ラインヘッド、及び画像形成装置
【課題】 発光素子としての有機ＥＬ素子の長寿命化を図りつつ、かつ高輝度なラインヘッド、及び該ラインヘッドを備えた画像形成装置を提供する。
【解決手段】 感光体ドラムに光を照射し、露光するラインヘッド１において、有機ＥＬ素子３を複数形成した素子基板５と、素子基板５の、有機ＥＬ素子３の光出射側の面に光透過性を有した接着層８を介して貼着された反射基板６と、を備えてなるヘッド基体７を有している。そして、反射基板８の内面側には、各有機ＥＬ素子３より出射された光を反射し、ヘッド基体７の端面側に導波させることで有機各ＥＬ素子３より出射された光を集光する反射膜６ａが設けられ、ヘッド基体７の端面には、反射膜６ａで集光された光を出射する光出射部１２が複数設けられている。
【解決手段】 感光体ドラムに光を照射し、露光するラインヘッド１において、有機ＥＬ素子３を複数形成した素子基板５と、素子基板５の、有機ＥＬ素子３の光出射側の面に光透過性を有した接着層８を介して貼着された反射基板６と、を備えてなるヘッド基体７を有している。そして、反射基板８の内面側には、各有機ＥＬ素子３より出射された光を反射し、ヘッド基体７の端面側に導波させることで有機各ＥＬ素子３より出射された光を集光する反射膜６ａが設けられ、ヘッド基体７の端面には、反射膜６ａで集光された光を出射する光出射部１２が複数設けられている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラインヘッド、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を利用したプリンタとして、ラインプリンタ（画像形成装置）が知られている。このラインプリンタは、被露光部となる感光体ドラムの周面上に、帯電器、ライン状のプリンタヘッド（ラインヘッド）、現像器、転写器などの装置を近接配置したものである。すなわち、帯電器によって帯電された感光体ドラムの周面上に、プリンタヘッドに設けられた発光素子の選択的な発光動作で露光を行うことにより、静電潜像となる露光スポットを形成し、この潜像を現像器から供給されるトナーで現像して、そのトナー像を転写器で用紙に転写するようにしたものである。
このようなラインプリンタとして、有機エレクトロルミネセンス素子（有機ＥＬ素子）を発光素子とする発光素子アレイを、プリンタヘッドとして用いた画像形成装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−１１９１０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記特許文献１のラインヘッドでは、面発光した有機ＥＬ素子によって感光体ドラム上に光を照射しているので光が広がって輝度が低下し、前記感光体ドラムを十分に露光させることが難しかった。そこで、例えば微小な有機ＥＬ素子に電流を多く流すことによって輝度の高い点状の光を取り出す方法が考えられるが、この場合、有機ＥＬ素子には電流量に応じて発声した高い熱によって劣化し発光素子としての寿命が短くなってしまう。
【０００４】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、発光素子としての有機ＥＬ素子の長寿命化を図りつつ、かつ高輝度なラインヘッド、及び該ラインヘッドを備えた画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のラインヘッドは、感光体ドラムに光を照射し、露光するラインヘッドにおいて、有機ＥＬ素子を複数形成した素子基板と、該素子基板の、前記有機ＥＬ素子の光出射側の面に光透過性を有した接着層を介して貼着された反射基板と、を備えてなるヘッド基体を有し、前記反射基板の内面側には、前記各有機ＥＬ素子より出射された光を反射し、前記ヘッド基体の端面側に導波させることで前記各有機ＥＬ素子より出射された光を集光する反射膜が設けられ、前記ヘッド基体の端面には、前記反射膜で集光された光を出射する光出射部が複数設けられていることを特徴とする。
【０００６】
本発明のラインヘッドによれば、各有機ＥＬ素子から出射された光は、反射基板に設けられた反射膜によって反射されるとともに、光透過性のある接着層内を導波されて、ヘッド基体の端面に設けられた光出射部に集光されて、外部に取り出されることとなる。
このように、各有機ＥＬ素子から発光された光を集光した光を前記光出射部から出射しているので、該光出射部から出射される光は輝度の高いものとなる。さらに、例えばヘッド基体の端面側に設けられている光出射部の大きさを変化させないで、前記有機ＥＬ素子を大きくすれば、該有機ＥＬ素子から発光される光量が増加して、より輝度の高い光を光出射部から取り出すことが可能となる。よって、輝度の高い光を出射できるラインヘッドを用いることで、感光体ドラムを確実に露光できる。また、このように小さな有機ＥＬ素子に多量の電流を流すことなく、輝度の高い光を取り出すことができるので、熱によって有機ＥＬ素子が劣化することが無い。
このように、本発明のラインヘッドによれば、有機ＥＬ素子の長寿命化を図りつつ、輝度の高い光を取り出すことができる。
【０００７】
また、前記ラインヘッドにおいては、前記素子基板は、基板と該基板における一方の面側に設けられた前記有機ＥＬ素子とを備えてなり、前記基板における前記有機ＥＬ素子が設けられた側の面に前記反射基板が貼着されていることが好ましい。
このようにすれば、有機ＥＬ素子から出射された光は接着層を透過し、反射膜によって導波されるので、例えば反射基板を前記基板の反対側に貼着した場合のように、有機ＥＬ素子から出射された光が反射膜の前に透過する基板によって光が減衰することがなく、したがって前記光出射部から効率的に光を取り出すことで、輝度の高い光を取り出すことが可能となる。
【０００８】
また、前記ラインヘッドにおいては、前記光出射部にマイクロレンズが設けられたことが好ましい。
このようにすれば、光出射部から出射された光をマイクロレンズによって集光することができ、光を効率的に外部に取り出すことが可能となり、光の輝度をより向上できる。
【０００９】
本発明の画像形成装置は、前記ラインヘッドと、該ラインヘッドによって露光される感光体ドラムとを備えたことを特徴とする。
本発明の画像形成装置によれば、上述したように輝度の高いラインヘッドを露光手段として備えているので、感光体ドラムを確実に露光させることができ、正確な画像を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、以下で参照する各図面においては、図面を見易くするために、各構成要素の寸法等を適宜変更して表示している。
（第１実施形態）
最初に、ラインヘッドの第１実施形態について説明する。なお、ラインヘッドは、後述する画像形成装置の露光手段として用いられるもので、具体的にはラインヘッドを含むラインヘッドモジュールの状態で用いられる。
【００１１】
（ラインヘッドモジュール）
最初に、画像形成装置の露光手段として用いられるラインヘッドモジュールについて説明する。
図１は、ラインヘッドモジュールの側断面図である。図１に示すように、本実施形態のラインヘッドモジュール１０１は、複数の有機ＥＬ素子（エレクトロルミネッセンス素子）を備えたラインヘッド１と、該ラインヘッド１からの出射された光を正立等倍結像させるＳＬ素子３１ａを整列配置したＳＬアレイ３１とを、ヘッドケース５２に固定して構成されている。このラインヘッドモジュール１０１では、ラインヘッド１に整列配置された有機ＥＬ素子からの光をＳＬアレイ３１を構成するＳＬ素子３１ａに入射させ、図１中２点鎖線で示される感光体ドラム４１の外周面に成立等倍結像させて露光するようになっている。
【００１２】
（ラインヘッド）
次に、本実施形態におけるラインヘッド１について図２〜４を参照し説明する。
図２は、前記ラインヘッド１を模式的に示した図であり、図２（ａ）は斜視図であり、図２（ｂ）は側面図である。そして、図３は、図２（ｂ）中Ａ−Ａ´線矢視によるラインヘッド１の側断面を概略的に示す図であり、図４は、図２（ｂ）中Ｂ−Ｂ´線矢視によるラインヘッド１の側断面を概略的に示す図である。なお、図３、及び図４中においては、素子基板５に形成されたＴＦＴ素子等の駆動素子部の図示を省略している。
【００１３】
図２（ａ），（ｂ）に示すように、ラインヘッド１は、有機ＥＬ素子３が複数形成された素子基板５と、該素子基板５に貼着され、前記有機ＥＬ素子３からの光を反射する反射膜６ａが形成された反射基板６と、を備えてなるヘッド基体７を有している。また、前記素子基板５は、後述するように有機ＥＬ素子３とＳｉから構成される基板５ａとを含むもの（図６参照）であって、前記基板５ａの一方の面上には駆動素子が形成されている。そして、前記有機ＥＬ素子３は駆動素子に接続された状態に形成されている。
【００１４】
そして、図３に示すように、前記反射基板６は、前記素子基板５と、該素子基板５の、前記有機ＥＬ素子３の光出射側の面に光透過性を有した、例えばエポキシ樹脂等からなる接着層８を介して貼着されたものとなっている。具体的に、本実施形態における有機ＥＬ素子３は、所謂トップエミッション型で発光を行うことから、前記接着層８及び反射基板６は前記基板５ａの有機ＥＬ素子３が設けられた側の面上に設けられている。
そして、前記ヘッド基体７の端面には、各有機ＥＬ素子３から発光された光を出射する光出射部１２が設けられている。
【００１５】
ここで、前記有機ＥＬ素子３は、素子基板５上に設けられた有機隔壁２２１間に設けられる、陽極及び陰極からなる一対の電極間に少なくとも発光層６０を備えたものであり、その一対の電極から前記発光層６０に電流を供給することにより発光するようになっている。なお、本実施形態では、前記有機ＥＬ素子３は、陽極として機能する画素電極２３と、この画素電極２３からの正孔を注入／輸送する正孔輸送層７０と、有機ＥＬ物質からなる発光層６０と、陰極５０とが順に形成されたことによって構成されている。
また、素子基板５には、後述するように、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等のスイッチング素子（駆動回路）が設けられていて、該スイッチング素子により有機ＥＬ素子３への通電が制御されるようになっている。
【００１６】
そして、図３、及び図４に示すように、前記反射基板６の内面側（すなわち、前記接着層８）には、前記各有機ＥＬ素子３の直上に対向するようにして形成される、断面視略半球状の溝部が複数設けられていて、該溝を含む前記反射基板６の内面側には、各有機ＥＬ素子３より出射された光を反射する反射膜６ａが設けられている。
そして、前記反射膜６ａにより覆われた溝部は、前記反射基板６の一方の端部に露出した状態に形成されていて、各有機ＥＬ素子３からの光を反射する反射部１０として機能するようになっている。
ここで、反射部１０とは、各有機ＥＬ素子３と反射膜６ａとの間に接着層８が充填された領域であって、反射膜６ａによって反射した各有機ＥＬ素子３の光を反射し、後述する光出射部１２へと光を導波する導波路としての機能を発揮するものである。
また、反射部１０は、
【００１７】
前記反射膜６ａによって反射された各有機ＥＬ素子３の光は、図４中に示される前記基接着層８（反射部１０）内を導波されることにより、前記ヘッド基体７の端面側に集光されるようになっている。そして、前記ヘッド基体７の端面には、前記反射膜６ａで反射した前記各有機ＥＬ素子３の光を出射する光出射部１２が設けられている。ここで、前記光出射部１２の面積は、前記各有機ＥＬ素子３が発光する面積、すなわち発光層６０の面積よりも小さくなっている。また、前記光出射部１２は、後述する製造工程によりその表面が研磨された状態となっていて、該光出射部１２から出射する光の拡散を防止したものとなっている。
【００１８】
本実施形態のラインヘッド１によれば、各有機ＥＬ素子３から出射された光は、反射基板６に設けられた反射膜６ａによって反射されるとともに、光透過性のある接着層８内を導波されて、ヘッド基体７の端面に設けられた光出射部１２に集光されて、外部に取り出されるようになっている。
このような構成のもとに、本実施形態のラインヘッド１は、有機ＥＬ素子３から発光された光を、ヘッド基体７の端面側に設けられた光出射部１２まで導波し、かつ集光させることで輝度の高い光を取り出すことが可能となっている。
【００１９】
なお、本実施形態では、トップエミッション型の有機ＥＬ素子３に適応したが、例えば前記基板５ａの有機ＥＬ素子３が設けられていない側に設けることで、接着層を介して反射基板を貼着することでボトムエミッション型の有機ＥＬ素子３に適応してもよい。このとき、前記接着層８の厚みを薄くすることが好ましい。このようにすれば、前記有機ＥＬ素子３と反射膜６ａとの間隔が狭まることによって、有機ＥＬ素子３からの光を光出射部１２から効率的に取り出すことが可能となる。
【００２０】
（ＳＬアレイ）
