基板処理装置および基板処理方法
【課題】基板上への処理液の落下を回避でき、かつすぐれた生産性を実現できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を加圧して送り出すポンプ５と、処理液供給路６と、処理液供給路６から分岐した第１、第２および第３分岐路１１，１２，１３とを有する。基板処理装置は、さらに、第１、第２および第３分岐路１１，１２，１３にそれぞれ接続され、第１、第２および第３処理ユニット１，２，３にそれぞれ配置された第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３を有する。第１、第２および第３分岐路１１，１２，１３には、第１、第２および第３一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３が介装されている。制御装置７は、第１一次側バルブＰ１を閉じるときに、ポンプ５を駆動状態に保持したまま、第２一次側バルブＰ２または第３一次側バルブＰ３を開く。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を加圧して送り出すポンプ５と、処理液供給路６と、処理液供給路６から分岐した第１、第２および第３分岐路１１，１２，１３とを有する。基板処理装置は、さらに、第１、第２および第３分岐路１１，１２，１３にそれぞれ接続され、第１、第２および第３処理ユニット１，２，３にそれぞれ配置された第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３を有する。第１、第２および第３分岐路１１，１２，１３には、第１、第２および第３一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３が介装されている。制御装置７は、第１一次側バルブＰ１を閉じるときに、ポンプ５を駆動状態に保持したまま、第２一次側バルブＰ２または第３一次側バルブＰ３を開く。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、処理液によって基板を処理する装置および方法に関する。処理の対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、底面に多数の吐出孔を形成した筒状体の一次側開口に供給配管を接続し、その筒状体の二次側開口に排出配管を接続した構成の洗浄ヘッドを開示している。供給配管は、洗浄液供給源に接続され、その経路途中には圧送ポンプが介装されている。排出配管の経路途中にはバルブ（以下「二次側バルブ」という。）が介装されている。圧送ポンプは常時連続運転され、洗浄ヘッドが退避位置で待機しているとき、退避位置から基板上の洗浄位置に移動しているとき、および洗浄液を基板に供給すべきときのいずれにおいても、洗浄ヘッドに洗浄液が給送されている（特許文献１の段落００４６）。基板に洗浄液を供給して洗浄処理を行うときは、二次側バルブが閉止される。これにより、筒状体内部の洗浄液の液圧が上昇し、それによって、吐出孔から洗浄液が吐出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−２９３１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１には、二次側バルブが開かれているときは、筒状体の内部に送給された洗浄液はそのまま排出配管から装置外部に排出される、と説明されている。
しかし、実際には、圧送ポンプから洗浄液が送給されているとき、吐出孔から全く洗浄液が出ないわけではなく、筒状体の内部の液圧および重力によって、少量の洗浄液が吐出孔から漏れ落ちることは避けられない。したがって、洗浄ヘッドを退避位置から洗浄位置に移動するとき、および洗浄ヘッドを洗浄位置から退避位置に移動するときに、基板上に洗浄液が落下して、基板処理品質を悪化させるおそれがある。
【０００５】
この問題は、供給配管の経路途中にバルブ（以下「一次側バルブ」という。）を設け、洗浄液を吐出しないときには、その一次側バルブを閉じておくことによって解決できる。一次側バルブを閉じると、圧送ポンプから送られてくる洗浄液の行き先がなくなり、供給配管内の圧力が過大になるおそれがある。したがって、一次側バルブを閉じるときには、圧送ポンプの運転を停止しなければならない。
【０００６】
ところが、このような構成では、基板処理に要する時間が長くなり、生産性が悪化するという別の問題が生じる。すなわち、洗浄ヘッドを基板上の洗浄位置まで移動させた後に、一次側バルブを開き、二次側バルブを閉じて、圧送ポンプの運転を開始することになるから、筒状体の内部の液圧が上昇するまで、吐出孔からの液吐出が始まらない。すなわち、液吐出前の準備時間（圧込め時間。たとえば２秒程度）が必要になる。さらに、洗浄ヘッドによる処理を終えて、洗浄ヘッドを退避位置に戻すときには、その前に、圧送ポンプの運転を停止し、二次側バルブを開き、一次側バルブを閉じて、筒状体の内部の液圧が下降するまで待機しなければならない。すなわち、処理終了後の後処理時間（圧抜き時間。たとえば１５秒程度）が必要になる。したがって、洗浄ヘッドから洗浄液を吐出する実際の洗浄処理時間に加えて、圧込め時間および圧抜き時間が必要であるので、基板処理時間が長くなり、生産性が悪化してしまう。
【０００７】
そこで、この発明の目的は、基板上への処理液の落下を回避でき、かつすぐれた生産性を実現できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、処理液によって基板を処理する第１処理ユニットおよび第２処理ユニットを有する基板処理装置であって、処理液を加圧して送り出すポンプと、前記ポンプに接続された処理液供給路と、前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブを開く制御手段とを含む、基板処理装置である。
【０００９】
この構成によれば、第１一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第１処理ユニットに配置された第１ノズルに供給される。また、第２一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第２処理ユニットに配置された第２ノズルに供給される。したがって、第１一次側バルブおよび第２一次側バルブの一方を選択して開くことによって、一つのポンプを第１および第２処理ユニットでの処理に共用できるから、構成が簡単になり、基板処理装置のコストを削減できる。そして、第１一次側バルブを閉じるときには、第２一次側バルブが開かれ、ポンプは駆動状態に保持される。よって、第１ノズルからの処理液吐出がただちに停止される一方で、第２ノズルからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。つまり、ポンプが駆動状態に保持されるので、圧込め時間および圧抜き時間をいずれも解消できるから、第１および第２処理ユニットにおける基板処理時間を短縮して、基板処理の生産性を向上できる。しかも、第１一次側バルブを閉じるとき、第２一次側バルブが開かれるので、処理液供給路等で液圧が過大になるおそれもない。また、第１一次側バルブを閉じることによって、第１ノズルから処理液が出なくなるから、第１ノズルから基板上への処理液の落下を回避できる。このように、この発明により、基板上への処理液の落下を回避しつつ優れた生産性を実現でき、併せて、構成の簡素化およびコストの削減も可能な基板処理装置を提供できる。
【００１０】
請求項２記載の発明は、前記第１ノズルに接続された第１排液路と、前記第２ノズルに接続された第２排液路と、前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、前記第２排液路に介装された第２二次側バルブとをさらに含み、前記制御手段が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開く、請求項１に記載の基板処理装置である。
【００１１】
この構成によれば、第１一次側バルブを閉じるとき、第２一次側バルブおよび第２二次側バルブが開かれる。これにより、ポンプから送り出された処理液は、処理液供給路から第２分岐路に向かい、第２ノズルを通って第２排液路へと排出される。したがって、ポンプを駆動状態に保持したまま、配管内の圧力上昇を回避しつつ、第１一次側バルブを閉じて、第１ノズルから処理液が漏れ出ることを防止できる。第２二次側バルブが開かれるので、第２ノズル内の圧力が高まらないから、第２ノズルからは処理液が吐出されない。ただし、多少の処理液が漏出するおそれがあるので、第２ノズルは基板上から退避させておくことが好ましい。
【００１２】
請求項３記載の発明は、前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構をさらに含み、前記制御手段は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じる、請求項２に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させるときに第１一次側バルブが閉じられるので、第１ノズルから処理液が漏出しない。したがって、基板上に不用意に処理液が落下することを回避できるので、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、退避位置から処理位置まで移動させた後は、第１一次側バルブを開けば、ただちに第１ノズルから処理液の吐出を開始できる。したがって、基板処理に要する時間を短縮して、生産性を向上できる。
【００１３】
前記制御手段は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記処理位置から前記退避位置に移動させるときも、前記第１一次側バルブを閉じることが好ましい。これにより、処理後の基板上に処理液が不用意に落下することを回避できる。
請求項４記載の発明は、前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有している、請求項２または３に記載の基板処理装置である。
【００１４】
この構成によれば、第１および第２ノズルは、中空のノズル本体に対して一次側開口から処理液が導入され、二次側開口から処理液が排出されるとともに、ノズル本体に形成された複数の吐出孔から処理液の液滴を吐出する処理液ヘッドの形態を有している。したがって、二次側バルブを閉じた状態で一次側バルブを開くと、ノズル本体の内部空間における液圧が高まり、吐出孔から処理液の液滴が吐出される。一次側バルブおよび二次側バルブの両方を開くと、ノズル本体内における液圧が高まらないので、一次側開口から供給された処理液はノズル本体の内部を通過して二次側開口へと流出し、吐出孔からは処理液が吐出されない。ただし、処理液が漏れ出る可能性があるので、一次側バルブおよび二次側バルブの両方を開くときには、基板上から退避した位置にノズルを配置しておくことが好ましい。この発明では、第１一次側バルブを閉じるときには、第２一次側バルブおよび第２二次側バルブが開かれるので、第１ノズルからは処理液が吐出されず、第２ノズルからは吐出孔から処理液がわずかに漏れ出る程度となる。第２ノズルでは、一次側および二次側のバルブがいずれも開かれるので、配管内における過大な液圧上昇は生じない。したがって、第１および第２ノズルの両方を処理液が吐出しない状態としつつ、ポンプの駆動状態を保持できる。このとき、第１ノズルが基板上に配置されたり、基板上で移動されたりしても、第１ノズルから基板上に処理液が落下したりしない。
【００１５】
請求項５記載の発明は、処理液によって基板を処理する第１処理ユニット、第２処理ユニットおよび第３処理ユニットを有する基板処理装置であって、処理液を加圧して送り出すポンプと、前記ポンプに接続された処理液供給路と、前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第３分岐路と、前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、前記第３分岐路に接続され、前記第３処理ユニットに配置された第３ノズルと、前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、前記第３分岐路に介装された第３一次側バルブと、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開く制御手段とを含む、基板処理装置である。
【００１６】
この構成によれば、第１一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第１処理ユニットに配置された第１ノズルに供給される。また、第２一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第２処理ユニットに配置された第２ノズルに供給される。そして、第３一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第３処理ユニットに配置された第３ノズルに供給される。したがって、第１一次側バルブ、第２一次側バルブおよび第３一次側バルブのいずれか一つを選択して開くことによって、一つのポンプを第１、第２および第３処理ユニットでの処理に共用できるから、構成が簡単になり、基板処理装置のコストを削減できる。そして、第１一次側バルブを閉じるときには、第２一次側バルブまたは第３一次側バルブが開かれ、ポンプは駆動状態に保持される。よって、第１ノズルからの処理液吐出がただちに停止される一方で、第２ノズルまたは第３ノズルからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。つまり、ポンプが駆動状態に保持されるので、圧込め時間および圧抜き時間をいずれも解消できるから、第１、第２および第３処理ユニットにおける基板処理時間を短縮して、基板処理の生産性を向上できる。しかも、第１一次側バルブを閉じるとき、第２一次側バルブまたは第３一次側バルブが開かれるので、処理液供給路等で液圧が過大になるおそれもない。また、第１一次側バルブを閉じることによって、第１ノズルから処理液が出なくなるから、第１ノズルから基板上への処理液の落下を回避できる。このように、この発明により、基板上への処理液の落下を回避しつつ優れた生産性を実現でき、併せて、構成の簡素化およびコストの削減も可能な基板処理装置を提供できる。
【００１７】
請求項６記載の発明は、前記制御手段が、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開く、請求項５に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第２一次側バルブを閉じるときには、第１一次側バルブまたは第３一次側バルブが開かれ、ポンプは駆動状態に保持される。よって、第２ノズルからの処理液吐出がただちに停止される一方で、第１ノズルまたは第３ノズルからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。これにより、基板処理の生産性を向上できる。しかも、第２一次側バルブを閉じるとき、第１一次側バルブまたは第３一次側バルブが開かれるので、処理液供給路等で液圧が過大になるおそれもない。また、第２一次側バルブを閉じることによって、第２ノズルから処理液が出なくなるから、第２ノズルから基板上への処理液の落下を回避できる。
【００１８】
請求項７記載の発明は、前記制御手段が、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第２一次側バルブを開く、請求項５または６に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第３一次側バルブを閉じるときには、第１一次側バルブまたは第２一次側バルブが開かれ、ポンプは駆動状態に保持される。よって、第３ノズルからの処理液吐出がただちに停止される一方で、第１ノズルまたは第２ノズルからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。これにより、基板処理の生産性を向上できる。しかも、第３一次側バルブを閉じるとき、第１一次側バルブまたは第２一次側バルブが開かれるので、処理液供給路等で液圧が過大になるおそれもない。また、第３一次側バルブを閉じることによって、第３ノズルから処理液が出なくなるから、第３ノズルから基板上への処理液の落下を回避できる。
【００１９】
請求項８記載の発明は、前記第１ノズルに接続された第１排液路と、前記第２ノズルに接続された第２排液路と、前記第３ノズルに接続された第３排液路と、前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、前記第２排液路に介装された第２二次側バルブと、前記第３排液路に介装された第３二次側バルブとをさらに含み、前記制御手段が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開く、請求項５に記載の基板処理装置である。
【００２０】
