ナノ炭素材料複合基板製造方法およびナノ炭素材料複合基板
【課題】基板表面においてナノ炭素材料をパターニングして成長させることの出来るナノ炭素材料複合基板製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、複数の微粒子を基板表面に配列し、該微粒子間の空隙からナノ炭素材料を成長させる。複数の微粒子を基板表面に配置したとき、微粒子は粒径に従って自己整合的に配列されることから、該微粒子間の空隙から成長したナノ炭素材料は、基板表面においてパターニングされて成長することになる。
【解決手段】本発明は、複数の微粒子を基板表面に配列し、該微粒子間の空隙からナノ炭素材料を成長させる。複数の微粒子を基板表面に配置したとき、微粒子は粒径に従って自己整合的に配列されることから、該微粒子間の空隙から成長したナノ炭素材料は、基板表面においてパターニングされて成長することになる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ナノ炭素材料複合基板製造方法およびナノ炭素材料複合基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、ナノ炭素材料複合基板、該ナノ炭素材料複合基板の製造に適したナノ炭素材料複合基板製造方法、該ナノ炭素材料複合基板を用いた電子放出素子、および、該ナノ炭素材料複合基板を用いた照明ランプに関する。
【０００３】
ナノ炭素材料は、炭素原子のｓｐ２混成軌道で構成された、ナノメーター（ｎｍ）サイズの微細形状を有することから、従来の材料を凌駕する特性または従来の材料にはない特性を有しており、強度補強材料、電子放出素子材料、電池の電極材料、電磁波吸収材料、触媒材料、光学材料などの次世代の機能性材料としての応用が期待されている。
【０００４】
上述したナノ炭素材料の製造方法として、種々の方法が提案されている。
【０００５】
例えば、固液界面接触分解法は、固体基板と有機液体が急激な温度差をもって接触することから生じる特異な界面分解反応に基づいており、精製が不要な高純度のカーボンナノチューブを合成することができ、収率が非常に高い合成方法である（特許文献１参照）。
【０００６】
電界電子放出（フィールドエミッション）は、アスペクト比の大きい材料に対して強電界を印加したとき、トンネル効果によりその材料の表面から電子放出が起こる現象のことをいう。フィールドエミッションにより放出される電子を蛍光体に入射し、蛍光体を励起・発光させ、照明器具として利用した装置が電界電子放出型ランプである。電界電子放出型ランプは、従来の白熱電球や蛍光灯などと比較して低消費電力、低公害などのような優れた特徴を有しており、次世代の照明器具として注目を集めている。
【０００７】
フィールドエミッションにより電子を放出させるための材料として、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、カーボンナノウォール、カーボンナノフィラメント、カーボンナノコイル、カーボンナノホーンなどのようなナノ炭素材料が挙げられる。これらナノ炭素材料は、仕事関数が低いこと、電界集中係数が高いこと、電気伝導性や熱伝導性が高いこと、など電子放出材料として好適な物性を有している。
【０００８】
上述したナノ炭素材料を電子放出材料に用いた電界電子放出型ランプが提案されている。
【０００９】
例えば、カソード基板上に化学的成長法によりナノ炭素材料を成膜、このカソード基板に対向するアノード基板に蛍光体層およびメタルバック層を形成し、これらカソード基板とアノード基板を固着、真空封止した電界電子放出型ランプが提案されている（特許文献２参照）。
【００１０】
また、基板表面においてナノ炭素材料をパターニングして成長させることで、パターニングしないものに比べてナノ炭素材料へより効率よく電界集中が起こることが知られている。
【００１１】
例えば、基板表面にカーボンナノチューブをパターニングして成長させ、カーボンナノチューブを保護するため、絶縁性薄膜で支持する方法が提案されている（特許文献３参照）。
【００１２】
従来のパターン化手法では、スクリーン印刷やレーザーアブレーション、フォトリソグラフィーなどが主に用いられている。
しかしながら、これらの手法では、パターンが微細になるほど、フォトリソグラフィーのように必要とされる装置や工程が複雑になり、さらには、大面積化するほどパターンの均一性が低下といった問題が生じた。加えて、パターンの微細化によって、ナノ炭素材料の機械的強度が低下するといった問題も生じた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００８−２１４１４１号公報
