またはシリコーン樹脂層である、上記（１）または（２）に記載のガラス積層体。
（４）前記樹脂層の厚さが５〜５０μｍである、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のガラス積層体。
（５）前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との線膨張係数の差が１５０×１０−７／℃以下である、上記（１）〜（４）のいずれかに記載のガラス積層体。
（６）前記支持ガラス基板が前記凹陥部を３箇所以上有し、前記凹陥部の各々を頂点とする多角形の重心と、前記薄板ガラス基板の重心とが一致する、上記（１）〜（５）のいずれかに記載のガラス積層体。
（７）上記（１）〜（６）のいずれかに記載のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に表示装置用部材を有する、支持体付き表示装置用パネル。
（８）上記（７）に記載の支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネル。
（９）上記（８）に記載の表示装置用パネルを有する表示装置。
【００１７】
（１０）上記（１）〜（６）のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法であって、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を形成する凹陥部形成工程と、前記支持ガラス基板の第１主面上に易剥離性を有する樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する密着工程とを具備する、ガラス積層体の製造方法。
（１１）前記凹陥部形成工程が、各々の凹陥部を頂点とする多角形の重心が前記支持ガラス基板の重心と一致するように、前記支持ガラス基板に３箇所以上凹陥部を形成する工程である、上記（１０）に記載のガラス積層体の製造方法。
（１２）前記密着工程が、チャンバー内に配設され、基台表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台内部へ収納可能な３個以上のピンを有する基台であって、前記基台表面における前記ピンの相互の位置関係が、前記支持ガラス基板が有する凹陥部の位置関係と同一である前記基台の上に、前記ピンの位置と前記凹陥部の位置とが重なるように前記樹脂層が固定された前記支持ガラス基板を、前記樹脂層を上側として載置し、次に、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層とが隙間を保持しつつ対向するように、上側へ突出した前記ピンの上へ前記薄板ガラス基板を載置し、次に、前記薄板ガラス基板および前記支持ガラス基板が存するチャンバー内空間を負圧状態にし、その後、加圧手段によって前記薄板ガラス基板を上側から下側へ押すことによって、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する工程である、上記（１０）または（１１）に記載のガラス積層体の製造方法。
（１３）前記密着工程において、前記ピンの各々を頂点とする多角形の前記基台表面における重心と、前記薄板ガラス基板の第１主面における重心とが一致している、上記（１０）〜（１２）のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法。
（１４）上記（１０）〜（１３）のいずれかに記載の製造方法に、さらに、得られたガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成する工程を具備する、支持体付き表示装置用パネルの製造方法。
（１５）上記（１４）に記載の製造方法に、さらに、得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを、前記凹陥部を起点として分離する分離工程を具備する、表示装置用パネルの製造方法。
（１６）上記（１５）に記載の製造方法に、さらに、得られた表示装置用パネルを用いて表示装置を得る工程を具備する、表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により得られたガラス基板は、密着した薄板ガラス基板と樹脂層とを容易かつ短時間に分離することができる。そして、分離された薄板ガラス基板は、既存の表示装置用パネルの製造ラインで処理することができる。さらに、本発明のガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生や、エッチピットの発生を抑制できる。
その結果、ガラス基板間に気泡がほぼ存在しないガラス積層体を、簡易かつ経済的に製造することできる方法を提供することができる。
また、このようなガラス積層体を含む支持体付き表示装置用パネルを提供することができる。また、このような支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネルおよび表示装置を提供することができる。
さらに、このような支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネルおよび表示装置を製造する方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明について説明する。
本発明は、第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板、ならびに易剥離性を有する樹脂層を有し、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面に固定された前記樹脂層が密着しているガラス積層体であって、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を１箇所以上有するガラス積層体である。
このようなガラス積層体を、以下では「本発明の積層体」ともいう。
【００２０】
本発明の積層体について図を用いて説明する。
図１は、本発明の積層体の一態様を示す概略正面図であり、図２はそのＡ−Ａ’断面図（概略断面図）である。
ここで説明する本発明の積層体の一態様を、以下では「態様１」ともいう。
【００２１】
態様１において本発明の積層体１０は、薄板ガラス基板１２、支持ガラス基板１３ならびに樹脂層１４を有し、両ガラス基板で樹脂層１４を挟むように積層している。
そして、図１に示すように、正面から見ると、薄板ガラス基板１２、樹脂層１４および支持ガラス基板１３は各々矩形であり、薄板ガラス基板１２の主面面積は樹脂層１４の表面面積と同程度であるが、支持ガラス基板１３の主面面積よりも小さい。そして、薄板ガラス基板１２および樹脂層１４は、正面から見た場合に、支持ガラス基板１３の内側に収まるように位置している。
【００２２】
また、樹脂層１４は支持ガラス基板１３の第１主面に固定されており、薄板ガラス基板１２の第１主面に密着している。また、樹脂層１４は薄板ガラス基板１２の第１主面に対して易剥離性を具備している。ここで、薄板ガラス基板１２が有する２つの主面のうちの支持ガラス基板１３の側（樹脂層１４の側）の主面が第１主面であり、反対側の主面が第２主面である。また、支持ガラス基板１３が有する２つの主面のうちの薄板ガラス基板１２の側（樹脂層１４が存在する側）の主面が第１主面であり、反対側の主面が第２主面である。
【００２３】
そして、態様１における本発明の積層体１０は、支持ガラス基板１３の端部に凹陥部１５を２箇所有している。態様１の場合は、正面から見た場合の支持ガラス基板１３が有する四辺の中の一辺に、２箇所の凹陥部１５を有している。また、態様１において凹陥部１５は正面から見た場合に楕円形の半分の形状となっている。また、凹陥部１５は支持ガラス基板１３の端部のみならず、樹脂層１４にも形成されている。
【００２４】
次に、本発明の積層体の別の態様について説明する。
図３は、本発明の積層体の別の一態様を示す概略正面図であり、図４はそのＢ−Ｂ’断面図（概略断面図）である。
ここで説明する本発明の積層体の一態様を、以下では「態様２」ともいう。
態様２は態様１と同様の態様であるが、態様２は態様１と比較して、凹陥部の面積がやや狭く、樹脂層２４に凹陥部２５が形成されていない点で異なる。
態様２のその他の部分については、態様１と同様である。
【００２５】
本発明の積層体は、例えば上記のような態様１、２のガラス積層体である。
【００２６】
次に、本発明の積層体が有する薄板ガラス基板、支持ガラス基板、樹脂層および凹陥部の各々について説明する。
【００２７】
薄板ガラス基板について説明する。
薄板ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されず、例えば従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板と同様であってよい。
【００２８】
薄板ガラス基板の厚さは特に限定されないが、０．７ｍｍ未満であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．４ｍｍ以下であることがさらに好ましい。また、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．０７ｍｍ以上であることがより好ましく、０．１ｍｍ以上であることがさらに好ましい。
【００２９】
薄板ガラスの形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。
【００３０】
薄板ガラスの大きさは限定されないが、例えば矩形の場合は１００〜２０００ｍｍ×１００〜２０００ｍｍであってよく、５００〜１０００ｍｍ×５００〜１０００ｍｍであることが好ましい。
【００３１】
このような好ましい厚さおよび好ましい大きさであっても、本発明の積層体は薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを容易に剥離することができる。
【００３２】
薄板ガラス基板の熱収縮率、表面形状、耐薬品性等の特性も特に限定されず、製造する表示装置の種類により異なる。
ただし、薄板ガラス基板の熱収縮率は小さいことが好ましい。具体的には熱収縮率の指標である線膨張係数が１５０×１０−７／℃以下であるものを用いることが好ましく、１００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、４５×１０−７／℃以下であることがさらに好ましい。その理由は熱収縮率が大きいと高精細な表示装置を作り難くなるためである。
なお、本発明において線膨張係数はＪＩＳ Ｒ３１０２（１９９５年）に規定のものを意味する。
【００３３】
薄板ガラス基板の組成は、例えばアルカリガラスや無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。
【００３４】
次に、支持ガラス基板について説明する。
支持ガラス基板は樹脂層を介して薄板ガラス基板を支持し、薄板ガラス基板の強度を補強する。
また、支持ガラス基板はその端部に凹陥部を１箇所以上有する。「端部」とは支持ガラス基板の端面付近の部分であり、正面から見た場合の外縁部分でもある。凹陥部については後述する。
【００３５】
支持ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されない。
【００３６】
支持ガラス基板の厚さは特に限定されないが、本発明の積層体を現行の表示装置用パネルの製造ラインで処理できる厚さとする厚さであることが必要である。
例えば０．１〜１．１ｍｍの厚さであることが好ましく、０．３〜０．８ｍｍであることがより好ましく、０．４〜０．７ｍｍであることがさらに好ましい。
例えば、現行の製造ラインが厚さ０．５ｍｍの基板を処理するように設計されたものであって、薄板ガラス基板の厚さが０．１ｍｍである場合、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．４ｍｍとする。また、現行の製造ラインは厚さが０．７ｍｍのガラス基板を処理するように設計されているものが最も一般的であるが、例えば薄板ガラス基板の厚さが０．４ｍｍならば、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．３ｍｍとする。
支持ガラス基板の厚さは、前記薄板ガラス基板よりも厚いことが好ましい。
【００３７】
支持ガラス基板の形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。
【００３８】
支持ガラス基板の大きさは限定されないが、前記薄板ガラス基板と同程度であることが好ましく、前記薄板ガラス基板よりもやや大きい（縦方向または横方向の各々が０．０５〜１０ｍｍ程度大きい）ことが好ましい。理由は、表示装置用パネル製造時の位置決めピン等のアライメント装置の接触から前記薄板ガラス基板の端部を保護しやすいこと、および薄板ガラス基板と支持ガラス基板との剥離をより容易に行うことができるからである。
【００３９】
支持ガラス基板は線膨張係数が前記薄板ガラス基板と実質的に同一であってよく、異なってもよい。実質的に同一であると、本発明の積層体を熱処理した際に、薄板ガラス基板または支持ガラス基板に反りが発生し難い点で好ましい。
薄板ガラス基板と支持ガラス基板との線膨張係数の差は１５０×１０−７／℃以下であることが好ましく、１００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、５０×１０−７／℃以下であることがさらに好ましい。
【００４０】
支持ガラス基板の組成は、例えばアルカリ金属酸化物を含有するガラス、無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。
【００４１】
次に、樹脂層について説明する。
本発明の積層体において樹脂層は、前記支持ガラス基板の第１主面に固定されている。そして、樹脂層は、前記薄板ガラス基板の第１主面と密着しているが、容易に剥離することができる。すなわち樹脂層は、前記薄板ガラス基板に対して易剥離性を有する。
本発明の積層体において、樹脂層と薄板ガラス基板とは粘着剤が有するような粘着力によっては付いておらず、固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって付いている。
【００４２】
樹脂層の厚さは特に限定されない。５〜５０μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、７〜２０μｍであることがさらに好ましい。樹脂層の厚さがこのような範囲であると、薄板ガラス基板と樹脂層との密着が十分になるからである。また、気泡や異物が介在しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができるからである。また、樹脂層の厚さが厚すぎると、形成するのに時間および材料を要するため経済的ではない。
なお、樹脂層は２層以上からなっていてもよい。この場合「樹脂層の厚さ」は全ての層の合計の厚さを意味するものとする。
また、樹脂層が２層以上からなる場合は、各々の層を形成する樹脂の種類が異なってもよい。
【００４３】
樹脂層は表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。このような表面張力であると、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。
【００４４】
また、樹脂層はガラス転移点が室温（２５℃程度）よりも低い、またはガラス転移点を有しない材料からなることが好ましい。非粘着性の樹脂層となり、より易剥離性を有し、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。
【００４５】
また、樹脂層は耐熱性を有していることが好ましい。例えば前記薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する場合に、本発明の積層体を熱処理に供し得るからである。
【００４６】
また、樹脂層の弾性率が高すぎると薄板ガラス基板との密着性が低くなる傾向にある。また弾性率が低すぎると易剥離性が低くなる。
【００４７】
樹脂層を形成する樹脂の種類は特に限定されない。例えばアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂およびシリコーン樹脂が挙げられる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。中でもシリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂は耐熱性に優れかつ薄板ガラス基板に対する易剥離性に優れるためである。また、支持ガラス基板表面のシラノール基との縮合反応によって支持ガラス基板に固定し易いからである。シリコーン樹脂層は例えば３００〜４００℃程度で１時間程度処理しても、易剥離性がほぼ劣化しない点も好ましい。
【００４８】
また、樹脂層はシリコーン樹脂の中でも剥離紙用シリコーンからなることが好ましく、その硬化物であることが好ましい。剥離紙用シリコーンは直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーンを主剤とするものである。この主剤と架橋剤とを含む組成物を、触媒、光重合開始剤等を用いて前記支持ガラス基板の表面（第１主面）に硬化させて形成した樹脂層は、優れた易剥離性を有するので好ましい。また、柔軟性が高いので、薄板ガラス基板と樹脂層との間へ気泡や塵介等の異物が混入しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができる。
【００４９】
このような剥離紙用シリコーンは、その硬化機構により縮合反応型シリコーン、付加反応型シリコーン、紫外線硬化型シリコーンおよび電子線硬化型シリコーンに分類されるが、いずれも使用することができる。これらの中でも付加反応型シリコーンが好ましい。硬化反応のし易さ、樹脂層を形成した際に易剥離性の程度が良好で、耐熱性も高いからである。
【００５０】
また、剥離紙用シリコーンは形態的に溶剤型、エマルジョン型および無溶剤型があり、いずれの型も使用可能である。これらの中でも無溶剤型が好ましい。生産性、安全性、環境特性の面が優れるからである。また、樹脂層を形成する際の硬化時、すなわち、加熱硬化、紫外線硬化または電子線硬化の時に発泡を生じる溶剤を含まないため、樹脂層中に気泡が残留しにくいからである。