この構成によれば、第１一次側バルブを閉じるとき、第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれる。これらの組のいずれか一方の組のバルブが開かれてもよく、またそれらの両方の組のバルブが開かれてもよい。第１一次側バルブを閉じると、ポンプから送り出された処理液は、処理液供給路から第２または第３分岐路に向かい、第２または第３ノズルを通って第２または第３排液路へと排出される。したがって、ポンプを駆動状態に保持したまま、配管内の圧力上昇を回避しつつ、第１一次側バルブを閉じて、第１ノズルから処理液が漏れ出ることを防止できる。第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれるので、第２ノズル内および第３ノズル内のいずれにおいても圧力が高まらないから、第２ノズルおよび第３ノズルのいずれからも処理液が吐出されない。ただし、多少の処理液が漏出するおそれがあるので、第２ノズルおよび第３ノズルのうち、一次側バルブを開いたノズルについては、基板上から退避させておくことが好ましい。
【００２１】
請求項９記載の発明は、前記制御手段が、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開く、請求項８に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第２一次側バルブを閉じるとき、第１一次側バルブおよび第１二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれる。これらの組のいずれか一方の組のバルブが開かれてもよく、またそれらの両方の組のバルブが開かれてもよい。第２一次側バルブを閉じると、ポンプから送り出された処理液は、処理液供給路から第１または第３分岐路に向かい、第１または第３ノズルを通って第１または第３排液路へと排出される。したがって、ポンプを駆動状態に保持したまま、配管内の圧力上昇を回避しつつ、第２一次側バルブを閉じて、第２ノズルから処理液が漏れ出ることを防止できる。第１一次側バルブおよび第１二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれるので、第１ノズル内および第３ノズル内のいずれにおいても圧力が高まらないから、第１ノズルおよび第３ノズルのいずれからも処理液が吐出されない。ただし、多少の処理液が漏出するおそれがあるので、第１ノズルおよび第３ノズルのうち、一次側バルブを開いたノズルについては、基板上から退避させておくことが好ましい。
【００２２】
請求項１０記載の発明は、前記制御手段が、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開く、請求項８または９に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第３一次側バルブを閉じるとき、第１一次側バルブおよび第１二次側バルブの組、または第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組が開かれる。これらの組のいずれか一方の組のバルブが開かれてもよく、またそれらの両方の組のバルブが開かれてもよい。第３一次側バルブを閉じると、ポンプから送り出された処理液は、処理液供給路から第１または第２分岐路に向かい、第１または第２ノズルを通って第１または第２排液路へと排出される。したがって、ポンプを駆動状態に保持したまま、配管内の圧力上昇を回避しつつ、第３一次側バルブを閉じて、第３ノズルから処理液が漏れ出ることを防止できる。第１一次側バルブおよび第１二次側バルブの組、または第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組が開かれるので、第１ノズル内および第２ノズル内のいずれにおいても圧力が高まらないから、第１ノズルおよび第２ノズルのいずれからも処理液が吐出されない。ただし、多少の処理液が漏出するおそれがあるので、第１ノズルおよび第２ノズルのうち、一次側バルブを開いたノズルについては、基板上から退避させておくことが好ましい。
【００２３】
請求項１１記載の発明は、前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構と、前記第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第２ノズル移動機構と、前記第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第３ノズル移動機構とをさらに含み、前記制御手段が、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じ、前記第２ノズル移動機構が前記第２ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第２一次側バルブを閉じ、前記第３ノズル移動機構が前記第３ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第３一次側バルブを閉じる、請求項９に係る請求項１０に記載の基板処理装置である。
【００２４】
この構成によれば、第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させるときに第１一次側バルブが閉じられるので、第１ノズルから処理液が漏出しない。したがって、基板上に不用意に処理液が落下することを回避できるので、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、第１ノズルが処理位置に達した後は、第１一次側バルブを開けば、ただちに第１ノズルから処理液の吐出を開始できる。また、処理が終了した後は、ただちに第１一次側バルブを閉じて第１ノズルを退避位置に速やかに戻すことができる。同様に、第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させるときには、第２一次側バルブが閉じられるので、第２ノズルから処理液が漏出しない。したがって、基板上に不用意に処理液が落下することを回避できるので、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、第２ノズルが処理位置に達した後は、第２一次側バルブを開けば、ただちに第２ノズルから処理液の吐出を開始できる。また、処理が終了した後は、直ちに第２一次側バルブを閉じて第２ノズルを退避位置に速やかに戻すことができる。さらに、第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させるときには、第３一次側バルブが閉じられるので、第３ノズルから処理液が漏出しない。したがって、基板上に不用意に処理液が落下することを回避できるので、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、第３ノズルが処理位置に達した後は、第３一次側バルブを開けば、ただちに第３ノズルから処理液の吐出を開始できる。また、処理が終了した後は、ただちに第３一次側バルブを閉じて第３ノズルを退避位置に速やかに戻すことができる。このようにして、基板処理に要する時間を短縮して、生産性を向上できる。
【００２５】
請求項１２記載の発明は、前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有しており、前記第３ノズルが、前記第３分岐路に接続された第３一次側開口と前記第３排液路に接続された第３二次側開口と複数の第３吐出孔とが形成された中空の第３ノズル本体を有し、前記複数の第３吐出孔から処理液の液滴を吐出する第３処理液ヘッドの形態を有している、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
【００２６】
この構成によれば、第１、第２および第３ノズルは、中空のノズル本体に対して一次側開口から処理液が導入され、二次側開口から処理液が排出されるとともに、ノズル本体に形成された複数の吐出孔から処理液の液滴を吐出する処理液ヘッドの形態を有している。したがって、二次側バルブを閉じた状態で一次側バルブを開くと、ノズル本体の内部空間における液圧が高まり、吐出孔から処理液の液滴が吐出される。一次側バルブおよび二次側バルブの両方を開くと、ノズル本体内における液圧が高まらないので、一次側開口から供給された処理液はノズル本体の内部を通過して二次側開口へと流出し、吐出孔からは処理液が吐出されない。ただし、処理液が漏れ出る可能性があるので、一次側バルブおよび二次側バルブの両方を開くときには、基板上から退避した位置にノズルを配置しておくことが好ましい。この発明では、第１一次側バルブを閉じるときには、第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれるので、第１ノズルからは処理液が吐出されず、一次側バルブが開かれた第２ノズルまたは第３ノズルからは吐出孔から処理液がわずかに漏れ出る程度となる。第２ノズルまたは第３ノズルに関して、一次側および二次側のバルブがいずれも開かれるので、配管内における過大な液圧上昇は生じない。したがって、第１、第２ノズルおよび第３ノズルのいずれからも処理液が吐出しない状態としつつ、ポンプの駆動状態を保持することもできる。このとき、第１ノズルが基板上に配置されたり、基板上で移動されたりしても、第１ノズルから基板上に処理液が落下したりしない。
【００２７】
前記第１ノズルは、前記ノズル本体に固定され、前記第１ノズル本体の内部空間に溜められた処理液に振動を付与する第１圧電素子をさらに有していてもよい。同様に、前記第２ノズルは、前記ノズル本体に固定され、前記第２ノズル本体の内部空間に溜められた処理液に振動を付与する第２圧電素子をさらに有していてもよい。さらに同様に、前記第３ノズルは、前記ノズル本体に固定され、前記第３ノズル本体の内部空間に溜められた処理液に振動を付与する第３圧電素子をさらに有していてもよい。これにより、ノズル本体に形成された吐出孔から流出する液流が、圧電素子の振動によって分断されるので、良好な液滴を吐出させることができる。すなわち、一定周波数で圧電素子を駆動すれば、粒径の揃った液滴を吐出できる。
【００２８】
請求項１３記載の発明は、処理液によって基板を処理する第１処理ユニットおよび第２処理ユニットを有する基板処理装置において実行される基板処理方法であって、前記基板処理装置が、処理液を加圧して送り出すポンプと、前記ポンプに接続された処理液供給路と、前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブとを含み、前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブを開くステップを含む、基板処理方法である。この方法は、請求項１の基板処理装置に対応している。
【００２９】
請求項１４記載の発明は、前記基板処理装置が、前記第１ノズルに接続された第１排液路と、前記第２ノズルに接続された第２排液路と、前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、前記第２排液路に介装された第２二次側バルブとをさらに含み、前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１３に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項２の基板処理装置に対応している。
【００３０】
請求項１５記載の発明は、前記基板処理装置が、前記第１ノズルを退避位置から処理位置まで移動させる第１ノズル移動機構をさらに含み、前記基板処理方法は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置から前記処理位置まで移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じるステップを含む、請求項１４に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項３の基板処理装置に対応している。
【００３１】
請求項１６記載の発明は、前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有している、請求項１４または１５に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項４の基板処理装置に対応している。
【００３２】
請求項１７記載の発明は、処理液によって基板を処理する第１処理ユニット、第２処理ユニットおよび第３処理ユニットを有する基板処理装置において実行される基板処理方法であって、前記基板処理装置は、処理液を加圧して送り出すポンプと、前記ポンプに接続された処理液供給路と、前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第３分岐路と、前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、前記第３分岐路に接続され、前記第３処理ユニットに配置された第３ノズルと、前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、前記第３分岐路に介装された第３一次側バルブとを含み、前記基板処理方法は、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開くステップを含む、基板処理方法である。この方法は、請求項５の基板処理装置に対応している。
【００３３】
請求項１８記載の発明は、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１７に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項６の基板処理装置に対応している。
請求項１９記載の発明は、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第２一次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１７または１８に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項７の基板処理装置に対応している。
【００３４】
請求項２０記載の発明は、前記基板処理装置が、前記第１ノズルに接続された第１排液路と、前記第２ノズルに接続された第２排液路と、前記第３ノズルに接続された第３排液路と、前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、前記第２排液路に介装された第２二次側バルブと、前記第３排液路に介装された第３二次側バルブとをさらに含み、前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開くステップを含む、請求項１７に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項８の基板処理装置に対応している。
【００３５】
請求項２１記載の発明は、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開くステップを含む、請求項２０に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項９の基板処理装置に対応している。
請求項２２記載の発明は、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開くステップを含む、請求項２０または２１に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項１０の基板処理装置に対応している。
【００３６】
請求項２３記載の発明は、前記基板処理装置は、前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構と、前記第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第２ノズル移動機構と、前記第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第３ノズル移動機構とをさらに含み、前記基板処理方法が、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じるステップと、前記第２ノズル移動機構が前記第２ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第２一次側バルブを閉じるステップと、前記第３ノズル移動機構が前記第３ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第３一次側バルブを閉じるステップとを含む、請求項２１に係る請求項２２に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項１１の基板処理装置に対応している。
【００３７】