【特許文献２】特開２００８−０５３１７１号公報
【特許文献３】特開２００７−２９９６９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
そこで、本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、基板表面においてナノ炭素材料をパターニングして成長させることの出来るナノ炭素材料複合基板製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の一実施形態は、基板に微粒子を配列させる工程と、前記微粒子が配列された前記基板に触媒を担持させる触媒担持工程と、前記触媒からナノ炭素材料を生成するナノ炭素材料生成工程と、を備え、前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、ナノ炭素材料は微粒子の粒径よりも長く生成することを特徴とするナノ炭素材料複合基板製造方法である。
【００１６】
また、前記触媒は、コバルト、鉄、ニッケル、モリブデンからなる群から選ばれた一つ以上の元素を含む触媒であり、前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、固液界面接触分解法によりナノ炭素材料を生成してもよい。
【００１７】
本発明の一実施形態は、基板と、前記基板上に設置された複数の微粒子と、前記微粒子間の空隙から伸びたナノ炭素材料と、を備え、前記ナノ炭素材料の高さが前記微粒子の粒径よりも高いことを特徴とするナノ炭素材料複合基板である。
【００１８】
また、前記微粒子の粒径が１０ｎｍ以上５０μｍ以下であってもよい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、複数の微粒子を基板表面に配列し、該微粒子間の空隙からナノ炭素材料を成長させる。複数の微粒子を基板表面に配置したとき、微粒子は粒径に従って自己的に配列されることから、該微粒子間の空隙から成長したナノ炭素材料は、基板表面においてパターニングされて成長することになる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明のナノ炭素材料複合基板の概略図である。
【図２】本発明のナノ炭素材料複合基板製造方法の概略工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明のナノ炭素材料複合基板について説明を行なう。
図１に、本発明のナノ炭素材料複合基板１について一例を示す。図１は、基板４の表面上に微粒子３が配列され、該微粒子間３の合間からナノ炭素材料２が配置されたナノ炭素材料基板１である。
【００２２】
微粒子は、絶縁体よりなり、自己配列が行なわれる程度に粒径が揃った粒子であればよい。粒径の揃った絶縁体の微粒子を平滑な基板上に配置すると、静電的引力により自己的に微粒子は基板表面に最密充填で配列される。本発明は上記知見を利用するものである。なお、本明細書において、微粒子とは、粒径が１０ｎｍ以上５０μｍ以下程度であるものをいう。粒径が５０μｍ以上だと微粒子は基板上で自己的に配列させるのが困難になるためである。例えば、微粒子として、ポリスチレン微粒子など、有機高分子からなる微粒子を用いても良い。
【００２３】
基板は、微粒子の自己配列を妨げない程度に平滑かつ導電性を有する基板であればよい。例えば、金属基板や、半金属基板でも良く、具体的には、銅、銀、タングステン、アルミニウム、ニッケル、モリブデン、鋼、ステンレス、インバー、コバール、シリコン、単結晶シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素、酸化インジウムスズ、などを用いた基板であってもよい。
【００２４】
ナノ炭素材料は、例えば、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、カーボンナノウォール、カーボンナノフィラメント、カーボンナノコイル、カーボンナノホーンなどが挙げられる。特に、カーボンナノチューブは高いアスペクト比を有するとともに、鋭い先端構造を持ち、化学的にも安定で機械的にも強靭であり、耐温度性にも優れていることから、電界電子放出素子として用いるのに望ましい。
【００２５】