【００５１】
また、剥離紙用シリコーンとして、具体的には市販されている商品名または型番としてＫＮＳ−３２０Ａ，ＫＳ−８４７（いずれも信越シリコーン社製）、ＴＰＲ６７００（ＧＥ東芝シリコーン社製）、ビニルシリコーン「８５００」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６４」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６５」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ等が挙げられる。なお、ＫＮＳ−３２０Ａ、ＫＳ−８４７およびＴＰＲ６７００は、あらかじめ主剤と架橋剤とを含有しているシリコーンである。
【００５２】
また、樹脂層を形成するシリコーン樹脂は、シリコーン樹脂層中の成分が薄板ガラス基板に移行しにくい性質、すなわち低シリコーン移行性を有することが好ましい。
【００５３】
次に、凹陥部について説明する。
本発明のガラス積層体は、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を１箇所以上有する。
前記支持ガラス基板の端面（２つの主面以外の４つの面）の一部分を削ったり、端部の一部分を切出したりして凹陥部を形成した本発明のガラス積層体は、支持ガラス基板を剥離したい場合に凹陥部を手掛かりとして剥離することができる。具体的には、例えば凹陥部に鋭利な刃物状のものを差込んだり、水と圧縮空気との混合流体を吹き付けたりして剥離することができる。
【００５４】
凹陥部の形状について図を用いて説明する。図５（ａ）は図１の凹陥部１５の部分（Ｃ）を拡大した図である。図５（ａ）では支持ガラス基板１３とその凹陥部１５のみ示しており、図１に示されている薄板ガラス基板１２および樹脂層１４は記載を省略している。また、図５（ｂ）は図５（ａ）に記す凹陥部１５と、やや異なる形状の凹陥部１５’を示している。
【００５５】
図５（ａ）は正面図であり、前述のように凹陥部１５は楕円形の半分の形状となっている。凹陥部１５は支持ガラス基板１３から端部を楕円形の半分の形状に切出して形成したものであり、凹陥部１５と支持ガラス基板１３の端面との境界に角３が形成されている。図５（ｂ）に記す凹陥部１５’は、図５（ａ）に記す凹陥部１５が有する角３が削り取られた形状を有している。
【００５６】
凹陥部の形状は図５（ａ）、図５（ｂ）以外であってよく、特に限定されない。例えば三角形、矩形、多角形、半円形等であってもよい。ただし図５（ａ）に記した楕円形の半分の形状であることが好ましく、図５（ｂ）に記した、さらに角をなくした形状であることがより好ましい。このような形状の凹陥部は比較的容易に形成することができ、また、本発明の積層体の取り扱い時において欠け難いからである。また、凹陥部は支持ガラス基板の面取り用の砥石を用いて端面を削り出すことによって、賦形が可能である。
【００５７】
凹陥部の大きさについて説明する。凹陥部の大きさは特に限定されないが、大き過ぎると薄板ガラス基板における支持ガラス基板に支持されていない部分が多くなるので、薄板ガラス基板の当該部分（エッジ）に工程装置が接触した場合に破損に繋がりやすい。また、小さ過ぎると剥離の際に十分な手掛かりとして用いることが困難になる。凹陥部の端部における幅は１ｍｍ〜５０ｍｍであることが好ましく、５ｍｍ〜３０ｍｍであることがより好ましい。ここで凹陥部の幅とは、図５（ａ）、（ｂ）においてＸａ、Ｘｂで示す線分の長さをいう。すなわち、支持ガラス基板１３（１３’）の端面と凹陥部１５（１５’）との境界（図５（ａ）では「角３」で示される２点）の間を結ぶ線分Ｘａ、Ｘｂの長さを意味する。
また、凹陥部の深さはあまり深くまで入り込んでいると、薄板ガラス基板の表示装置形成領域に到達し、加熱工程においてその部分のみ熱容量が異なる結果となる。しかし、あまり浅いと剥離の際に十分な手掛かりとして用いることが困難になる。そこで、凹陥部の深さは５ｍｍ〜５０ｍｍであることが好ましく、１０ｍｍ〜３０ｍｍであることがより好ましい。ここで凹陥部の深さとは、図５（ａ）、（ｂ）において、凹陥部の境界線に接する直線（接線）であって線分ＸａまたはＸｂに平行な直線と線分ＸａまたはＸｂとの距離であるＹａまたはＹｂを意味するものとする。
【００５８】
また、凹陥部の面積は特に限定されない。しかし、大き過ぎると薄板ガラス基板における支持ガラス基板に支持されていない部分が多くなるので、薄板ガラス基板の当該部分（エッジ）に工程装置が接触した場合に破損に繋がりやすい。また、小さ過ぎると剥離の際に十分な手掛かりとして用いることが困難になる。１箇所につき５ｍｍ2以上であることが好ましく、２５ｍｍ2以上であることがより好ましく、５０ｍｍ2以上であることがさらに好ましい。また、１箇所につき２５００ｍｍ2以下であることが好ましく、１５００ｍｍ2以下であることがより好ましく、９００ｍｍ2以下であることがさらに好ましい。ここで凹陥部の面積とは図５（ａ）、（ｂ）において、凹陥部と支持ガラス基板１３（１３’）との境界線および線分Ｘａ（Ｘｂ）によって囲まれた部分の面積を意味するものとする。
【００５９】
凹陥部が設けられる位置と個数については特に制限はないが、本発明の積層体の１枚につき３〜４個であることが好ましい。また、本発明の積層体を正面から見た場合に本発明の積層体が有する四辺のうちの向い合う一組の二辺に、各々２個づつ凹陥部が設けられていることが好ましい。
例えば図６（ａ）〜（ｃ）のような態様であること好ましい。図６（ａ）〜（ｃ）は本発明の積層体の概略正面図である。これらの図では理解を容易にするために支持ガラス基板とそこに形成された凹陥部のみを記している。図６（ａ）における態様では、支持ガラス基板３３ａが凹陥部を３個（３５ａ１、３５ａ２、３５ａ３）有している。各々の凹陥部は、支持ガラス基板が有する四辺のうちの三辺の各々に１個ずつ存在している。図６（ｂ）における態様では、支持ガラス基板３３ｂが凹陥部を４個（３５ｂ１、３５ｂ２、３５ｂ３、３５ｂ４）有している。各々の凹陥部は、支持ガラス基板が有する四辺のうちの向い合う一組の辺（二辺）の各々に２個ずつ存在している。図６（ｃ）における態様では、支持ガラス基板３３ｃが凹陥部を４個（３５ｃ１、３５ｃ２、３５ｃ３、３５ｃ４）有している。各々の凹陥部は、支持ガラス基板が有する４個の角の部分に各々に存在している。
また、本発明の積層体は、支持ガラス基板が凹陥部を３箇所以上有し、凹陥部の各々を頂点とする多角形の重心と、薄板ガラス基板の重心とが一致することが好ましい。
【００６０】
また、凹陥部の間隔は５００ｍｍ以下であることが好ましく、３００ｍｍ以下であることがより好ましい。隣り合う凹陥部が５００ｍｍ超離れると剥離操作がスムーズに行えない可能性が生ずるからである。ここで「凹陥部の間隔」とは、支持ガラス基板を正面から見た場合の四辺上における隣合う凹陥部間の距離を意味するものとする。すなわち、支持ガラス基板の辺に沿って測定される二つの凹陥部の端部間の最短距離である。なお、前記の「凹陥部の端部」とは、凹陥部と支持ガラス基板の辺（直線）との交点にあたる位置をいう。
この距離について図７を用いて説明する。図７は凹陥部を３つ有する本発明の積層体の概略正面図である。図７では薄板ガラス基板および樹脂層の記載は省略している。図７に示す態様の本発明の積層体は、一辺上に２つの凹陥部（４５１、４５２）が形成されており、この辺に隣り合う別の辺上に別の凹陥部（４５３）が形成されている。そして、各々の凹陥部は図１、図５（ａ）で説明した凹陥部と同様の形状（楕円形の半分の形状）を有しており、図５（ａ）において「角３」として示した角と同様の角（４１ａ、４１ｂ、４２ａ、４２ｂ、４３ａ、４３ｂ）を有している。図７に示すように凹陥部４５１および凹陥部４５２が各々有する２つの角のうち左側が角４１ａおよび角４２ａであり、右側が角４１ｂおよび角４２ｂである。また、凹陥部４５３が有する２つの角のうち凹陥部４５２に近い側が角４３ｂであり、遠い側が角４３ａである。このような図７に示される本発明の積層体において、凹陥部４５１と凹陥部４５２との距離（間隔）は、各々の凹陥部が有する角の間の距離を意味するものとする。すなわち角４１ａと角４２ｂとの距離Ｚａ１が凹陥部４５１と凹陥部４５２との距離（間隔）である。また、凹陥部４５２と凹陥部４５３との距離は、支持ガラス基板の辺上における角４２ａと角４３ｂとの距離であり、距離Ｚａ２と距離Ｚａ３とを合計した距離を意味するものとする。
凹陥部が角を有さない形状（例えば図５（ｂ）に示した形状）の場合でも、支持ガラス基板の端面と凹陥部との境界を上記の角とみなして、凹陥部間の距離を求めるものとする。
【００６１】
このような本発明の積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成することで支持体付き表示装置用パネルを得ることができる。
表示装置用部材とは、従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板がその表面に有する発光層、保護層、カラーフィルタ、液晶、ＩＴＯからなる透明電極等、各種回路パターン等を意味する。
本発明の支持体付き表示装置用パネルには、例えば、ＴＦＴアレイ（以下、単に「アレイ」という。）が薄板ガラス基板の第２主面に形成された本発明の支持体付き表示装置用パネル薄板ガラス基板に、さらにカラーフィルタが形成された他のガラス基板（例えば０．３ｍｍ以上程度の厚さのガラス基板）が貼り合わされたものも含まれる。
【００６２】
また、このような支持体付き表示装置用パネルから、表示装置用パネルを得ることができる。支持体付き表示装置用パネルから、上記で説明したように凹陥部を剥離の手掛かりとすることで、薄板ガラス基板と支持ガラス基板に固定されている樹脂層とを剥離して、表示装置用部材および薄板ガラス基板を有する表示装置用パネルを得ることができる。
【００６３】
また、このような表示装置用パネルから表示装置を得ることができる。表示装置としてはＬＣＤ、ＯＬＥＤが挙げられる。ＬＣＤとしてはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＦＥ型、ＴＦＴ型、ＭＩＭ型が挙げられる。
【００６４】
次に、本発明の積層体の製造方法を説明する。
本発明の積層体の製造方法は特に限定されないが、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を形成する凹陥部形成工程と、前記支持ガラス基板の第１主面上に易剥離性を有する樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する密着工程とを具備する、ガラス積層体の製造方法であることが好ましい。
このような製造方法を、以下では「本発明の製造方法」ともいう。
【００６５】
本発明の製造方法で用いる前記薄板ガラス基板および前記支持ガラス基板自体の製造方法は特に限定されない。例えば従来公知の方法で製造することができる。例えば従来公知のガラス原料を溶解し溶融ガラスとした後、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法、スロットダウン法、リドロー法等によって板状に成形して得ることができる。
【００６６】
本発明の製造方法における凹陥部形成工程について説明する。
凹陥部形成工程は、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を形成する工程である。
凹陥部形成工程では、支持ガラス基板を所定の大きさおよび形状（例えば矩形）に切断した後、凹陥部を形成する。例えばダイヤモンド製の砥石を用いて凹陥部形状を削り出すことが好ましい。その後、通常の方法でこば面を同様の砥石で面取り加工する。続いて、洗浄機にて面取り、凹陥部が形成された支持ガラス基板を洗浄する。
【００６７】
ここで、形成された各々の凹陥部を頂点とする多角形の重心が前記支持ガラス基板の重心と一致するように、前記支持ガラス基板に３箇所以上凹陥部を形成することが好ましい。後の密着工程における薄板ガラス基板の密着を、精度よく行うことができるからである。
【００６８】
次に、樹脂層形成工程について説明する。
前記支持ガラス基板の表面（第１主面）に樹脂層を形成する方法も特に限定されない。
例えばフィルム状の樹脂を支持ガラス基板の表面に接着する方法が挙げられる。具体的にはフィルムの表面と高い接着力を付与するために、支持ガラス基板の表面に表面改質処理（プライミング処理）を行い、支持ガラス基板の第１主面に接着する方法が挙げられる。例えば、シランカップリング剤のような化学的に密着力を向上させる化学的方法（プライマー処理）や、フレーム（火炎）処理のように表面活性基を増加させる物理的方法、サンドブラスト処理のように表面の粗度を増加させることにより引っかかりを増加させる機械的処理方法などが例示される。
【００６９】
また、例えば公知の方法によって樹脂層となる樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする方法が挙げられる。公知の方法としてはスプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法が挙げられる。このような方法の中から、樹脂組成物に種類に応じて適宜選択することができる。
例えば、無溶剤型の剥離紙用シリコーンを樹脂組成物として用いた場合、ダイコート法、スピンコート法またはスクリーン印刷法が好ましい。
【００７０】
また、樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする場合、その塗工量は１〜１００ｇ／ｍ２であることが好ましく、５〜２０ｇ／ｍ２であることがより好ましい。
例えば付加反応型シリコーンから樹脂層を形成する場合、直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーン（主剤）、架橋剤および触媒を含む樹脂組成物を、上記のスプレーコート法等の公知の方法により支持ガラス基板上に塗工し、その後に加熱硬化させる。加熱硬化条件は、触媒の配合量によっても異なるが、例えば、主剤および架橋剤の合計量１００質量部に対して、白金系触媒を２質量部配合した場合、大気中で５０℃〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２００℃で反応させる。また、この場合の反応時間は５〜６０分間、好ましくは１０〜３０分間とする。低シリコーン移行性を有するシリコーン樹脂層とするためには、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることが好ましい。上記のような反応温度および反応時間であると、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないようにすることができるので好ましい。上記した反応時間よりも長すぎたり反応温度が高すぎる場合には、シリコーン樹脂の酸化分解が同時に起こり低分子量のシリコーン成分が生成して、シリコーン移行性が高くなる可能性がある。シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることは、加熱処理後の剥離性を良好にするためにも好ましい。
【００７１】
また、例えば樹脂層を剥離紙用シリコーンを用いて製造した場合、支持ガラス基板上に塗工した剥離紙用シリコーンを加熱硬化してシリコーン樹脂層を形成した後、密着工程で支持ガラス基板のシリコーン樹脂形成面に薄板ガラス基板を積層させる。剥離紙用シリコーンを加熱硬化させることによって、シリコーン樹脂硬化物が支持ガラスと化学的に結合する。また、アンカー効果によってシリコーン樹脂層が支持ガラスと結合する。これらの作用によって、シリコーン樹脂層が支持ガラス基板に強固に固定される。
【００７２】
なお、本発明の製造方法において、凹陥部形成工程と樹脂層形成工程との順番は特に限定されない。支持ガラス基板に凹陥部を形成した後に樹脂層を形成してもよいし、樹脂層を形成した後に凹陥部を形成してもよい。後者の場合、凹陥部が樹脂層にまで達していてもよい。
【００７３】
密着工程について説明する。
密着工程は、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する工程である。薄板ガラス基板と樹脂層とは、非常に近接した、相対する固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって樹脂層と密着する。この場合、支持ガラス基板と薄板ガラス基板と樹脂層を介して積層させた状態に保持することができる。
【００７４】
支持ガラス基板に固定された樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層させる方法は特に限定されない。例えば公知の方法を用いて実施することができる。例えば、常圧環境下で樹脂層の表面に薄板ガラス基板を重ねた後、ロールやプレスを用いて樹脂層と薄板ガラス基板とを圧着させる方法が挙げられる。ロールやプレスで圧着することにより樹脂層と薄板ガラス基板とがより密着するので好ましい。また、ロールまたはプレスによる圧着により、樹脂層と薄板ガラス基板との間に混入している気泡が比較的容易に除去されるので好ましい。真空ラミネート法や真空プレス法により圧着すると気泡の混入の抑制や良好な密着の確保がより好ましく行われるのでより好ましい。真空下で圧着することにより、微少な気泡が残存した場合でも加熱により気泡が成長することがなく、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥につながりにくいという利点もある。
【００７５】
また、密着工程は、チャンバー内に配設され、基台表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台内部へ収納可能な３個以上のピンを有する基台であって、前記基台表面における前記ピンの相互の位置関係が、前記支持ガラス基板が有する凹陥部の位置関係と同一である前記基台の上に、前記ピンの位置と前記凹陥部との位置が重なるように前記樹脂層が固定された前記支持ガラス基板を、前記樹脂層を上側として載置し、次に、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層とが隙間を保持しつつ対向するように、上側へ突出した前記ピンの上へ前記薄板ガラス基板を載置し、次に、前記薄板ガラス基板および前記支持ガラス基板が存するチャンバー内空間を負圧状態にし、その後、加圧手段によって前記薄板ガラス基板を上側から下側へ押すことによって、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する工程であることが好ましい。