請求項２４記載の発明は、前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有しており、前記第３ノズルが、前記第３分岐路に接続された第３一次側開口と前記第３排液路に接続された第３二次側開口と複数の第３吐出孔とが形成された中空の第３ノズル本体を有し、前記複数の第３吐出孔から処理液の液滴を吐出する第３処理液ヘッドの形態を有している、請求項２０〜２３のいずれか一項に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項１２の基板処理装置に対応している。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を説明するための概念図である。
【図２】図２は、第１〜第３処理ユニットの共通の構成例を説明するための図解的な断面図である。
【図３】図３Ａは液滴吐出用ノズルおよび保護液ノズルの模式的な側面図であり、図３Ｂは液滴吐出用ノズルおよび保護液ノズルの模式的な平面図である。
【図４】図４Ａおよび図４Ｂは、第１〜第３一次側バルブおよび第１〜第３二次側バルブの開閉動作を説明するためのタイミング表である。
【図５】図５は、第１〜第３処理ユニットにおける処理の進行例（実施例）を説明するための図である。
【図６】図６は、比較例の構成における処理の進行例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００３９】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を説明するための概念図である。この基板処理装置は、第１処理ユニット１、第２処理ユニット２および第３処理ユニット３を備えている。第１、第２および第３処理ユニット１，２，３は、基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉型の処理ユニットである。基板処理装置は、さらに、処理液供給源４から処理液を汲み出し、その処理液を加圧して送り出すポンプ５と、ポンプ５に接続された処理液供給路６とを備えている。処理液供給路６から、第１分岐路１１、第２分岐路１２および第３分岐路１３が分岐している。第１処理ユニット１には、第１分岐路１１に接続された第１ノズルＮ１が配置されている。また、第２処理ユニット２には、第２分岐路１２に接続された第２ノズルＮ２が配置されている。さらに、第３処理ユニット３には、第３分岐路１３に接続された第３ノズルＮ３が配置されている。第１ノズルＮ１には第１排液路２１が接続されており、第２ノズルＮ２には第２排液路２２が接続されており、第３ノズルＮ３には第３排液路２３が接続されている。第１分岐路１１には第１一次側バルブＰ１が介装されており、第２分岐路１２には第２一次側バルブＰ２が介装されており、第３分岐路１３には第３一次側バルブＰ３が介装されている。さらに、第１排液路２１には第１二次側バルブＳ１が介装されており、第２排液路２２には第２二次側バルブＳ２が介装されており、第３排液路２３には第３二次側バルブＳ３が介装されている。第１、第２および第３排液路２１，２２，２３は、ドレン配管２４に合流している。
【００４０】
第１、第２および第３処理ユニット１，２，３は、それぞれ、基板Ｗを水平姿勢で保持して鉛直軸線回りに回転させる基板保持回転機構としてのスピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３を備えている。第１、第２および第３処理液ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３は、それぞれ、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３に保持された基板Ｗの上面に処理液を供給するように構成されている。第１、第２および第３処理ユニット１，２，３には、それぞれ、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３を処理位置と退避位置との間で移動させるための第１、第２および第３ノズル移動機構Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３が備えられている。処理位置とは、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３が、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３に保持された基板Ｗの上方に位置し、基板Ｗに対して処理液を供給する位置である。退避位置とは、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３に保持された基板Ｗの上方空間から離れた位置であり、たとえば、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３の側方の位置であってもよい。
【００４１】
基板処理装置は、さらに、ポンプ５の動作、バルブＰ１〜Ｐ３，Ｓ１〜Ｓ３の開閉、スピンチャックＣ１〜Ｃ３の動作、第１、第２および第３ノズル移動機構Ｍ１〜Ｍ３の動作などを制御するための制御手段として、制御装置７を備えている。制御装置７は、マイクロコンピュータおよび必要なメモリその他の記憶媒体を備えている。制御装置７は、予め設定された基板処理手順（レシピ）に従って、処理ユニット１，２，３における基板処理動作を実行させる。
【００４２】
図２は、処理ユニット１，２，３の共通の構成例を説明するための図解的な断面図である。
処理ユニット１，２，３は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理ユニットである。処理ユニット１，２，３は、基板Ｗを水平に保持して回転させるスピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３（以下総称するときには「スピンチャックＣ」という。）と、スピンチャックＣを取り囲む筒状のカップ１５と、基板Ｗにリンス液を供給するリンス液ノズル１６と、前述のノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３（以下総称するときには「ノズルＮ」という。）と、基板Ｗに保護液を供給する保護液ノズル１７とを備えている。ノズルＮは、基板Ｗに処理液の液滴を衝突させる液滴ノズルの形態を有する。
【００４３】
スピンチャックＣは、基板Ｗを水平に保持して当該基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸線Ｌ１まわりに回転可能なスピンベース１８と、このスピンベース１８を回転軸線Ｌ１まわりに回転させるスピンモータ１９とを含む。スピンチャックＣは、基板Ｗを水平方向に挟んで当該基板Ｗを水平に保持する挟持式のチャックであってもよいし、非デバイス形成面である基板Ｗの裏面（下面）を吸着することにより当該基板Ｗを水平に保持するバキューム式のチャックであってもよい。図２には、挟持式のチャックを図解的に示す。
【００４４】
リンス液ノズル１６は、リンス液バルブ３０が介装されたリンス液供給管３１に接続されている。リンス液バルブ３０が開かれると、基板Ｗの上面中央部に向けてリンス液ノズル１６からリンス液が吐出される。その一方で、リンス液バルブ３０が閉じられると、リンス液ノズル１６からのリンス液の吐出が停止される。リンス液ノズル１６に供給されるリンス液としては、純水（脱イオン水）、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水や、希釈濃度（たとえば、１０〜１００ｐｐｍ程度）の塩酸水などを例示することができる。
【００４５】
ノズルＮは、この実施形態では、インクジェット方式によって多数の液滴を噴射するインクジェットノズルであり、処理液ヘッドの形態を有している。ノズルＮは、分岐路１１，１２，１３（以下総称するときには分岐路１０）という。）を介して処理液供給路６に接続されている。分岐路１０には、前述のように、一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３（以下総称するときには「一次側バルブＰ」という。）が介装されている。さらに、ノズルＮは、排液路２１，２２，２３（以下総称するときには「排液路２０」という。）を介してドレン配管２４に接続されている。前述のように、排液路２０には、二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３（以下総称するときには「二次側バルブＳ」という。）が介装されている。
【００４６】
ポンプ５は、前述のように、当該基板処理装置の運転中に常時駆動されている。そして、常時、所定圧力（たとえば、１０ＭＰａ以下）で処理液を処理液供給路６に供給している。ノズルＮに供給される処理液としては、たとえば、純水や、炭酸水や、ＳＣ−１（ＮＨ４ＯＨとＨ２Ｏ２とを含む混合液）などが挙げられる。
また、ノズルＮは、その内部に配置された圧電素子３４（piezo element）を含む。圧電素子１９は、配線３５を介して駆動回路３６に接続されている。駆動回路３６は、たとえば、インバータを含む。駆動回路３６は、交流電圧を圧電素子３４に印加する。交流電圧が圧電素子３４に印加されると、印加された交流電圧の周波数に対応する周波数で圧電素子３４が振動する。制御装置７は、駆動回路３６を制御することにより、圧電素子３４に印加される交流電圧の周波数を任意の周波数（たとえば、数百ＫＨｚ〜数ＭＨｚ）に変更することができる。したがって、圧電素子３４の振動の周波数は、制御装置７によって制御される。
【００４７】
処理ユニット１，２，３は、ノズル移動機構Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３（以下総称するときには「ノズル移動機構Ｍ」という。）をさらに含む。ノズル移動機構Ｍは、ノズルＮを保持するノズルアーム４０と、ノズルアーム４０に接続された回動機構４１と、回動機構４１に接続された昇降機構４２とを含む。回動機構４１は、たとえば、モータを含む。昇降機構４２は、たとえば、ボールねじ機構と、このボールねじ機構を駆動するモータとを含む。回動機構４１は、スピンチャックＣの周囲に設けられた鉛直な回転軸線Ｌ２まわりにノズルアーム４０を回動させる。ノズルＮは、ノズルアーム４０と共に回転軸線Ｌ２まわりに回動する。これにより、ノズルＮが水平方向に移動する。一方、昇降機構４２は、回動機構４１を鉛直方向に昇降させる。ノズルＮおよびノズルアーム４０は、回動機構４１と共に鉛直方向に昇降する。これにより、ノズルＮが鉛直方向に移動する。
【００４８】
回動機構４１は、スピンチャックＣの上方を含む水平面内でノズルＮを水平に移動させる。より具体的には、回動機構４１は、スピンチャックＣに保持された基板Ｗの上方において、基板Ｗの回転中心を通る円弧状の軌跡に沿ってノズルＮを水平に移動させる。ノズルＮがスピンチャックＣに保持された基板Ｗの上方に位置する状態で、昇降機構４２がノズルＮを降下させると、ノズルＮが基板Ｗの上面に近接する。ノズルＮが基板Ｗの上面に近接している状態で、制御装置７が、回動機構４１を制御してノズルアーム４０を回動させ、かつスピンモータ１９を制御して基板Ｗを回転させることにより、ノズルＮから吐出される液滴によって基板Ｗの上面全域を走査できる。
【００４９】
保護液ノズル１７は、ノズルアーム４０に保持されている。したがって、ノズルＮおよび保護液ノズル１７は、互いの位置関係が一定に保たれた状態で移動する。保護液ノズル１７は、保護液バルブ４３および流量調整バルブ４４が介装された保護液供給管４５に接続されている。保護液バルブ４３が開かれると、基板Ｗの上面に向けて保護液ノズル１７から保護液が吐出される。保護液ノズル１７からの保護液の吐出速度は、制御装置７が流量調整バルブ４４の開度を調整することにより変更される。保護液ノズル１７に供給される保護液としては、たとえば、リンス液や、ＳＣ−１などの薬液が挙げられる。
【００５０】
ノズルＮによって基板Ｗの表面に液滴を供給するときには、保護液ノズル１７からの保護液の吐出も同時に行われる。したがって、基板Ｗの表面に保護液の液膜が形成された状態で、ノズルＮからの液滴が吐出される。これにより、基板Ｗの表面のパターンを保護液で保護しながら、ノズルＮから吐出された液滴の衝撃によって基板Ｗ表面の異物を除去できる。
【００５１】
図３ＡはノズルＮ（Ｎ１，Ｎ２，Ｎ３）および保護液ノズル１７の模式的な側面図であり、図３ＢはノズルＮ（Ｎ１，Ｎ２，Ｎ３）および保護液ノズル１７の模式的な平面図である。図３Ｂにおいて、ノズルＮは、その下面Ｎａ（基板Ｗに対向する対向面）だけが示されている。
ノズルＮは、処理液の液滴を噴射するノズル本体４６と、ノズル本体４６を覆うカバー４７と、カバー４７によって覆われた圧電素子３４と、ノズル本体４６とカバー４７との間に介在するシール４８とを含む。ノズル本体４６およびカバー４７は、いずれも耐薬性を有する材料によって形成されている。ノズル本体４６は、たとえば、石英によって形成されている。カバー４７は、たとえば、フッ素系の樹脂によって形成されている。シール４８は、たとえば、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエンゴム）などの弾性材料によって形成されている。ノズル本体４６は、中空に形成されており、高圧（内部の液圧）に耐えうる強度を有している。ノズル本体４６の一部と圧電素子３４とは、カバー４７の内部に収容されている。配線３５の端部は、たとえば半田によって、カバー４７の内部で圧電素子３４に接続されている。カバー４７の内部は、シール４８によって密閉されている。
【００５２】
ノズル本体４６は、中空に形成されており、処理液が供給される一次側開口としての供給口４９と、処理液を排出する二次側開口としての排出口５０と、供給口４９と排出口５０とを接続する処理液流通路５１と、処理液流通路５１に接続された複数の吐出孔５２とを含む。処理液流通路５１は、ノズル本体４６の内部空間を区画している。供給口４９、排出口５０、および吐出孔５２は、ノズル本体４６の表面で開口している。供給口４９および排出口５０は、吐出孔５２よりも上方に位置している。ノズル本体４６の下面は、ノズルＮの下面Ｎａを形成しており、たとえば、水平な平坦面である。複数の吐出孔５２は、その下面Ｎａで開口している。吐出孔５２は、たとえば数μｍ〜数十μｍの直径を有する微細孔である。分岐路１０および排液路２０は、それぞれ、供給口４９および排出口５０に接続されている。
【００５３】
図３Ｂに示すように、複数の吐出孔５２は、複数（たとえば、４つ）の列Ｌを構成している。各列Ｌは、等間隔で配列された多数（たとえば、１０個以上）の吐出孔５２によって構成されている。各列Ｌは、水平な長手方向Ｄ１に沿って直線状に延びている。各列Ｌは、直線状に限らず、曲線状であってもよい。４つの列Ｌは、平行である。４つの列Ｌのうちの２つの列Ｌは、長手方向Ｄ１に直交する水平な方向に隣接している。同様に、残り２つの列Ｌも、長手方向Ｄ１に直交する水平な方向に隣接している。隣接する２つの列Ｌは、対をなしている。対の２つの列Ｌにおいて、一方の列Ｌを構成する複数の吐出孔５２（図３Ｂの吐出孔５２ａ）と、他方の列Ｌを構成する複数の吐出孔５２（図３Ｂの吐出孔５２ｂ）とは、長手方向Ｄ１にずれている。ノズルＮは、鉛直方向から見たときに、たとえば、４つの列ＬがノズルＮの移動軌跡に交差するようにノズルアーム４０に保持されている。
【００５４】
一次側ノズルＰが開かれているとき、分岐路１０を介して供給口４９に供給された処理液は、処理液流通路５１に供給される。このとき、二次側バルブＳが閉じられていると、処理液流通路５１での処理液の圧力（液圧）が高いので、液圧によって各吐出孔５２から処理液が噴射される。さらに、二次側バルブＳが閉じられている状態で、交流電圧が圧電素子３４に印加されると、処理液流通路５１を流れる処理液に圧電素子３４の振動が付与され、各吐出孔５２から噴射される処理液が、この振動によって分断される。そのため、二次側バルブＳが閉じられている状態で、交流電圧が圧電素子３４に印加されると、処理液の液滴が各吐出孔５２から噴射される。これにより、粒径が均一な多数の処理液の液滴が均一な速度で同時に噴射される。
【００５５】
一方、二次側バルブＳが開かれている状態では、処理液流通路５１に供給された処理液が、排出口５０から排液路２０に排出されるから、処理液流通路５１での液圧が十分に高くならない。そのため、処理液流通路５１に供給された処理液は、微細孔である吐出孔５２から噴射されずに、排出口５０から排液路２０に排出される。ただし、微量の処理液が、吐出孔５２から漏れ出る場合がある。
【００５６】