図５は、ＳＬアレイの斜視図である。このＳＬアレイ３１は、日本板硝子株式会社製のＳＬ素子３１ａを配列したものである。このＳＬ素子３１ａは、直径０．２８ｍｍ程度のファイバー状に形成されている。また、各ＳＬ素子３１ａは千鳥状に配置され、各ＳＬ素子３１ａの隙間には黒色のシリコーン樹脂３２が充填されている。さらに、その周囲にフレーム３４が配置されて、ＳＬアレイ３１が形成されている。
【００２１】
このＳＬ素子３１ａは、その中心から周辺にかけて放物線上の屈折率分布を有している。そのため、ＳＬ素子３１ａに入射した光は、その内部を一定周期で蛇行しながら進むようになっている。このＳＬ素子３１ａの長さを調整すれば、画像を正立等倍結像させることができる。そして、正立等倍結像するＳＬ素子３１ａを整列配置すれば、隣接するＳＬ素子３１ａの作る像を重ね合わせることが可能になり、広範囲の画像を得ることができる。したがって、図５のＳＬアレイは、ラインヘッド１全体からの光を精度よく結像させることができるようになっている。
【００２２】
（有機ＥＬ素子および駆動素子）
次に、前記ラインヘッド１における有機ＥＬ素子３や駆動素子等の詳細な構成について、図６（ａ），（ｂ）を参照して説明する。ここで、図６（ａ）は、前記ラインヘッド１を構成する素子基板５に設けられた有機ＥＬ素子３の構成を詳細に示した図であり、図６（ｂ）は、駆動素子の構成を詳細に示した図である。
【００２３】
本実施形態における有機ＥＬ素子３は、上述したように、いわゆるトップエミッション型となっていることから、この素子基板２における封止層５１側から発光光が取り出されるようになっている。素子基板５を構成する基板５ａとしては、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができるが、本実施形態では不透明基板を用いている。
このような不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【００２４】
なお、ボトムエミッション型の場合に、光が基板５ａを透過して出射されることから、透明基板となる基板５ａを構成する材料としては、例えばガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、特にガラス基板を好適に用いることができる。
【００２５】
基板５ａ上には、画素電極２３に接続する駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）などを含む回路部１１が形成されており、その上に有機ＥＬ素子３が設けられている。前記有機ＥＬ素子３は、陽極として機能する画素電極２３と、この画素電極２３からの正孔を注入／輸送する正孔輸送層７０と、有機ＥＬ物質からなる発光層６０と、陰極５０とが順に形成されたことによって構成されている。なお、前記有機ＥＬ素子３は、有機隔壁２２１によって区画された領域に形成されている。
【００２６】
ここで、有機ＥＬ素子３および駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）を図２（ａ）に対応した模式図で示すと、図６（ｂ）に示すようになる。図６（ｂ）において、電源線１７は駆動素子４のソース／ドレイン電極に接続し、電源線１８は有機ＥＬ素子３の陰極５０に接続している。
そして、このような構成のもとに有機ＥＬ素子３は、図６（ａ）に示すように、正孔輸送層７０から注入された正孔と陰極５０からの電子とが発光層６０で結合することにより、発光をなすようになっている。
【００２７】
また、本実施形態においては、画素電極２３上にＳｉＯ２等の親液性の絶縁材料からなる無機隔壁２５が形成されており、この無機隔壁２５には開口２５ａが形成されている。
ここで、無機隔壁２５は絶縁材料からなっているので、後述するように前記開口２５ａ内に臨むようにして設けられた機能層においては、この無機隔壁２５で覆われた箇所には電流が流れず、したがって発光する領域、すなわち発光面積は、この無機隔壁２５の開口２５ａによって決定されるようになっている。
【００２８】
前記画素電極２３は、特にボトムエミッション型である場合、透明導電材料によって形成され、具体的にはＩＴＯ（インジウム錫酸化物）が好適に用いられるが、上述したように本実施形態の場合はトップエミッション型であるので、反射性の高いＡｇやＡｌなどの金属膜上に仕事関数の比較的高いＩＴＯ等の透明導電材料によって形成された透明電極を積層して構成される。
【００２９】
正孔輸送層７０の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層７０の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
【００３０】
発光層６０を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。なお、本実施形態では、例えば発光波長帯域が赤色に対応した発光層が採用されるが、もちろん、発光波長帯域が緑色や青色に対応した発光層を採用するようにしてもよい。
【００３１】
具体的な前記発光層６０の形成材料としては、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００３２】
また、前記発光層６０を覆うようにして陰極５０が形成されている。
この陰極５０を形成するための材料としては、本実施形態のラインヘッド１は上述したように、トップエミッション型であることから光透過性である必要があり、したがって透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはＩＴＯが好適とされるが、これ以外にも、例えば酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス透明導電膜（Indium Zinc Oxide ：ＩＺＯ／アイ・ゼット・オー）（登録商標））（出光興産社製）等を用いることができる。なお、本実施形態ではＩＴＯを用いることとし、例えばＣａを厚さ５ｎｍ程度に形成し、その上にＩＴＯ膜を厚さ２００ｎｍ程度に形成して積層構造の電極としたものが用いられる。よって、この陰極５０側から発光光を取り出すことができるようになっている。
【００３３】
このような陰極５０の上には、該陰極５０及び有機隔壁２２１の上面を覆うように、封止層５１が設けられている。この封止層５１は透光性を有する樹脂材料からなり、たとえば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などである。なお、この場合、陰極５０上にパシベーションとしてＳｉＮ，ＳｉＯＮなどを製膜しておくとよい。
【００３４】
また、封止層５１は、その内側に酸素や水分が浸入するのを防止するためのものであって、これにより陰極５０及び発光層６０から構成される有機ＥＬ素子３への酸素や水分の浸入を防止し、酸素や水分による前記有機ＥＬ素子３の劣化等を抑えることができる。
【００３５】
この封止層５１は、例えば無機膜と合成樹脂等の接着機能を有する有機膜とを交互に複数積層してもよい。無機膜と有機膜とを複数積層することによりクラックの発生を防止することができる。また、無機膜を多層に設けてもよい。この場合、例えば酸窒化珪素（ＳｉＯＮ）を多層に設けるなど、１種類の材料からなる膜を多層に設けてもよいし、窒化珪素と二酸化珪素とを積層するなど、異なる材料からなる膜を多層に設けてもよい。このように、無機膜を多層にすることにより、前記有機ＥＬ素子３に対する封止性能をより高めることができる。
【００３６】
また、このような有機ＥＬ素子３の下方には、前述したように回路部１１が設けられている。この回路部１１は基板５ａ上に形成されたものである。すなわち、基板５ａの表面にはＳｉＯ２を主体とする下地保護層２８１が下地として形成され、その上にはシリコン層２４１が形成されている。このシリコン層２４１の表面には、ＳｉＯ２及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁層２８２が形成されている。
【００３７】
また、前記シリコン層２４１のうち、ゲート絶縁層２８２を挟んでゲート電極２４２と重なる領域がチャネル領域２４１ａとされている。なお、このゲート電極２４２は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層２４１を覆い、ゲート電極２４２を形成したゲート絶縁層２８２の表面には、ＳｉＯ２を主体とする第１層間絶縁層２８３が形成されている。
【００３８】
また、シリコン層２４１のうち、チャネル領域２４１ａのソース側には、低濃度ソース領域２４１ｂおよび高濃度ソース領域２４１Ｓが設けられる一方、チャネル領域２４１ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域２４１ｃおよび高濃度ドレイン領域２４１Ｄが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light Doped Drain ）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域２４１Ｓは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４３ａを介して、ソース電極２４３に接続されている。このソース電極２４３は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域２４１Ｄは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４４ａを介して、ソース電極２４３と同一層からなるドレイン電極２４４に接続されている。
【００３９】
ソース電極２４３およびドレイン電極２４４が形成された第１層間絶縁層２８３の上層には、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする平坦化膜２８４が形成されている。この平坦化膜２８４は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）やソース電極２４３、ドレイン電極２４４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。
【００４０】
そして、ＩＴＯ等からなる画素電極２３が、この平坦化膜２８４の表面上に形成されるとともに、該平坦化膜２８４に設けられたコンタクトホール２３ａを介してドレイン電極２４４に接続されている。すなわち、画素電極２３は、ドレイン電極２４４を介して、シリコン層２４１の高濃度ドレイン領域２４１Ｄに接続されている。
【００４１】
画素電極２３が形成された平坦化膜２８４の表面には、画素電極２３と、前述した無機隔壁２５とが形成されており、さらに無機隔壁２５上には、有機隔壁２２１が形成されている。そして、画素電極２３上には、無機隔壁２５に形成された前記開口２５ａと、有機隔壁２２１に形成された開口２２１ａとの内部、すなわち画素領域に、前記の正孔輸送層７０と発光層６０とが画素電極２３側からこの順で積層され、これによって上述した有機ＥＬ素子３が形成されている。
【００４２】
（ラインヘッドの製造方法）
次に、前記ラインヘッド１を製造する方法について説明する。なお、本実施形態では、基板５ａとしてウエハ状のものを用いており、該基板５ａ上に有機ＥＬ素子３を形成し素子基板５を形成し、該素子基板５と前記反射基板６とを接着層８を介して貼着した後、ダイシングを行うことにより分断し、各ラインヘッド１を形成している。
【００４３】
まず、図７（ａ）に示すように、素子基板５を構成する基板５ａの表面に、下地保護層２８１を形成し、さらにこの下地保護層２８１上にポリシリコン層等を形成して、このポリシリコン層等から前記回路部１１を形成する。
そして、素子基板２の全面を覆うように画素電極２３となる透明導電膜として、反射性の高いＡｇやＡｌなどの金属膜とＩＴＯとを積層して形成する。そして、この導電膜をパターニングすることにより、平坦化膜２８４のコンタクトホール２３ａを介してドレイン電極２４４と導通する、画素電極２３を形成する。
【００４４】
次いで、画素電極２３上および平坦化膜２８４上に、ＳｉＯ２等の絶縁材料をＣＶＤ法等で成膜して隔壁層（図示せず）を形成し、続いて、公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いて隔壁層をパターニングする。これにより、図７（ａ）に示すように、形成する各有機ＥＬ素子の画素領域毎に開口２５ａを形成すると同時に、無機隔壁２５を形成する。
次いで、図７（ｂ）に示すように、無機隔壁２５の所定位置、詳しくは画素領域を囲む位置に樹脂等によって有機隔壁２２１を形成する。この有機隔壁２２１は、後述するように有機ＥＬ素子３を形成する領域を区画するためのものである。
【００４５】
そして、素子基板２の表面に、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域とを形成する。