このような好ましい密着工程について、図８、図９を用いて説明する。
【００７６】
図８は、基台表面に樹脂層を有する支持ガラス基板が載置されていることを表す概略斜視図である。図９は真空チャンバーであって、その内部で、樹脂層を介して支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを密着させることができる装置の概略断面図である。図９（ａ）は密着前の状態を示しており、図９（ｂ）は密着後の状態を示している。
【００７７】
図８において、基台５０は、その表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台内部へ収納可能な４個のピン５１を有している。ピン５１の根元にはバネ等が取り付けられていて、上側から下側（基台内部側）へ力を加えるとバネ等が縮んで基台内部へ押し込むことができる。ピン５１にはロック機構が備えられていて、基台内部へ押し込まれるとロックされ、ロックが解除されるまで基台内部に押し込まれた状態を保持することができる。
基台５０の表面におけるピン５１の相互の位置関係は、表面に載置された支持ガラス基板５２が有する４つの凹陥部５３の位置関係と同一であり、基台５０の上に、ピン５１の位置と凹陥部５３との位置が重なるように支持ガラス基板５２が載置されている。支持ガラス基板５２の主面には樹脂層５４が固定されており、樹脂層５４が上側となるように支持ガラス基板５２は基台５０上に載置されている。
【００７８】
次に図９（ａ）に示すように、上記のように載置した支持ガラス基板５２の上側に薄板ガラス基板５５を載置する。ここでピン５１の高さ（基台５０の表面から上側へ突き出している長さ）は、支持ガラス基板５２と樹脂層５４との厚さの合計よりも長いので、薄板ガラス基板５５はピン５１に支えられ、樹脂層５４と接触せず、薄板ガラス基板５５と樹脂層５４とが隙間を保持しつつ対向する。
ここで、ピン５１の各々を頂点とする多角形の基台５０の表面における重心と、薄板ガラス基板５５の重心とが一致することが好ましい。支持ガラス基板の重心と、薄板ガラス基板の重心とが一致している本発明の積層体を得ることができるからである。また、このような本発明の積層体を精度よく製造することができるからである。
【００７９】
次に図９（ｂ）に示すように、薄板ガラス基板５５および支持ガラス基板５２が存するチャンバー５７の内部を減圧して負圧から真空の状態とし、その後、加圧手段５６によって薄板ガラス基板５５を上側から下側へ押すことによって、薄板ガラス基板５５の第１主面に、支持ガラス基板５２の第１主面上に固定された樹脂層５４を密着することができる。このように負圧から真空の状態で密着することで、樹脂層の表面と薄板ガラス基板の第１主面との間に、気体が残存し難くなるので好ましい。特に、薄板ガラス基板の面積が大きい場合には効果的である。従来、このような真空積層プレス法では、薄板ガラス基板を上側の加圧手段に真空吸着して保持することができないので、非常に高価な静電吸着装置が適用されるが、本発明の製造方法では薄板ガラス基板をピンで支えるので、静電吸着装置と比較して非常に安価な装置とすることができる点で好ましい。
【００８０】
密着工程では、支持ガラス基板の樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層させる際には、薄板ガラス基板の表面を十分に洗浄し、クリーン度の高い環境で積層することが好ましい。樹脂層と薄板ガラス基板との間に異物が混入しても、樹脂層が変形するので薄板ガラス基板の表面の平坦性に影響を与えることはないが、クリーン度が高いほどその平坦性は良好となるので好ましい。
【００８１】
このような本発明の製造方法によって本発明の積層体を製造することができる。
【００８２】
本発明の製造方法に、さらに、得られた本発明のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成する工程を具備する製造方法によって、支持体付き表示装置用パネルを製造することができる。
ここで表示装置用部材は特に限定されない。例えばＬＣＤが有するアレイやカラーフィルタが挙げられる。また、例えばＯＬＥＤが有する透明電極、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層が挙げられる。
【００８３】
このような表示装置部材を形成する方法も特に限定されず、従来公知の方法と同様であってよい。
例えば表示装置としてＴＦＴ−ＬＣＤを製造する場合、従来公知のガラス基板上にアレイを形成する工程、カラーフィルタを形成する工程、アレイが形成されたガラス基板とカラーフィルタが形成されたガラス基板とをシール材等を介して貼り合わせる工程（アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程）等の各種工程と同様であってよい。より具体的には、これらの工程で実施される処理として、例えば純水洗浄、乾燥、成膜、レジスト塗布、露光、現像、エッチングおよびレジスト除去が挙げられる。さらに、アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程を実施した後に行われる工程として、液晶注入工程および該処理の実施後に行われる注入口の封止工程があり、これらの工程で実施される処理が挙げられる。
また、ＯＬＥＤを製造する場合を例にとると、薄板ガラス基板の第２主面上に有機ＥＬ構造体を形成するための工程として、透明電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、封止工程等の各種工程を含み、これらの工程で実施される処理として、具体的には例えば、成膜処理、蒸着処理、封止板の接着処理等が挙げられる。
このようにして支持体付き表示装置用パネルを製造することができる。
【００８４】
また、このような支持体付き表示装置用パネルを得た後、さらに、得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを、前記凹陥部を起点として分離する分離工程を具備する製造方法によって表示装置用パネルを得ることができる。
表示装置用パネルは、例えば上記のような本発明の製造方法によって得られる支持体付き表示装置用パネルにおける前記凹陥部を手掛かりにして、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する分離工程を具備する製造方法で製造することできる。剥離する方法は特に限定されない。具体的には、例えば凹陥部に鋭利な刃物状のものを差込んだり、水と圧縮空気との混合流体を吹き付けたりして剥離することができる。好ましくは、前記支持体付き表示装置用パネルの支持ガラス基板が上側、パネル側が下側となるように定盤上に設置し、パネル側基板を定盤上に真空吸着し（両面に支持ガラス基板が積層されている場合は順次行う）、この状態でガラス積層体の凹陥部において薄板ガラス−樹脂層界面に水と圧縮空気の混合流体を噴きつけ、支持ガラス基板の端部を垂直上方へ引っ張り上げる。そうすると樹脂層とパネル側薄板ガラス基板との界面へ、その凹陥部から空気層が形成され、その空気層が界面の全面に広がり、支持ガラス基板を容易に剥離することができる（表示装置の前面側及び背面側の薄板ガラス基板の両方に支持ガラス基板が積層されている場合は本操作を片面ずつ繰り返す）。
【００８５】
さらに、得られた表示装置用パネルを用いて表示装置を得る工程を具備する製造方法によって表示装置を製造することができる。
ここで表示装置を得る工程における操作は特に限定されず、例えば従来公知の方法で表示装置を製造することができる。
【実施例】
【００８６】
（実施例１）
図１０に示す態様のガラス積層体を製造した。このガラス積層体は、前述の態様１と類似の態様である。
初めに縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．４ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板６３（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）に、自動面取り装置（ＣＧＥ１３００；シライテック社製）に幅１５ｍｍ、深さ５ｍｍ、面積５０ｍｍ２の半楕円形の凹陥部６５を２箇所形成した。その後、純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。
【００８７】
次に、無溶剤付加反応型剥離紙用シリコーン１００質量部と、白金系触媒２質量部との混合物を、支持ガラス基板６３の第１主面上に縦７１５ｍｍ、横５９５ｍｍの大きさで、スクリーン印刷機にて塗工した（塗工量３０ｇ／ｍ２）。そして、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層６４を得た。
【００８８】
次に、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．３ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の薄板ガラス基板６２（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）の第１主面（後にシリコーン樹脂層と接触させる側の面）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した。そして、支持ガラス基板６３の第１主面上のシリコーン樹脂層６４の表面と薄板ガラス基板６２とを、室温下、真空プレスにて貼り合わせガラス積層体Ａ（本発明の積層体６０）を得た。
【００８９】
このような実施例１に係るガラス積層体Ａにおいて、薄板ガラス基板および支持ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
【００９０】
次に、ガラス積層体Ａを下記の剥離試験１に供し、剥離性を評価した。図１１〜図１３を用いて説明する。
＜剥離試験１＞
ガラス積層体Ａを１０枚製造した。そして、そのうちの１枚を、支持ガラス基板６３が上側、薄板ガラス基板６２が下側となるように定盤６１の上に設置した後、薄板ガラス基板６２を定盤上に真空吸着した（図１１）。
この状態でガラス積層体Ａの２箇所の凹陥部６５において、薄板ガラス基板６２と樹脂層６４との界面に水と圧縮空気の混合流体６９を噴きつけ（図１２）、支持ガラス基板６３の端部を垂直上方へ引っ張り上げた（図１３）。すると、シリコーン樹脂層６４と薄板ガラス基板６２との界面へ、その凹陥部６５から空気層が形成され、その空気層が界面の全面に広がり、容易に剥離することができた。
【００９１】
この操作を残りの９枚のガラス積層体Ａについて連続して行った。すると、１０枚のガラス積層体Ａについて２０分以内に剥離作業を問題なく行うことができた。
【００９２】
次に、さらにもう１枚のガラス積層体Ａを用意した。そして、これを３００℃で１時間大気中で加熱処理した。加熱処理に対する耐熱性は良好であった。
そして、上記と同様の剥離試験１に供した。この場合も同様に、剥離を問題なく行うことができた。
【００９３】
（実施例２）
実施例２は実施例１と同様であるが、図１４に示すように凹陥部の大きさを小さくし、樹脂層に凹陥部が到達していない支持ガラス基板を用いた。
初めに縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．６ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板７３（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）に、自動面取り装置（ＣＧＥ１３００；シライテック社製）に幅１０ｍｍ、深さ３ｍｍ、面積２１ｍｍ２の半楕円形の凹陥部７５を２箇所形成した。その後、純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。
【００９４】
次に樹脂層７４を形成するための樹脂として、両末端にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンと、分子内にハイドロシリル基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサンとを用いた。そして、これを白金系触媒と混合して混合物を調製し、支持ガラス基板７３の第１主面上に縦７１０ｍｍ、横５９５ｍｍの大きさでスクリーン印刷機にて塗工し（塗工量２０ｇ／ｍ２）、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層を形成した。ここで、ハイドロシリル基とビニル基のモル比は１／１となるように、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの混合比を調整した。白金系触媒は、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの合計１００質量部に対して５質量部添加した。
【００９５】
次に、薄板ガラス基板７２として縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、厚さ０．１ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃のガラス基板（旭硝子株式会社製ＡＮ１００）を用いて、支持ガラス基板７３の第１主面上のシリコーン樹脂層７４の表面と薄板ガラス基板７２とを、室温下、真空プレスにて貼り合わせガラス積層体Ｂ（本発明の積層体７０）を得た。
【００９６】
このような実施例２に係るガラス積層体Ｂにおいて、薄板ガラス基板および支持ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
また、実施例１と同様にして剥離試験１を実施したところ、１０枚のガラス積層体について３０分以内に剥離作業を問題なく行うことができた。また、３００℃で１時間大気中で加熱処理した場合のガラス積層体Ｂは、加熱処理に対する耐熱性は良好であった。さらに剥離性も良好であった。
【００９７】
（実施例３）
図１５に示す態様のガラス積層体を製造した。このガラス積層体は、前述の態様１と類似の態様である。
初めに縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．４ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板８３（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）に、自動面取り装置（ＣＧＥ１３００；シライテック社製）を用いて幅１５ｍｍ、深さ５ｍｍ、面積５０ｍｍ２の半楕円形の凹陥部８５を４箇所、それぞれ近傍の角から１０ｍｍの位置に形成した。その後、純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。
次に樹脂層８４を実施例２と同様にして形成した。
そして、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．３ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の薄板ガラス基板８２（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）の第１主面（後にシリコーン樹脂層と接触させる側の面）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した。そして、図１６に示すミカドテクノス社製真空ヒータープレス装置（ＭＫＰ−２００ＴＶ−ＷＨ−ＳＴ）を用いて、常温にて積層した。
この積層方法について、図１６およびその一部（Ｅ）を拡大した図である図１７を用いて具体的に説明する。
【００９８】
真空ヒータープレス装置１００は基台９０の表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台９０の内部へ収納可能な４個のピン９１を有している。ピン９１の根元にはバネ１０１が取り付けられていて、上側から下側（基台内部側）へ力を加えるとバネ１０１が縮んで基台内部へ押し込まれる。ロック用ピン１０２ａおよび凹部１０２ｂからなるロック機構１０２が備えられているので、ピン９１が基台内部へ押し込まれると、根元のバネの作用でロック用ピン１０２ａが凹部１０２ｂへ収まることでロックされ、ロックが解除されるまでピン９１が基台内部に押し込まれた状態で保持される。
基台９０の表面におけるピン９１の相互の位置関係は、表面に載置される支持ガラス基板８３が有する４つの凹陥部８５の位置関係と同一である。
【００９９】
このような真空ヒータープレス装置１００の基台９０の上に、ピン９１の位置と凹陥部８５との位置が重なるように支持ガラス基板８３を載置した。ここで、支持ガラス基板８３における樹脂層８４が固定された面が上側となるようにした。すなわち、前述の図８に示したような状態となるように支持ガラス基板８３および樹脂層８４を載置した。
次に、図１６（ａ）に示すように、４つのピン９１の上に薄板ガラス基板８２を静かにセットした。ここで薄板ガラス基板８２の第１主面が下側になるようにした。
次に、図１６（ｂ）に示すように、加圧手段９６を第１下降位置まで下げ、形成されたチャンバーを−１００ｋＰａまで減圧した。
次に、図１６（ｃ）に示すように、加圧手段９６を第２加工位置まで下げ、薄板ガラス基板８２の第１主面に支持ガラス基板８３の第１主面上に固定された樹脂層８４を密着させた。加圧手段９６を第２加工位置まで下げた際にロック機構１０２が作用し、ピン９１は基台９０に押し込まれた状態で保持された。この状態で積層基板には３００ｋＮ／ｍ３の圧力がかかっていた。そして、この状態を１０秒間保持した後、真空を破壊し、加圧手段９６を上昇させ、ガラス積層体８０を取り出した。
このような実施例３に係るガラス積層体８０において、薄板ガラス基板および支持ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
【０１００】
（実施例４）
本例では、実施例２で得たガラス積層体Ｂを用いてＬＣＤを製造する。