基板Ｗの上面に処理液の液滴を衝突させるときは、制御装置７が、ノズル移動機構Ｍ（図３参照）によってノズルＮを移動させることにより、ノズルＮの下面Ｎａ（ノズル本体４６の下面）を基板Ｗの上面に近接させる。そして、制御装置７は、ノズルＮの下面Ｎａが基板Ｗの上面に対向している状態で、一次側バルブＰを開き、二次側バルブＳを閉じて、処理液流通路５１の圧力を上昇させると共に、圧電素子３４を駆動することにより、処理液流通路５１内の処理液に振動を加える。これにより、粒径が均一な多数の処理液の液滴が均一な速度で同時に噴射されて基板Ｗの上面に供給される。ノズルＮから噴射された多数の液滴は、基板Ｗの上面内の２つの噴射領域Ｔ１に吹き付けられる。すなわち、一方の噴射領域Ｔ１は、一方の対の２つの列Ｌの直下の領域であり、この２つの列Ｌを構成する吐出孔５２から噴射された処理液の液滴は、一方の噴射領域Ｔ１に吹き付けられる。同様に、他方の噴射領域Ｔ１は、他方の対の２つの列Ｌの直下の領域であり、この２つの列Ｌを構成する吐出孔５２から噴射された処理液の液滴は、他方の噴射領域Ｔ１に吹き付けられる。各噴射領域Ｔ１は、長手方向Ｄ１に延びる平面視長方形状であり、２つの噴射領域Ｔ１は、平行である。
【００５７】
保護液ノズル１７は、保護液を吐出する吐出口５３を有している。保護液ノズル１７は、吐出口５３から基板Ｗ上の狙い位置Ｐ１に向かう吐出方向Ｄ２に保護液を吐出する。狙い位置Ｐ１は、基板Ｗの回転方向Ｄｒに関して噴射領域Ｔ１よりも上流側の位置である。吐出方向Ｄ２は、吐出口５３から狙い位置Ｐ１に向かう方向であると共に、平面視において吐出口５３からノズルＮに向かう方向である。吐出方向Ｄ２は、長手方向Ｄ１に対して傾いている。
【００５８】
保護液ノズル１７から吐出された保護液は、狙い位置Ｐ１において基板Ｗの上面に衝突することによって方向転換し、基板Ｗ上で広がりながら噴射領域Ｔ１の方へ基板Ｗの上面に沿って流れる。これにより、ノズルＮと基板Ｗの上面との間に保護液が進入し、噴射領域Ｔ１に保護液が供給される。
図４Ａおよび図４Ｂは、第１〜第３一次側バルブＰ１〜Ｐ３および第１〜第３二次側バルブＳ１〜Ｓ３の開閉動作を説明するためのタイミング表である。制御装置７は、バルブＰ１〜Ｐ３，Ｓ１〜Ｓ３を、図４Ａまたは図４Ｂに示すように開閉させる。この例では、制御単位時間としての一ステップは、たとえば５秒間である。
【００５９】
まず、図４Ａに示す第１動作例について説明する。
ステップ１，２は、待機状態である。ステップ３は、第１処理ユニット１において、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置まで移動させる第１ノズル移動ステップである。ステップ４−９は、第１処理ユニット１において第１ノズルＮ１から処理液の液滴を吐出させる第１ノズル処理ステップである。ステップ１０は、第１ノズルＮ１を処理位置から退避位置に移動させる第１ノズル移動ステップであり、同時に、第２処理ユニット２において第２ノズルＮ２を退避位置から処理位置へと移動させる第２ノズル移動ステップである。ステップ１１−１６は、第２処理ユニット２において第２ノズルＮ２から処理液の液滴を吐出させる第２ノズル処理ステップである。ステップ１７は、第２ノズルＮ２を処理位置から退避位置に移動させる第２ノズル移動ステップであり、同時に、第３処理ユニット３において第３ノズルＮ３を退避位置から処理位置へと移動させる第３ノズル移動ステップである。ステップ１８−２３は、第３処理ユニット３において第３ノズルＮ３から処理液の液滴を吐出させる第３ノズル処理ステップである。ステップ２４は、第３ノズルＮ３を処理位置から退避位置に移動させる第３ノズル移動ステップであり、同時に、第１処理ユニット１において第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置へと移動させる第１ノズル移動ステップである。ステップ２４の後、ステップ４に戻ることにより、第１、第２および第３処理ユニット１，２，３における基板処理を循環的に繰り返し実行することができる。基板処理を中断して待機状態とするときには、ステップ１に戻ればよい。
【００６０】
ステップ１，２（待機状態）では、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３は、いずれもそれぞれの退避位置に位置していて、制御装置７は、第１、第２および第３一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３および第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３を、いずれも開状態に制御している。また、制御装置７は、基板処理装置の運転中、常時、ポンプ５を運転状態に保持している。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第１、第２および第３分岐路１１，１２，１３に分岐し、それぞれ、第１、第２および第３一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３をそれぞれ通って、第１、第２および第３排液路２１，２２，２３からドレン配管２４に合流して排液される。第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３は、いずれも退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。
【００６１】
ステップ３（第１ノズル移動ステップ）においては、制御装置７は、第１一次側バルブＰ１を閉じ、第２および第３一次側バルブＰ２，Ｐ３、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３をいずれも開状態に制御する。したがって、第１ノズルＮ１には処理液が供給されないので、この第１ノズルＮ１からは処理液が漏れ出なくなる。この状態で、制御装置７は、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置へと移動させる。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第２および第３分岐路１２，１３に分岐し、それぞれ、第２および第３一次側バルブＰ２，Ｐ３、第２および第３ノズルＮ２，Ｎ３、ならびに第２および第３二次側バルブＳ２，Ｓ３をそれぞれ通って、第２および第３排液路２２，２３からドレン配管２４に合流して排液される。したがって、第１一次側バルブＰ１を閉じても、配管内の液圧が過大になることはない。第２および第３ノズルＮ２，Ｎ３の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第２および第３ノズルＮ２，Ｎ３は、いずれも退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。ステップ３では、第１二次側バルブＳ１は閉状態とされてもよいが、図４Ａにはそれらを開状態に制御する例を示す。
【００６２】
ステップ４−９（第１ノズル処理ステップ）では、制御装置７は、第１一次側バルブＰ１を開いて第１二次側バルブＳ１を閉じる。さらに、制御装置７は、第２および第３一次側バルブＰ２，Ｐ３を閉じる。第２および第３二次側バルブＳ２，Ｓ３は、開状態でもよいし閉状態でもよいが、図４Ａには、それらを開状態に制御する例を示す。このようにして、第１ノズルＮ１において、第１一次側バルブＰ１が開かれ第２二次側バルブＳ１が閉じられるので、ノズル本体４６の内部空間の液圧が高まる。その結果、第１ノズルＮ１の吐出孔５２から液滴が吐出され、スピンチャックＣ１に保持された基板Ｗ上に供給される。第２および第３一次側バルブＰ２，Ｐ３が閉じられることにより、第２または第３ノズルＮ２，Ｎ３を通る流路はいずれも遮断されるので、第１ノズルＮ１に対して十分な液圧の処理液を供給できる。
【００６３】
ステップ１０（第１ノズル移動ステップおよび第２ノズル移動ステップ）においては、制御装置７は、第１一次側バルブＰ１および第２一次側バルブＰ２を閉じ、第３一次側バルブＰ３、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３を開状態に制御する。したがって、第１ノズルＮ１および第２ノズルＮ２には処理液が供給されないので、これらの第１ノズルＮ１および第２ノズルＮ２からは処理液が漏れ出なくなる。この状態で、制御装置７は、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を処理位置からへ退避位置と移動させる。また、制御装置７は、第２ノズル移動機構Ｍ２を制御して、第２ノズルＮ２を退避位置から処理位置へと移動させる。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第３分岐路１３に分岐し、第３一次側バルブＰ３、第３ノズルＮ３、および第３二次側バルブＳ３を順に通って、第３排液路２２からドレン配管２４へと排液される。したがって、第１一次側バルブＰ１および第２一次側バルブＰ２を閉じても、配管内の液圧が過大になることはない。第３ノズルＮ３の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第３ノズルＮ３は、退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。ステップ１０では、第１二次側バルブＳ１および第２二次側バルブＳ２は閉状態とされてもよいが、図４Ａにはそれらを開状態に制御する例を示す。
【００６４】
ステップ１１−１６（第２ノズル処理ステップ）では、制御装置７は、第２一次側バルブＰ２を開いて第２二次側バルブＳ２を閉じる。さらに、制御装置７は、第１および第３一次側バルブＰ１，Ｐ３を閉じる。第１および第３二次側バルブＳ１，Ｓ３は、開状態でもよいし閉状態でもよいが、図４Ａには、それらを開状態に制御する例を示す。このようにして、第２ノズルＮ２において、第２一次側バルブＰ２が開かれ第２二次側バルブＳ２が閉じられるので、ノズル本体４６の内部空間の液圧が高まる。その結果、第２ノズルＮ２の吐出孔５２から液滴が吐出され、スピンチャックＣ２に保持された基板Ｗ上に供給される。第１および第３一次側バルブＰ１，Ｐ３が閉じられることにより、第１または第３ノズルＮ１，Ｎ３を通る流路はいずれも遮断されるので、第２ノズルＮ２に対して十分な液圧の処理液を供給できる。
【００６５】
ステップ１７（第２ノズル移動ステップおよび第３ノズル移動ステップ）においては、制御装置７は、第２一次側バルブＰ２および第３一次側バルブＰ３を閉じ、第１一次側バルブＰ１、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３を開状態に制御する。したがって、第２ノズルＮ２および第３ノズルＮ３には処理液が供給されないので、これらの第２ノズルＮ２および第３ノズルＮ３からは処理液が漏れ出なくなる。この状態で、制御装置７は、第２ノズル移動機構Ｍ２を制御して、第２ノズルＮ２を処理位置からへ退避位置と移動させる。また、制御装置７は、第３ノズル移動機構Ｍ３を制御して、第３ノズルＮ３を退避位置から処理位置へと移動させる。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第１分岐路１１に分岐し、第１一次側バルブＰ１、第１ノズルＮ１、および第１二次側バルブＳ１を順に通って、第１排液路２１からドレン配管２４へと排液される。したがって、第２一次側バルブＰ２および第３一次側バルブＰ３を閉じても、配管内の液圧が過大になることはない。第１ノズルＮ１の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第１ノズルＮ１は、退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。ステップ１７では、第２二次側バルブＳ２および第３二次側バルブＳ３は閉状態とされてもよいが、図４Ａにはそれらを開状態に制御する例を示す。
【００６６】
ステップ１８−２３（第３ノズル処理ステップ）では、制御装置７は、第３一次側バルブＰ３を開いて第３二次側バルブＳ３を閉じる。さらに、制御装置７は、第１および第２一次側バルブＰ１，Ｐ２を閉じる。第１および第２二次側バルブＳ１，Ｓ２は、開状態でもよいし閉状態でもよいが、図４Ａには、それらを開状態に制御する例を示す。このようにして、第３ノズルＮ３において、第３一次側バルブＰ３が開かれ第３二次側バルブＳ３が閉じられるので、ノズル本体４６の内部空間の液圧が高まる。その結果、第３ノズルＮ３の吐出孔５２から液滴が吐出され、スピンチャックＣ３に保持された基板Ｗ上に供給される。第１および第２一次側バルブＰ１，Ｐ２が閉じられることにより、第１または第２ノズルＮ１，Ｎ２を通る流路はいずれも遮断されるので、第３ノズルＮ３に対して十分な液圧の処理液を供給できる。
【００６７】
ステップ２４（第３ノズル移動ステップおよび第１ノズル移動ステップ）においては、制御装置７は、第１一次側バルブＰ１および第３一次側バルブＰ３を閉じ、第２一次側バルブＰ２、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３を開状態に制御する。したがって、第１ノズルＮ１および第３ノズルＮ３には処理液が供給されないので、これらの第１ノズルＮ１および第３ノズルＮ３からは処理液が漏れ出なくなる。この状態で、制御装置７は、第３ノズル移動機構Ｍ３を制御して、第３ノズルＮ３を処理位置から退避位置へと移動させる。また、制御装置７は、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置へと移動させる。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第２分岐路１２に分岐し、第２一次側バルブＰ２、第２ノズルＮ２、および第２二次側バルブＳ２を順に通って、第２排液路２２からドレン配管２４へと排液される。したがって、第１一次側バルブＰ１および第３一次側バルブＰ３を閉じても、配管内の液圧が過大になることはない。第２ノズルＮ２の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第２ノズルＮ２は、退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。ステップ２４では、第１二次側バルブＳ１および第３二次側バルブＳ３は閉状態とされてもよいが、図４Ａにはそれらを開状態に制御する例を示す。
【００６８】
次に、図４Ｂに示す第２動作例について説明する。この第２動作例では、一つの処理ユニットにおける処理ステップの実行中において、同時に、別の処理ユニットにおいて、ノズルを退避位置から処理位置に移動させるノズル移動ステップが並行して行われる。そして、当該別の処理ユニットにおける処理ステップの実行中において、同時に、前記一つの処理ユニットにおいて、ノズルを処理位置から退避位置に移動させるノズル移動ステップが並行して行われる。以下、図４Ａの第１動作例との相違を具体的に説明する。
【００６９】
図４Ｂに示す第２動作例では、第１動作例において説明したステップ１０，１７，２４が省かれる。すなわち、第１処理ユニット１における処理ステップ４−９が終了すると、第１処理ユニット２における処理ステップ１１−１６が即座に開始される。さらに、第２処理ユニット２における処理ステップ１１−１６が終了すると、第３処理ユニット３における処理ステップ１８−２３が即座に開始される。さらに、第３処理ユニット３における処理ステップ１８−２３が終了すると、第１処理ユニット１における処理ステップ４−９が即座に開始される。ただし、第２処理ユニット３における処理ステップの後、待機状態とするときは、ステップ２４が実行される。
【００７０】
一方、第１処理ユニット１における処理ステップ４−９のうちの最後のステップ９（またはそれ以前のステップ）において、第２処理ユニット２においては、第２ノズルＮ２を退避位置から処理位置まで移動させるための第２ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第１処理ユニット１において第１ノズルＮ１を用いた基板処理が行われている間に、第２ノズル移動機構Ｍ２を制御して、第２ノズルＮ２を退避位置から処理位置まで移動させる。このとき、第２一次側バルブＰ２は閉状態に制御されているから、第２ノズルＮ２から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。さらに、第２処理ユニット２における処理ステップ１１−１６のうちの最初のステップ１１（またはそれ以後のステップ）において、第１処理ユニット１においては、第１ノズルＮ１を処理位置から退避位置まで移動させるための第１ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第２処理ユニット２において第２ノズルＮ２を用いた基板処理が行われている間に、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を処理位置から退避位置まで移動させる。このとき、第１一次側バルブＰ１は閉状態に制御されているから、第１ノズルＮ１から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。
【００７１】
