【課題】改善されたリソグラフィ装置及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板の目標部分にパターンを生成するよう構成されている光学コラムであって、ビームを与えるよう構成されている制御可能素子９０６と、目標部分にビームを投影するよう構成されている投影系と、を備える光学コラムと、基板に対して光学コラムの少なくとも一部９２４、９３０を移動させるよう構成されているアクチュエータ９３６と、光学コラムの少なくとも一部の位置を測定するよう構成されている測定システム９３８、９４０と、制御可能素子を駆動するよう構成されているコントローラ９４２と、を備え、コントローラに測定システムの出力信号が与えられる。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の目標部分にパターンを生成するための光学コラムであって、
ビームを与える制御可能素子と、
前記目標部分に前記ビームを投影する投影系と、を備える光学コラムと、
前記基板に対して前記光学コラムの少なくとも一部を移動させるアクチュエータと、
前記光学コラムの前記少なくとも一部の位置を測定する測定システムと、
前記制御可能素子を駆動するコントローラと、を備え、前記コントローラに前記測定システムの出力信号が与えられる、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記測定システムは、
前記光学コラムの前記少なくとも一部の位置を表す位置センサ信号を提供する位置センサと、
位置参照信号を提供するための参照データテーブルと、
前記位置センサ信号を用いて前記出力信号を導出する位相ロックループ構造と、を備え、前記参照データテーブルは前記位相ロックループ構造に組み込まれている、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記位相ロックループ構造は、比較器を備え、該比較器の第１入力には前記位置センサ信号が与えられ、該比較器の第２入力には前記参照データテーブルにより提供された前記位置参照信号が与えられる、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記位相ロックループ構造は、フィルタ処理された前記比較器の出力信号が入力される電圧制御発振器を備え、該電圧制御発振器の発振器出力信号が前記出力信号として前記コントローラに与えられる、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記発振器出力信号はクロック信号として、前記参照データテーブル、または前記位置センサのサンプリング回路、またはそれら両方に与えられる、請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記発振器出力信号のクロック周波数は、センサ信号周波数の少なくとも１０倍、望ましくは少なくとも５０倍である、請求項４または５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記制御可能素子は、自己放射コントラストデバイスである、請求項１から６のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
光学コラムを用いて基板の目標部分にパターンを生成することであって、
制御可能素子を使用してビームを与えることと、
投影系を用いて前記目標部分に前記ビームを投影することと、を備える、前記生成することと、
前記基板に対して前記光学コラムの少なくとも一部を移動させることと、
測定システムにより前記光学コラムの前記少なくとも一部の位置を測定することと、
前記測定システムの出力信号に応じて前記制御可能素子を駆動することと、を備える、デバイス製造方法。
【請求項９】
前記光学コラムの前記少なくとも一部の位置を測定することは、
位置センサにより、前記光学コラムの前記少なくとも一部の位置を表す位置センサ信号を提供することと、
参照データテーブルにより位置参照信号を提供することと、
位相ロックループ構造により前記位置センサ信号から前記出力信号を導出することと、を備え、前記参照データテーブルは前記位相ロックループ構造に組み込まれている、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記位相ロックループ構造は、比較器を備え、本方法は、前記比較器によって前記位置センサ信号を、前記参照データテーブルにより提供された前記位置参照信号と比較することを備える、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記位相ロックループ構造は、電圧制御発振器を備え、本方法は、フィルタ処理された前記比較器の出力信号を前記電圧制御発振器に入力することと、前記電圧制御発振器の発振器出力信号に同期させて前記制御可能素子を駆動することと、を備える、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記発振器出力信号はクロック信号として、前記参照データテーブル、または前記位置センサのサンプリング回路、またはそれら両方に与えられる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記発振器出力信号のクロック周波数は、センサ信号周波数の少なくとも１０倍、望ましくは少なくとも５０倍である、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記参照データテーブルへの入力は、
移動される前記光学コラムの前記少なくとも一部の複数回の回転にわたって前記位置センサ信号を記録することと、
記録された位置センサ信号から周期性を決定することと、
前記周期性に適合するリサンプリングレートで前記記録された位置センサ信号をリサンプリングすることと、
リサンプリングされた位置センサ信号を前記参照データテーブルに保存することと、によって決定される、請求項９から１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記リサンプリングは、複数の周期期間にわたる前記記録されたセンサ信号に実行される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記制御可能素子は、自己放射コントラストデバイスである、請求項８から１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
機械で実行可能な命令を有するコンピュータ製品であって、該命令は、
光学コラムを用いて基板の目標部分にパターンを生成することであって、
制御可能素子を使用してビームを与えることと、
投影系を用いて前記目標部分に前記ビームを投影することと、を備える、前記生成することと、
前記基板に対して前記光学コラムの少なくとも一部を移動させることと、
測定システムにより前記光学コラムの前記少なくとも一部の位置を測定することと、
前記測定システムの位置信号に応じて前記制御可能素子を駆動することと、を備える方法を機械により行わせることを実行可能である、コンピュータ製品。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６（Ａ）】

【図６（Ｂ）】

【図６（Ｃ）】

【図６（Ｄ）】

【図７Ａ】

【図７Ｂ】

【図７Ｃ】

【図７Ｄ】

【図７Ｅ】

【図７Ｆ】

【図７Ｇ】

【図７Ｈ】

【図７Ｉ】

【図７Ｊ】

【図７Ｋ】

【図７Ｌ】

【図７Ｍ】

【図７Ｎ】

【図７Ｏ】

【図７Ｐ】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１】

【図１２】

【図１３】

【図１４（Ａ）】

【図１４（Ｂ）】

【図１５】

【図１６（Ａ）−１６（Ｂ）】

【図１７】

【図１８】

【図１９】

【図２０】

【図２１】

【図２２】

【図２３】

【図２４】

【図２５】

【図２６】

【図２７】

【図２８】

【図２９】

【図３０】

【図３１】

【図３２】

【図３３】

【図３４】

【図３５】

【図３６】

【公表番号】特表２０１３−５２０８２０（Ｐ２０１３−５２０８２０Ａ）
【公表日】平成２５年６月６日（２０１３．６．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５５４３０４（Ｐ２０１２−５５４３０４）
【出願日】平成２３年２月１８日（２０１１．２．１８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２０１１／０５２４０７
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／１０４１７９
【国際公開日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【出願人】（５０４１５１８０４）エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ． (1,856)
【Ｆターム（参考）】