２枚のガラス積層体Ｂを準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にカラーフィルタを形成する。アレイが形成されたガラス積層体と、カラーフィルタが形成されたガラス積層体とをシール材を介して貼り合わせた後、片面ずつ上記剥離試験と同様に各積層体の凹陥部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には、強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、ガラス基板を切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。
【０１０１】
（実施例５）
本例では、実施例１で得たガラス積層体Ａを用いてＬＣＤを製造する。
２枚のガラス積層体Ａを準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。アレイが形成されたガラス積層体と、カラーフィルタが形成されたガラス積層体とをシール材を介して貼り合わせた後、片面ずつ上記剥離試験と同様に各積層体の凹陥部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、ケミカルエッチング処理によりそれぞれの薄板ガラス基板の厚さを０．１５ｍｍとする。ケミカルエッチング処理後の薄板ガラス基板の表面には光学的に問題となるようなエッチピットの発生はみられない。
その後、薄板ガラス基板を切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。
【０１０２】
（実施例６）
本例では、実施例２で得たガラス積層体Ｂと、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板（旭硝子製ＡＮ−１００）とを用いてＬＣＤを製造する。
ガラス積層体Ｂを準備して、カラーフィルタ形成工程に供してガラス積層体の薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。一方、無アルカリガラス基板はアレイ形成工程に供して一方の主面上にアレイを形成する。
カラーフィルタが形成されたガラス積層体と、アレイが形成された無アルカリガラス基板とをシール材を介して貼り合わせた後、片面ずつ上記剥離試験と同様に各積層体の凹陥部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、支持ガラス基板を分離したものを縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルにレーザーカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて分断する。その後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。
【０１０３】
（実施例７）
本例では、実施例２で得たガラス積層体Ｂを用いてＯＬＥＤを製造する。
透明電極を形成する工程、補助電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、これらを封止する工程に供して、ガラス積層体の薄板ガラス基板上に有機ＥＬ構造体を形成する。次に積層体の凹陥部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、薄板ガラス基板をレーザーカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて切断し、縦４１ｍｍ×横３０ｍｍの２８８個のセルに分断した後、有機ＥＬ構造体が形成されたガラス基板と対向基板とを組み立てて、モジュール形成工程を実施してＯＬＥＤを作成する。こうして得られるＯＬＥＤは特性上問題は生じない。
【０１０４】
（比較例１）
凹陥部を設けない支持ガラスを用いたこと以外は、実施例１と同様とした試験を行った。得られた比較例１に係るガラス積層体Ｃは、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなくガラス基板が密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
また、以下に示す剥離試験２に供した。
【０１０５】
＜剥離試験２＞
ガラス積層体Ｃを１０枚製造した。そして、そのうちの１枚を、支持ガラス基板が上側、薄板ガラス基板が下側となるように定盤上に設置し、薄板ガラス基板を定盤上に真空吸着した。そして、薄板ガラス基板と樹脂層との端部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、徐々に端から剥離した。
この操作を連続して残りの９枚のガラス積層体Ｃについて行った。すると、１０枚のガラス積層体について剥離作業を行うのに１時間を要した。このように凹陥部を有しないガラス積層体から支持ガラス基板を剥離することは可能ではあるが、剥離作業の効率が低いことがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】図１は、本発明の積層体の一態様を示す概略正面図である。
【図２】図２は、図１のＡ−Ａ’断面を示す概略断面図である。
【図３】図３は、本発明の積層体の別の一態様を示す概略正面図である。
【図４】図４は、図３のＢ−Ｂ’断面を示す概略断面図である。
【図５】図５（ａ）、（ｂ）は凹陥部の拡大図である。
【図６】図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は本発明の積層体の概略正面図である。
【図７】図７は、本発明の積層体の概略正面図である。
【図８】図８は、好ましい密着工程を説明するための概略斜視図である。
【図９】図９（ａ）、（ｂ）は、好ましい密着工程を説明するための概略断面図である（図８のＤ−Ｄ’端面を示す）。
【図１０】図１０は、実施例１の態様を説明するための概略正面図である。
【図１１】図１１は、剥離方法を説明するための概略断面図である。
【図１２】図１２は、剥離方法を説明するための概略断面図である。
【図１３】図１３は、剥離方法を説明するための概略断面図である。
【図１４】図１４は、実施例２の態様を説明するための概略断面図である。
【図１５】図１５は、実施例３の態様を説明するための概略正面図である。
【図１６】図１６は、実施例３の製造過程を説明するための概略断面図である。
【図１７】図１７は、図１６の一部分（Ｅ）の拡大図である。
【符号の説明】
【０１０７】
１０、２０ 本発明の積層体
１２、２２ 薄板ガラス基板
１３、２３ 支持ガラス基板
１４、２４ 樹脂層
１５、１５’、２５ 凹陥部
３ 角
Ｘａ、Ｘｂ 線分
Ｙａ、Ｙｂ 凹陥部の深さ
３３ａ、３３ｂ、３３ｃ 支持ガラス基板
３５ａ１、３５ａ２、３５ａ３ 凹陥部
３５ｂ１、３５ｂ２、３５ｂ３、３５ｂ４ 凹陥部
３５ｃ１、３５ｃ２、３５ｃ３、３５ｃ４ 凹陥部
４５１、４５２、４５３ 凹陥部
４１ａ、４１ｂ、４２ａ、４２ｂ、４３ａ、４３ｂ 角
Ｚａ１、Ｚａ２、Ｚａ３ 凹陥部間距離
５０、９０ 基台
５１、９１ ピン
５２ 支持ガラス基板
５３ 凹陥部
５４ 樹脂層
５５ 薄板ガラス基板
５６、９６ 加圧手段
５７、９７ チャンバー
６０、７０、８０ 本発明の積層体
６２、７２、８２ 薄板ガラス基板
６３、７３、８３ 支持ガラス基板
６４、７４、８４ 樹脂層
６５、７５、８５ 凹陥部
６１ 定盤
６９ 混合流体
１００ 真空ヒータープレス装置
１０１ バネ
１０２ａ ロック用ピン
１０２ｂ 凹部
１０２ ロック機構
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等に用いられるガラス基板を含むガラス積層体、それを含む支持体付き表示装置用パネル、それを用いて形成される表示装置用パネルおよびそれを含む表示装置ならびにこれらの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）、特にモバイルや携帯電話等の携帯型表示装置の分野では、表示装置の軽量化、薄型化が重要な課題となっている。
【０００３】
この課題に対応するために、表示装置に用いるガラス基板の板厚をさらに薄くすることが望まれている。板厚を薄くする方法としては、一般に、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前または形成した後に、フッ酸等を用いてガラス基板をエッチング処理し、必要に応じてさらに物理研磨して薄くする方法が行われる。
しかしながら、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、ガラス基板の強度が低下し、たわみ量も大きくなる。そのため既存の表示装置用パネルの製造ラインで処理することが困難になるという問題が生じる。
また、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成した後にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する過程においてガラス基板の表面に形成された微細な傷が顕在化する問題、すなわちエッチピット（etchpit）の発生という問題が生じる。
【０００４】
そこで、このような問題を解決することを目的として、板厚の薄いガラス基板（以下では「薄板ガラス基板」ともいう。）を他の支持ガラス基板と貼り合わせて積層体とし、その状態で表示装置を製造するための所定の処理を実施し、その後、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する方法等が提案されている。
【０００５】
例えば特許文献１には、製品用のガラス基板と補強用ガラス基板とを、ガラス基板同士の静電気吸着力または真空吸着力を利用して貼り合わせて一体化し、製品用のガラス基板を用いた表示装置を製造する方法が記載されている。
例えば特許文献２には、液晶表示装置の基板と支持体との端部をガラスフリット系の接着剤を用いて接着して、その後、電極パターン等を形成する液晶表示装置の製造方法が記載されている。
例えば特許文献３には、２枚のガラス基板の少なくとも周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して前記２枚のガラス基板を融合させる工程を有する表示装置用基板の製造方法が記載されている。
【０００６】
例えば特許文献４には、粘着材層が支持体上に設けられている基板搬送用治具に基板を貼り付け、液晶表示素子の製造工程を通して基板搬送用治具を搬送することにより、基板搬送用治具に貼り付いている基板に対して液晶表示素子形成処理を順次行い、所定の工程を終了後、基板搬送用治具から基板を剥離する液晶表示装置の製造方法が記載されている。
例えば特許文献５には、液晶表示素子用電極基板を紫外線硬化型粘着剤が支持体上に設けられた治具を用いて、液晶表示素子用電極基板に所定の加工を施した後、紫外線硬化型粘着剤に紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化型粘着剤の粘着力を低下させ、前記液晶表示素子用電極基板を前記治具から剥離することを特徴とする液晶表示素子の製造方法が記載されている。
例えば特許文献６には、粘着材によって薄板を支持板に仮固定し、前記粘着材の周縁部をシール材によって封止し、薄板を仮固定した支持板を搬送する搬送方法が記載されている。
【０００７】
例えば特許文献７には、薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラスと、前記支持ガラスと、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されていることを特徴とする薄板ガラス積層体が記載されている。そして、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離するには、薄板ガラス基板を支持ガラス基板から垂直方向に引き離す力を与えればよく、剃刀の刃等で端部に剥離のきっかけをいれたり、積層界面へのエアーの注入により、より容易に剥離することが可能であると記載されている。
例えば特許文献８には、薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラス基板と、前記支持ガラス基板と、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されており、かつ前記シリコーン樹脂層と、前記支持ガラス基板と、には互いに連通する少なくとも１つの孔が設けられていることを特徴とする薄板ガラス積層体が記載されている。そして、支持ガラス基板に設けられた孔から薄板ガラス基板とシリコーン樹脂層の界面に圧縮気体を注入することにより、薄板ガラスにガラスの破損につながるような応力を加えることなく、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離することが可能であると記載されている。
【０００８】
また、ガラス積層体ではないが、特許文献９には、ガラス製の部品又は該部品を用いてなる製品に貼付される貼り付けシートにおいて、切り欠き部を設けてあることを特徴とする貼り付けシートが記載されている。そして、切り欠き部を設けるために切り込んだ部分を折り返してあるので、剥離のための道具の先端が入り易くなるとともに、折り返した部分により浮き上がり易くなり、容易に剥離することができると記載されている。
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−２４１８０４号公報
【特許文献２】特開昭５８−５４３１６号公報
【特許文献３】特開２００３−２１６０６８号公報
【特許文献４】特開平８−８６９９３号公報
【特許文献５】特開平９−１０５８９６号公報
【特許文献６】特開２０００−２５２３４２号公報
【特許文献７】国際公開第２００７／０１８０２８号パンフレット
【特許文献８】特開２００７−３２６３５８号公報
【特許文献９】特開２００３−３０８０１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１に記載のガラス基板同士を静電吸着力や真空吸着力を利用して固定する方法、特許文献２に記載のガラス基板の両端をガラスフリットを用いて固定する方法、または特許文献３に記載の周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して２枚のガラス基板を融合させる方法では、ガラス基板同士を何らの中間層を介さず積層密着させるので、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によってガラス基板にゆがみ欠陥が生じる。そのため、表面が平滑なガラス基板積層体を得ることは困難である。
【００１１】
また、特許文献４〜６に記載のガラス基板間に粘着層等を配置する方法では、上記のようなガラス基板間への気泡等の混入によるゆがみ欠陥の発生を回避し得るものの、両ガラス基板を分離することが困難であり、分離する際に薄板ガラス基板が破損するおそれがある。また分離後の薄板ガラス基板への粘着剤の残存も問題となる。
【００１２】
これに対して特許文献７に記載の薄板ガラス積層体によれば、上記のようなガラス基板間への気泡等の混入によるゆがみ欠陥は発生し難い。また、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを剥離することも可能である。さらに分離後の薄板ガラス基板への粘着剤の残存の問題は解決される。しかし、両ガラス基板の分離は、より容易に、より短時間で行うことが望まれる。特にガラス基板が大型の場合は、工業的に利用する上で重要な点となる。
また、特許文献８に記載のガラス積層体の場合、薄板ガラス基板上に皮膜等を形成する熱処理工程において、薄板ガラス基板におけるシリコーン樹脂層と接している部分と、孔に接している部分とで、熱容量の違いに起因して皮膜する痕跡が生じ易いという欠点を有していた。
【００１３】
また、上記のようなガラス積層体を形成する場合、通常、真空積層プレス法、すなわち、支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを樹脂層を介して仮積層した状態でプレス機にセットし、真空引き（減圧）した後にプレスする方法を適用するが、プレスしても薄板ガラス基板と樹脂層との間の泡が残存するという問題が生じる。特に薄板ガラス基板のサイズが大きいと顕著となる。この対策としては、例えば薄板ガラス基板を上側の加圧手段に吸着して保持することで、支持ガラス基板と薄板ガラス基板との間に隙間を保ちつつ、両基板が存する空間を真空にし、その後両基板を接触させプレスする方法が考えられる。しかしこの場合、真空吸着法によって薄板ガラス基板を加圧手段に吸着させて保持することはできないので、現に存する代替法として静電吸着法によって保持することとなる。しかしながら、静電吸着装置は非常に高価である。
【００１４】
なお、特許文献９には容易に剥離できる貼り付けシートが記載されており、ガラス積層体とは無関係である。
【００１５】
本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものである。すなわち、まず本発明の第１の目的は、密着した薄板ガラス基板と樹脂層とを容易かつ短時間に分離することができるガラス積層体を提供することを目的とするものである。
加えて、本発明の第２の目的は、前記のようなガラス積層体を、ガラス基板間に気泡や塵芥等の異物を存在させず、簡易かつ経済的に製造することできる方法を提供することを目的とする。
また、このようなガラス積層体を含む支持体付き表示装置用パネルを提供することを目的とする。また、このような支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネルおよび表示装置を提供することを目的とする。
さらに、このような支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネルおよび表示装置を製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を重ね、本発明を完成した。
本発明は以下の（１）〜（１６）である。
（１）第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板ならびに樹脂層を有し、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層が密着しているガラス積層体であって、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を１箇所以上有するガラス積層体。