本実施形態においては、プラズマ処理によって各領域を形成するものする。具体的には、該プラズマ処理は、予備加熱工程と、有機隔壁２２１の表面および開口２２１ａの壁面ならびに画素電極２３の電極面、無機隔壁２５の表面をそれぞれ親液性にする親液化工程と、有機隔壁２２１の上面および開口２２１ａの壁面を撥液性にする撥液化工程と、冷却工程とで構成する。
【００４６】
すなわち、基材（前記隔壁などを含む素子基板２）を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、次いで親液化工程として大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。次いで、撥液化工程として大気圧下で４フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された基材を室温まで冷却することで、親液性および撥液性が所定箇所に付与されることとなる。
【００４７】
なお、このＣＦ４プラズマ処理においては、画素電極２３の電極面および無機隔壁２５についても多少の影響を受けるが、画素電極２３の材料であるＩＴＯおよび無機隔壁２５の構成材料であるＳｉＯ２、ＴｉＯ２などはフッ素に対する親和性に乏しいため、親液化工程で付与された水酸基がフッ素基で置換されることがなく、親液性が保たれる。
【００４８】
次いで、前記有機隔壁２２１に正孔輸送層７０を形成する。この正孔輸送層７０を形成するに際しては、液滴吐出法（以下、インクジェット法とよぶ）が好適に採用される。すなわち、このインクジェット法により、正孔輸送層形成材料７０ａを電極面上に選択的に配し、これを塗布する。その後、乾燥処理および熱処理を行い、画素電極２３上に正孔輸送層７０を形成する。正孔輸送層７０の形成材料としては、例えば前記のＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをイソプロピルアルコールなどの極性溶媒に溶解させたものが用いられる。
【００４９】
このインクジェット法による正孔輸送層７０の形成にあたっては、インクジェットヘッドＨＡに正孔輸送層形成材料７０ａを充填し、図７（ｂ）に示すように、インクジェットヘッドＨＡの吐出ノズルを無機隔壁２５に形成された前記開口２５ａ内に位置する電極面に対向させ、インクジェットヘッドと基材（素子基板２）とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された液滴を電極面に吐出する。次に、吐出後の液滴を乾燥処理し、正孔輸送層材料７０ａに含まれる分散媒や溶媒を蒸発させることにより、正孔輸送層７０を形成する。
【００５０】
ここで、上記インクジェットヘッドＨＡとしては、通電により機械振動を生じる圧電素子を用いて液室内の圧力を変化させることによりノズルから液滴を吐出する方式の液滴吐出ヘッドを採用することが望ましい。なお、発熱体で液室内を局部的に加熱して気泡を発生させることによりノズルから液滴を吐出する方式の液滴吐出ヘッドを採用してもよい。これ以外にも、帯電制御型、加圧振動型といった連続方式、静電吸引方式、さらにはレーザなどの電磁波を照射して発熱させ、この発熱による作用で液状体を吐出させる方式等を採用することもできる。
【００５１】
吐出ノズルから吐出された液滴は、親液性処理がなされた電極面上にて広がり、無機隔壁２５の開口２５ａ内に満たされて該開口２５ａ内に臨むようになる。
その一方で、撥液処理された有機隔壁２２１の上面では、液滴がはじかれて付着しない。
したがって、液滴が所定の吐出位置からずれて、液滴の一部が有機隔壁２２１の表面にかかったとしても、該表面が液滴で濡れることがなく、弾かれた液滴が無機隔壁２５の開口２５ａ内に引き込まれる。
なお、この正孔輸送層形成工程以降では、各種の形成材料や形成した要素の酸化・吸湿を防止すべく、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などの不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。
【００５２】
次いで、図７（ｃ）に示すように、前記有機隔壁２２１に区画された領域に発光層６０を形成する。
この発光層形成工程では、前記正孔輸送層７０を形成する工程と同様に、上述したインクジェット法が好適に採用できる。すなわち、インクジェット法により、発光層形成材料を正孔輸送層７０上に吐出し、その後、乾燥処理および熱処理を行うことにより、有機隔壁２２１に形成された開口２２１ａ内、すなわち画素領域上に発光層６０を形成する。
【００５３】
次いで、前記発光層６０上に陰極５０を形成する。この陰極５０については、有機ＥＬ素子３を効率よく発光させるため、電子注入層と導電層のような積層構造を採用するのが一般的であり、本実施形態では上述したようにＣａとＩＴＯとの積層膜から構成されている。
【００５４】
ここで、本実施形態では、素子基板２と図示しないメタルマスクを位置合わせして蒸着法やスパッタ法で陰極５０を成膜することにより、前記発光層６０上を陰極５０が選択的に覆った状態に形成することができる。なお、陰極５０を形成するに際しては、有機隔壁２２１上を含む基板５ａのほぼ全面に形成材料（ＩＴＯ）を設けるようにしてもよい。
その後、封止工程によって前記陰極５０及び有機隔壁２２１上を含む基板５ａの全面を覆うようにして、例えばマイクロディスペンサ等を用いることで封止層５１を塗布する。
【００５５】
上述した工程により、図６に示したような有機ＥＬ素子３を備えた素子基板５が製造されることとなる。
次に、図８を参照し、反射基板６と素子基板５とを貼着する工程について説明する。なお、図８は、図２（ｂ）に示したＢ−Ｂ´線矢視における断面に基づく工程図である。
【００５６】
まず、図８（ａ）に示すように、前記素子基板５に貼着するための反射基板６の前駆体となるガラス基板６´を用意する。なお、このガラス基板６´は、上述したウエハ状の素子基板５と同じ大きさからなるものである。そして、該ガラス基板６´にウエットエッチングを行うことによって、図２に示したように、平面視した状態で有機ＥＬ素子３に対応し、かつその断面が半円状の凹部を形成する。ここで、前記凹部は後述するダイシング工程により、光出射部１２を構成する反射部１０（図３参照）となるものである。
その後、図８（ｂ）に示すように、該凹部が形成されたガラス基板６´側の前面にスパッタ法により、有機ＥＬ素子３から発光された光を反射する反射膜６ａを形成する。このようにして、有機ＥＬ素子３の光を反射する反射膜６ａを備えた反射基板６が形成される。
【００５７】
次いで、素子基板５と反射基板６とを光透過性を有した接着層８を介して貼りあわせる工程を行う。
まず、図８（ｃ）に示すように、光透過性を有し、かつ熱硬化型の接着剤として機能する、例えばエポキシ樹脂をスクリーン印刷、ディスペンス等の方法を用いて、前記素子基板５における有機ＥＬ素子３が設けられた側の面に塗布する。
【００５８】
その後、前記接着層８が設けられた素子基板５と、反射基板６とをアライメントした後、加熱及び加圧を行うことで、前記接着層８を介して前記素子基板５と前記反射基板６とを貼着し、図９（ａ）に示すヘッド基体７の前駆体となる接着体を形成する。ここで、本実施形態では、前記反射基板６に設けられた各凹部内には、図９（ａ）に示すように、平面視した状態で、２つの有機ＥＬ素子３が設けられた状態となっている。
【００５９】
次いで、図９（ｂ）に示すダイシングラインによって、上記接着体をダイシングブレードによって、各ラインヘッド毎に分断する。よって、図９（ｂ）に示すように、接着層８を介して貼着された素子基板５と反射基板６とから構成されるヘッド基体７が形成される。
【００６０】
このとき、ダイシングによる切断面となる、ヘッド基体７の一端面には、前記反射基板６に形成されていた凹部を切断することにより、切断面側に接着層８が露出することとなる。この接着層８は、上述したように光透過性を有しているので、有機ＥＬ素子３から発光された光は、反射基板６に形成されている反射膜６ａによって反射された後は接着層８内を透過し、端面に露出した接着層８はヘッド基体７における光出射部１２となる。ここで、各有機ＥＬ素子３と反射膜６ａとの間に接着層８が充填された反射部１０は、反射膜６ａによって反射した各有機ＥＬ素子３の光を反射し、前記光出射部１２へと光を導波する導波路となる。
【００６１】
ところで、前記ヘッド基体における光出射部１２は、ダイシングによって表面が荒れた状態となっている。そこで、前記ダイシング加工面に対して研磨を行うことで平坦化し、前記光出射部１２から出射される有機ＥＬ素子３の光が拡散するのを防止できる。以上の工程により、本実施形態のラインヘッド１を形成することができる。
【００６２】
なお、ヘッド基体７における光出射部１２とは反対側の面には、図９（ｃ）に示したように、前記接着層８が露出することにより前記の反射光の一部がもれる場合があるが、前記光出射部１２に比べてその大きさが十分小さく問題は無いが、前記光出射部１２とは反対側の面にも反射膜６ａを別途形成することにより、有機ＥＬ素子３の光を前記光出射部１２からのみ取り出すことで、光の取り出し効率を向上させることがより好ましい。
【００６３】
次に、上記ラインヘッド１における各光出射部１２から光を出射する場合について説明する。本実施形態のラインヘッド１は、上述したＴＦＴ等のスイッチング素子を含んだ回路部１１によって、各有機ＥＬ素子３が発光させることができる。各有機ＥＬ素子３から発光された光は、反射膜６ａによって反射される。
【００６４】
ここで、反射基板６に形成されている反射部１０は、有機ＥＬ素子３の反射光を導波する導波路として機能し、かつ各有機ＥＬ素子３から発光した光を対応する光出射部１２に集光することとなる。
よって、該反射膜６ａによって反射された光は接着層８内（反射部１０）を、外部への光取り出し口となる光出射部１２に向かって透過するようになる。
【００６５】
このように、本実施形態のラインヘッド１によれば、各有機ＥＬ素子３から出射された光は、反射基板６に設けられた反射膜６ａによって反射されるとともに、光透過性のある接着層８（反射部１０）内を導波されて、ヘッド基体７の端面に設けられた光出射部１２に集光されて、外部に取り出されることとなる。
【００６６】
ここで、前記有機ＥＬ素子３の面積を大きくすることで、該有機ＥＬ素子３が発光する光量を増加させた際、本構成のヘッド基体７は長手方向に大きくなるが、光出射部１２の大きさ、及び各光出射部１２のピッチに変化が生じることがない。よって、ヘッド基体７の端面に設けられた光出射部１２からは、より輝度の高い光を取り出すことができるのである。
【００６７】
このように、本実施形態のラインヘッド１は、前記有機ＥＬ素子３により面発光された光を集光し、前記光出射部１２から点状の光として出射しているので、該光出射部１２から外部に取り出される光は輝度の高くなる。また、有機ＥＬ素子に流す電流を増加させることなく輝度の高い光を取り出すことが可能となるので、熱によりＥＬ素子を劣化させることが無い。
したがって、ラインヘッド１は、有機ＥＬ素子３の長寿命化を図りつつ、輝度の高い光を取り出し可能なものとなり、該ラインヘッド１を備えたラインヘッドモジュール１０１を用いることにより、ラインヘッド１から出射された輝度の高い光をＳＬアレイ３１を介することで感光体ドラム４１上を確実に露光させることができる。
【００６８】
（第２実施形態）
次に、本発明のラインヘッドにおける第２の実施形態について説明する。
本実施形態のラインヘッド１´は、図１０（ａ），（ｂ）に示すように、前記ヘッド基体７の端面側に複数のマイクロレンズＭを備えたマイクロレンズアレイ基板ＭＡが設けられている。なお、ラインヘッド１´は、前記マイクロレンズＭが設けられている以外の構成は、前記第１の実施形態におけるマイクロレンズＭと同様であるので、同じ構成については同一の符号を付して、その説明を省略することとする。
【００６９】
前記マイクロレンズアレイ基板ＭＡはガラス基板からなるもので、図１０（ａ），（ｂ）に示したように、各光出射部１２に対応するマイクロレンズＭが複数形成されたものである。
そして、前記各マイクロレンズＭは、各光出射部１２に対応するようにアライメントして、前述した光透過性を有した接着層８´によってヘッド基体７に貼着されている。なお、該接着層８´は素子基板５と反射基板６とを貼着している接着層８と同じ材料からなるものである。
【００７０】
前記マイクロレンズＭは、光出射部１２から出射された光をマイクロレンズＭによって集光することができ、光をより効率的にラインヘッド１´の外部に取り出すことが可能となり、光の輝度をより向上させることができる。よって、このラインヘッド１´を備えたラインヘッドモジュール１０１´を用いることで、感光体ドラム４１をより高い輝度の光で露光させることができるので、後述する画像形成装置の描画品質を向上できる。
【００７１】