同様に、第２処理ユニット２における処理ステップ１１−１６のうちの最後のステップ１６（またはそれ以前のステップ）において、第３処理ユニット３においては、第３ノズルＮ３を退避位置から処理位置まで移動させるための第３ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第２処理ユニット２において第２ノズルＮ２を用いた基板処理が行われている間に、第３ノズル移動機構Ｍ３を制御して、第３ノズルＮ３を退避位置から処理位置まで移動させる。このとき、第３一次側バルブＰ３は閉状態に制御されているから、第３ノズルＮ３から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。さらに、第３処理ユニット３における処理ステップ１８−２３のうちの最初のステップ１８（またはそれ以後のステップ）において、第２処理ユニット２においては、第２ノズルＮ２を処理位置から退避位置まで移動させるための第２ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第３処理ユニット３において第３ノズルＮ３を用いた基板処理が行われている間に、第２ノズル移動機構Ｍ２を制御して、第２ノズルＮ２を処理位置から退避位置まで移動させる。このとき、第２一次側バルブＰ２は閉状態に制御されているから、第２ノズルＮ２から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。
【００７２】
さらに同様に、第３処理ユニット３における処理ステップ１８−２３のうちの最後のステップ２３（またはそれ以前のステップ）において、第１処理ユニット１においては、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置まで移動させるための第１ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第３処理ユニット３において第３ノズルＮ３を用いた基板処理が行われている間に、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置まで移動させる。このとき、第１一次側バルブＰ１は閉状態に制御されているから、第１ノズルＮ１から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。さらに、第１処理ユニット１における処理ステップ４−９のうちの最初のステップ４（またはそれ以後のステップ）において、第３処理ユニット３においては、第３ノズルＮ３を処理位置から退避位置まで移動させるための第３ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第１処理ユニット１において第１ノズルＮ１を用いた基板処理が行われている間に、第３ノズル移動機構Ｍ３を制御して、第３ノズルＮ３を処理位置から退避位置まで移動させる。このとき、第３一次側バルブＰ３は閉状態に制御されているから、第３ノズルＮ３から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。
【００７３】
ステップ２３の後、待機状態とするときには、ステップ２４（第３ノズルＮ３の退避位置への移動）の実行後に、ステップ１に戻ればよい。
図５は、第１〜第３処理ユニット１，２，３における処理の進行例（実施例）を説明するための図である。各処理ユニット１，２，３において基板Ｗに対して実行される全処理時間が９５秒間であり、そのうちノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３を用いたスプレー処理が３０秒（６ステップ分）であるものとする。残りの６５秒間には、たとえば、別のノズルを用いて基板Ｗ上に処理液を供給する液処理（薬液処理またはリンス処理）や、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３を高速回転させて基板Ｗ上の液を振り切るスピンドライ処理などが行われる。
【００７４】
図５に示された処理の進行例は、図４Ｂの動作例に従うものである。すなわち、第１処理ユニット１における処理ステップ（スプレー処理）の終了直後から、第２処理ユニット２における処理ステップ（スプレー処理）が始まっている。また、第２処理ユニット２における処理ステップ（スプレー処理）の終了直後から、第３処理ユニット３における処理ステップ（スプレー処理）が始まっている。第１、第２および第３処理ユニット１，２，３における処理ステップ（スプレー処理）の合計時間は９０秒（＝３０秒×３）であるので、全処理時間の９５秒に対して５秒間の余裕がある。こうして、ポンプ５を３つの処理ユニット１，２，３で共用しながら、基板Ｗに対する処理を効率的に行って生産性の向上を図ることができる。
【００７５】
図６は、比較例の構成における処理の進行例を説明するための図である。この比較例では、第１ノズルＮ１を退避位置と処理位置との間で移動させるとき、第２ノズルＮ２を退避位置と処理位置との間で移動させるとき、および第３ノズルＮ３を退避位置と処理位置との間で移動させるときに、ポンプ５が停止させられる。そして、ノズルが退避位置から処理位置に移動した後に、ポンプ５が作動開始し、圧込めステップ（たとえば５秒）の後に、基板Ｗに対する液滴の吐出が始まる。さらに、液滴による処理ステップ（スプレー処理）の終了後には、ポンプ５の動作が停止させられ、ノズル内の液滴の圧力を抜いて処理液が出ない状態とするための圧抜きステップ（たとえば５秒）が行われる。したがって、第１処理ユニット１での処理ステップと第２処理ユニット２での処理ステップとの間に、圧込めステップおよび圧抜きステップ（合計１０秒間）が必要となる。同様に、第２処理ユニット２での処理ステップと第３処理ユニット３での処理ステップとの間に、圧込めステップおよび圧抜きステップ（合計１０秒間）が必要となる。よって、図５の例と比較すると、一つの処理ユニットにおいて一枚の基板Ｗの処理に要する時間が１０秒間長くなる。しかも、第２処理ユニット２での処理ステップおよび圧抜きステップの終了から第１処理ユニット１における次の圧込めステップの開始までに５ステップ分（２５秒間）の余裕しかないので、この期間内に第３処理ユニット３での処理ステップを完了することができない。したがって、３つの処理ユニット１，２，３でポンプ５を共有するには、各処理ユニット１，２，３で待ち時間が生じることは避けられない。よって、図５のプロセス例に比較すると、生産性が良くない。
【００７６】
以上のように、この実施形態によれば、第１一次側バルブＰ１、第２一次側バルブＰ２および第３一次側バルブＰ３のいずれか一つを選択して開くことによって、一つのポンプ５を第１、第２および第３処理ユニット１，２，３での処理に共用できるから、構成が簡単になり、基板処理装置のコストを削減できる。そして、いずれかのノズルＮに対応した一次側バルブＰを閉じるときには、別のノズルＮに対応した一次側バルブＰおよび二次側バルブＳの組が開かれて、ポンプ５は駆動状態に保持される。たとえば、第１一次側バルブＰ１を閉じるときには、第２一次側バルブＰ２および第２二次側バルブＳ２の組、または第３一次側バルブＰ３および第３二次側バルブＳ２の組が開かれ、ポンプ５は駆動状態に保持される。よって、一次側バルブＰを閉じたノズルＮからの処理液吐出がただちに停止される一方で、他のノズルＮからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。つまり、ポンプ５が駆動状態に保持されるので、圧込め時間および圧抜き時間をいずれも解消できるから、第１、第２および第３処理ユニット１，２，３における基板処理時間を短縮して、基板処理の生産性を向上できる。しかも、一つのノズルＮの一次側バルブＰを閉じるときに、別のノズルＮの一次側ノズルＰおよび二次側ノズルＳの組を開くので、処理液供給路６等での液圧が過大になるおそれもない。また、一次側バルブを閉じることによって、それに対応するノズルＮから処理液が出なくなるから、当該ノズルＮから基板Ｗ上への処理液の落下を回避できる。このようにして、基板Ｗ上への処理液の落下を回避しつつ優れた生産性を実現でき、併せて、構成の簡素化およびコストの削減も可能な基板処理装置を提供できる。
【００７７】
また、この実施形態では、ノズルＮを退避位置と処理位置との間で移動させる期間に、当該ノズルＮに対応した一次側バルブＰが閉じられる。これにより、当該ノズルＮから処理液が漏出しないから、ノズルＮの移動中に、基板Ｗ上に不用意に処理液が落下することを回避でき、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、ノズルＮを退避位置から処理位置まで移動させた後は、当該ノズルＮに対応する一次側バルブＰを開けば、ただちにそのノズルＮから処理液の吐出を開始できる。また、ノズルＮによる処理が終了した後は、ただちにそのノズルに対応する一次側バルブＰを閉じて、そのノズルＮを速やかに退避位置に戻すことができる。このようにして、基板処理に要する時間を短縮して、生産性を向上できる。
【００７８】
以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は、さらに別の形態で実施することもできる。たとえば、前述の実施形態では、３つの処理ユニット１，２，３で一つのポンプ５が共有される例を示したが、２つの処理ユニットで一つのポンプを共有したり、４つ以上の処理ユニットで一つのポンプを共有したりしてもよい。さらに、前述の実施形態では、複数の吐出孔５２を有する処理液ヘッドの形態を有するノズルＮを例示したが、より少ない数の吐出孔（たとえば一つの吐出孔）を有するノズルを用いてもよい。また、前述の実施形態では、基板Ｗを保持する基板保持機構としてのスピンチャックＣを備えた処理ユニット１，２，３を例示したが、基板Ｗを非回転状態で保持する別の形態の基板保持機構を用いてもよい。さらに、前述の実施形態では、円形の基板Ｗを例示したが、角形等の別の形状の基板の処理のためにこの発明が適用されてもよい。さらに、前述の実施形態の説明に用いた図面では、一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３が個別に示されているが、これらは、一つのバルブユニットに一体化されていてもよい。同様に、二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３も、個別のユニットであってもよいし、統合された一つのバルブユニットであってもよい。
【００７９】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００８０】
Ｎ ノズル
Ｎ１ 第１ノズル
Ｎ２ 第２ノズル
Ｎ３ 第３ノズル
Ｐ 一次側バルブ
Ｐ１ 第１一次側バルブ
Ｐ２ 第２一次側バルブ
Ｐ３ 第３一次側バルブ
Ｓ 二次側バルブ
Ｓ１ 第１二次側バルブ
Ｓ２ 第２二次側バルブ
Ｓ３ 第３二次側バルブ
Ｃ スピンチャック
Ｃ１ スピンチャック
Ｃ２ スピンチャック
Ｃ３ スピンチャック
Ｍ ノズル移動機構
Ｍ１ 第１ノズル移動機構
Ｍ２ 第２ノズル移動機構
Ｍ３ 第３ノズル移動機構
１ 第１処理ユニット
２ 第２処理ユニット
３ 第３処理ユニット
４ 処理液供給源
５ ポンプ
６ 処理液供給路
７ 制御装置
１０ 分岐路
１１ 第１分岐路
１２ 第２分岐路
１３ 第３分岐路
２０ 排液路
２１ 第１排液路
２２ 第２排液路
２３ 第３排液路
２４ ドレン配管
３４ 圧電素子
３６ 駆動回路
４０ ノズルアーム
４１ 回動機構
４２ 昇降機構
４６ ノズル本体
４９ 供給口
５０ 排出口
５１ 処理液流通路
５２ 吐出孔
【技術分野】
【０００１】
この発明は、処理液によって基板を処理する装置および方法に関する。処理の対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、底面に多数の吐出孔を形成した筒状体の一次側開口に供給配管を接続し、その筒状体の二次側開口に排出配管を接続した構成の洗浄ヘッドを開示している。供給配管は、洗浄液供給源に接続され、その経路途中には圧送ポンプが介装されている。排出配管の経路途中にはバルブ（以下「二次側バルブ」という。）が介装されている。圧送ポンプは常時連続運転され、洗浄ヘッドが退避位置で待機しているとき、退避位置から基板上の洗浄位置に移動しているとき、および洗浄液を基板に供給すべきときのいずれにおいても、洗浄ヘッドに洗浄液が給送されている（特許文献１の段落００４６）。基板に洗浄液を供給して洗浄処理を行うときは、二次側バルブが閉止される。これにより、筒状体内部の洗浄液の液圧が上昇し、それによって、吐出孔から洗浄液が吐出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−２９３１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１には、二次側バルブが開かれているときは、筒状体の内部に送給された洗浄液はそのまま排出配管から装置外部に排出される、と説明されている。
しかし、実際には、圧送ポンプから洗浄液が送給されているとき、吐出孔から全く洗浄液が出ないわけではなく、筒状体の内部の液圧および重力によって、少量の洗浄液が吐出孔から漏れ落ちることは避けられない。したがって、洗浄ヘッドを退避位置から洗浄位置に移動するとき、および洗浄ヘッドを洗浄位置から退避位置に移動するときに、基板上に洗浄液が落下して、基板処理品質を悪化させるおそれがある。
【０００５】
この問題は、供給配管の経路途中にバルブ（以下「一次側バルブ」という。）を設け、洗浄液を吐出しないときには、その一次側バルブを閉じておくことによって解決できる。一次側バルブを閉じると、圧送ポンプから送られてくる洗浄液の行き先がなくなり、供給配管内の圧力が過大になるおそれがある。したがって、一次側バルブを閉じるときには、圧送ポンプの運転を停止しなければならない。
【０００６】
ところが、このような構成では、基板処理に要する時間が長くなり、生産性が悪化するという別の問題が生じる。すなわち、洗浄ヘッドを基板上の洗浄位置まで移動させた後に、一次側バルブを開き、二次側バルブを閉じて、圧送ポンプの運転を開始することになるから、筒状体の内部の液圧が上昇するまで、吐出孔からの液吐出が始まらない。すなわち、液吐出前の準備時間（圧込め時間。たとえば２秒程度）が必要になる。さらに、洗浄ヘッドによる処理を終えて、洗浄ヘッドを退避位置に戻すときには、その前に、圧送ポンプの運転を停止し、二次側バルブを開き、一次側バルブを閉じて、筒状体の内部の液圧が下降するまで待機しなければならない。すなわち、処理終了後の後処理時間（圧抜き時間。たとえば１５秒程度）が必要になる。したがって、洗浄ヘッドから洗浄液を吐出する実際の洗浄処理時間に加えて、圧込め時間および圧抜き時間が必要であるので、基板処理時間が長くなり、生産性が悪化してしまう。
【０００７】
そこで、この発明の目的は、基板上への処理液の落下を回避でき、かつすぐれた生産性を実現できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、処理液によって基板を処理する第１処理ユニットおよび第２処理ユニットを有する基板処理装置であって、処理液を加圧して送り出すポンプと、前記ポンプに接続された処理液供給路と、前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブを開く制御手段とを含む、基板処理装置である。
【０００９】
この構成によれば、第１一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第１処理ユニットに配置された第１ノズルに供給される。また、第２一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第２処理ユニットに配置された第２ノズルに供給される。したがって、第１一次側バルブおよび第２一次側バルブの一方を選択して開くことによって、一つのポンプを第１および第２処理ユニットでの処理に共用できるから、構成が簡単になり、基板処理装置のコストを削減できる。そして、第１一次側バルブを閉じるときには、第２一次側バルブが開かれ、ポンプは駆動状態に保持される。よって、第１ノズルからの処理液吐出がただちに停止される一方で、第２ノズルからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。つまり、ポンプが駆動状態に保持されるので、圧込め時間および圧抜き時間をいずれも解消できるから、第１および第２処理ユニットにおける基板処理時間を短縮して、基板処理の生産性を向上できる。しかも、第１一次側バルブを閉じるとき、第２一次側バルブが開かれるので、処理液供給路等で液圧が過大になるおそれもない。また、第１一次側バルブを閉じることによって、第１ノズルから処理液が出なくなるから、第１ノズルから基板上への処理液の落下を回避できる。このように、この発明により、基板上への処理液の落下を回避しつつ優れた生産性を実現でき、併せて、構成の簡素化およびコストの削減も可能な基板処理装置を提供できる。
【００１０】
請求項２記載の発明は、前記第１ノズルに接続された第１排液路と、前記第２ノズルに接続された第２排液路と、前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、前記第２排液路に介装された第２二次側バルブとをさらに含み、前記制御手段が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開く、請求項１に記載の基板処理装置である。
【００１１】