（２）前記凹陥部の面積が１箇所につき５ｍｍ2以上である、上記（１）に記載のガラス積層体。
（３）前記樹脂層がアクリル樹脂層、ポリオレフィン樹脂層、ポリウレタン樹脂層またはシリコーン樹脂層である、上記（１）または（２）に記載のガラス積層体。
（４）前記樹脂層の厚さが５〜５０μｍである、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のガラス積層体。
（５）前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との線膨張係数の差が１５０×１０−７／℃以下である、上記（１）〜（４）のいずれかに記載のガラス積層体。
（６）前記支持ガラス基板が前記凹陥部を３箇所以上有し、前記凹陥部の各々を頂点とする多角形の重心と、前記薄板ガラス基板の重心とが一致する、上記（１）〜（５）のいずれかに記載のガラス積層体。
（７）上記（１）〜（６）のいずれかに記載のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に表示装置用部材を有する、支持体付き表示装置用パネル。
（８）上記（７）に記載の支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネル。
（９）上記（８）に記載の表示装置用パネルを有する表示装置。
【００１７】
（１０）上記（１）〜（６）のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法であって、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を形成する凹陥部形成工程と、前記支持ガラス基板の第１主面上に易剥離性を有する樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する密着工程とを具備する、ガラス積層体の製造方法。
（１１）前記凹陥部形成工程が、各々の凹陥部を頂点とする多角形の重心が前記支持ガラス基板の重心と一致するように、前記支持ガラス基板に３箇所以上凹陥部を形成する工程である、上記（１０）に記載のガラス積層体の製造方法。
（１２）前記密着工程が、チャンバー内に配設され、基台表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台内部へ収納可能な３個以上のピンを有する基台であって、前記基台表面における前記ピンの相互の位置関係が、前記支持ガラス基板が有する凹陥部の位置関係と同一である前記基台の上に、前記ピンの位置と前記凹陥部の位置とが重なるように前記樹脂層が固定された前記支持ガラス基板を、前記樹脂層を上側として載置し、次に、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層とが隙間を保持しつつ対向するように、上側へ突出した前記ピンの上へ前記薄板ガラス基板を載置し、次に、前記薄板ガラス基板および前記支持ガラス基板が存するチャンバー内空間を負圧状態にし、その後、加圧手段によって前記薄板ガラス基板を上側から下側へ押すことによって、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する工程である、上記（１０）または（１１）に記載のガラス積層体の製造方法。
（１３）前記密着工程において、前記ピンの各々を頂点とする多角形の前記基台表面における重心と、前記薄板ガラス基板の第１主面における重心とが一致している、上記（１０）〜（１２）のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法。
（１４）上記（１０）〜（１３）のいずれかに記載の製造方法に、さらに、得られたガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成する工程を具備する、支持体付き表示装置用パネルの製造方法。
（１５）上記（１４）に記載の製造方法に、さらに、得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを、前記凹陥部を起点として分離する分離工程を具備する、表示装置用パネルの製造方法。
（１６）上記（１５）に記載の製造方法に、さらに、得られた表示装置用パネルを用いて表示装置を得る工程を具備する、表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により得られたガラス基板は、密着した薄板ガラス基板と樹脂層とを容易かつ短時間に分離することができる。そして、分離された薄板ガラス基板は、既存の表示装置用パネルの製造ラインで処理することができる。さらに、本発明のガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生や、エッチピットの発生を抑制できる。
その結果、ガラス基板間に気泡がほぼ存在しないガラス積層体を、簡易かつ経済的に製造することできる方法を提供することができる。
また、このようなガラス積層体を含む支持体付き表示装置用パネルを提供することができる。また、このような支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネルおよび表示装置を提供することができる。
さらに、このような支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネルおよび表示装置を製造する方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明について説明する。
本発明は、第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板、ならびに易剥離性を有する樹脂層を有し、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面に固定された前記樹脂層が密着しているガラス積層体であって、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を１箇所以上有するガラス積層体である。
このようなガラス積層体を、以下では「本発明の積層体」ともいう。
【００２０】
本発明の積層体について図を用いて説明する。
図１は、本発明の積層体の一態様を示す概略正面図であり、図２はそのＡ−Ａ’断面図（概略断面図）である。
ここで説明する本発明の積層体の一態様を、以下では「態様１」ともいう。
【００２１】
態様１において本発明の積層体１０は、薄板ガラス基板１２、支持ガラス基板１３ならびに樹脂層１４を有し、両ガラス基板で樹脂層１４を挟むように積層している。
そして、図１に示すように、正面から見ると、薄板ガラス基板１２、樹脂層１４および支持ガラス基板１３は各々矩形であり、薄板ガラス基板１２の主面面積は樹脂層１４の表面面積と同程度であるが、支持ガラス基板１３の主面面積よりも小さい。そして、薄板ガラス基板１２および樹脂層１４は、正面から見た場合に、支持ガラス基板１３の内側に収まるように位置している。
【００２２】
また、樹脂層１４は支持ガラス基板１３の第１主面に固定されており、薄板ガラス基板１２の第１主面に密着している。また、樹脂層１４は薄板ガラス基板１２の第１主面に対して易剥離性を具備している。ここで、薄板ガラス基板１２が有する２つの主面のうちの支持ガラス基板１３の側（樹脂層１４の側）の主面が第１主面であり、反対側の主面が第２主面である。また、支持ガラス基板１３が有する２つの主面のうちの薄板ガラス基板１２の側（樹脂層１４が存在する側）の主面が第１主面であり、反対側の主面が第２主面である。
【００２３】
そして、態様１における本発明の積層体１０は、支持ガラス基板１３の端部に凹陥部１５を２箇所有している。態様１の場合は、正面から見た場合の支持ガラス基板１３が有する四辺の中の一辺に、２箇所の凹陥部１５を有している。また、態様１において凹陥部１５は正面から見た場合に楕円形の半分の形状となっている。また、凹陥部１５は支持ガラス基板１３の端部のみならず、樹脂層１４にも形成されている。
【００２４】
次に、本発明の積層体の別の態様について説明する。
図３は、本発明の積層体の別の一態様を示す概略正面図であり、図４はそのＢ−Ｂ’断面図（概略断面図）である。
ここで説明する本発明の積層体の一態様を、以下では「態様２」ともいう。
態様２は態様１と同様の態様であるが、態様２は態様１と比較して、凹陥部の面積がやや狭く、樹脂層２４に凹陥部２５が形成されていない点で異なる。
態様２のその他の部分については、態様１と同様である。
【００２５】
本発明の積層体は、例えば上記のような態様１、２のガラス積層体である。
【００２６】
次に、本発明の積層体が有する薄板ガラス基板、支持ガラス基板、樹脂層および凹陥部の各々について説明する。
【００２７】
薄板ガラス基板について説明する。
薄板ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されず、例えば従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板と同様であってよい。
【００２８】
薄板ガラス基板の厚さは特に限定されないが、０．７ｍｍ未満であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．４ｍｍ以下であることがさらに好ましい。また、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．０７ｍｍ以上であることがより好ましく、０．１ｍｍ以上であることがさらに好ましい。
【００２９】
薄板ガラスの形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。
【００３０】
薄板ガラスの大きさは限定されないが、例えば矩形の場合は１００〜２０００ｍｍ×１００〜２０００ｍｍであってよく、５００〜１０００ｍｍ×５００〜１０００ｍｍであることが好ましい。
【００３１】
このような好ましい厚さおよび好ましい大きさであっても、本発明の積層体は薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを容易に剥離することができる。
【００３２】
薄板ガラス基板の熱収縮率、表面形状、耐薬品性等の特性も特に限定されず、製造する表示装置の種類により異なる。
ただし、薄板ガラス基板の熱収縮率は小さいことが好ましい。具体的には熱収縮率の指標である線膨張係数が１５０×１０−７／℃以下であるものを用いることが好ましく、１００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、４５×１０−７／℃以下であることがさらに好ましい。その理由は熱収縮率が大きいと高精細な表示装置を作り難くなるためである。
なお、本発明において線膨張係数はＪＩＳ Ｒ３１０２（１９９５年）に規定のものを意味する。
【００３３】
薄板ガラス基板の組成は、例えばアルカリガラスや無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。
【００３４】
次に、支持ガラス基板について説明する。
支持ガラス基板は樹脂層を介して薄板ガラス基板を支持し、薄板ガラス基板の強度を補強する。
また、支持ガラス基板はその端部に凹陥部を１箇所以上有する。「端部」とは支持ガラス基板の端面付近の部分であり、正面から見た場合の外縁部分でもある。凹陥部については後述する。
【００３５】
支持ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されない。
【００３６】
支持ガラス基板の厚さは特に限定されないが、本発明の積層体を現行の表示装置用パネルの製造ラインで処理できる厚さとする厚さであることが必要である。
例えば０．１〜１．１ｍｍの厚さであることが好ましく、０．３〜０．８ｍｍであることがより好ましく、０．４〜０．７ｍｍであることがさらに好ましい。
例えば、現行の製造ラインが厚さ０．５ｍｍの基板を処理するように設計されたものであって、薄板ガラス基板の厚さが０．１ｍｍである場合、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．４ｍｍとする。また、現行の製造ラインは厚さが０．７ｍｍのガラス基板を処理するように設計されているものが最も一般的であるが、例えば薄板ガラス基板の厚さが０．４ｍｍならば、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．３ｍｍとする。
支持ガラス基板の厚さは、前記薄板ガラス基板よりも厚いことが好ましい。
【００３７】
支持ガラス基板の形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。
【００３８】
支持ガラス基板の大きさは限定されないが、前記薄板ガラス基板と同程度であることが好ましく、前記薄板ガラス基板よりもやや大きい（縦方向または横方向の各々が０．０５〜１０ｍｍ程度大きい）ことが好ましい。理由は、表示装置用パネル製造時の位置決めピン等のアライメント装置の接触から前記薄板ガラス基板の端部を保護しやすいこと、および薄板ガラス基板と支持ガラス基板との剥離をより容易に行うことができるからである。
【００３９】
支持ガラス基板は線膨張係数が前記薄板ガラス基板と実質的に同一であってよく、異なってもよい。実質的に同一であると、本発明の積層体を熱処理した際に、薄板ガラス基板または支持ガラス基板に反りが発生し難い点で好ましい。
薄板ガラス基板と支持ガラス基板との線膨張係数の差は１５０×１０−７／℃以下であることが好ましく、１００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、５０×１０−７／℃以下であることがさらに好ましい。
【００４０】
支持ガラス基板の組成は、例えばアルカリ金属酸化物を含有するガラス、無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。
【００４１】
次に、樹脂層について説明する。
本発明の積層体において樹脂層は、前記支持ガラス基板の第１主面に固定されている。そして、樹脂層は、前記薄板ガラス基板の第１主面と密着しているが、容易に剥離することができる。すなわち樹脂層は、前記薄板ガラス基板に対して易剥離性を有する。
本発明の積層体において、樹脂層と薄板ガラス基板とは粘着剤が有するような粘着力によっては付いておらず、固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって付いている。
【００４２】
樹脂層の厚さは特に限定されない。５〜５０μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、７〜２０μｍであることがさらに好ましい。樹脂層の厚さがこのような範囲であると、薄板ガラス基板と樹脂層との密着が十分になるからである。また、気泡や異物が介在しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができるからである。また、樹脂層の厚さが厚すぎると、形成するのに時間および材料を要するため経済的ではない。
なお、樹脂層は２層以上からなっていてもよい。この場合「樹脂層の厚さ」は全ての層の合計の厚さを意味するものとする。
また、樹脂層が２層以上からなる場合は、各々の層を形成する樹脂の種類が異なってもよい。
【００４３】
樹脂層は表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。このような表面張力であると、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。
【００４４】
また、樹脂層はガラス転移点が室温（２５℃程度）よりも低い、またはガラス転移点を有しない材料からなることが好ましい。非粘着性の樹脂層となり、より易剥離性を有し、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。
【００４５】
また、樹脂層は耐熱性を有していることが好ましい。例えば前記薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する場合に、本発明の積層体を熱処理に供し得るからである。
【００４６】
また、樹脂層の弾性率が高すぎると薄板ガラス基板との密着性が低くなる傾向にある。また弾性率が低すぎると易剥離性が低くなる。
【００４７】
樹脂層を形成する樹脂の種類は特に限定されない。例えばアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂およびシリコーン樹脂が挙げられる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。中でもシリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂は耐熱性に優れかつ薄板ガラス基板に対する易剥離性に優れるためである。また、支持ガラス基板表面のシラノール基との縮合反応によって支持ガラス基板に固定し易いからである。シリコーン樹脂層は例えば３００〜４００℃程度で１時間程度処理しても、易剥離性がほぼ劣化しない点も好ましい。
【００４８】
また、樹脂層はシリコーン樹脂の中でも剥離紙用シリコーンからなることが好ましく、その硬化物であることが好ましい。剥離紙用シリコーンは直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーンを主剤とするものである。この主剤と架橋剤とを含む組成物を、触媒、光重合開始剤等を用いて前記支持ガラス基板の表面（第１主面）に硬化させて形成した樹脂層は、優れた易剥離性を有するので好ましい。また、柔軟性が高いので、薄板ガラス基板と樹脂層との間へ気泡や塵介等の異物が混入しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができる。
【００４９】
このような剥離紙用シリコーンは、その硬化機構により縮合反応型シリコーン、付加反応型シリコーン、紫外線硬化型シリコーンおよび電子線硬化型シリコーンに分類されるが、いずれも使用することができる。これらの中でも付加反応型シリコーンが好ましい。硬化反応のし易さ、樹脂層を形成した際に易剥離性の程度が良好で、耐熱性も高いからである。
【００５０】