本発明のナノ炭素材料複合基板は、基板上に微粒子が自己整合的に配列され、配列された微粒子間にナノ炭素材料を配置し、前記ナノ炭素材料の高さが前記微粒子の粒径よりも高い。配列された微粒子の極近傍にナノ炭素材料が配置されることから、ナノ炭素材料は微粒子に支えられ、好適にナノ炭素材料を基板垂直方向へ向け配向させることが出来る。また、（１）ナノ炭素材料は微粒子を挟んで飛び飛びの位置に配置される、（２）ナノ炭素材料の高さが微粒子の粒径より高い、ことから、電界をかけたとき、ナノ炭素材料の先端近傍に電界集中が起こりやすい。このため、本発明のナノ炭素材料複合基板は、特に、強電界によって電子を放出する電界放射型の電子放出素子としての利用が期待される。
【００２６】
以下、本発明のナノ炭素材料複合基板製造方法について説明を行なう。
【００２７】
＜基板に微粒子を配列させる工程＞
まず、基板上に微粒子を配列させる。
基板に微粒子を配列する方法としては、微粒子を微粒子が溶解しない液に分散させた微粒子分散液を調整し、該微粒子分散液に導電性の基板を浸し、静電的引力により微粒子を基板表面に吸着させることで行なうことが出来る。吸着後、基板を微粒子が溶解しない液で洗い流すことで、過剰に吸着した微粒子を洗い流し、基板表面に微粒子が単層で自己整合的に配列された基板を得ることが出来る。
【００２８】
また、基板を微粒子分散液に浸すにあたり、基板表面に微粒子分散液のｐＨ値より高い等電点を持つ下地層を設けてもよい。表面電荷が負である微粒子の分散液のｐＨ値より高い等電点を持つ下地層を設けることで、微粒子を種々の基板上に配置することができる。
【００２９】
＜微粒子が配列された前記基板に触媒を担持させる触媒担持工程＞
次に、触媒を担持させる。担持させる触媒は所望するナノ炭素材料、用いるナノ炭素材料生成方法に応じて、適宜選択し、選択した触媒に応じて担持方法を選択してよい。例えば、鉄、ニッケル、コバルト、モリブデンなどの金属触媒を用いる場合は、スパッタリング法を用いてもよい。
【００３０】
＜触媒からナノ炭素材料を生成するナノ炭素材料生成工程＞
次に、担持した触媒からナノ炭素材料を生成する。ナノ炭素材料生成方法は適宜公知の用いるナノ炭素材料生成方法を用いて良い。例えば、固液界面接触分解法、触媒気相成長法などを用いても良い。
【００３１】
また、前記触媒は、コバルト、鉄、ニッケル、モリブデンからなる群から選ばれた一つ以上の元素を含む触媒であり、前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、固液界面接触分解法によりナノ炭素材料を生成することが好ましい。固液界面接触分解法では、触媒に対し熱処理を行なうことが知られている。このため、触媒材料を基板に配置後、熱処理を行なうことで微粒子が炭化する。このとき、本発明者らの検討によれば、熱処理された触媒材料は基板表面でのみ活性化し、炭化された微粒子上の触媒材料は失活する。よって、好適に触媒を基板表面上で活性し、微粒子上では失活させることが出来る。
【実施例】
【００３２】
＜実施例１＞
まず、ポリスチレンからなり、粒径が０．５μｍである微粒子を、水溶液に分散させ、ｐＨ５に調整した微粒子分散液を用意した。
【００３３】
次に、Ａｌ２Ｏ３からなる基板４を、微粒子分散液に浸し、基板４の表面上に単層の微粒子３を配列させた（図２（ａ））。
【００３４】
次に、スパッタリング法を用いて、触媒としてコバルトを成膜し、熱処理を行なった（図２（ｂ））。また、このとき、微粒子は炭化された。
【００３５】
次に、触媒を担持した基板をメタノール中に浸漬させ、通電加熱を行い、固液界面接触分解法によりナノ炭素材料２を生成し、ナノ炭素材料複合基板１を製造した（図２（ｃ））。
【００３６】
製造されたナノ炭素材料複合基板１では、ナノ炭素材料２は微粒子３同士の空隙の間に配置され、微粒子３の表面上にナノ炭素材料２は確認されなかった。また、ナノ炭素材料２の先端部は微粒子３の上部に位置しており、ナノ炭素材料２は微粒子３の粒径よりも長く生成されたことが確認できた。よって、ナノ炭素材料がパターニングされて生成されたナノ炭素材料複合基板を得ることが出来た。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
本発明のナノ炭素材料複合基板は、強度補強材料、電池の電極材料、電磁波吸収材料、触媒材料、光学材料、電子放出素子材料、などの基板としての応用が期待される。
特に、強電界によって電子を放出する電界放射型の電子放出素子としての利用が期待され、具体的には、例えば、光プリンタ、電子顕微鏡、電子ビーム露光装置などの電子発生源や電子銃、平面ディスプレイを構成するアレイ状のフィールドエミッタアレイの面電子源、照明ランプ、などの用途としての電子放出素子として有用である。