また、本実施形態におけるラインヘッド１´は、前記マイクロレンズアレイ基板ＭＡを接着層８を介して、ヘッド基体７の光出射部１２側にマイクロレンズＭを貼着する工程以外は同じあることから、その説明は省略する。
すなわち、ラインヘッド１´は、図７〜図９に示した製造工程により、形成されたヘッド基体７に、エポキシ樹脂からなる前記接着層８をスクリーン印刷、ディスペンス等の方法によって塗布し、上記マイクロレンズアレイ基板ＭＡをアライメントした後、加熱、及び加圧することで、ヘッド基体７にマイクロレンズアレイ基板ＭＡを貼着することにより、ラインヘッド１´が製造できる。
【００７２】
（ラインヘッドモジュールの使用形態）
次に、上記ラインヘッドモジュール１０１の使用形態について説明する。
上記ラインヘッドモジュール１０１は、本発明の画像形成装置における露光装置として使用される。その場合、ラインヘッドモジュールは感光体ドラムに対向配置され、ラインヘッドからの光をＳＬアレイにより感光体ドラム上に正立等倍結像させて使用する。
以下に、タンデム方式、及び４サイクル方式の画像形成装置に関する実施形態について説明する。
【００７３】
（タンデム方式の画像形成装置）
まず、タンデム方式の画像形成装置について説明する。
図１１は、タンデム方式の画像形成装置の概略構成図であり、図１１中符号８０は画像形成装置である。この画像形成装置８０は、本発明のラインヘッドモジュール１０１（本実施形態では、以下、これらをラインヘッドモジュール１０１Ｋ、１０１Ｃ、１０１Ｍ、１０１Ｙともよぶ）を、対応する同様な構成である４個の感光体ドラム（像担持体）４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙの露光装置にそれぞれ配置したもので、タンデム方式のものとして構成されたものである。
【００７４】
この画像形成装置８０は、駆動ローラ９１と従動ローラ９２とテンションローラ９３とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト９０を、図１１中矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト９０に対して、感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
【００７５】
ここで、前記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。
なお、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、図１１中矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００７６】
各感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する本発明のラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００７７】
また、このラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００７８】
ここで、各ラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、有機ＥＬ素子の配列方向が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の母線に沿うように設置されている。そして、各ラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
【００７９】
現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００８０】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｐ上に定着され、その後、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。
【００８１】
なお、図１１中の符号６３は多数枚の記録媒体Ｐが積層保持されている給紙カセット、６４は給紙カセット６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラ、６５は二次転写ローラ６６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ対、６６は中間転写ベルト９０との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、６７は二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。
【００８２】
（４サイクル方式の画像形成装置）
次に、４サイクル方式の画像形成装置について説明する。
図１２は、４サイクル方式の画像形成装置の概略構成図である。図１２において、画像形成装置１６０には主要構成部材として、ロータリ構成の現像装置１６１、像担持体として機能する感光体ドラム１６５、像書込手段（露光手段）として機能する本実施形態のラインヘッドモジュール１６７、中間転写ベルト１６９、用紙搬送路１７４、定着器の加熱ローラ１７２、給紙トレイ１７８が設けられている。
【００８３】
現像装置１６１は、現像ロータリ１６１ａが軸１６１ｂを中心として矢印Ａ方向に回転するよう構成されたものである。現像ロータリ１６１ａの内部は４分割されており、それぞれイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｋ）の４色の像形成ユニットが設けられている。１６２ａ〜１６２ｄは、前記４色の各像形成ユニットに配置されており、矢印Ｂ方向に回転する現像ローラ、１６３ａ〜１６３ｄは、矢印Ｃ方向に回転するトナ−供給ローラである。また、１６４ａ〜１６４ｄはトナーを所定の厚さに規制する規制ブレードである。
【００８４】
図１２中符号１６５は、前記のように像担持体として機能する感光体ドラム、１６６は一次転写部材、１６８は帯電器である。また、１６７は像書込手段（露光手段）として機能する本実施形態のラインヘッドモジュールである。感光体ドラム１６５は、図示を省略した駆動モータ、例えばステップモータにより、現像ローラ１６２ａとは逆の方向となる矢印Ｄ方向に回転駆動されるようになっている。
【００８５】
中間転写ベルト１６９は、駆動ローラ１７０ａと従動ローラ１７０ｂとの間に張架されたものである。駆動ローラ１７０ａは、前記感光体ドラム１６５の駆動モータに連結されたもので、中間転写ベルト１６９に動力を伝達するようになっている。すなわち、該駆動モータの駆動により、中間転写ベルト１６９の駆動ローラ１７０ａは感光体ドラム１６５とは逆の方向となる矢印Ｅ方向に回動するようになっている。
【００８６】
用紙搬送路１７４には、複数の搬送ローラと排紙ローラ対１７６などが設けられており、用紙が搬送されるようになっている。中間転写ベルト１６９に担持されている片面の画像（トナー像）が、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に転写されるようになっている。二次転写ローラ１７１は、クラッチによって中間転写ベルト１６９に離当接されるようになっており、クラッチオンで中間転写ベルト１６９に当接され、用紙に画像が転写されるようになっている。
【００８７】
上記のようにして画像が転写された用紙は、次に、定着ヒータＨを有する定着器で定着処理がなされる。定着器には、加熱ローラ１７２、加圧ローラ１７３が設けられている。
定着処理後の用紙は、排紙ローラ対１７６に引き込まれて矢印Ｆ方向に進行する。この状態から排紙ローラ対１７６が逆方向に回転すると、用紙は方向を反転して両面プリント用搬送路１７５を矢印Ｇ方向に進行する。１７７は電装品ボックス、１７８は用紙を収納する給紙トレイ、１７９は給紙トレイ１７８の出口に設けられているピックアップローラである。
【００８８】
用紙搬送路において、搬送ローラを駆動する駆動モータとしては、例えば低速のブラシレスモータが用いられている。また、中間転写ベルト１６９については、色ずれ補正などが必要となるためステップモータが用いられている。これらの各モータは、図示を省略した制御手段からの信号によって制御されるようになっている。
【００８９】
図１２に示した状態で、イエロー（Ｙ）の静電潜像が感光体ドラム１６５に形成され、現像ローラ１６２ａに高電圧が印加されることにより、感光体ドラム１６５にはイエローの画像が形成される。イエローの裏側および表側の画像がすべて中間転写ベルト１６９に担持されると、現像ロータリ１６１ａが矢印Ａ方向に９０度回転する。
【００９０】
中間転写ベルト１６９は１回転して感光体ドラム１６５の位置に戻る。次に、シアン（Ｃ）の２面の画像が感光体ドラム１６５に形成され、この画像が中間転写ベルト１６９に担持されているイエローの画像に重ねて担持される。以下、同様にして現像ロータリ１６１の９０度回転、中間転写ベルト１６９への画像担持後の１回転処理が繰り返される。
【００９１】
４色のカラー画像担持には中間転写ベルト１６９は４回転して、その後さらに回転位置が制御されて二次転写ローラ１７１の位置で用紙に画像を転写する。給紙トレイ１７８から給紙された用紙を搬送路１７４で搬送し、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に前記カラー画像を転写する。片面に画像が転写された用紙は前記のように排紙ローラ対１７６で反転されて、搬送径路で待機している。その後、用紙は適宜のタイミングで二次転写ローラ１７１の位置に搬送されて、他面に前記カラー画像が転写される。ハウジング１８０には、排気ファン１８１が設けられている。
【００９２】
このような図１１、図１２に示した画像形成装置８０、１６０においては、図１に示したような本発明のラインヘッドモジュール１０１が露光手段として備えられている。
従って、これら画像形成装置８０、１６０にあっては、前述したようにヘッド基体７の端面に設けられた光出射部１２から輝度の高い発光光を取り出すことができるので、画像形成装置自体の印刷性能が向上し、得られるプリントの品質も高いものとなる。
なお、ラインヘッドモジュールを備えた画像形成装置は上記に限定されることなく、種々の変形が可能である。例えばラインヘッドモジュール１０１の代わりに、マイクロレンズアレイ基板ＭＡを備えたラインヘッド１´を含むラインヘッドモジュール１０１´を露光手段として用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】ラインヘッドモジュールの側断面図である。
【図２】（ａ）はラインヘッドの斜視図、（ｂ）はラインヘッドの側面図である。
【図３】図２（ｂ）中、Ａ−Ａ´線矢視におけるラインヘッドの側断面図である。
【図４】図２（ｂ）中、Ｂ−Ｂ´線矢視におけるラインヘッドの側断面図である。。
【図５】ＳＬアレイの斜視図である。
【図６】（ａ），（ｂ）は有機ＥＬ素子及び駆動素子の詳細な構成を示す図である。
【図７】ラインヘッドを製造工程を説明する図である。
【図８】図７に続くラインヘッドの製造工程を説明する図である。
【図９】図８に続くラインヘッドの製造工程を説明する図である。
【図１０】第２の実施形態のラインヘッドを示す図である。
【図１１】タンデム方式の画像形成装置の概略構成を示す図である。
【図１２】４サイクル方式の画像形成装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００９４】
１…ラインヘッド、３…有機ＥＬ素子、５…素子基板、６…反射基板、６ａ…反射膜、７…ヘッド基体、８…接着層、１２…光出射部、４１…感光体ドラム、８０，１６０…画像形成装置、Ｍ…マイクロレンズ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラインヘッド、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を利用したプリンタとして、ラインプリンタ（画像形成装置）が知られている。このラインプリンタは、被露光部となる感光体ドラムの周面上に、帯電器、ライン状のプリンタヘッド（ラインヘッド）、現像器、転写器などの装置を近接配置したものである。すなわち、帯電器によって帯電された感光体ドラムの周面上に、プリンタヘッドに設けられた発光素子の選択的な発光動作で露光を行うことにより、静電潜像となる露光スポットを形成し、この潜像を現像器から供給されるトナーで現像して、そのトナー像を転写器で用紙に転写するようにしたものである。