この構成によれば、第１一次側バルブを閉じるとき、第２一次側バルブおよび第２二次側バルブが開かれる。これにより、ポンプから送り出された処理液は、処理液供給路から第２分岐路に向かい、第２ノズルを通って第２排液路へと排出される。したがって、ポンプを駆動状態に保持したまま、配管内の圧力上昇を回避しつつ、第１一次側バルブを閉じて、第１ノズルから処理液が漏れ出ることを防止できる。第２二次側バルブが開かれるので、第２ノズル内の圧力が高まらないから、第２ノズルからは処理液が吐出されない。ただし、多少の処理液が漏出するおそれがあるので、第２ノズルは基板上から退避させておくことが好ましい。
【００１２】
請求項３記載の発明は、前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構をさらに含み、前記制御手段は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じる、請求項２に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させるときに第１一次側バルブが閉じられるので、第１ノズルから処理液が漏出しない。したがって、基板上に不用意に処理液が落下することを回避できるので、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、退避位置から処理位置まで移動させた後は、第１一次側バルブを開けば、ただちに第１ノズルから処理液の吐出を開始できる。したがって、基板処理に要する時間を短縮して、生産性を向上できる。
【００１３】
前記制御手段は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記処理位置から前記退避位置に移動させるときも、前記第１一次側バルブを閉じることが好ましい。これにより、処理後の基板上に処理液が不用意に落下することを回避できる。
請求項４記載の発明は、前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有している、請求項２または３に記載の基板処理装置である。
【００１４】
この構成によれば、第１および第２ノズルは、中空のノズル本体に対して一次側開口から処理液が導入され、二次側開口から処理液が排出されるとともに、ノズル本体に形成された複数の吐出孔から処理液の液滴を吐出する処理液ヘッドの形態を有している。したがって、二次側バルブを閉じた状態で一次側バルブを開くと、ノズル本体の内部空間における液圧が高まり、吐出孔から処理液の液滴が吐出される。一次側バルブおよび二次側バルブの両方を開くと、ノズル本体内における液圧が高まらないので、一次側開口から供給された処理液はノズル本体の内部を通過して二次側開口へと流出し、吐出孔からは処理液が吐出されない。ただし、処理液が漏れ出る可能性があるので、一次側バルブおよび二次側バルブの両方を開くときには、基板上から退避した位置にノズルを配置しておくことが好ましい。この発明では、第１一次側バルブを閉じるときには、第２一次側バルブおよび第２二次側バルブが開かれるので、第１ノズルからは処理液が吐出されず、第２ノズルからは吐出孔から処理液がわずかに漏れ出る程度となる。第２ノズルでは、一次側および二次側のバルブがいずれも開かれるので、配管内における過大な液圧上昇は生じない。したがって、第１および第２ノズルの両方を処理液が吐出しない状態としつつ、ポンプの駆動状態を保持できる。このとき、第１ノズルが基板上に配置されたり、基板上で移動されたりしても、第１ノズルから基板上に処理液が落下したりしない。
【００１５】
請求項５記載の発明は、処理液によって基板を処理する第１処理ユニット、第２処理ユニットおよび第３処理ユニットを有する基板処理装置であって、処理液を加圧して送り出すポンプと、前記ポンプに接続された処理液供給路と、前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第３分岐路と、前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、前記第３分岐路に接続され、前記第３処理ユニットに配置された第３ノズルと、前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、前記第３分岐路に介装された第３一次側バルブと、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開く制御手段とを含む、基板処理装置である。
【００１６】
この構成によれば、第１一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第１処理ユニットに配置された第１ノズルに供給される。また、第２一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第２処理ユニットに配置された第２ノズルに供給される。そして、第３一次側バルブが開かれているとき、ポンプから加圧して送り出された処理液は、第３処理ユニットに配置された第３ノズルに供給される。したがって、第１一次側バルブ、第２一次側バルブおよび第３一次側バルブのいずれか一つを選択して開くことによって、一つのポンプを第１、第２および第３処理ユニットでの処理に共用できるから、構成が簡単になり、基板処理装置のコストを削減できる。そして、第１一次側バルブを閉じるときには、第２一次側バルブまたは第３一次側バルブが開かれ、ポンプは駆動状態に保持される。よって、第１ノズルからの処理液吐出がただちに停止される一方で、第２ノズルまたは第３ノズルからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。つまり、ポンプが駆動状態に保持されるので、圧込め時間および圧抜き時間をいずれも解消できるから、第１、第２および第３処理ユニットにおける基板処理時間を短縮して、基板処理の生産性を向上できる。しかも、第１一次側バルブを閉じるとき、第２一次側バルブまたは第３一次側バルブが開かれるので、処理液供給路等で液圧が過大になるおそれもない。また、第１一次側バルブを閉じることによって、第１ノズルから処理液が出なくなるから、第１ノズルから基板上への処理液の落下を回避できる。このように、この発明により、基板上への処理液の落下を回避しつつ優れた生産性を実現でき、併せて、構成の簡素化およびコストの削減も可能な基板処理装置を提供できる。
【００１７】
請求項６記載の発明は、前記制御手段が、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開く、請求項５に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第２一次側バルブを閉じるときには、第１一次側バルブまたは第３一次側バルブが開かれ、ポンプは駆動状態に保持される。よって、第２ノズルからの処理液吐出がただちに停止される一方で、第１ノズルまたは第３ノズルからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。これにより、基板処理の生産性を向上できる。しかも、第２一次側バルブを閉じるとき、第１一次側バルブまたは第３一次側バルブが開かれるので、処理液供給路等で液圧が過大になるおそれもない。また、第２一次側バルブを閉じることによって、第２ノズルから処理液が出なくなるから、第２ノズルから基板上への処理液の落下を回避できる。
【００１８】
請求項７記載の発明は、前記制御手段が、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第２一次側バルブを開く、請求項５または６に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第３一次側バルブを閉じるときには、第１一次側バルブまたは第２一次側バルブが開かれ、ポンプは駆動状態に保持される。よって、第３ノズルからの処理液吐出がただちに停止される一方で、第１ノズルまたは第２ノズルからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。これにより、基板処理の生産性を向上できる。しかも、第３一次側バルブを閉じるとき、第１一次側バルブまたは第２一次側バルブが開かれるので、処理液供給路等で液圧が過大になるおそれもない。また、第３一次側バルブを閉じることによって、第３ノズルから処理液が出なくなるから、第３ノズルから基板上への処理液の落下を回避できる。
【００１９】
請求項８記載の発明は、前記第１ノズルに接続された第１排液路と、前記第２ノズルに接続された第２排液路と、前記第３ノズルに接続された第３排液路と、前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、前記第２排液路に介装された第２二次側バルブと、前記第３排液路に介装された第３二次側バルブとをさらに含み、前記制御手段が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開く、請求項５に記載の基板処理装置である。
【００２０】
この構成によれば、第１一次側バルブを閉じるとき、第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれる。これらの組のいずれか一方の組のバルブが開かれてもよく、またそれらの両方の組のバルブが開かれてもよい。第１一次側バルブを閉じると、ポンプから送り出された処理液は、処理液供給路から第２または第３分岐路に向かい、第２または第３ノズルを通って第２または第３排液路へと排出される。したがって、ポンプを駆動状態に保持したまま、配管内の圧力上昇を回避しつつ、第１一次側バルブを閉じて、第１ノズルから処理液が漏れ出ることを防止できる。第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれるので、第２ノズル内および第３ノズル内のいずれにおいても圧力が高まらないから、第２ノズルおよび第３ノズルのいずれからも処理液が吐出されない。ただし、多少の処理液が漏出するおそれがあるので、第２ノズルおよび第３ノズルのうち、一次側バルブを開いたノズルについては、基板上から退避させておくことが好ましい。
【００２１】
請求項９記載の発明は、前記制御手段が、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開く、請求項８に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第２一次側バルブを閉じるとき、第１一次側バルブおよび第１二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれる。これらの組のいずれか一方の組のバルブが開かれてもよく、またそれらの両方の組のバルブが開かれてもよい。第２一次側バルブを閉じると、ポンプから送り出された処理液は、処理液供給路から第１または第３分岐路に向かい、第１または第３ノズルを通って第１または第３排液路へと排出される。したがって、ポンプを駆動状態に保持したまま、配管内の圧力上昇を回避しつつ、第２一次側バルブを閉じて、第２ノズルから処理液が漏れ出ることを防止できる。第１一次側バルブおよび第１二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれるので、第１ノズル内および第３ノズル内のいずれにおいても圧力が高まらないから、第１ノズルおよび第３ノズルのいずれからも処理液が吐出されない。ただし、多少の処理液が漏出するおそれがあるので、第１ノズルおよび第３ノズルのうち、一次側バルブを開いたノズルについては、基板上から退避させておくことが好ましい。
【００２２】
請求項１０記載の発明は、前記制御手段が、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開く、請求項８または９に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第３一次側バルブを閉じるとき、第１一次側バルブおよび第１二次側バルブの組、または第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組が開かれる。これらの組のいずれか一方の組のバルブが開かれてもよく、またそれらの両方の組のバルブが開かれてもよい。第３一次側バルブを閉じると、ポンプから送り出された処理液は、処理液供給路から第１または第２分岐路に向かい、第１または第２ノズルを通って第１または第２排液路へと排出される。したがって、ポンプを駆動状態に保持したまま、配管内の圧力上昇を回避しつつ、第３一次側バルブを閉じて、第３ノズルから処理液が漏れ出ることを防止できる。第１一次側バルブおよび第１二次側バルブの組、または第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組が開かれるので、第１ノズル内および第２ノズル内のいずれにおいても圧力が高まらないから、第１ノズルおよび第２ノズルのいずれからも処理液が吐出されない。ただし、多少の処理液が漏出するおそれがあるので、第１ノズルおよび第２ノズルのうち、一次側バルブを開いたノズルについては、基板上から退避させておくことが好ましい。
【００２３】
請求項１１記載の発明は、前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構と、前記第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第２ノズル移動機構と、前記第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第３ノズル移動機構とをさらに含み、前記制御手段が、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じ、前記第２ノズル移動機構が前記第２ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第２一次側バルブを閉じ、前記第３ノズル移動機構が前記第３ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第３一次側バルブを閉じる、請求項９に係る請求項１０に記載の基板処理装置である。
【００２４】
この構成によれば、第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させるときに第１一次側バルブが閉じられるので、第１ノズルから処理液が漏出しない。したがって、基板上に不用意に処理液が落下することを回避できるので、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、第１ノズルが処理位置に達した後は、第１一次側バルブを開けば、ただちに第１ノズルから処理液の吐出を開始できる。また、処理が終了した後は、ただちに第１一次側バルブを閉じて第１ノズルを退避位置に速やかに戻すことができる。同様に、第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させるときには、第２一次側バルブが閉じられるので、第２ノズルから処理液が漏出しない。したがって、基板上に不用意に処理液が落下することを回避できるので、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、第２ノズルが処理位置に達した後は、第２一次側バルブを開けば、ただちに第２ノズルから処理液の吐出を開始できる。また、処理が終了した後は、直ちに第２一次側バルブを閉じて第２ノズルを退避位置に速やかに戻すことができる。さらに、第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させるときには、第３一次側バルブが閉じられるので、第３ノズルから処理液が漏出しない。したがって、基板上に不用意に処理液が落下することを回避できるので、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、第３ノズルが処理位置に達した後は、第３一次側バルブを開けば、ただちに第３ノズルから処理液の吐出を開始できる。また、処理が終了した後は、ただちに第３一次側バルブを閉じて第３ノズルを退避位置に速やかに戻すことができる。このようにして、基板処理に要する時間を短縮して、生産性を向上できる。
【００２５】
請求項１２記載の発明は、前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有しており、前記第３ノズルが、前記第３分岐路に接続された第３一次側開口と前記第３排液路に接続された第３二次側開口と複数の第３吐出孔とが形成された中空の第３ノズル本体を有し、前記複数の第３吐出孔から処理液の液滴を吐出する第３処理液ヘッドの形態を有している、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
【００２６】