また、剥離紙用シリコーンは形態的に溶剤型、エマルジョン型および無溶剤型があり、いずれの型も使用可能である。これらの中でも無溶剤型が好ましい。生産性、安全性、環境特性の面が優れるからである。また、樹脂層を形成する際の硬化時、すなわち、加熱硬化、紫外線硬化または電子線硬化の時に発泡を生じる溶剤を含まないため、樹脂層中に気泡が残留しにくいからである。
【００５１】
また、剥離紙用シリコーンとして、具体的には市販されている商品名または型番としてＫＮＳ−３２０Ａ，ＫＳ−８４７（いずれも信越シリコーン社製）、ＴＰＲ６７００（ＧＥ東芝シリコーン社製）、ビニルシリコーン「８５００」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６４」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６５」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ等が挙げられる。なお、ＫＮＳ−３２０Ａ、ＫＳ−８４７およびＴＰＲ６７００は、あらかじめ主剤と架橋剤とを含有しているシリコーンである。
【００５２】
また、樹脂層を形成するシリコーン樹脂は、シリコーン樹脂層中の成分が薄板ガラス基板に移行しにくい性質、すなわち低シリコーン移行性を有することが好ましい。
【００５３】
次に、凹陥部について説明する。
本発明のガラス積層体は、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を１箇所以上有する。
前記支持ガラス基板の端面（２つの主面以外の４つの面）の一部分を削ったり、端部の一部分を切出したりして凹陥部を形成した本発明のガラス積層体は、支持ガラス基板を剥離したい場合に凹陥部を手掛かりとして剥離することができる。具体的には、例えば凹陥部に鋭利な刃物状のものを差込んだり、水と圧縮空気との混合流体を吹き付けたりして剥離することができる。
【００５４】
凹陥部の形状について図を用いて説明する。図５（ａ）は図１の凹陥部１５の部分（Ｃ）を拡大した図である。図５（ａ）では支持ガラス基板１３とその凹陥部１５のみ示しており、図１に示されている薄板ガラス基板１２および樹脂層１４は記載を省略している。また、図５（ｂ）は図５（ａ）に記す凹陥部１５と、やや異なる形状の凹陥部１５’を示している。
【００５５】
図５（ａ）は正面図であり、前述のように凹陥部１５は楕円形の半分の形状となっている。凹陥部１５は支持ガラス基板１３から端部を楕円形の半分の形状に切出して形成したものであり、凹陥部１５と支持ガラス基板１３の端面との境界に角３が形成されている。図５（ｂ）に記す凹陥部１５’は、図５（ａ）に記す凹陥部１５が有する角３が削り取られた形状を有している。
【００５６】
凹陥部の形状は図５（ａ）、図５（ｂ）以外であってよく、特に限定されない。例えば三角形、矩形、多角形、半円形等であってもよい。ただし図５（ａ）に記した楕円形の半分の形状であることが好ましく、図５（ｂ）に記した、さらに角をなくした形状であることがより好ましい。このような形状の凹陥部は比較的容易に形成することができ、また、本発明の積層体の取り扱い時において欠け難いからである。また、凹陥部は支持ガラス基板の面取り用の砥石を用いて端面を削り出すことによって、賦形が可能である。
【００５７】
凹陥部の大きさについて説明する。凹陥部の大きさは特に限定されないが、大き過ぎると薄板ガラス基板における支持ガラス基板に支持されていない部分が多くなるので、薄板ガラス基板の当該部分（エッジ）に工程装置が接触した場合に破損に繋がりやすい。また、小さ過ぎると剥離の際に十分な手掛かりとして用いることが困難になる。凹陥部の端部における幅は１ｍｍ〜５０ｍｍであることが好ましく、５ｍｍ〜３０ｍｍであることがより好ましい。ここで凹陥部の幅とは、図５（ａ）、（ｂ）においてＸａ、Ｘｂで示す線分の長さをいう。すなわち、支持ガラス基板１３（１３’）の端面と凹陥部１５（１５’）との境界（図５（ａ）では「角３」で示される２点）の間を結ぶ線分Ｘａ、Ｘｂの長さを意味する。
また、凹陥部の深さはあまり深くまで入り込んでいると、薄板ガラス基板の表示装置形成領域に到達し、加熱工程においてその部分のみ熱容量が異なる結果となる。しかし、あまり浅いと剥離の際に十分な手掛かりとして用いることが困難になる。そこで、凹陥部の深さは５ｍｍ〜５０ｍｍであることが好ましく、１０ｍｍ〜３０ｍｍであることがより好ましい。ここで凹陥部の深さとは、図５（ａ）、（ｂ）において、凹陥部の境界線に接する直線（接線）であって線分ＸａまたはＸｂに平行な直線と線分ＸａまたはＸｂとの距離であるＹａまたはＹｂを意味するものとする。
【００５８】
また、凹陥部の面積は特に限定されない。しかし、大き過ぎると薄板ガラス基板における支持ガラス基板に支持されていない部分が多くなるので、薄板ガラス基板の当該部分（エッジ）に工程装置が接触した場合に破損に繋がりやすい。また、小さ過ぎると剥離の際に十分な手掛かりとして用いることが困難になる。１箇所につき５ｍｍ2以上であることが好ましく、２５ｍｍ2以上であることがより好ましく、５０ｍｍ2以上であることがさらに好ましい。また、１箇所につき２５００ｍｍ2以下であることが好ましく、１５００ｍｍ2以下であることがより好ましく、９００ｍｍ2以下であることがさらに好ましい。ここで凹陥部の面積とは図５（ａ）、（ｂ）において、凹陥部と支持ガラス基板１３（１３’）との境界線および線分Ｘａ（Ｘｂ）によって囲まれた部分の面積を意味するものとする。
【００５９】
凹陥部が設けられる位置と個数については特に制限はないが、本発明の積層体の１枚につき３〜４個であることが好ましい。また、本発明の積層体を正面から見た場合に本発明の積層体が有する四辺のうちの向い合う一組の二辺に、各々２個づつ凹陥部が設けられていることが好ましい。
例えば図６（ａ）〜（ｃ）のような態様であること好ましい。図６（ａ）〜（ｃ）は本発明の積層体の概略正面図である。これらの図では理解を容易にするために支持ガラス基板とそこに形成された凹陥部のみを記している。図６（ａ）における態様では、支持ガラス基板３３ａが凹陥部を３個（３５ａ１、３５ａ２、３５ａ３）有している。各々の凹陥部は、支持ガラス基板が有する四辺のうちの三辺の各々に１個ずつ存在している。図６（ｂ）における態様では、支持ガラス基板３３ｂが凹陥部を４個（３５ｂ１、３５ｂ２、３５ｂ３、３５ｂ４）有している。各々の凹陥部は、支持ガラス基板が有する四辺のうちの向い合う一組の辺（二辺）の各々に２個ずつ存在している。図６（ｃ）における態様では、支持ガラス基板３３ｃが凹陥部を４個（３５ｃ１、３５ｃ２、３５ｃ３、３５ｃ４）有している。各々の凹陥部は、支持ガラス基板が有する４個の角の部分に各々に存在している。
また、本発明の積層体は、支持ガラス基板が凹陥部を３箇所以上有し、凹陥部の各々を頂点とする多角形の重心と、薄板ガラス基板の重心とが一致することが好ましい。
【００６０】
また、凹陥部の間隔は５００ｍｍ以下であることが好ましく、３００ｍｍ以下であることがより好ましい。隣り合う凹陥部が５００ｍｍ超離れると剥離操作がスムーズに行えない可能性が生ずるからである。ここで「凹陥部の間隔」とは、支持ガラス基板を正面から見た場合の四辺上における隣合う凹陥部間の距離を意味するものとする。すなわち、支持ガラス基板の辺に沿って測定される二つの凹陥部の端部間の最短距離である。なお、前記の「凹陥部の端部」とは、凹陥部と支持ガラス基板の辺（直線）との交点にあたる位置をいう。
この距離について図７を用いて説明する。図７は凹陥部を３つ有する本発明の積層体の概略正面図である。図７では薄板ガラス基板および樹脂層の記載は省略している。図７に示す態様の本発明の積層体は、一辺上に２つの凹陥部（４５１、４５２）が形成されており、この辺に隣り合う別の辺上に別の凹陥部（４５３）が形成されている。そして、各々の凹陥部は図１、図５（ａ）で説明した凹陥部と同様の形状（楕円形の半分の形状）を有しており、図５（ａ）において「角３」として示した角と同様の角（４１ａ、４１ｂ、４２ａ、４２ｂ、４３ａ、４３ｂ）を有している。図７に示すように凹陥部４５１および凹陥部４５２が各々有する２つの角のうち左側が角４１ａおよび角４２ａであり、右側が角４１ｂおよび角４２ｂである。また、凹陥部４５３が有する２つの角のうち凹陥部４５２に近い側が角４３ｂであり、遠い側が角４３ａである。このような図７に示される本発明の積層体において、凹陥部４５１と凹陥部４５２との距離（間隔）は、各々の凹陥部が有する角の間の距離を意味するものとする。すなわち角４１ａと角４２ｂとの距離Ｚａ１が凹陥部４５１と凹陥部４５２との距離（間隔）である。また、凹陥部４５２と凹陥部４５３との距離は、支持ガラス基板の辺上における角４２ａと角４３ｂとの距離であり、距離Ｚａ２と距離Ｚａ３とを合計した距離を意味するものとする。
凹陥部が角を有さない形状（例えば図５（ｂ）に示した形状）の場合でも、支持ガラス基板の端面と凹陥部との境界を上記の角とみなして、凹陥部間の距離を求めるものとする。
【００６１】
このような本発明の積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成することで支持体付き表示装置用パネルを得ることができる。
表示装置用部材とは、従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板がその表面に有する発光層、保護層、カラーフィルタ、液晶、ＩＴＯからなる透明電極等、各種回路パターン等を意味する。
本発明の支持体付き表示装置用パネルには、例えば、ＴＦＴアレイ（以下、単に「アレイ」という。）が薄板ガラス基板の第２主面に形成された本発明の支持体付き表示装置用パネル薄板ガラス基板に、さらにカラーフィルタが形成された他のガラス基板（例えば０．３ｍｍ以上程度の厚さのガラス基板）が貼り合わされたものも含まれる。
【００６２】
また、このような支持体付き表示装置用パネルから、表示装置用パネルを得ることができる。支持体付き表示装置用パネルから、上記で説明したように凹陥部を剥離の手掛かりとすることで、薄板ガラス基板と支持ガラス基板に固定されている樹脂層とを剥離して、表示装置用部材および薄板ガラス基板を有する表示装置用パネルを得ることができる。
【００６３】
また、このような表示装置用パネルから表示装置を得ることができる。表示装置としてはＬＣＤ、ＯＬＥＤが挙げられる。ＬＣＤとしてはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＦＥ型、ＴＦＴ型、ＭＩＭ型が挙げられる。
【００６４】
次に、本発明の積層体の製造方法を説明する。
本発明の積層体の製造方法は特に限定されないが、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を形成する凹陥部形成工程と、前記支持ガラス基板の第１主面上に易剥離性を有する樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する密着工程とを具備する、ガラス積層体の製造方法であることが好ましい。
このような製造方法を、以下では「本発明の製造方法」ともいう。
【００６５】
本発明の製造方法で用いる前記薄板ガラス基板および前記支持ガラス基板自体の製造方法は特に限定されない。例えば従来公知の方法で製造することができる。例えば従来公知のガラス原料を溶解し溶融ガラスとした後、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法、スロットダウン法、リドロー法等によって板状に成形して得ることができる。
【００６６】
本発明の製造方法における凹陥部形成工程について説明する。
凹陥部形成工程は、前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を形成する工程である。
凹陥部形成工程では、支持ガラス基板を所定の大きさおよび形状（例えば矩形）に切断した後、凹陥部を形成する。例えばダイヤモンド製の砥石を用いて凹陥部形状を削り出すことが好ましい。その後、通常の方法でこば面を同様の砥石で面取り加工する。続いて、洗浄機にて面取り、凹陥部が形成された支持ガラス基板を洗浄する。
【００６７】
ここで、形成された各々の凹陥部を頂点とする多角形の重心が前記支持ガラス基板の重心と一致するように、前記支持ガラス基板に３箇所以上凹陥部を形成することが好ましい。後の密着工程における薄板ガラス基板の密着を、精度よく行うことができるからである。
【００６８】
次に、樹脂層形成工程について説明する。
前記支持ガラス基板の表面（第１主面）に樹脂層を形成する方法も特に限定されない。
例えばフィルム状の樹脂を支持ガラス基板の表面に接着する方法が挙げられる。具体的にはフィルムの表面と高い接着力を付与するために、支持ガラス基板の表面に表面改質処理（プライミング処理）を行い、支持ガラス基板の第１主面に接着する方法が挙げられる。例えば、シランカップリング剤のような化学的に密着力を向上させる化学的方法（プライマー処理）や、フレーム（火炎）処理のように表面活性基を増加させる物理的方法、サンドブラスト処理のように表面の粗度を増加させることにより引っかかりを増加させる機械的処理方法などが例示される。
【００６９】
また、例えば公知の方法によって樹脂層となる樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする方法が挙げられる。公知の方法としてはスプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法が挙げられる。このような方法の中から、樹脂組成物に種類に応じて適宜選択することができる。
例えば、無溶剤型の剥離紙用シリコーンを樹脂組成物として用いた場合、ダイコート法、スピンコート法またはスクリーン印刷法が好ましい。
【００７０】
また、樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする場合、その塗工量は１〜１００ｇ／ｍ２であることが好ましく、５〜２０ｇ／ｍ２であることがより好ましい。
例えば付加反応型シリコーンから樹脂層を形成する場合、直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーン（主剤）、架橋剤および触媒を含む樹脂組成物を、上記のスプレーコート法等の公知の方法により支持ガラス基板上に塗工し、その後に加熱硬化させる。加熱硬化条件は、触媒の配合量によっても異なるが、例えば、主剤および架橋剤の合計量１００質量部に対して、白金系触媒を２質量部配合した場合、大気中で５０℃〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２００℃で反応させる。また、この場合の反応時間は５〜６０分間、好ましくは１０〜３０分間とする。低シリコーン移行性を有するシリコーン樹脂層とするためには、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることが好ましい。上記のような反応温度および反応時間であると、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないようにすることができるので好ましい。上記した反応時間よりも長すぎたり反応温度が高すぎる場合には、シリコーン樹脂の酸化分解が同時に起こり低分子量のシリコーン成分が生成して、シリコーン移行性が高くなる可能性がある。シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることは、加熱処理後の剥離性を良好にするためにも好ましい。
【００７１】
また、例えば樹脂層を剥離紙用シリコーンを用いて製造した場合、支持ガラス基板上に塗工した剥離紙用シリコーンを加熱硬化してシリコーン樹脂層を形成した後、密着工程で支持ガラス基板のシリコーン樹脂形成面に薄板ガラス基板を積層させる。剥離紙用シリコーンを加熱硬化させることによって、シリコーン樹脂硬化物が支持ガラスと化学的に結合する。また、アンカー効果によってシリコーン樹脂層が支持ガラスと結合する。これらの作用によって、シリコーン樹脂層が支持ガラス基板に強固に固定される。
【００７２】
なお、本発明の製造方法において、凹陥部形成工程と樹脂層形成工程との順番は特に限定されない。支持ガラス基板に凹陥部を形成した後に樹脂層を形成してもよいし、樹脂層を形成した後に凹陥部を形成してもよい。後者の場合、凹陥部が樹脂層にまで達していてもよい。
【００７３】
密着工程について説明する。
密着工程は、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する工程である。薄板ガラス基板と樹脂層とは、非常に近接した、相対する固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって樹脂層と密着する。この場合、支持ガラス基板と薄板ガラス基板と樹脂層を介して積層させた状態に保持することができる。
【００７４】
支持ガラス基板に固定された樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層させる方法は特に限定されない。例えば公知の方法を用いて実施することができる。例えば、常圧環境下で樹脂層の表面に薄板ガラス基板を重ねた後、ロールやプレスを用いて樹脂層と薄板ガラス基板とを圧着させる方法が挙げられる。ロールやプレスで圧着することにより樹脂層と薄板ガラス基板とがより密着するので好ましい。また、ロールまたはプレスによる圧着により、樹脂層と薄板ガラス基板との間に混入している気泡が比較的容易に除去されるので好ましい。真空ラミネート法や真空プレス法により圧着すると気泡の混入の抑制や良好な密着の確保がより好ましく行われるのでより好ましい。真空下で圧着することにより、微少な気泡が残存した場合でも加熱により気泡が成長することがなく、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥につながりにくいという利点もある。
【００７５】
また、密着工程は、チャンバー内に配設され、基台表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台内部へ収納可能な３個以上のピンを有する基台であって、前記基台表面における前記ピンの相互の位置関係が、前記支持ガラス基板が有する凹陥部の位置関係と同一である前記基台の上に、前記ピンの位置と前記凹陥部との位置が重なるように前記樹脂層が固定された前記支持ガラス基板を、前記樹脂層を上側として載置し、次に、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層とが隙間を保持しつつ対向するように、上側へ突出した前記ピンの上へ前記薄板ガラス基板を載置し、次に、前記薄板ガラス基板および前記支持ガラス基板が存するチャンバー内空間を負圧状態にし、その後、加圧手段によって前記薄板ガラス基板を上側から下側へ押すことによって、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する工程であることが好ましい。