このようなラインプリンタとして、有機エレクトロルミネセンス素子（有機ＥＬ素子）を発光素子とする発光素子アレイを、プリンタヘッドとして用いた画像形成装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−１１９１０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記特許文献１のラインヘッドでは、面発光した有機ＥＬ素子によって感光体ドラム上に光を照射しているので光が広がって輝度が低下し、前記感光体ドラムを十分に露光させることが難しかった。そこで、例えば微小な有機ＥＬ素子に電流を多く流すことによって輝度の高い点状の光を取り出す方法が考えられるが、この場合、有機ＥＬ素子には電流量に応じて発声した高い熱によって劣化し発光素子としての寿命が短くなってしまう。
【０００４】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、発光素子としての有機ＥＬ素子の長寿命化を図りつつ、かつ高輝度なラインヘッド、及び該ラインヘッドを備えた画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のラインヘッドは、感光体ドラムに光を照射し、露光するラインヘッドにおいて、有機ＥＬ素子を複数形成した素子基板と、該素子基板の、前記有機ＥＬ素子の光出射側の面に光透過性を有した接着層を介して貼着された反射基板と、を備えてなるヘッド基体を有し、前記反射基板の内面側には、前記各有機ＥＬ素子より出射された光を反射し、前記ヘッド基体の端面側に導波させることで前記各有機ＥＬ素子より出射された光を集光する反射膜が設けられ、前記ヘッド基体の端面には、前記反射膜で集光された光を出射する光出射部が複数設けられていることを特徴とする。
【０００６】
本発明のラインヘッドによれば、各有機ＥＬ素子から出射された光は、反射基板に設けられた反射膜によって反射されるとともに、光透過性のある接着層内を導波されて、ヘッド基体の端面に設けられた光出射部に集光されて、外部に取り出されることとなる。
このように、各有機ＥＬ素子から発光された光を集光した光を前記光出射部から出射しているので、該光出射部から出射される光は輝度の高いものとなる。さらに、例えばヘッド基体の端面側に設けられている光出射部の大きさを変化させないで、前記有機ＥＬ素子を大きくすれば、該有機ＥＬ素子から発光される光量が増加して、より輝度の高い光を光出射部から取り出すことが可能となる。よって、輝度の高い光を出射できるラインヘッドを用いることで、感光体ドラムを確実に露光できる。また、このように小さな有機ＥＬ素子に多量の電流を流すことなく、輝度の高い光を取り出すことができるので、熱によって有機ＥＬ素子が劣化することが無い。
このように、本発明のラインヘッドによれば、有機ＥＬ素子の長寿命化を図りつつ、輝度の高い光を取り出すことができる。
【０００７】
また、前記ラインヘッドにおいては、前記素子基板は、基板と該基板における一方の面側に設けられた前記有機ＥＬ素子とを備えてなり、前記基板における前記有機ＥＬ素子が設けられた側の面に前記反射基板が貼着されていることが好ましい。
このようにすれば、有機ＥＬ素子から出射された光は接着層を透過し、反射膜によって導波されるので、例えば反射基板を前記基板の反対側に貼着した場合のように、有機ＥＬ素子から出射された光が反射膜の前に透過する基板によって光が減衰することがなく、したがって前記光出射部から効率的に光を取り出すことで、輝度の高い光を取り出すことが可能となる。
【０００８】
また、前記ラインヘッドにおいては、前記光出射部にマイクロレンズが設けられたことが好ましい。
このようにすれば、光出射部から出射された光をマイクロレンズによって集光することができ、光を効率的に外部に取り出すことが可能となり、光の輝度をより向上できる。
【０００９】
本発明の画像形成装置は、前記ラインヘッドと、該ラインヘッドによって露光される感光体ドラムとを備えたことを特徴とする。
本発明の画像形成装置によれば、上述したように輝度の高いラインヘッドを露光手段として備えているので、感光体ドラムを確実に露光させることができ、正確な画像を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、以下で参照する各図面においては、図面を見易くするために、各構成要素の寸法等を適宜変更して表示している。
（第１実施形態）
最初に、ラインヘッドの第１実施形態について説明する。なお、ラインヘッドは、後述する画像形成装置の露光手段として用いられるもので、具体的にはラインヘッドを含むラインヘッドモジュールの状態で用いられる。
【００１１】
（ラインヘッドモジュール）
最初に、画像形成装置の露光手段として用いられるラインヘッドモジュールについて説明する。
図１は、ラインヘッドモジュールの側断面図である。図１に示すように、本実施形態のラインヘッドモジュール１０１は、複数の有機ＥＬ素子（エレクトロルミネッセンス素子）を備えたラインヘッド１と、該ラインヘッド１からの出射された光を正立等倍結像させるＳＬ素子３１ａを整列配置したＳＬアレイ３１とを、ヘッドケース５２に固定して構成されている。このラインヘッドモジュール１０１では、ラインヘッド１に整列配置された有機ＥＬ素子からの光をＳＬアレイ３１を構成するＳＬ素子３１ａに入射させ、図１中２点鎖線で示される感光体ドラム４１の外周面に成立等倍結像させて露光するようになっている。
【００１２】
（ラインヘッド）
次に、本実施形態におけるラインヘッド１について図２〜４を参照し説明する。
図２は、前記ラインヘッド１を模式的に示した図であり、図２（ａ）は斜視図であり、図２（ｂ）は側面図である。そして、図３は、図２（ｂ）中Ａ−Ａ´線矢視によるラインヘッド１の側断面を概略的に示す図であり、図４は、図２（ｂ）中Ｂ−Ｂ´線矢視によるラインヘッド１の側断面を概略的に示す図である。なお、図３、及び図４中においては、素子基板５に形成されたＴＦＴ素子等の駆動素子部の図示を省略している。
【００１３】
図２（ａ），（ｂ）に示すように、ラインヘッド１は、有機ＥＬ素子３が複数形成された素子基板５と、該素子基板５に貼着され、前記有機ＥＬ素子３からの光を反射する反射膜６ａが形成された反射基板６と、を備えてなるヘッド基体７を有している。また、前記素子基板５は、後述するように有機ＥＬ素子３とＳｉから構成される基板５ａとを含むもの（図６参照）であって、前記基板５ａの一方の面上には駆動素子が形成されている。そして、前記有機ＥＬ素子３は駆動素子に接続された状態に形成されている。
【００１４】
そして、図３に示すように、前記反射基板６は、前記素子基板５と、該素子基板５の、前記有機ＥＬ素子３の光出射側の面に光透過性を有した、例えばエポキシ樹脂等からなる接着層８を介して貼着されたものとなっている。具体的に、本実施形態における有機ＥＬ素子３は、所謂トップエミッション型で発光を行うことから、前記接着層８及び反射基板６は前記基板５ａの有機ＥＬ素子３が設けられた側の面上に設けられている。
そして、前記ヘッド基体７の端面には、各有機ＥＬ素子３から発光された光を出射する光出射部１２が設けられている。
【００１５】
ここで、前記有機ＥＬ素子３は、素子基板５上に設けられた有機隔壁２２１間に設けられる、陽極及び陰極からなる一対の電極間に少なくとも発光層６０を備えたものであり、その一対の電極から前記発光層６０に電流を供給することにより発光するようになっている。なお、本実施形態では、前記有機ＥＬ素子３は、陽極として機能する画素電極２３と、この画素電極２３からの正孔を注入／輸送する正孔輸送層７０と、有機ＥＬ物質からなる発光層６０と、陰極５０とが順に形成されたことによって構成されている。
また、素子基板５には、後述するように、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等のスイッチング素子（駆動回路）が設けられていて、該スイッチング素子により有機ＥＬ素子３への通電が制御されるようになっている。
【００１６】
そして、図３、及び図４に示すように、前記反射基板６の内面側（すなわち、前記接着層８）には、前記各有機ＥＬ素子３の直上に対向するようにして形成される、断面視略半球状の溝部が複数設けられていて、該溝を含む前記反射基板６の内面側には、各有機ＥＬ素子３より出射された光を反射する反射膜６ａが設けられている。
そして、前記反射膜６ａにより覆われた溝部は、前記反射基板６の一方の端部に露出した状態に形成されていて、各有機ＥＬ素子３からの光を反射する反射部１０として機能するようになっている。
ここで、反射部１０とは、各有機ＥＬ素子３と反射膜６ａとの間に接着層８が充填された領域であって、反射膜６ａによって反射した各有機ＥＬ素子３の光を反射し、後述する光出射部１２へと光を導波する導波路としての機能を発揮するものである。
また、反射部１０は、
【００１７】
前記反射膜６ａによって反射された各有機ＥＬ素子３の光は、図４中に示される前記基接着層８（反射部１０）内を導波されることにより、前記ヘッド基体７の端面側に集光されるようになっている。そして、前記ヘッド基体７の端面には、前記反射膜６ａで反射した前記各有機ＥＬ素子３の光を出射する光出射部１２が設けられている。ここで、前記光出射部１２の面積は、前記各有機ＥＬ素子３が発光する面積、すなわち発光層６０の面積よりも小さくなっている。また、前記光出射部１２は、後述する製造工程によりその表面が研磨された状態となっていて、該光出射部１２から出射する光の拡散を防止したものとなっている。
【００１８】
本実施形態のラインヘッド１によれば、各有機ＥＬ素子３から出射された光は、反射基板６に設けられた反射膜６ａによって反射されるとともに、光透過性のある接着層８内を導波されて、ヘッド基体７の端面に設けられた光出射部１２に集光されて、外部に取り出されるようになっている。
このような構成のもとに、本実施形態のラインヘッド１は、有機ＥＬ素子３から発光された光を、ヘッド基体７の端面側に設けられた光出射部１２まで導波し、かつ集光させることで輝度の高い光を取り出すことが可能となっている。
【００１９】
なお、本実施形態では、トップエミッション型の有機ＥＬ素子３に適応したが、例えば前記基板５ａの有機ＥＬ素子３が設けられていない側に設けることで、接着層を介して反射基板を貼着することでボトムエミッション型の有機ＥＬ素子３に適応してもよい。このとき、前記接着層８の厚みを薄くすることが好ましい。このようにすれば、前記有機ＥＬ素子３と反射膜６ａとの間隔が狭まることによって、有機ＥＬ素子３からの光を光出射部１２から効率的に取り出すことが可能となる。
【００２０】
（ＳＬアレイ）
図５は、ＳＬアレイの斜視図である。このＳＬアレイ３１は、日本板硝子株式会社製のＳＬ素子３１ａを配列したものである。このＳＬ素子３１ａは、直径０．２８ｍｍ程度のファイバー状に形成されている。また、各ＳＬ素子３１ａは千鳥状に配置され、各ＳＬ素子３１ａの隙間には黒色のシリコーン樹脂３２が充填されている。さらに、その周囲にフレーム３４が配置されて、ＳＬアレイ３１が形成されている。
【００２１】
このＳＬ素子３１ａは、その中心から周辺にかけて放物線上の屈折率分布を有している。そのため、ＳＬ素子３１ａに入射した光は、その内部を一定周期で蛇行しながら進むようになっている。このＳＬ素子３１ａの長さを調整すれば、画像を正立等倍結像させることができる。そして、正立等倍結像するＳＬ素子３１ａを整列配置すれば、隣接するＳＬ素子３１ａの作る像を重ね合わせることが可能になり、広範囲の画像を得ることができる。したがって、図５のＳＬアレイは、ラインヘッド１全体からの光を精度よく結像させることができるようになっている。
【００２２】
（有機ＥＬ素子および駆動素子）
次に、前記ラインヘッド１における有機ＥＬ素子３や駆動素子等の詳細な構成について、図６（ａ），（ｂ）を参照して説明する。ここで、図６（ａ）は、前記ラインヘッド１を構成する素子基板５に設けられた有機ＥＬ素子３の構成を詳細に示した図であり、図６（ｂ）は、駆動素子の構成を詳細に示した図である。
【００２３】
本実施形態における有機ＥＬ素子３は、上述したように、いわゆるトップエミッション型となっていることから、この素子基板２における封止層５１側から発光光が取り出されるようになっている。素子基板５を構成する基板５ａとしては、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができるが、本実施形態では不透明基板を用いている。
このような不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【００２４】
なお、ボトムエミッション型の場合に、光が基板５ａを透過して出射されることから、透明基板となる基板５ａを構成する材料としては、例えばガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、特にガラス基板を好適に用いることができる。
【００２５】
基板５ａ上には、画素電極２３に接続する駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）などを含む回路部１１が形成されており、その上に有機ＥＬ素子３が設けられている。前記有機ＥＬ素子３は、陽極として機能する画素電極２３と、この画素電極２３からの正孔を注入／輸送する正孔輸送層７０と、有機ＥＬ物質からなる発光層６０と、陰極５０とが順に形成されたことによって構成されている。なお、前記有機ＥＬ素子３は、有機隔壁２２１によって区画された領域に形成されている。