この構成によれば、第１、第２および第３ノズルは、中空のノズル本体に対して一次側開口から処理液が導入され、二次側開口から処理液が排出されるとともに、ノズル本体に形成された複数の吐出孔から処理液の液滴を吐出する処理液ヘッドの形態を有している。したがって、二次側バルブを閉じた状態で一次側バルブを開くと、ノズル本体の内部空間における液圧が高まり、吐出孔から処理液の液滴が吐出される。一次側バルブおよび二次側バルブの両方を開くと、ノズル本体内における液圧が高まらないので、一次側開口から供給された処理液はノズル本体の内部を通過して二次側開口へと流出し、吐出孔からは処理液が吐出されない。ただし、処理液が漏れ出る可能性があるので、一次側バルブおよび二次側バルブの両方を開くときには、基板上から退避した位置にノズルを配置しておくことが好ましい。この発明では、第１一次側バルブを閉じるときには、第２一次側バルブおよび第２二次側バルブの組、または第３一次側バルブおよび第３二次側バルブの組が開かれるので、第１ノズルからは処理液が吐出されず、一次側バルブが開かれた第２ノズルまたは第３ノズルからは吐出孔から処理液がわずかに漏れ出る程度となる。第２ノズルまたは第３ノズルに関して、一次側および二次側のバルブがいずれも開かれるので、配管内における過大な液圧上昇は生じない。したがって、第１、第２ノズルおよび第３ノズルのいずれからも処理液が吐出しない状態としつつ、ポンプの駆動状態を保持することもできる。このとき、第１ノズルが基板上に配置されたり、基板上で移動されたりしても、第１ノズルから基板上に処理液が落下したりしない。
【００２７】
前記第１ノズルは、前記ノズル本体に固定され、前記第１ノズル本体の内部空間に溜められた処理液に振動を付与する第１圧電素子をさらに有していてもよい。同様に、前記第２ノズルは、前記ノズル本体に固定され、前記第２ノズル本体の内部空間に溜められた処理液に振動を付与する第２圧電素子をさらに有していてもよい。さらに同様に、前記第３ノズルは、前記ノズル本体に固定され、前記第３ノズル本体の内部空間に溜められた処理液に振動を付与する第３圧電素子をさらに有していてもよい。これにより、ノズル本体に形成された吐出孔から流出する液流が、圧電素子の振動によって分断されるので、良好な液滴を吐出させることができる。すなわち、一定周波数で圧電素子を駆動すれば、粒径の揃った液滴を吐出できる。
【００２８】
請求項１３記載の発明は、処理液によって基板を処理する第１処理ユニットおよび第２処理ユニットを有する基板処理装置において実行される基板処理方法であって、前記基板処理装置が、処理液を加圧して送り出すポンプと、前記ポンプに接続された処理液供給路と、前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブとを含み、前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブを開くステップを含む、基板処理方法である。この方法は、請求項１の基板処理装置に対応している。
【００２９】
請求項１４記載の発明は、前記基板処理装置が、前記第１ノズルに接続された第１排液路と、前記第２ノズルに接続された第２排液路と、前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、前記第２排液路に介装された第２二次側バルブとをさらに含み、前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１３に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項２の基板処理装置に対応している。
【００３０】
請求項１５記載の発明は、前記基板処理装置が、前記第１ノズルを退避位置から処理位置まで移動させる第１ノズル移動機構をさらに含み、前記基板処理方法は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置から前記処理位置まで移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じるステップを含む、請求項１４に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項３の基板処理装置に対応している。
【００３１】
請求項１６記載の発明は、前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有している、請求項１４または１５に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項４の基板処理装置に対応している。
【００３２】
請求項１７記載の発明は、処理液によって基板を処理する第１処理ユニット、第２処理ユニットおよび第３処理ユニットを有する基板処理装置において実行される基板処理方法であって、前記基板処理装置は、処理液を加圧して送り出すポンプと、前記ポンプに接続された処理液供給路と、前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、前記処理液供給路から分岐した第３分岐路と、前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、前記第３分岐路に接続され、前記第３処理ユニットに配置された第３ノズルと、前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、前記第３分岐路に介装された第３一次側バルブとを含み、前記基板処理方法は、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開くステップを含む、基板処理方法である。この方法は、請求項５の基板処理装置に対応している。
【００３３】
請求項１８記載の発明は、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１７に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項６の基板処理装置に対応している。
請求項１９記載の発明は、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第２一次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１７または１８に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項７の基板処理装置に対応している。
【００３４】
請求項２０記載の発明は、前記基板処理装置が、前記第１ノズルに接続された第１排液路と、前記第２ノズルに接続された第２排液路と、前記第３ノズルに接続された第３排液路と、前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、前記第２排液路に介装された第２二次側バルブと、前記第３排液路に介装された第３二次側バルブとをさらに含み、前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開くステップを含む、請求項１７に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項８の基板処理装置に対応している。
【００３５】
請求項２１記載の発明は、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開くステップを含む、請求項２０に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項９の基板処理装置に対応している。
請求項２２記載の発明は、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開くステップを含む、請求項２０または２１に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項１０の基板処理装置に対応している。
【００３６】
請求項２３記載の発明は、前記基板処理装置は、前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構と、前記第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第２ノズル移動機構と、前記第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第３ノズル移動機構とをさらに含み、前記基板処理方法が、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じるステップと、前記第２ノズル移動機構が前記第２ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第２一次側バルブを閉じるステップと、前記第３ノズル移動機構が前記第３ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第３一次側バルブを閉じるステップとを含む、請求項２１に係る請求項２２に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項１１の基板処理装置に対応している。
【００３７】
請求項２４記載の発明は、前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有しており、前記第３ノズルが、前記第３分岐路に接続された第３一次側開口と前記第３排液路に接続された第３二次側開口と複数の第３吐出孔とが形成された中空の第３ノズル本体を有し、前記複数の第３吐出孔から処理液の液滴を吐出する第３処理液ヘッドの形態を有している、請求項２０〜２３のいずれか一項に記載の基板処理方法である。この方法は、請求項１２の基板処理装置に対応している。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を説明するための概念図である。
【図２】図２は、第１〜第３処理ユニットの共通の構成例を説明するための図解的な断面図である。
【図３】図３Ａは液滴吐出用ノズルおよび保護液ノズルの模式的な側面図であり、図３Ｂは液滴吐出用ノズルおよび保護液ノズルの模式的な平面図である。
【図４】図４Ａおよび図４Ｂは、第１〜第３一次側バルブおよび第１〜第３二次側バルブの開閉動作を説明するためのタイミング表である。
【図５】図５は、第１〜第３処理ユニットにおける処理の進行例（実施例）を説明するための図である。
【図６】図６は、比較例の構成における処理の進行例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００３９】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を説明するための概念図である。この基板処理装置は、第１処理ユニット１、第２処理ユニット２および第３処理ユニット３を備えている。第１、第２および第３処理ユニット１，２，３は、基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉型の処理ユニットである。基板処理装置は、さらに、処理液供給源４から処理液を汲み出し、その処理液を加圧して送り出すポンプ５と、ポンプ５に接続された処理液供給路６とを備えている。処理液供給路６から、第１分岐路１１、第２分岐路１２および第３分岐路１３が分岐している。第１処理ユニット１には、第１分岐路１１に接続された第１ノズルＮ１が配置されている。また、第２処理ユニット２には、第２分岐路１２に接続された第２ノズルＮ２が配置されている。さらに、第３処理ユニット３には、第３分岐路１３に接続された第３ノズルＮ３が配置されている。第１ノズルＮ１には第１排液路２１が接続されており、第２ノズルＮ２には第２排液路２２が接続されており、第３ノズルＮ３には第３排液路２３が接続されている。第１分岐路１１には第１一次側バルブＰ１が介装されており、第２分岐路１２には第２一次側バルブＰ２が介装されており、第３分岐路１３には第３一次側バルブＰ３が介装されている。さらに、第１排液路２１には第１二次側バルブＳ１が介装されており、第２排液路２２には第２二次側バルブＳ２が介装されており、第３排液路２３には第３二次側バルブＳ３が介装されている。第１、第２および第３排液路２１，２２，２３は、ドレン配管２４に合流している。
【００４０】
第１、第２および第３処理ユニット１，２，３は、それぞれ、基板Ｗを水平姿勢で保持して鉛直軸線回りに回転させる基板保持回転機構としてのスピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３を備えている。第１、第２および第３処理液ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３は、それぞれ、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３に保持された基板Ｗの上面に処理液を供給するように構成されている。第１、第２および第３処理ユニット１，２，３には、それぞれ、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３を処理位置と退避位置との間で移動させるための第１、第２および第３ノズル移動機構Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３が備えられている。処理位置とは、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３が、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３に保持された基板Ｗの上方に位置し、基板Ｗに対して処理液を供給する位置である。退避位置とは、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３に保持された基板Ｗの上方空間から離れた位置であり、たとえば、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３の側方の位置であってもよい。
【００４１】
基板処理装置は、さらに、ポンプ５の動作、バルブＰ１〜Ｐ３，Ｓ１〜Ｓ３の開閉、スピンチャックＣ１〜Ｃ３の動作、第１、第２および第３ノズル移動機構Ｍ１〜Ｍ３の動作などを制御するための制御手段として、制御装置７を備えている。制御装置７は、マイクロコンピュータおよび必要なメモリその他の記憶媒体を備えている。制御装置７は、予め設定された基板処理手順（レシピ）に従って、処理ユニット１，２，３における基板処理動作を実行させる。
【００４２】
図２は、処理ユニット１，２，３の共通の構成例を説明するための図解的な断面図である。
処理ユニット１，２，３は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理ユニットである。処理ユニット１，２，３は、基板Ｗを水平に保持して回転させるスピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３（以下総称するときには「スピンチャックＣ」という。）と、スピンチャックＣを取り囲む筒状のカップ１５と、基板Ｗにリンス液を供給するリンス液ノズル１６と、前述のノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３（以下総称するときには「ノズルＮ」という。）と、基板Ｗに保護液を供給する保護液ノズル１７とを備えている。ノズルＮは、基板Ｗに処理液の液滴を衝突させる液滴ノズルの形態を有する。
【００４３】
スピンチャックＣは、基板Ｗを水平に保持して当該基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸線Ｌ１まわりに回転可能なスピンベース１８と、このスピンベース１８を回転軸線Ｌ１まわりに回転させるスピンモータ１９とを含む。スピンチャックＣは、基板Ｗを水平方向に挟んで当該基板Ｗを水平に保持する挟持式のチャックであってもよいし、非デバイス形成面である基板Ｗの裏面（下面）を吸着することにより当該基板Ｗを水平に保持するバキューム式のチャックであってもよい。図２には、挟持式のチャックを図解的に示す。
【００４４】
リンス液ノズル１６は、リンス液バルブ３０が介装されたリンス液供給管３１に接続されている。リンス液バルブ３０が開かれると、基板Ｗの上面中央部に向けてリンス液ノズル１６からリンス液が吐出される。その一方で、リンス液バルブ３０が閉じられると、リンス液ノズル１６からのリンス液の吐出が停止される。リンス液ノズル１６に供給されるリンス液としては、純水（脱イオン水）、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水や、希釈濃度（たとえば、１０〜１００ｐｐｍ程度）の塩酸水などを例示することができる。
【００４５】
ノズルＮは、この実施形態では、インクジェット方式によって多数の液滴を噴射するインクジェットノズルであり、処理液ヘッドの形態を有している。ノズルＮは、分岐路１１，１２，１３（以下総称するときには分岐路１０）という。）を介して処理液供給路６に接続されている。分岐路１０には、前述のように、一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３（以下総称するときには「一次側バルブＰ」という。）が介装されている。さらに、ノズルＮは、排液路２１，２２，２３（以下総称するときには「排液路２０」という。）を介してドレン配管２４に接続されている。前述のように、排液路２０には、二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３（以下総称するときには「二次側バルブＳ」という。）が介装されている。