このような好ましい密着工程について、図８、図９を用いて説明する。
【００７６】
図８は、基台表面に樹脂層を有する支持ガラス基板が載置されていることを表す概略斜視図である。図９は真空チャンバーであって、その内部で、樹脂層を介して支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを密着させることができる装置の概略断面図である。図９（ａ）は密着前の状態を示しており、図９（ｂ）は密着後の状態を示している。
【００７７】
図８において、基台５０は、その表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台内部へ収納可能な４個のピン５１を有している。ピン５１の根元にはバネ等が取り付けられていて、上側から下側（基台内部側）へ力を加えるとバネ等が縮んで基台内部へ押し込むことができる。ピン５１にはロック機構が備えられていて、基台内部へ押し込まれるとロックされ、ロックが解除されるまで基台内部に押し込まれた状態を保持することができる。
基台５０の表面におけるピン５１の相互の位置関係は、表面に載置された支持ガラス基板５２が有する４つの凹陥部５３の位置関係と同一であり、基台５０の上に、ピン５１の位置と凹陥部５３との位置が重なるように支持ガラス基板５２が載置されている。支持ガラス基板５２の主面には樹脂層５４が固定されており、樹脂層５４が上側となるように支持ガラス基板５２は基台５０上に載置されている。
【００７８】
次に図９（ａ）に示すように、上記のように載置した支持ガラス基板５２の上側に薄板ガラス基板５５を載置する。ここでピン５１の高さ（基台５０の表面から上側へ突き出している長さ）は、支持ガラス基板５２と樹脂層５４との厚さの合計よりも長いので、薄板ガラス基板５５はピン５１に支えられ、樹脂層５４と接触せず、薄板ガラス基板５５と樹脂層５４とが隙間を保持しつつ対向する。
ここで、ピン５１の各々を頂点とする多角形の基台５０の表面における重心と、薄板ガラス基板５５の重心とが一致することが好ましい。支持ガラス基板の重心と、薄板ガラス基板の重心とが一致している本発明の積層体を得ることができるからである。また、このような本発明の積層体を精度よく製造することができるからである。
【００７９】
次に図９（ｂ）に示すように、薄板ガラス基板５５および支持ガラス基板５２が存するチャンバー５７の内部を減圧して負圧から真空の状態とし、その後、加圧手段５６によって薄板ガラス基板５５を上側から下側へ押すことによって、薄板ガラス基板５５の第１主面に、支持ガラス基板５２の第１主面上に固定された樹脂層５４を密着することができる。このように負圧から真空の状態で密着することで、樹脂層の表面と薄板ガラス基板の第１主面との間に、気体が残存し難くなるので好ましい。特に、薄板ガラス基板の面積が大きい場合には効果的である。従来、このような真空積層プレス法では、薄板ガラス基板を上側の加圧手段に真空吸着して保持することができないので、非常に高価な静電吸着装置が適用されるが、本発明の製造方法では薄板ガラス基板をピンで支えるので、静電吸着装置と比較して非常に安価な装置とすることができる点で好ましい。
【００８０】
密着工程では、支持ガラス基板の樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層させる際には、薄板ガラス基板の表面を十分に洗浄し、クリーン度の高い環境で積層することが好ましい。樹脂層と薄板ガラス基板との間に異物が混入しても、樹脂層が変形するので薄板ガラス基板の表面の平坦性に影響を与えることはないが、クリーン度が高いほどその平坦性は良好となるので好ましい。
【００８１】
このような本発明の製造方法によって本発明の積層体を製造することができる。
【００８２】
本発明の製造方法に、さらに、得られた本発明のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成する工程を具備する製造方法によって、支持体付き表示装置用パネルを製造することができる。
ここで表示装置用部材は特に限定されない。例えばＬＣＤが有するアレイやカラーフィルタが挙げられる。また、例えばＯＬＥＤが有する透明電極、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層が挙げられる。
【００８３】
このような表示装置部材を形成する方法も特に限定されず、従来公知の方法と同様であってよい。
例えば表示装置としてＴＦＴ−ＬＣＤを製造する場合、従来公知のガラス基板上にアレイを形成する工程、カラーフィルタを形成する工程、アレイが形成されたガラス基板とカラーフィルタが形成されたガラス基板とをシール材等を介して貼り合わせる工程（アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程）等の各種工程と同様であってよい。より具体的には、これらの工程で実施される処理として、例えば純水洗浄、乾燥、成膜、レジスト塗布、露光、現像、エッチングおよびレジスト除去が挙げられる。さらに、アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程を実施した後に行われる工程として、液晶注入工程および該処理の実施後に行われる注入口の封止工程があり、これらの工程で実施される処理が挙げられる。
また、ＯＬＥＤを製造する場合を例にとると、薄板ガラス基板の第２主面上に有機ＥＬ構造体を形成するための工程として、透明電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、封止工程等の各種工程を含み、これらの工程で実施される処理として、具体的には例えば、成膜処理、蒸着処理、封止板の接着処理等が挙げられる。
このようにして支持体付き表示装置用パネルを製造することができる。
【００８４】
また、このような支持体付き表示装置用パネルを得た後、さらに、得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを、前記凹陥部を起点として分離する分離工程を具備する製造方法によって表示装置用パネルを得ることができる。
表示装置用パネルは、例えば上記のような本発明の製造方法によって得られる支持体付き表示装置用パネルにおける前記凹陥部を手掛かりにして、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する分離工程を具備する製造方法で製造することできる。剥離する方法は特に限定されない。具体的には、例えば凹陥部に鋭利な刃物状のものを差込んだり、水と圧縮空気との混合流体を吹き付けたりして剥離することができる。好ましくは、前記支持体付き表示装置用パネルの支持ガラス基板が上側、パネル側が下側となるように定盤上に設置し、パネル側基板を定盤上に真空吸着し（両面に支持ガラス基板が積層されている場合は順次行う）、この状態でガラス積層体の凹陥部において薄板ガラス−樹脂層界面に水と圧縮空気の混合流体を噴きつけ、支持ガラス基板の端部を垂直上方へ引っ張り上げる。そうすると樹脂層とパネル側薄板ガラス基板との界面へ、その凹陥部から空気層が形成され、その空気層が界面の全面に広がり、支持ガラス基板を容易に剥離することができる（表示装置の前面側及び背面側の薄板ガラス基板の両方に支持ガラス基板が積層されている場合は本操作を片面ずつ繰り返す）。
【００８５】
さらに、得られた表示装置用パネルを用いて表示装置を得る工程を具備する製造方法によって表示装置を製造することができる。
ここで表示装置を得る工程における操作は特に限定されず、例えば従来公知の方法で表示装置を製造することができる。
【実施例】
【００８６】
（実施例１）
図１０に示す態様のガラス積層体を製造した。このガラス積層体は、前述の態様１と類似の態様である。
初めに縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．４ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板６３（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）に、自動面取り装置（ＣＧＥ１３００；シライテック社製）に幅１５ｍｍ、深さ５ｍｍ、面積５０ｍｍ２の半楕円形の凹陥部６５を２箇所形成した。その後、純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。
【００８７】
次に、無溶剤付加反応型剥離紙用シリコーン１００質量部と、白金系触媒２質量部との混合物を、支持ガラス基板６３の第１主面上に縦７１５ｍｍ、横５９５ｍｍの大きさで、スクリーン印刷機にて塗工した（塗工量３０ｇ／ｍ２）。そして、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層６４を得た。
【００８８】
次に、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．３ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の薄板ガラス基板６２（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）の第１主面（後にシリコーン樹脂層と接触させる側の面）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した。そして、支持ガラス基板６３の第１主面上のシリコーン樹脂層６４の表面と薄板ガラス基板６２とを、室温下、真空プレスにて貼り合わせガラス積層体Ａ（本発明の積層体６０）を得た。
【００８９】
このような実施例１に係るガラス積層体Ａにおいて、薄板ガラス基板および支持ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
【００９０】
次に、ガラス積層体Ａを下記の剥離試験１に供し、剥離性を評価した。図１１〜図１３を用いて説明する。
＜剥離試験１＞
ガラス積層体Ａを１０枚製造した。そして、そのうちの１枚を、支持ガラス基板６３が上側、薄板ガラス基板６２が下側となるように定盤６１の上に設置した後、薄板ガラス基板６２を定盤上に真空吸着した（図１１）。
この状態でガラス積層体Ａの２箇所の凹陥部６５において、薄板ガラス基板６２と樹脂層６４との界面に水と圧縮空気の混合流体６９を噴きつけ（図１２）、支持ガラス基板６３の端部を垂直上方へ引っ張り上げた（図１３）。すると、シリコーン樹脂層６４と薄板ガラス基板６２との界面へ、その凹陥部６５から空気層が形成され、その空気層が界面の全面に広がり、容易に剥離することができた。
【００９１】
この操作を残りの９枚のガラス積層体Ａについて連続して行った。すると、１０枚のガラス積層体Ａについて２０分以内に剥離作業を問題なく行うことができた。
【００９２】
次に、さらにもう１枚のガラス積層体Ａを用意した。そして、これを３００℃で１時間大気中で加熱処理した。加熱処理に対する耐熱性は良好であった。
そして、上記と同様の剥離試験１に供した。この場合も同様に、剥離を問題なく行うことができた。
【００９３】
（実施例２）
実施例２は実施例１と同様であるが、図１４に示すように凹陥部の大きさを小さくし、樹脂層に凹陥部が到達していない支持ガラス基板を用いた。
初めに縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．６ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板７３（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）に、自動面取り装置（ＣＧＥ１３００；シライテック社製）に幅１０ｍｍ、深さ３ｍｍ、面積２１ｍｍ２の半楕円形の凹陥部７５を２箇所形成した。その後、純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。
【００９４】
次に樹脂層７４を形成するための樹脂として、両末端にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンと、分子内にハイドロシリル基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサンとを用いた。そして、これを白金系触媒と混合して混合物を調製し、支持ガラス基板７３の第１主面上に縦７１０ｍｍ、横５９５ｍｍの大きさでスクリーン印刷機にて塗工し（塗工量２０ｇ／ｍ２）、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層を形成した。ここで、ハイドロシリル基とビニル基のモル比は１／１となるように、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの混合比を調整した。白金系触媒は、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの合計１００質量部に対して５質量部添加した。
【００９５】
次に、薄板ガラス基板７２として縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、厚さ０．１ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃のガラス基板（旭硝子株式会社製ＡＮ１００）を用いて、支持ガラス基板７３の第１主面上のシリコーン樹脂層７４の表面と薄板ガラス基板７２とを、室温下、真空プレスにて貼り合わせガラス積層体Ｂ（本発明の積層体７０）を得た。
【００９６】
このような実施例２に係るガラス積層体Ｂにおいて、薄板ガラス基板および支持ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
また、実施例１と同様にして剥離試験１を実施したところ、１０枚のガラス積層体について３０分以内に剥離作業を問題なく行うことができた。また、３００℃で１時間大気中で加熱処理した場合のガラス積層体Ｂは、加熱処理に対する耐熱性は良好であった。さらに剥離性も良好であった。
【００９７】
（実施例３）
図１５に示す態様のガラス積層体を製造した。このガラス積層体は、前述の態様１と類似の態様である。
初めに縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．４ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板８３（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）に、自動面取り装置（ＣＧＥ１３００；シライテック社製）を用いて幅１５ｍｍ、深さ５ｍｍ、面積５０ｍｍ２の半楕円形の凹陥部８５を４箇所、それぞれ近傍の角から１０ｍｍの位置に形成した。その後、純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。
次に樹脂層８４を実施例２と同様にして形成した。
そして、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．３ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の薄板ガラス基板８２（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）の第１主面（後にシリコーン樹脂層と接触させる側の面）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した。そして、図１６に示すミカドテクノス社製真空ヒータープレス装置（ＭＫＰ−２００ＴＶ−ＷＨ−ＳＴ）を用いて、常温にて積層した。
この積層方法について、図１６およびその一部（Ｅ）を拡大した図である図１７を用いて具体的に説明する。
【００９８】
真空ヒータープレス装置１００は基台９０の表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台９０の内部へ収納可能な４個のピン９１を有している。ピン９１の根元にはバネ１０１が取り付けられていて、上側から下側（基台内部側）へ力を加えるとバネ１０１が縮んで基台内部へ押し込まれる。ロック用ピン１０２ａおよび凹部１０２ｂからなるロック機構１０２が備えられているので、ピン９１が基台内部へ押し込まれると、根元のバネの作用でロック用ピン１０２ａが凹部１０２ｂへ収まることでロックされ、ロックが解除されるまでピン９１が基台内部に押し込まれた状態で保持される。
基台９０の表面におけるピン９１の相互の位置関係は、表面に載置される支持ガラス基板８３が有する４つの凹陥部８５の位置関係と同一である。
【００９９】
このような真空ヒータープレス装置１００の基台９０の上に、ピン９１の位置と凹陥部８５との位置が重なるように支持ガラス基板８３を載置した。ここで、支持ガラス基板８３における樹脂層８４が固定された面が上側となるようにした。すなわち、前述の図８に示したような状態となるように支持ガラス基板８３および樹脂層８４を載置した。
次に、図１６（ａ）に示すように、４つのピン９１の上に薄板ガラス基板８２を静かにセットした。ここで薄板ガラス基板８２の第１主面が下側になるようにした。
次に、図１６（ｂ）に示すように、加圧手段９６を第１下降位置まで下げ、形成されたチャンバーを−１００ｋＰａまで減圧した。
次に、図１６（ｃ）に示すように、加圧手段９６を第２加工位置まで下げ、薄板ガラス基板８２の第１主面に支持ガラス基板８３の第１主面上に固定された樹脂層８４を密着させた。加圧手段９６を第２加工位置まで下げた際にロック機構１０２が作用し、ピン９１は基台９０に押し込まれた状態で保持された。この状態で積層基板には３００ｋＮ／ｍ３の圧力がかかっていた。そして、この状態を１０秒間保持した後、真空を破壊し、加圧手段９６を上昇させ、ガラス積層体８０を取り出した。
このような実施例３に係るガラス積層体８０において、薄板ガラス基板および支持ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
【０１００】
（実施例４）
本例では、実施例２で得たガラス積層体Ｂを用いてＬＣＤを製造する。