【００２６】
ここで、有機ＥＬ素子３および駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）を図２（ａ）に対応した模式図で示すと、図６（ｂ）に示すようになる。図６（ｂ）において、電源線１７は駆動素子４のソース／ドレイン電極に接続し、電源線１８は有機ＥＬ素子３の陰極５０に接続している。
そして、このような構成のもとに有機ＥＬ素子３は、図６（ａ）に示すように、正孔輸送層７０から注入された正孔と陰極５０からの電子とが発光層６０で結合することにより、発光をなすようになっている。
【００２７】
また、本実施形態においては、画素電極２３上にＳｉＯ２等の親液性の絶縁材料からなる無機隔壁２５が形成されており、この無機隔壁２５には開口２５ａが形成されている。
ここで、無機隔壁２５は絶縁材料からなっているので、後述するように前記開口２５ａ内に臨むようにして設けられた機能層においては、この無機隔壁２５で覆われた箇所には電流が流れず、したがって発光する領域、すなわち発光面積は、この無機隔壁２５の開口２５ａによって決定されるようになっている。
【００２８】
前記画素電極２３は、特にボトムエミッション型である場合、透明導電材料によって形成され、具体的にはＩＴＯ（インジウム錫酸化物）が好適に用いられるが、上述したように本実施形態の場合はトップエミッション型であるので、反射性の高いＡｇやＡｌなどの金属膜上に仕事関数の比較的高いＩＴＯ等の透明導電材料によって形成された透明電極を積層して構成される。
【００２９】
正孔輸送層７０の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層７０の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
【００３０】
発光層６０を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。なお、本実施形態では、例えば発光波長帯域が赤色に対応した発光層が採用されるが、もちろん、発光波長帯域が緑色や青色に対応した発光層を採用するようにしてもよい。
【００３１】
具体的な前記発光層６０の形成材料としては、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００３２】
また、前記発光層６０を覆うようにして陰極５０が形成されている。
この陰極５０を形成するための材料としては、本実施形態のラインヘッド１は上述したように、トップエミッション型であることから光透過性である必要があり、したがって透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはＩＴＯが好適とされるが、これ以外にも、例えば酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス透明導電膜（Indium Zinc Oxide ：ＩＺＯ／アイ・ゼット・オー）（登録商標））（出光興産社製）等を用いることができる。なお、本実施形態ではＩＴＯを用いることとし、例えばＣａを厚さ５ｎｍ程度に形成し、その上にＩＴＯ膜を厚さ２００ｎｍ程度に形成して積層構造の電極としたものが用いられる。よって、この陰極５０側から発光光を取り出すことができるようになっている。
【００３３】
このような陰極５０の上には、該陰極５０及び有機隔壁２２１の上面を覆うように、封止層５１が設けられている。この封止層５１は透光性を有する樹脂材料からなり、たとえば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などである。なお、この場合、陰極５０上にパシベーションとしてＳｉＮ，ＳｉＯＮなどを製膜しておくとよい。
【００３４】
また、封止層５１は、その内側に酸素や水分が浸入するのを防止するためのものであって、これにより陰極５０及び発光層６０から構成される有機ＥＬ素子３への酸素や水分の浸入を防止し、酸素や水分による前記有機ＥＬ素子３の劣化等を抑えることができる。
【００３５】
この封止層５１は、例えば無機膜と合成樹脂等の接着機能を有する有機膜とを交互に複数積層してもよい。無機膜と有機膜とを複数積層することによりクラックの発生を防止することができる。また、無機膜を多層に設けてもよい。この場合、例えば酸窒化珪素（ＳｉＯＮ）を多層に設けるなど、１種類の材料からなる膜を多層に設けてもよいし、窒化珪素と二酸化珪素とを積層するなど、異なる材料からなる膜を多層に設けてもよい。このように、無機膜を多層にすることにより、前記有機ＥＬ素子３に対する封止性能をより高めることができる。
【００３６】
また、このような有機ＥＬ素子３の下方には、前述したように回路部１１が設けられている。この回路部１１は基板５ａ上に形成されたものである。すなわち、基板５ａの表面にはＳｉＯ２を主体とする下地保護層２８１が下地として形成され、その上にはシリコン層２４１が形成されている。このシリコン層２４１の表面には、ＳｉＯ２及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁層２８２が形成されている。
【００３７】
また、前記シリコン層２４１のうち、ゲート絶縁層２８２を挟んでゲート電極２４２と重なる領域がチャネル領域２４１ａとされている。なお、このゲート電極２４２は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層２４１を覆い、ゲート電極２４２を形成したゲート絶縁層２８２の表面には、ＳｉＯ２を主体とする第１層間絶縁層２８３が形成されている。
【００３８】
また、シリコン層２４１のうち、チャネル領域２４１ａのソース側には、低濃度ソース領域２４１ｂおよび高濃度ソース領域２４１Ｓが設けられる一方、チャネル領域２４１ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域２４１ｃおよび高濃度ドレイン領域２４１Ｄが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light Doped Drain ）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域２４１Ｓは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４３ａを介して、ソース電極２４３に接続されている。このソース電極２４３は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域２４１Ｄは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４４ａを介して、ソース電極２４３と同一層からなるドレイン電極２４４に接続されている。
【００３９】
ソース電極２４３およびドレイン電極２４４が形成された第１層間絶縁層２８３の上層には、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする平坦化膜２８４が形成されている。この平坦化膜２８４は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）やソース電極２４３、ドレイン電極２４４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。
【００４０】
そして、ＩＴＯ等からなる画素電極２３が、この平坦化膜２８４の表面上に形成されるとともに、該平坦化膜２８４に設けられたコンタクトホール２３ａを介してドレイン電極２４４に接続されている。すなわち、画素電極２３は、ドレイン電極２４４を介して、シリコン層２４１の高濃度ドレイン領域２４１Ｄに接続されている。
【００４１】
画素電極２３が形成された平坦化膜２８４の表面には、画素電極２３と、前述した無機隔壁２５とが形成されており、さらに無機隔壁２５上には、有機隔壁２２１が形成されている。そして、画素電極２３上には、無機隔壁２５に形成された前記開口２５ａと、有機隔壁２２１に形成された開口２２１ａとの内部、すなわち画素領域に、前記の正孔輸送層７０と発光層６０とが画素電極２３側からこの順で積層され、これによって上述した有機ＥＬ素子３が形成されている。
【００４２】
（ラインヘッドの製造方法）
次に、前記ラインヘッド１を製造する方法について説明する。なお、本実施形態では、基板５ａとしてウエハ状のものを用いており、該基板５ａ上に有機ＥＬ素子３を形成し素子基板５を形成し、該素子基板５と前記反射基板６とを接着層８を介して貼着した後、ダイシングを行うことにより分断し、各ラインヘッド１を形成している。
【００４３】
まず、図７（ａ）に示すように、素子基板５を構成する基板５ａの表面に、下地保護層２８１を形成し、さらにこの下地保護層２８１上にポリシリコン層等を形成して、このポリシリコン層等から前記回路部１１を形成する。
そして、素子基板２の全面を覆うように画素電極２３となる透明導電膜として、反射性の高いＡｇやＡｌなどの金属膜とＩＴＯとを積層して形成する。そして、この導電膜をパターニングすることにより、平坦化膜２８４のコンタクトホール２３ａを介してドレイン電極２４４と導通する、画素電極２３を形成する。
【００４４】
次いで、画素電極２３上および平坦化膜２８４上に、ＳｉＯ２等の絶縁材料をＣＶＤ法等で成膜して隔壁層（図示せず）を形成し、続いて、公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いて隔壁層をパターニングする。これにより、図７（ａ）に示すように、形成する各有機ＥＬ素子の画素領域毎に開口２５ａを形成すると同時に、無機隔壁２５を形成する。
次いで、図７（ｂ）に示すように、無機隔壁２５の所定位置、詳しくは画素領域を囲む位置に樹脂等によって有機隔壁２２１を形成する。この有機隔壁２２１は、後述するように有機ＥＬ素子３を形成する領域を区画するためのものである。
【００４５】
そして、素子基板２の表面に、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域とを形成する。
本実施形態においては、プラズマ処理によって各領域を形成するものする。具体的には、該プラズマ処理は、予備加熱工程と、有機隔壁２２１の表面および開口２２１ａの壁面ならびに画素電極２３の電極面、無機隔壁２５の表面をそれぞれ親液性にする親液化工程と、有機隔壁２２１の上面および開口２２１ａの壁面を撥液性にする撥液化工程と、冷却工程とで構成する。
【００４６】
すなわち、基材（前記隔壁などを含む素子基板２）を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、次いで親液化工程として大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。次いで、撥液化工程として大気圧下で４フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理（ＣＦ４プラズマ処理）を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された基材を室温まで冷却することで、親液性および撥液性が所定箇所に付与されることとなる。
【００４７】
なお、このＣＦ４プラズマ処理においては、画素電極２３の電極面および無機隔壁２５についても多少の影響を受けるが、画素電極２３の材料であるＩＴＯおよび無機隔壁２５の構成材料であるＳｉＯ２、ＴｉＯ２などはフッ素に対する親和性に乏しいため、親液化工程で付与された水酸基がフッ素基で置換されることがなく、親液性が保たれる。
【００４８】
次いで、前記有機隔壁２２１に正孔輸送層７０を形成する。この正孔輸送層７０を形成するに際しては、液滴吐出法（以下、インクジェット法とよぶ）が好適に採用される。すなわち、このインクジェット法により、正孔輸送層形成材料７０ａを電極面上に選択的に配し、これを塗布する。その後、乾燥処理および熱処理を行い、画素電極２３上に正孔輸送層７０を形成する。正孔輸送層７０の形成材料としては、例えば前記のＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをイソプロピルアルコールなどの極性溶媒に溶解させたものが用いられる。
【００４９】
このインクジェット法による正孔輸送層７０の形成にあたっては、インクジェットヘッドＨＡに正孔輸送層形成材料７０ａを充填し、図７（ｂ）に示すように、インクジェットヘッドＨＡの吐出ノズルを無機隔壁２５に形成された前記開口２５ａ内に位置する電極面に対向させ、インクジェットヘッドと基材（素子基板２）とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された液滴を電極面に吐出する。次に、吐出後の液滴を乾燥処理し、正孔輸送層材料７０ａに含まれる分散媒や溶媒を蒸発させることにより、正孔輸送層７０を形成する。