特に、照明ランプとして用いる場合、（１）ディスプレイ用途：液晶バックライト、プロジェクタ光源、ＬＥＤディスプレイ光源、（２）シグナル用途：交通信号灯、産業／業務用回転灯・信号灯、非常灯・誘導灯、（３）センシング用途：赤外線センサ光源、産業用光センサ光源、光通信用光源、（４）医療・画像処理用途：医療用光源（眼底カメラ・スリットランプ）、医療用光源（内視鏡）、画像処理用光源、（５）光化学反応用途：硬化・乾燥／接着用光源、洗浄／表面改質用光源、水殺菌／空気殺菌用光源、（６）自動車用光源：ヘッドランプ、リアコンビネーションランプ、内装ランプ、（７）一般照明：オフィス照明、店舗照明、施設照明、舞台照明・演出照明、屋外照明、住宅照明、ディスプレイ照明（パチンコ機、自動販売機、冷凍・冷蔵ショーケース）、機器・什器組込照明、などの用途に応用が期待される。
なお、上記の用途に本発明のナノ炭素材料複合基板の用途は限定されるものではない。
【符号の説明】
【００３８】
１……ナノ炭素材料複合基板
２……ナノ炭素材料
３……微粒子
４……基板
５……炭化した微粒子
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ナノ炭素材料複合基板製造方法およびナノ炭素材料複合基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、ナノ炭素材料複合基板、該ナノ炭素材料複合基板の製造に適したナノ炭素材料複合基板製造方法、該ナノ炭素材料複合基板を用いた電子放出素子、および、該ナノ炭素材料複合基板を用いた照明ランプに関する。
【０００３】
ナノ炭素材料は、炭素原子のｓｐ２混成軌道で構成された、ナノメーター（ｎｍ）サイズの微細形状を有することから、従来の材料を凌駕する特性または従来の材料にはない特性を有しており、強度補強材料、電子放出素子材料、電池の電極材料、電磁波吸収材料、触媒材料、光学材料などの次世代の機能性材料としての応用が期待されている。
【０００４】
上述したナノ炭素材料の製造方法として、種々の方法が提案されている。
【０００５】
例えば、固液界面接触分解法は、固体基板と有機液体が急激な温度差をもって接触することから生じる特異な界面分解反応に基づいており、精製が不要な高純度のカーボンナノチューブを合成することができ、収率が非常に高い合成方法である（特許文献１参照）。
【０００６】
電界電子放出（フィールドエミッション）は、アスペクト比の大きい材料に対して強電界を印加したとき、トンネル効果によりその材料の表面から電子放出が起こる現象のことをいう。フィールドエミッションにより放出される電子を蛍光体に入射し、蛍光体を励起・発光させ、照明器具として利用した装置が電界電子放出型ランプである。電界電子放出型ランプは、従来の白熱電球や蛍光灯などと比較して低消費電力、低公害などのような優れた特徴を有しており、次世代の照明器具として注目を集めている。
【０００７】
フィールドエミッションにより電子を放出させるための材料として、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、カーボンナノウォール、カーボンナノフィラメント、カーボンナノコイル、カーボンナノホーンなどのようなナノ炭素材料が挙げられる。これらナノ炭素材料は、仕事関数が低いこと、電界集中係数が高いこと、電気伝導性や熱伝導性が高いこと、など電子放出材料として好適な物性を有している。
【０００８】
上述したナノ炭素材料を電子放出材料に用いた電界電子放出型ランプが提案されている。
【０００９】
例えば、カソード基板上に化学的成長法によりナノ炭素材料を成膜、このカソード基板に対向するアノード基板に蛍光体層およびメタルバック層を形成し、これらカソード基板とアノード基板を固着、真空封止した電界電子放出型ランプが提案されている（特許文献２参照）。
【００１０】
また、基板表面においてナノ炭素材料をパターニングして成長させることで、パターニングしないものに比べてナノ炭素材料へより効率よく電界集中が起こることが知られている。
【００１１】
例えば、基板表面にカーボンナノチューブをパターニングして成長させ、カーボンナノチューブを保護するため、絶縁性薄膜で支持する方法が提案されている（特許文献３参照）。
【００１２】
従来のパターン化手法では、スクリーン印刷やレーザーアブレーション、フォトリソグラフィーなどが主に用いられている。