２枚のガラス積層体Ｂを準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にカラーフィルタを形成する。アレイが形成されたガラス積層体と、カラーフィルタが形成されたガラス積層体とをシール材を介して貼り合わせた後、片面ずつ上記剥離試験と同様に各積層体の凹陥部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には、強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、ガラス基板を切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。
【０１０１】
（実施例５）
本例では、実施例１で得たガラス積層体Ａを用いてＬＣＤを製造する。
２枚のガラス積層体Ａを準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。アレイが形成されたガラス積層体と、カラーフィルタが形成されたガラス積層体とをシール材を介して貼り合わせた後、片面ずつ上記剥離試験と同様に各積層体の凹陥部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、ケミカルエッチング処理によりそれぞれの薄板ガラス基板の厚さを０．１５ｍｍとする。ケミカルエッチング処理後の薄板ガラス基板の表面には光学的に問題となるようなエッチピットの発生はみられない。
その後、薄板ガラス基板を切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。
【０１０２】
（実施例６）
本例では、実施例２で得たガラス積層体Ｂと、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板（旭硝子製ＡＮ−１００）とを用いてＬＣＤを製造する。
ガラス積層体Ｂを準備して、カラーフィルタ形成工程に供してガラス積層体の薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。一方、無アルカリガラス基板はアレイ形成工程に供して一方の主面上にアレイを形成する。
カラーフィルタが形成されたガラス積層体と、アレイが形成された無アルカリガラス基板とをシール材を介して貼り合わせた後、片面ずつ上記剥離試験と同様に各積層体の凹陥部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、支持ガラス基板を分離したものを縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルにレーザーカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて分断する。その後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。
【０１０３】
（実施例７）
本例では、実施例２で得たガラス積層体Ｂを用いてＯＬＥＤを製造する。
透明電極を形成する工程、補助電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、これらを封止する工程に供して、ガラス積層体の薄板ガラス基板上に有機ＥＬ構造体を形成する。次に積層体の凹陥部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には強度低下につながるような傷はみられない。
続いて、薄板ガラス基板をレーザーカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて切断し、縦４１ｍｍ×横３０ｍｍの２８８個のセルに分断した後、有機ＥＬ構造体が形成されたガラス基板と対向基板とを組み立てて、モジュール形成工程を実施してＯＬＥＤを作成する。こうして得られるＯＬＥＤは特性上問題は生じない。
【０１０４】
（比較例１）
凹陥部を設けない支持ガラスを用いたこと以外は、実施例１と同様とした試験を行った。得られた比較例１に係るガラス積層体Ｃは、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなくガラス基板が密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
また、以下に示す剥離試験２に供した。
【０１０５】
＜剥離試験２＞
ガラス積層体Ｃを１０枚製造した。そして、そのうちの１枚を、支持ガラス基板が上側、薄板ガラス基板が下側となるように定盤上に設置し、薄板ガラス基板を定盤上に真空吸着した。そして、薄板ガラス基板と樹脂層との端部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、徐々に端から剥離した。
この操作を連続して残りの９枚のガラス積層体Ｃについて行った。すると、１０枚のガラス積層体について剥離作業を行うのに１時間を要した。このように凹陥部を有しないガラス積層体から支持ガラス基板を剥離することは可能ではあるが、剥離作業の効率が低いことがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】図１は、本発明の積層体の一態様を示す概略正面図である。
【図２】図２は、図１のＡ−Ａ’断面を示す概略断面図である。
【図３】図３は、本発明の積層体の別の一態様を示す概略正面図である。
【図４】図４は、図３のＢ−Ｂ’断面を示す概略断面図である。
【図５】図５（ａ）、（ｂ）は凹陥部の拡大図である。
【図６】図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は本発明の積層体の概略正面図である。
【図７】図７は、本発明の積層体の概略正面図である。
【図８】図８は、好ましい密着工程を説明するための概略斜視図である。
【図９】図９（ａ）、（ｂ）は、好ましい密着工程を説明するための概略断面図である（図８のＤ−Ｄ’端面を示す）。
【図１０】図１０は、実施例１の態様を説明するための概略正面図である。
【図１１】図１１は、剥離方法を説明するための概略断面図である。
【図１２】図１２は、剥離方法を説明するための概略断面図である。
【図１３】図１３は、剥離方法を説明するための概略断面図である。
【図１４】図１４は、実施例２の態様を説明するための概略断面図である。
【図１５】図１５は、実施例３の態様を説明するための概略正面図である。
【図１６】図１６は、実施例３の製造過程を説明するための概略断面図である。
【図１７】図１７は、図１６の一部分（Ｅ）の拡大図である。
【符号の説明】
【０１０７】
１０、２０ 本発明の積層体
１２、２２ 薄板ガラス基板
１３、２３ 支持ガラス基板
１４、２４ 樹脂層
１５、１５’、２５ 凹陥部
３ 角
Ｘａ、Ｘｂ 線分
Ｙａ、Ｙｂ 凹陥部の深さ
３３ａ、３３ｂ、３３ｃ 支持ガラス基板
３５ａ１、３５ａ２、３５ａ３ 凹陥部
３５ｂ１、３５ｂ２、３５ｂ３、３５ｂ４ 凹陥部
３５ｃ１、３５ｃ２、３５ｃ３、３５ｃ４ 凹陥部
４５１、４５２、４５３ 凹陥部
４１ａ、４１ｂ、４２ａ、４２ｂ、４３ａ、４３ｂ 角
Ｚａ１、Ｚａ２、Ｚａ３ 凹陥部間距離
５０、９０ 基台
５１、９１ ピン
５２ 支持ガラス基板
５３ 凹陥部
５４ 樹脂層
５５ 薄板ガラス基板
５６、９６ 加圧手段
５７、９７ チャンバー
６０、７０、８０ 本発明の積層体
６２、７２、８２ 薄板ガラス基板
６３、７３、８３ 支持ガラス基板
６４、７４、８４ 樹脂層
６５、７５、８５ 凹陥部
６１ 定盤
６９ 混合流体
１００ 真空ヒータープレス装置
１０１ バネ
１０２ａ ロック用ピン
１０２ｂ 凹部
１０２ ロック機構
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板、ならびに易剥離性を有する樹脂層を有し、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面に固定された前記樹脂層が密着しているガラス積層体であって、
前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を１箇所以上有するガラス積層体。
【請求項２】
前記凹陥部の面積が１箇所につき５ｍｍ2以上である、請求項１に記載のガラス積層体。
【請求項３】
前記樹脂層がアクリル樹脂層、ポリオレフィン樹脂層、ポリウレタン樹脂層またはシリコーン樹脂層である、請求項１または２に記載のガラス積層体。
【請求項４】
前記樹脂層の厚さが５〜５０μｍである、請求項１〜３のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項５】
前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との線膨張係数の差が１５０×１０−７／℃以下である、請求項１〜４のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項６】
前記支持ガラス基板が前記凹陥部を３箇所以上有し、前記凹陥部の各々を頂点とする多角形の重心と、前記薄板ガラス基板の重心とが一致する、請求項１〜５のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に表示装置用部材を有する、支持体付き表示装置用パネル。
【請求項８】
請求項７に記載の支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネル。
【請求項９】
請求項８に記載の表示装置用パネルを有する表示装置。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法であって、
前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を形成する凹陥部形成工程と、
前記支持ガラス基板の第１主面上に易剥離性を有する樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、
前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する密着工程とを具備する、ガラス積層体の製造方法。
【請求項１１】
前記凹陥部形成工程が、
各々の凹陥部を頂点とする多角形の重心が前記支持ガラス基板の重心と一致するように、前記支持ガラス基板に３箇所以上凹陥部を形成する工程である、請求項１０に記載のガラス積層体の製造方法。
【請求項１２】
前記密着工程が、
チャンバー内に配設され、基台表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台内部へ収納可能な３個以上のピンを有する基台であって、前記基台表面における前記ピンの相互の位置関係が、前記支持ガラス基板が有する凹陥部の位置関係と同一である前記基台の上に、前記ピンの位置と前記凹陥部の位置とが重なるように前記樹脂層が固定された前記支持ガラス基板を、前記樹脂層を上側として載置し、
次に、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層とが隙間を保持しつつ対向するように、上側へ突出した前記ピンの上へ前記薄板ガラス基板を載置し、
次に、前記薄板ガラス基板および前記支持ガラス基板が存するチャンバー内空間を負圧状態にし、
その後、加圧手段によって前記薄板ガラス基板を上側から下側へ押すことによって、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する工程である、請求項１０または１１に記載のガラス積層体の製造方法。
【請求項１３】
前記密着工程において、前記ピンの各々を頂点とする多角形の前記基台表面における重心と、前記薄板ガラス基板の第１主面における重心とが一致している、請求項１０〜１２のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれかに記載の製造方法に、さらに、得られたガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成する工程を具備する、支持体付き表示装置用パネルの製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の製造方法に、さらに、得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを、前記凹陥部を起点として分離する分離工程を具備する、表示装置用パネルの製造方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の製造方法に、さらに、得られた表示装置用パネルを用いて表示装置を得る工程を具備する、表示装置の製造方法。
【請求項１】
第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板、ならびに易剥離性を有する樹脂層を有し、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面に固定された前記樹脂層が密着しているガラス積層体であって、
前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を１箇所以上有するガラス積層体。
【請求項２】
前記凹陥部の面積が１箇所につき５ｍｍ2以上である、請求項１に記載のガラス積層体。
【請求項３】
前記樹脂層がアクリル樹脂層、ポリオレフィン樹脂層、ポリウレタン樹脂層またはシリコーン樹脂層である、請求項１または２に記載のガラス積層体。
【請求項４】
前記樹脂層の厚さが５〜５０μｍである、請求項１〜３のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項５】
前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との線膨張係数の差が１５０×１０−７／℃以下である、請求項１〜４のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項６】
前記支持ガラス基板が前記凹陥部を３箇所以上有し、前記凹陥部の各々を頂点とする多角形の重心と、前記薄板ガラス基板の重心とが一致する、請求項１〜５のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に表示装置用部材を有する、支持体付き表示装置用パネル。
【請求項８】
請求項７に記載の支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネル。
【請求項９】
請求項８に記載の表示装置用パネルを有する表示装置。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法であって、
前記支持ガラス基板の端部に凹陥部を形成する凹陥部形成工程と、
前記支持ガラス基板の第１主面上に易剥離性を有する樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、
前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する密着工程とを具備する、ガラス積層体の製造方法。
【請求項１１】
前記凹陥部形成工程が、
各々の凹陥部を頂点とする多角形の重心が前記支持ガラス基板の重心と一致するように、前記支持ガラス基板に３箇所以上凹陥部を形成する工程である、請求項１０に記載のガラス積層体の製造方法。
【請求項１２】
前記密着工程が、
チャンバー内に配設され、基台表面から上側へ突出可能で下側への力を加えることで基台内部へ収納可能な３個以上のピンを有する基台であって、前記基台表面における前記ピンの相互の位置関係が、前記支持ガラス基板が有する凹陥部の位置関係と同一である前記基台の上に、前記ピンの位置と前記凹陥部の位置とが重なるように前記樹脂層が固定された前記支持ガラス基板を、前記樹脂層を上側として載置し、
次に、前記薄板ガラス基板と前記樹脂層とが隙間を保持しつつ対向するように、上側へ突出した前記ピンの上へ前記薄板ガラス基板を載置し、
次に、前記薄板ガラス基板および前記支持ガラス基板が存するチャンバー内空間を負圧状態にし、
その後、加圧手段によって前記薄板ガラス基板を上側から下側へ押すことによって、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する工程である、請求項１０または１１に記載のガラス積層体の製造方法。
【請求項１３】
前記密着工程において、前記ピンの各々を頂点とする多角形の前記基台表面における重心と、前記薄板ガラス基板の第１主面における重心とが一致している、請求項１０〜１２のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれかに記載の製造方法に、さらに、得られたガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成する工程を具備する、支持体付き表示装置用パネルの製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の製造方法に、さらに、得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを、前記凹陥部を起点として分離する分離工程を具備する、表示装置用パネルの製造方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の製造方法に、さらに、得られた表示装置用パネルを用いて表示装置を得る工程を具備する、表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２０１０−１８５０５（Ｐ２０１０−１８５０５Ａ）
【公開日】平成２２年１月２８日（２０１０．１．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１８２５３７（Ｐ２００８−１８２５３７）
【出願日】平成２０年７月１４日（２００８．７．１４）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月２８日（２０１０．１．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年７月１４日（２００８．７．１４）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
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