【００５０】
ここで、上記インクジェットヘッドＨＡとしては、通電により機械振動を生じる圧電素子を用いて液室内の圧力を変化させることによりノズルから液滴を吐出する方式の液滴吐出ヘッドを採用することが望ましい。なお、発熱体で液室内を局部的に加熱して気泡を発生させることによりノズルから液滴を吐出する方式の液滴吐出ヘッドを採用してもよい。これ以外にも、帯電制御型、加圧振動型といった連続方式、静電吸引方式、さらにはレーザなどの電磁波を照射して発熱させ、この発熱による作用で液状体を吐出させる方式等を採用することもできる。
【００５１】
吐出ノズルから吐出された液滴は、親液性処理がなされた電極面上にて広がり、無機隔壁２５の開口２５ａ内に満たされて該開口２５ａ内に臨むようになる。
その一方で、撥液処理された有機隔壁２２１の上面では、液滴がはじかれて付着しない。
したがって、液滴が所定の吐出位置からずれて、液滴の一部が有機隔壁２２１の表面にかかったとしても、該表面が液滴で濡れることがなく、弾かれた液滴が無機隔壁２５の開口２５ａ内に引き込まれる。
なお、この正孔輸送層形成工程以降では、各種の形成材料や形成した要素の酸化・吸湿を防止すべく、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などの不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。
【００５２】
次いで、図７（ｃ）に示すように、前記有機隔壁２２１に区画された領域に発光層６０を形成する。
この発光層形成工程では、前記正孔輸送層７０を形成する工程と同様に、上述したインクジェット法が好適に採用できる。すなわち、インクジェット法により、発光層形成材料を正孔輸送層７０上に吐出し、その後、乾燥処理および熱処理を行うことにより、有機隔壁２２１に形成された開口２２１ａ内、すなわち画素領域上に発光層６０を形成する。
【００５３】
次いで、前記発光層６０上に陰極５０を形成する。この陰極５０については、有機ＥＬ素子３を効率よく発光させるため、電子注入層と導電層のような積層構造を採用するのが一般的であり、本実施形態では上述したようにＣａとＩＴＯとの積層膜から構成されている。
【００５４】
ここで、本実施形態では、素子基板２と図示しないメタルマスクを位置合わせして蒸着法やスパッタ法で陰極５０を成膜することにより、前記発光層６０上を陰極５０が選択的に覆った状態に形成することができる。なお、陰極５０を形成するに際しては、有機隔壁２２１上を含む基板５ａのほぼ全面に形成材料（ＩＴＯ）を設けるようにしてもよい。
その後、封止工程によって前記陰極５０及び有機隔壁２２１上を含む基板５ａの全面を覆うようにして、例えばマイクロディスペンサ等を用いることで封止層５１を塗布する。
【００５５】
上述した工程により、図６に示したような有機ＥＬ素子３を備えた素子基板５が製造されることとなる。
次に、図８を参照し、反射基板６と素子基板５とを貼着する工程について説明する。なお、図８は、図２（ｂ）に示したＢ−Ｂ´線矢視における断面に基づく工程図である。
【００５６】
まず、図８（ａ）に示すように、前記素子基板５に貼着するための反射基板６の前駆体となるガラス基板６´を用意する。なお、このガラス基板６´は、上述したウエハ状の素子基板５と同じ大きさからなるものである。そして、該ガラス基板６´にウエットエッチングを行うことによって、図２に示したように、平面視した状態で有機ＥＬ素子３に対応し、かつその断面が半円状の凹部を形成する。ここで、前記凹部は後述するダイシング工程により、光出射部１２を構成する反射部１０（図３参照）となるものである。
その後、図８（ｂ）に示すように、該凹部が形成されたガラス基板６´側の前面にスパッタ法により、有機ＥＬ素子３から発光された光を反射する反射膜６ａを形成する。このようにして、有機ＥＬ素子３の光を反射する反射膜６ａを備えた反射基板６が形成される。
【００５７】
次いで、素子基板５と反射基板６とを光透過性を有した接着層８を介して貼りあわせる工程を行う。
まず、図８（ｃ）に示すように、光透過性を有し、かつ熱硬化型の接着剤として機能する、例えばエポキシ樹脂をスクリーン印刷、ディスペンス等の方法を用いて、前記素子基板５における有機ＥＬ素子３が設けられた側の面に塗布する。
【００５８】
その後、前記接着層８が設けられた素子基板５と、反射基板６とをアライメントした後、加熱及び加圧を行うことで、前記接着層８を介して前記素子基板５と前記反射基板６とを貼着し、図９（ａ）に示すヘッド基体７の前駆体となる接着体を形成する。ここで、本実施形態では、前記反射基板６に設けられた各凹部内には、図９（ａ）に示すように、平面視した状態で、２つの有機ＥＬ素子３が設けられた状態となっている。
【００５９】
次いで、図９（ｂ）に示すダイシングラインによって、上記接着体をダイシングブレードによって、各ラインヘッド毎に分断する。よって、図９（ｂ）に示すように、接着層８を介して貼着された素子基板５と反射基板６とから構成されるヘッド基体７が形成される。
【００６０】
このとき、ダイシングによる切断面となる、ヘッド基体７の一端面には、前記反射基板６に形成されていた凹部を切断することにより、切断面側に接着層８が露出することとなる。この接着層８は、上述したように光透過性を有しているので、有機ＥＬ素子３から発光された光は、反射基板６に形成されている反射膜６ａによって反射された後は接着層８内を透過し、端面に露出した接着層８はヘッド基体７における光出射部１２となる。ここで、各有機ＥＬ素子３と反射膜６ａとの間に接着層８が充填された反射部１０は、反射膜６ａによって反射した各有機ＥＬ素子３の光を反射し、前記光出射部１２へと光を導波する導波路となる。
【００６１】
ところで、前記ヘッド基体における光出射部１２は、ダイシングによって表面が荒れた状態となっている。そこで、前記ダイシング加工面に対して研磨を行うことで平坦化し、前記光出射部１２から出射される有機ＥＬ素子３の光が拡散するのを防止できる。以上の工程により、本実施形態のラインヘッド１を形成することができる。
【００６２】
なお、ヘッド基体７における光出射部１２とは反対側の面には、図９（ｃ）に示したように、前記接着層８が露出することにより前記の反射光の一部がもれる場合があるが、前記光出射部１２に比べてその大きさが十分小さく問題は無いが、前記光出射部１２とは反対側の面にも反射膜６ａを別途形成することにより、有機ＥＬ素子３の光を前記光出射部１２からのみ取り出すことで、光の取り出し効率を向上させることがより好ましい。
【００６３】
次に、上記ラインヘッド１における各光出射部１２から光を出射する場合について説明する。本実施形態のラインヘッド１は、上述したＴＦＴ等のスイッチング素子を含んだ回路部１１によって、各有機ＥＬ素子３が発光させることができる。各有機ＥＬ素子３から発光された光は、反射膜６ａによって反射される。
【００６４】
ここで、反射基板６に形成されている反射部１０は、有機ＥＬ素子３の反射光を導波する導波路として機能し、かつ各有機ＥＬ素子３から発光した光を対応する光出射部１２に集光することとなる。
よって、該反射膜６ａによって反射された光は接着層８内（反射部１０）を、外部への光取り出し口となる光出射部１２に向かって透過するようになる。
【００６５】
このように、本実施形態のラインヘッド１によれば、各有機ＥＬ素子３から出射された光は、反射基板６に設けられた反射膜６ａによって反射されるとともに、光透過性のある接着層８（反射部１０）内を導波されて、ヘッド基体７の端面に設けられた光出射部１２に集光されて、外部に取り出されることとなる。
【００６６】
ここで、前記有機ＥＬ素子３の面積を大きくすることで、該有機ＥＬ素子３が発光する光量を増加させた際、本構成のヘッド基体７は長手方向に大きくなるが、光出射部１２の大きさ、及び各光出射部１２のピッチに変化が生じることがない。よって、ヘッド基体７の端面に設けられた光出射部１２からは、より輝度の高い光を取り出すことができるのである。
【００６７】
このように、本実施形態のラインヘッド１は、前記有機ＥＬ素子３により面発光された光を集光し、前記光出射部１２から点状の光として出射しているので、該光出射部１２から外部に取り出される光は輝度の高くなる。また、有機ＥＬ素子に流す電流を増加させることなく輝度の高い光を取り出すことが可能となるので、熱によりＥＬ素子を劣化させることが無い。
したがって、ラインヘッド１は、有機ＥＬ素子３の長寿命化を図りつつ、輝度の高い光を取り出し可能なものとなり、該ラインヘッド１を備えたラインヘッドモジュール１０１を用いることにより、ラインヘッド１から出射された輝度の高い光をＳＬアレイ３１を介することで感光体ドラム４１上を確実に露光させることができる。
【００６８】
（第２実施形態）
次に、本発明のラインヘッドにおける第２の実施形態について説明する。
本実施形態のラインヘッド１´は、図１０（ａ），（ｂ）に示すように、前記ヘッド基体７の端面側に複数のマイクロレンズＭを備えたマイクロレンズアレイ基板ＭＡが設けられている。なお、ラインヘッド１´は、前記マイクロレンズＭが設けられている以外の構成は、前記第１の実施形態におけるマイクロレンズＭと同様であるので、同じ構成については同一の符号を付して、その説明を省略することとする。
【００６９】
前記マイクロレンズアレイ基板ＭＡはガラス基板からなるもので、図１０（ａ），（ｂ）に示したように、各光出射部１２に対応するマイクロレンズＭが複数形成されたものである。
そして、前記各マイクロレンズＭは、各光出射部１２に対応するようにアライメントして、前述した光透過性を有した接着層８´によってヘッド基体７に貼着されている。なお、該接着層８´は素子基板５と反射基板６とを貼着している接着層８と同じ材料からなるものである。
【００７０】
前記マイクロレンズＭは、光出射部１２から出射された光をマイクロレンズＭによって集光することができ、光をより効率的にラインヘッド１´の外部に取り出すことが可能となり、光の輝度をより向上させることができる。よって、このラインヘッド１´を備えたラインヘッドモジュール１０１´を用いることで、感光体ドラム４１をより高い輝度の光で露光させることができるので、後述する画像形成装置の描画品質を向上できる。
【００７１】
また、本実施形態におけるラインヘッド１´は、前記マイクロレンズアレイ基板ＭＡを接着層８を介して、ヘッド基体７の光出射部１２側にマイクロレンズＭを貼着する工程以外は同じあることから、その説明は省略する。
すなわち、ラインヘッド１´は、図７〜図９に示した製造工程により、形成されたヘッド基体７に、エポキシ樹脂からなる前記接着層８をスクリーン印刷、ディスペンス等の方法によって塗布し、上記マイクロレンズアレイ基板ＭＡをアライメントした後、加熱、及び加圧することで、ヘッド基体７にマイクロレンズアレイ基板ＭＡを貼着することにより、ラインヘッド１´が製造できる。
【００７２】
（ラインヘッドモジュールの使用形態）
次に、上記ラインヘッドモジュール１０１の使用形態について説明する。
上記ラインヘッドモジュール１０１は、本発明の画像形成装置における露光装置として使用される。その場合、ラインヘッドモジュールは感光体ドラムに対向配置され、ラインヘッドからの光をＳＬアレイにより感光体ドラム上に正立等倍結像させて使用する。
以下に、タンデム方式、及び４サイクル方式の画像形成装置に関する実施形態について説明する。
【００７３】
（タンデム方式の画像形成装置）
まず、タンデム方式の画像形成装置について説明する。
図１１は、タンデム方式の画像形成装置の概略構成図であり、図１１中符号８０は画像形成装置である。この画像形成装置８０は、本発明のラインヘッドモジュール１０１（本実施形態では、以下、これらをラインヘッドモジュール１０１Ｋ、１０１Ｃ、１０１Ｍ、１０１Ｙともよぶ）を、対応する同様な構成である４個の感光体ドラム（像担持体）４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙの露光装置にそれぞれ配置したもので、タンデム方式のものとして構成されたものである。
【００７４】
この画像形成装置８０は、駆動ローラ９１と従動ローラ９２とテンションローラ９３とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト９０を、図１１中矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト９０に対して、感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
【００７５】
ここで、前記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。