しかしながら、これらの手法では、パターンが微細になるほど、フォトリソグラフィーのように必要とされる装置や工程が複雑になり、さらには、大面積化するほどパターンの均一性が低下といった問題が生じた。加えて、パターンの微細化によって、ナノ炭素材料の機械的強度が低下するといった問題も生じた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００８−２１４１４１号公報
【特許文献２】特開２００８−０５３１７１号公報
【特許文献３】特開２００７−２９９６９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
そこで、本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、基板表面においてナノ炭素材料をパターニングして成長させることの出来るナノ炭素材料複合基板製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の一実施形態は、基板に微粒子を配列させる工程と、前記微粒子が配列された前記基板に触媒を担持させる触媒担持工程と、前記触媒からナノ炭素材料を生成するナノ炭素材料生成工程と、を備え、前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、ナノ炭素材料は微粒子の粒径よりも長く生成することを特徴とするナノ炭素材料複合基板製造方法である。
【００１６】
また、前記触媒は、コバルト、鉄、ニッケル、モリブデンからなる群から選ばれた一つ以上の元素を含む触媒であり、前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、固液界面接触分解法によりナノ炭素材料を生成してもよい。
【００１７】
本発明の一実施形態は、基板と、前記基板上に設置された複数の微粒子と、前記微粒子間の空隙から伸びたナノ炭素材料と、を備え、前記ナノ炭素材料の高さが前記微粒子の粒径よりも高いことを特徴とするナノ炭素材料複合基板である。
【００１８】
また、前記微粒子の粒径が１０ｎｍ以上５０μｍ以下であってもよい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、複数の微粒子を基板表面に配列し、該微粒子間の空隙からナノ炭素材料を成長させる。複数の微粒子を基板表面に配置したとき、微粒子は粒径に従って自己的に配列されることから、該微粒子間の空隙から成長したナノ炭素材料は、基板表面においてパターニングされて成長することになる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明のナノ炭素材料複合基板の概略図である。
【図２】本発明のナノ炭素材料複合基板製造方法の概略工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明のナノ炭素材料複合基板について説明を行なう。
図１に、本発明のナノ炭素材料複合基板１について一例を示す。図１は、基板４の表面上に微粒子３が配列され、該微粒子間３の合間からナノ炭素材料２が配置されたナノ炭素材料基板１である。
【００２２】
微粒子は、絶縁体よりなり、自己配列が行なわれる程度に粒径が揃った粒子であればよい。粒径の揃った絶縁体の微粒子を平滑な基板上に配置すると、静電的引力により自己的に微粒子は基板表面に最密充填で配列される。本発明は上記知見を利用するものである。なお、本明細書において、微粒子とは、粒径が１０ｎｍ以上５０μｍ以下程度であるものをいう。粒径が５０μｍ以上だと微粒子は基板上で自己的に配列させるのが困難になるためである。例えば、微粒子として、ポリスチレン微粒子など、有機高分子からなる微粒子を用いても良い。
【００２３】
基板は、微粒子の自己配列を妨げない程度に平滑かつ導電性を有する基板であればよい。例えば、金属基板や、半金属基板でも良く、具体的には、銅、銀、タングステン、アルミニウム、ニッケル、モリブデン、鋼、ステンレス、インバー、コバール、シリコン、単結晶シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素、酸化インジウムスズ、などを用いた基板であってもよい。
【００２４】
ナノ炭素材料は、例えば、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、カーボンナノウォール、カーボンナノフィラメント、カーボンナノコイル、カーボンナノホーンなどが挙げられる。特に、カーボンナノチューブは高いアスペクト比を有するとともに、鋭い先端構造を持ち、化学的にも安定で機械的にも強靭であり、耐温度性にも優れていることから、電界電子放出素子として用いるのに望ましい。
【００２５】
本発明のナノ炭素材料複合基板は、基板上に微粒子が自己整合的に配列され、配列された微粒子間にナノ炭素材料を配置し、前記ナノ炭素材料の高さが前記微粒子の粒径よりも高い。配列された微粒子の極近傍にナノ炭素材料が配置されることから、ナノ炭素材料は微粒子に支えられ、好適にナノ炭素材料を基板垂直方向へ向け配向させることが出来る。また、（１）ナノ炭素材料は微粒子を挟んで飛び飛びの位置に配置される、（２）ナノ炭素材料の高さが微粒子の粒径より高い、ことから、電界をかけたとき、ナノ炭素材料の先端近傍に電界集中が起こりやすい。このため、本発明のナノ炭素材料複合基板は、特に、強電界によって電子を放出する電界放射型の電子放出素子としての利用が期待される。
【００２６】
以下、本発明のナノ炭素材料複合基板製造方法について説明を行なう。
【００２７】
＜基板に微粒子を配列させる工程＞
まず、基板上に微粒子を配列させる。
基板に微粒子を配列する方法としては、微粒子を微粒子が溶解しない液に分散させた微粒子分散液を調整し、該微粒子分散液に導電性の基板を浸し、静電的引力により微粒子を基板表面に吸着させることで行なうことが出来る。吸着後、基板を微粒子が溶解しない液で洗い流すことで、過剰に吸着した微粒子を洗い流し、基板表面に微粒子が単層で自己整合的に配列された基板を得ることが出来る。
【００２８】
また、基板を微粒子分散液に浸すにあたり、基板表面に微粒子分散液のｐＨ値より高い等電点を持つ下地層を設けてもよい。表面電荷が負である微粒子の分散液のｐＨ値より高い等電点を持つ下地層を設けることで、微粒子を種々の基板上に配置することができる。
【００２９】
＜微粒子が配列された前記基板に触媒を担持させる触媒担持工程＞
次に、触媒を担持させる。担持させる触媒は所望するナノ炭素材料、用いるナノ炭素材料生成方法に応じて、適宜選択し、選択した触媒に応じて担持方法を選択してよい。例えば、鉄、ニッケル、コバルト、モリブデンなどの金属触媒を用いる場合は、スパッタリング法を用いてもよい。
【００３０】
＜触媒からナノ炭素材料を生成するナノ炭素材料生成工程＞
次に、担持した触媒からナノ炭素材料を生成する。ナノ炭素材料生成方法は適宜公知の用いるナノ炭素材料生成方法を用いて良い。例えば、固液界面接触分解法、触媒気相成長法などを用いても良い。
【００３１】
また、前記触媒は、コバルト、鉄、ニッケル、モリブデンからなる群から選ばれた一つ以上の元素を含む触媒であり、前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、固液界面接触分解法によりナノ炭素材料を生成することが好ましい。固液界面接触分解法では、触媒に対し熱処理を行なうことが知られている。このため、触媒材料を基板に配置後、熱処理を行なうことで微粒子が炭化する。このとき、本発明者らの検討によれば、熱処理された触媒材料は基板表面でのみ活性化し、炭化された微粒子上の触媒材料は失活する。よって、好適に触媒を基板表面上で活性し、微粒子上では失活させることが出来る。
【実施例】
【００３２】
＜実施例１＞
まず、ポリスチレンからなり、粒径が０．５μｍである微粒子を、水溶液に分散させ、ｐＨ５に調整した微粒子分散液を用意した。
【００３３】
次に、Ａｌ２Ｏ３からなる基板４を、微粒子分散液に浸し、基板４の表面上に単層の微粒子３を配列させた（図２（ａ））。
【００３４】
次に、スパッタリング法を用いて、触媒としてコバルトを成膜し、熱処理を行なった（図２（ｂ））。また、このとき、微粒子は炭化された。
【００３５】
次に、触媒を担持した基板をメタノール中に浸漬させ、通電加熱を行い、固液界面接触分解法によりナノ炭素材料２を生成し、ナノ炭素材料複合基板１を製造した（図２（ｃ））。
【００３６】
製造されたナノ炭素材料複合基板１では、ナノ炭素材料２は微粒子３同士の空隙の間に配置され、微粒子３の表面上にナノ炭素材料２は確認されなかった。また、ナノ炭素材料２の先端部は微粒子３の上部に位置しており、ナノ炭素材料２は微粒子３の粒径よりも長く生成されたことが確認できた。よって、ナノ炭素材料がパターニングされて生成されたナノ炭素材料複合基板を得ることが出来た。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
本発明のナノ炭素材料複合基板は、強度補強材料、電池の電極材料、電磁波吸収材料、触媒材料、光学材料、電子放出素子材料、などの基板としての応用が期待される。