なお、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、図１１中矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００７６】
各感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する本発明のラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００７７】
また、このラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００７８】
ここで、各ラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、有機ＥＬ素子の配列方向が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の母線に沿うように設置されている。そして、各ラインヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
【００７９】
現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００８０】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｐ上に定着され、その後、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。
【００８１】
なお、図１１中の符号６３は多数枚の記録媒体Ｐが積層保持されている給紙カセット、６４は給紙カセット６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラ、６５は二次転写ローラ６６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ対、６６は中間転写ベルト９０との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、６７は二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。
【００８２】
（４サイクル方式の画像形成装置）
次に、４サイクル方式の画像形成装置について説明する。
図１２は、４サイクル方式の画像形成装置の概略構成図である。図１２において、画像形成装置１６０には主要構成部材として、ロータリ構成の現像装置１６１、像担持体として機能する感光体ドラム１６５、像書込手段（露光手段）として機能する本実施形態のラインヘッドモジュール１６７、中間転写ベルト１６９、用紙搬送路１７４、定着器の加熱ローラ１７２、給紙トレイ１７８が設けられている。
【００８３】
現像装置１６１は、現像ロータリ１６１ａが軸１６１ｂを中心として矢印Ａ方向に回転するよう構成されたものである。現像ロータリ１６１ａの内部は４分割されており、それぞれイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｋ）の４色の像形成ユニットが設けられている。１６２ａ〜１６２ｄは、前記４色の各像形成ユニットに配置されており、矢印Ｂ方向に回転する現像ローラ、１６３ａ〜１６３ｄは、矢印Ｃ方向に回転するトナ−供給ローラである。また、１６４ａ〜１６４ｄはトナーを所定の厚さに規制する規制ブレードである。
【００８４】
図１２中符号１６５は、前記のように像担持体として機能する感光体ドラム、１６６は一次転写部材、１６８は帯電器である。また、１６７は像書込手段（露光手段）として機能する本実施形態のラインヘッドモジュールである。感光体ドラム１６５は、図示を省略した駆動モータ、例えばステップモータにより、現像ローラ１６２ａとは逆の方向となる矢印Ｄ方向に回転駆動されるようになっている。
【００８５】
中間転写ベルト１６９は、駆動ローラ１７０ａと従動ローラ１７０ｂとの間に張架されたものである。駆動ローラ１７０ａは、前記感光体ドラム１６５の駆動モータに連結されたもので、中間転写ベルト１６９に動力を伝達するようになっている。すなわち、該駆動モータの駆動により、中間転写ベルト１６９の駆動ローラ１７０ａは感光体ドラム１６５とは逆の方向となる矢印Ｅ方向に回動するようになっている。
【００８６】
用紙搬送路１７４には、複数の搬送ローラと排紙ローラ対１７６などが設けられており、用紙が搬送されるようになっている。中間転写ベルト１６９に担持されている片面の画像（トナー像）が、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に転写されるようになっている。二次転写ローラ１７１は、クラッチによって中間転写ベルト１６９に離当接されるようになっており、クラッチオンで中間転写ベルト１６９に当接され、用紙に画像が転写されるようになっている。
【００８７】
上記のようにして画像が転写された用紙は、次に、定着ヒータＨを有する定着器で定着処理がなされる。定着器には、加熱ローラ１７２、加圧ローラ１７３が設けられている。
定着処理後の用紙は、排紙ローラ対１７６に引き込まれて矢印Ｆ方向に進行する。この状態から排紙ローラ対１７６が逆方向に回転すると、用紙は方向を反転して両面プリント用搬送路１７５を矢印Ｇ方向に進行する。１７７は電装品ボックス、１７８は用紙を収納する給紙トレイ、１７９は給紙トレイ１７８の出口に設けられているピックアップローラである。
【００８８】
用紙搬送路において、搬送ローラを駆動する駆動モータとしては、例えば低速のブラシレスモータが用いられている。また、中間転写ベルト１６９については、色ずれ補正などが必要となるためステップモータが用いられている。これらの各モータは、図示を省略した制御手段からの信号によって制御されるようになっている。
【００８９】
図１２に示した状態で、イエロー（Ｙ）の静電潜像が感光体ドラム１６５に形成され、現像ローラ１６２ａに高電圧が印加されることにより、感光体ドラム１６５にはイエローの画像が形成される。イエローの裏側および表側の画像がすべて中間転写ベルト１６９に担持されると、現像ロータリ１６１ａが矢印Ａ方向に９０度回転する。
【００９０】
中間転写ベルト１６９は１回転して感光体ドラム１６５の位置に戻る。次に、シアン（Ｃ）の２面の画像が感光体ドラム１６５に形成され、この画像が中間転写ベルト１６９に担持されているイエローの画像に重ねて担持される。以下、同様にして現像ロータリ１６１の９０度回転、中間転写ベルト１６９への画像担持後の１回転処理が繰り返される。
【００９１】
４色のカラー画像担持には中間転写ベルト１６９は４回転して、その後さらに回転位置が制御されて二次転写ローラ１７１の位置で用紙に画像を転写する。給紙トレイ１７８から給紙された用紙を搬送路１７４で搬送し、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に前記カラー画像を転写する。片面に画像が転写された用紙は前記のように排紙ローラ対１７６で反転されて、搬送径路で待機している。その後、用紙は適宜のタイミングで二次転写ローラ１７１の位置に搬送されて、他面に前記カラー画像が転写される。ハウジング１８０には、排気ファン１８１が設けられている。
【００９２】
このような図１１、図１２に示した画像形成装置８０、１６０においては、図１に示したような本発明のラインヘッドモジュール１０１が露光手段として備えられている。
従って、これら画像形成装置８０、１６０にあっては、前述したようにヘッド基体７の端面に設けられた光出射部１２から輝度の高い発光光を取り出すことができるので、画像形成装置自体の印刷性能が向上し、得られるプリントの品質も高いものとなる。
なお、ラインヘッドモジュールを備えた画像形成装置は上記に限定されることなく、種々の変形が可能である。例えばラインヘッドモジュール１０１の代わりに、マイクロレンズアレイ基板ＭＡを備えたラインヘッド１´を含むラインヘッドモジュール１０１´を露光手段として用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】ラインヘッドモジュールの側断面図である。
【図２】（ａ）はラインヘッドの斜視図、（ｂ）はラインヘッドの側面図である。
【図３】図２（ｂ）中、Ａ−Ａ´線矢視におけるラインヘッドの側断面図である。
【図４】図２（ｂ）中、Ｂ−Ｂ´線矢視におけるラインヘッドの側断面図である。。
【図５】ＳＬアレイの斜視図である。
【図６】（ａ），（ｂ）は有機ＥＬ素子及び駆動素子の詳細な構成を示す図である。
【図７】ラインヘッドを製造工程を説明する図である。
【図８】図７に続くラインヘッドの製造工程を説明する図である。
【図９】図８に続くラインヘッドの製造工程を説明する図である。
【図１０】第２の実施形態のラインヘッドを示す図である。
【図１１】タンデム方式の画像形成装置の概略構成を示す図である。
【図１２】４サイクル方式の画像形成装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００９４】
１…ラインヘッド、３…有機ＥＬ素子、５…素子基板、６…反射基板、６ａ…反射膜、７…ヘッド基体、８…接着層、１２…光出射部、４１…感光体ドラム、８０，１６０…画像形成装置、Ｍ…マイクロレンズ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光体ドラムに光を照射し、露光するラインヘッドにおいて、
有機ＥＬ素子を複数形成した素子基板と、該素子基板の、前記有機ＥＬ素子の光出射側の面に光透過性を有した接着層を介して貼着された反射基板と、を備えてなるヘッド基体を有し、
前記反射基板の内面側には、前記各有機ＥＬ素子より出射された光を反射し、前記ヘッド基体の端面側に導波させることで前記各有機ＥＬ素子より出射された光を集光する反射膜が設けられ、
前記ヘッド基体の端面には、前記反射膜で集光された光を出射する光出射部が複数設けられていることを特徴とするラインヘッド。
【請求項２】
前記素子基板は、基板と該基板における一方の面側に設けられた前記有機ＥＬ素子とを備えてなり、
前記基板における前記有機ＥＬ素子が設けられた側の面に前記反射基板が貼着されていることを特徴とする請求項１に記載のラインヘッド。
【請求項３】
前記光出射部にマイクロレンズが設けられたことを特徴とする請求項１又は２に記載のラインヘッド。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のラインヘッドと、該ラインヘッドによって露光される感光体ドラムとを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１】
感光体ドラムに光を照射し、露光するラインヘッドにおいて、
有機ＥＬ素子を複数形成した素子基板と、該素子基板の、前記有機ＥＬ素子の光出射側の面に光透過性を有した接着層を介して貼着された反射基板と、を備えてなるヘッド基体を有し、
前記反射基板の内面側には、前記各有機ＥＬ素子より出射された光を反射し、前記ヘッド基体の端面側に導波させることで前記各有機ＥＬ素子より出射された光を集光する反射膜が設けられ、
前記ヘッド基体の端面には、前記反射膜で集光された光を出射する光出射部が複数設けられていることを特徴とするラインヘッド。
【請求項２】
前記素子基板は、基板と該基板における一方の面側に設けられた前記有機ＥＬ素子とを備えてなり、
前記基板における前記有機ＥＬ素子が設けられた側の面に前記反射基板が貼着されていることを特徴とする請求項１に記載のラインヘッド。
【請求項３】
前記光出射部にマイクロレンズが設けられたことを特徴とする請求項１又は２に記載のラインヘッド。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のラインヘッドと、該ラインヘッドによって露光される感光体ドラムとを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００７−３０２９０（Ｐ２００７−３０２９０Ａ）
【公開日】平成１９年２月８日（２００７．２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２１５５２９（Ｐ２００５−２１５５２９）
【出願日】平成１７年７月２６日（２００５．７．２６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年２月８日（２００７．２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年７月２６日（２００５．７．２６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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