特に、強電界によって電子を放出する電界放射型の電子放出素子としての利用が期待され、具体的には、例えば、光プリンタ、電子顕微鏡、電子ビーム露光装置などの電子発生源や電子銃、平面ディスプレイを構成するアレイ状のフィールドエミッタアレイの面電子源、照明ランプ、などの用途としての電子放出素子として有用である。
特に、照明ランプとして用いる場合、（１）ディスプレイ用途：液晶バックライト、プロジェクタ光源、ＬＥＤディスプレイ光源、（２）シグナル用途：交通信号灯、産業／業務用回転灯・信号灯、非常灯・誘導灯、（３）センシング用途：赤外線センサ光源、産業用光センサ光源、光通信用光源、（４）医療・画像処理用途：医療用光源（眼底カメラ・スリットランプ）、医療用光源（内視鏡）、画像処理用光源、（５）光化学反応用途：硬化・乾燥／接着用光源、洗浄／表面改質用光源、水殺菌／空気殺菌用光源、（６）自動車用光源：ヘッドランプ、リアコンビネーションランプ、内装ランプ、（７）一般照明：オフィス照明、店舗照明、施設照明、舞台照明・演出照明、屋外照明、住宅照明、ディスプレイ照明（パチンコ機、自動販売機、冷凍・冷蔵ショーケース）、機器・什器組込照明、などの用途に応用が期待される。
なお、上記の用途に本発明のナノ炭素材料複合基板の用途は限定されるものではない。
【符号の説明】
【００３８】
１……ナノ炭素材料複合基板
２……ナノ炭素材料
３……微粒子
４……基板
５……炭化した微粒子
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に微粒子を配列させる工程と、
前記微粒子が配列された前記基板に触媒を担持させる触媒担持工程と、
前記触媒からナノ炭素材料を生成するナノ炭素材料生成工程と、を備え、
前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、ナノ炭素材料は微粒子の粒径よりも長く生成すること
を特徴とするナノ炭素材料複合基板製造方法。
【請求項２】
前記触媒は、コバルト、鉄、ニッケル、モリブデンからなる群から選ばれた一つ以上の元素を含む触媒であり、
前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、固液界面接触分解法によりナノ炭素材料を生成すること
を特徴とする請求項１に記載のナノ炭素材料複合基板製造方法。
【請求項３】
基板と、
前記基板上に設置された複数の微粒子と、
前記微粒子間の空隙から伸びたナノ炭素材料と、を備え、
前記ナノ炭素材料の高さが前記微粒子の粒径よりも高いこと
を特徴とするナノ炭素材料複合基板。
【請求項４】
前記微粒子の粒径が１０ｎｍ以上５０μｍ以下であること
を特徴とする請求項３に記載のナノ炭素材料複合基板。
【請求項１】
基板に微粒子を配列させる工程と、
前記微粒子が配列された前記基板に触媒を担持させる触媒担持工程と、
前記触媒からナノ炭素材料を生成するナノ炭素材料生成工程と、を備え、
前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、ナノ炭素材料は微粒子の粒径よりも長く生成すること
を特徴とするナノ炭素材料複合基板製造方法。
【請求項２】
前記触媒は、コバルト、鉄、ニッケル、モリブデンからなる群から選ばれた一つ以上の元素を含む触媒であり、
前記ナノ炭素材料生成工程にあたり、固液界面接触分解法によりナノ炭素材料を生成すること
を特徴とする請求項１に記載のナノ炭素材料複合基板製造方法。
【請求項３】
基板と、
前記基板上に設置された複数の微粒子と、
前記微粒子間の空隙から伸びたナノ炭素材料と、を備え、
前記ナノ炭素材料の高さが前記微粒子の粒径よりも高いこと
を特徴とするナノ炭素材料複合基板。
【請求項４】
前記微粒子の粒径が１０ｎｍ以上５０μｍ以下であること
を特徴とする請求項３に記載のナノ炭素材料複合基板。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１１−２００９３９（Ｐ２０１１−２００９３９Ａ）
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−６７７２３（Ｐ２０１０−６７７２３）
【出願日】平成２２年３月２４日（２０１０．３．２４）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２４日（２０１０．３．２４）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]