【００４６】
ポンプ５は、前述のように、当該基板処理装置の運転中に常時駆動されている。そして、常時、所定圧力（たとえば、１０ＭＰａ以下）で処理液を処理液供給路６に供給している。ノズルＮに供給される処理液としては、たとえば、純水や、炭酸水や、ＳＣ−１（ＮＨ４ＯＨとＨ２Ｏ２とを含む混合液）などが挙げられる。
また、ノズルＮは、その内部に配置された圧電素子３４（piezo element）を含む。圧電素子１９は、配線３５を介して駆動回路３６に接続されている。駆動回路３６は、たとえば、インバータを含む。駆動回路３６は、交流電圧を圧電素子３４に印加する。交流電圧が圧電素子３４に印加されると、印加された交流電圧の周波数に対応する周波数で圧電素子３４が振動する。制御装置７は、駆動回路３６を制御することにより、圧電素子３４に印加される交流電圧の周波数を任意の周波数（たとえば、数百ＫＨｚ〜数ＭＨｚ）に変更することができる。したがって、圧電素子３４の振動の周波数は、制御装置７によって制御される。
【００４７】
処理ユニット１，２，３は、ノズル移動機構Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３（以下総称するときには「ノズル移動機構Ｍ」という。）をさらに含む。ノズル移動機構Ｍは、ノズルＮを保持するノズルアーム４０と、ノズルアーム４０に接続された回動機構４１と、回動機構４１に接続された昇降機構４２とを含む。回動機構４１は、たとえば、モータを含む。昇降機構４２は、たとえば、ボールねじ機構と、このボールねじ機構を駆動するモータとを含む。回動機構４１は、スピンチャックＣの周囲に設けられた鉛直な回転軸線Ｌ２まわりにノズルアーム４０を回動させる。ノズルＮは、ノズルアーム４０と共に回転軸線Ｌ２まわりに回動する。これにより、ノズルＮが水平方向に移動する。一方、昇降機構４２は、回動機構４１を鉛直方向に昇降させる。ノズルＮおよびノズルアーム４０は、回動機構４１と共に鉛直方向に昇降する。これにより、ノズルＮが鉛直方向に移動する。
【００４８】
回動機構４１は、スピンチャックＣの上方を含む水平面内でノズルＮを水平に移動させる。より具体的には、回動機構４１は、スピンチャックＣに保持された基板Ｗの上方において、基板Ｗの回転中心を通る円弧状の軌跡に沿ってノズルＮを水平に移動させる。ノズルＮがスピンチャックＣに保持された基板Ｗの上方に位置する状態で、昇降機構４２がノズルＮを降下させると、ノズルＮが基板Ｗの上面に近接する。ノズルＮが基板Ｗの上面に近接している状態で、制御装置７が、回動機構４１を制御してノズルアーム４０を回動させ、かつスピンモータ１９を制御して基板Ｗを回転させることにより、ノズルＮから吐出される液滴によって基板Ｗの上面全域を走査できる。
【００４９】
保護液ノズル１７は、ノズルアーム４０に保持されている。したがって、ノズルＮおよび保護液ノズル１７は、互いの位置関係が一定に保たれた状態で移動する。保護液ノズル１７は、保護液バルブ４３および流量調整バルブ４４が介装された保護液供給管４５に接続されている。保護液バルブ４３が開かれると、基板Ｗの上面に向けて保護液ノズル１７から保護液が吐出される。保護液ノズル１７からの保護液の吐出速度は、制御装置７が流量調整バルブ４４の開度を調整することにより変更される。保護液ノズル１７に供給される保護液としては、たとえば、リンス液や、ＳＣ−１などの薬液が挙げられる。
【００５０】
ノズルＮによって基板Ｗの表面に液滴を供給するときには、保護液ノズル１７からの保護液の吐出も同時に行われる。したがって、基板Ｗの表面に保護液の液膜が形成された状態で、ノズルＮからの液滴が吐出される。これにより、基板Ｗの表面のパターンを保護液で保護しながら、ノズルＮから吐出された液滴の衝撃によって基板Ｗ表面の異物を除去できる。
【００５１】
図３ＡはノズルＮ（Ｎ１，Ｎ２，Ｎ３）および保護液ノズル１７の模式的な側面図であり、図３ＢはノズルＮ（Ｎ１，Ｎ２，Ｎ３）および保護液ノズル１７の模式的な平面図である。図３Ｂにおいて、ノズルＮは、その下面Ｎａ（基板Ｗに対向する対向面）だけが示されている。
ノズルＮは、処理液の液滴を噴射するノズル本体４６と、ノズル本体４６を覆うカバー４７と、カバー４７によって覆われた圧電素子３４と、ノズル本体４６とカバー４７との間に介在するシール４８とを含む。ノズル本体４６およびカバー４７は、いずれも耐薬性を有する材料によって形成されている。ノズル本体４６は、たとえば、石英によって形成されている。カバー４７は、たとえば、フッ素系の樹脂によって形成されている。シール４８は、たとえば、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエンゴム）などの弾性材料によって形成されている。ノズル本体４６は、中空に形成されており、高圧（内部の液圧）に耐えうる強度を有している。ノズル本体４６の一部と圧電素子３４とは、カバー４７の内部に収容されている。配線３５の端部は、たとえば半田によって、カバー４７の内部で圧電素子３４に接続されている。カバー４７の内部は、シール４８によって密閉されている。
【００５２】
ノズル本体４６は、中空に形成されており、処理液が供給される一次側開口としての供給口４９と、処理液を排出する二次側開口としての排出口５０と、供給口４９と排出口５０とを接続する処理液流通路５１と、処理液流通路５１に接続された複数の吐出孔５２とを含む。処理液流通路５１は、ノズル本体４６の内部空間を区画している。供給口４９、排出口５０、および吐出孔５２は、ノズル本体４６の表面で開口している。供給口４９および排出口５０は、吐出孔５２よりも上方に位置している。ノズル本体４６の下面は、ノズルＮの下面Ｎａを形成しており、たとえば、水平な平坦面である。複数の吐出孔５２は、その下面Ｎａで開口している。吐出孔５２は、たとえば数μｍ〜数十μｍの直径を有する微細孔である。分岐路１０および排液路２０は、それぞれ、供給口４９および排出口５０に接続されている。
【００５３】
図３Ｂに示すように、複数の吐出孔５２は、複数（たとえば、４つ）の列Ｌを構成している。各列Ｌは、等間隔で配列された多数（たとえば、１０個以上）の吐出孔５２によって構成されている。各列Ｌは、水平な長手方向Ｄ１に沿って直線状に延びている。各列Ｌは、直線状に限らず、曲線状であってもよい。４つの列Ｌは、平行である。４つの列Ｌのうちの２つの列Ｌは、長手方向Ｄ１に直交する水平な方向に隣接している。同様に、残り２つの列Ｌも、長手方向Ｄ１に直交する水平な方向に隣接している。隣接する２つの列Ｌは、対をなしている。対の２つの列Ｌにおいて、一方の列Ｌを構成する複数の吐出孔５２（図３Ｂの吐出孔５２ａ）と、他方の列Ｌを構成する複数の吐出孔５２（図３Ｂの吐出孔５２ｂ）とは、長手方向Ｄ１にずれている。ノズルＮは、鉛直方向から見たときに、たとえば、４つの列ＬがノズルＮの移動軌跡に交差するようにノズルアーム４０に保持されている。
【００５４】
一次側ノズルＰが開かれているとき、分岐路１０を介して供給口４９に供給された処理液は、処理液流通路５１に供給される。このとき、二次側バルブＳが閉じられていると、処理液流通路５１での処理液の圧力（液圧）が高いので、液圧によって各吐出孔５２から処理液が噴射される。さらに、二次側バルブＳが閉じられている状態で、交流電圧が圧電素子３４に印加されると、処理液流通路５１を流れる処理液に圧電素子３４の振動が付与され、各吐出孔５２から噴射される処理液が、この振動によって分断される。そのため、二次側バルブＳが閉じられている状態で、交流電圧が圧電素子３４に印加されると、処理液の液滴が各吐出孔５２から噴射される。これにより、粒径が均一な多数の処理液の液滴が均一な速度で同時に噴射される。
【００５５】
一方、二次側バルブＳが開かれている状態では、処理液流通路５１に供給された処理液が、排出口５０から排液路２０に排出されるから、処理液流通路５１での液圧が十分に高くならない。そのため、処理液流通路５１に供給された処理液は、微細孔である吐出孔５２から噴射されずに、排出口５０から排液路２０に排出される。ただし、微量の処理液が、吐出孔５２から漏れ出る場合がある。
【００５６】
基板Ｗの上面に処理液の液滴を衝突させるときは、制御装置７が、ノズル移動機構Ｍ（図３参照）によってノズルＮを移動させることにより、ノズルＮの下面Ｎａ（ノズル本体４６の下面）を基板Ｗの上面に近接させる。そして、制御装置７は、ノズルＮの下面Ｎａが基板Ｗの上面に対向している状態で、一次側バルブＰを開き、二次側バルブＳを閉じて、処理液流通路５１の圧力を上昇させると共に、圧電素子３４を駆動することにより、処理液流通路５１内の処理液に振動を加える。これにより、粒径が均一な多数の処理液の液滴が均一な速度で同時に噴射されて基板Ｗの上面に供給される。ノズルＮから噴射された多数の液滴は、基板Ｗの上面内の２つの噴射領域Ｔ１に吹き付けられる。すなわち、一方の噴射領域Ｔ１は、一方の対の２つの列Ｌの直下の領域であり、この２つの列Ｌを構成する吐出孔５２から噴射された処理液の液滴は、一方の噴射領域Ｔ１に吹き付けられる。同様に、他方の噴射領域Ｔ１は、他方の対の２つの列Ｌの直下の領域であり、この２つの列Ｌを構成する吐出孔５２から噴射された処理液の液滴は、他方の噴射領域Ｔ１に吹き付けられる。各噴射領域Ｔ１は、長手方向Ｄ１に延びる平面視長方形状であり、２つの噴射領域Ｔ１は、平行である。
【００５７】
保護液ノズル１７は、保護液を吐出する吐出口５３を有している。保護液ノズル１７は、吐出口５３から基板Ｗ上の狙い位置Ｐ１に向かう吐出方向Ｄ２に保護液を吐出する。狙い位置Ｐ１は、基板Ｗの回転方向Ｄｒに関して噴射領域Ｔ１よりも上流側の位置である。吐出方向Ｄ２は、吐出口５３から狙い位置Ｐ１に向かう方向であると共に、平面視において吐出口５３からノズルＮに向かう方向である。吐出方向Ｄ２は、長手方向Ｄ１に対して傾いている。
【００５８】
保護液ノズル１７から吐出された保護液は、狙い位置Ｐ１において基板Ｗの上面に衝突することによって方向転換し、基板Ｗ上で広がりながら噴射領域Ｔ１の方へ基板Ｗの上面に沿って流れる。これにより、ノズルＮと基板Ｗの上面との間に保護液が進入し、噴射領域Ｔ１に保護液が供給される。
図４Ａおよび図４Ｂは、第１〜第３一次側バルブＰ１〜Ｐ３および第１〜第３二次側バルブＳ１〜Ｓ３の開閉動作を説明するためのタイミング表である。制御装置７は、バルブＰ１〜Ｐ３，Ｓ１〜Ｓ３を、図４Ａまたは図４Ｂに示すように開閉させる。この例では、制御単位時間としての一ステップは、たとえば５秒間である。
【００５９】
まず、図４Ａに示す第１動作例について説明する。
ステップ１，２は、待機状態である。ステップ３は、第１処理ユニット１において、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置まで移動させる第１ノズル移動ステップである。ステップ４−９は、第１処理ユニット１において第１ノズルＮ１から処理液の液滴を吐出させる第１ノズル処理ステップである。ステップ１０は、第１ノズルＮ１を処理位置から退避位置に移動させる第１ノズル移動ステップであり、同時に、第２処理ユニット２において第２ノズルＮ２を退避位置から処理位置へと移動させる第２ノズル移動ステップである。ステップ１１−１６は、第２処理ユニット２において第２ノズルＮ２から処理液の液滴を吐出させる第２ノズル処理ステップである。ステップ１７は、第２ノズルＮ２を処理位置から退避位置に移動させる第２ノズル移動ステップであり、同時に、第３処理ユニット３において第３ノズルＮ３を退避位置から処理位置へと移動させる第３ノズル移動ステップである。ステップ１８−２３は、第３処理ユニット３において第３ノズルＮ３から処理液の液滴を吐出させる第３ノズル処理ステップである。ステップ２４は、第３ノズルＮ３を処理位置から退避位置に移動させる第３ノズル移動ステップであり、同時に、第１処理ユニット１において第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置へと移動させる第１ノズル移動ステップである。ステップ２４の後、ステップ４に戻ることにより、第１、第２および第３処理ユニット１，２，３における基板処理を循環的に繰り返し実行することができる。基板処理を中断して待機状態とするときには、ステップ１に戻ればよい。
【００６０】
ステップ１，２（待機状態）では、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３は、いずれもそれぞれの退避位置に位置していて、制御装置７は、第１、第２および第３一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３および第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３を、いずれも開状態に制御している。また、制御装置７は、基板処理装置の運転中、常時、ポンプ５を運転状態に保持している。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第１、第２および第３分岐路１１，１２，１３に分岐し、それぞれ、第１、第２および第３一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３をそれぞれ通って、第１、第２および第３排液路２１，２２，２３からドレン配管２４に合流して排液される。第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第１、第２および第３ノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３は、いずれも退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。
【００６１】
ステップ３（第１ノズル移動ステップ）においては、制御装置７は、第１一次側バルブＰ１を閉じ、第２および第３一次側バルブＰ２，Ｐ３、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３をいずれも開状態に制御する。したがって、第１ノズルＮ１には処理液が供給されないので、この第１ノズルＮ１からは処理液が漏れ出なくなる。この状態で、制御装置７は、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置へと移動させる。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第２および第３分岐路１２，１３に分岐し、それぞれ、第２および第３一次側バルブＰ２，Ｐ３、第２および第３ノズルＮ２，Ｎ３、ならびに第２および第３二次側バルブＳ２，Ｓ３をそれぞれ通って、第２および第３排液路２２，２３からドレン配管２４に合流して排液される。したがって、第１一次側バルブＰ１を閉じても、配管内の液圧が過大になることはない。第２および第３ノズルＮ２，Ｎ３の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第２および第３ノズルＮ２，Ｎ３は、いずれも退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。ステップ３では、第１二次側バルブＳ１は閉状態とされてもよいが、図４Ａにはそれらを開状態に制御する例を示す。
【００６２】
ステップ４−９（第１ノズル処理ステップ）では、制御装置７は、第１一次側バルブＰ１を開いて第１二次側バルブＳ１を閉じる。さらに、制御装置７は、第２および第３一次側バルブＰ２，Ｐ３を閉じる。第２および第３二次側バルブＳ２，Ｓ３は、開状態でもよいし閉状態でもよいが、図４Ａには、それらを開状態に制御する例を示す。このようにして、第１ノズルＮ１において、第１一次側バルブＰ１が開かれ第２二次側バルブＳ１が閉じられるので、ノズル本体４６の内部空間の液圧が高まる。その結果、第１ノズルＮ１の吐出孔５２から液滴が吐出され、スピンチャックＣ１に保持された基板Ｗ上に供給される。第２および第３一次側バルブＰ２，Ｐ３が閉じられることにより、第２または第３ノズルＮ２，Ｎ３を通る流路はいずれも遮断されるので、第１ノズルＮ１に対して十分な液圧の処理液を供給できる。
【００６３】
ステップ１０（第１ノズル移動ステップおよび第２ノズル移動ステップ）においては、制御装置７は、第１一次側バルブＰ１および第２一次側バルブＰ２を閉じ、第３一次側バルブＰ３、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３を開状態に制御する。したがって、第１ノズルＮ１および第２ノズルＮ２には処理液が供給されないので、これらの第１ノズルＮ１および第２ノズルＮ２からは処理液が漏れ出なくなる。この状態で、制御装置７は、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を処理位置からへ退避位置と移動させる。また、制御装置７は、第２ノズル移動機構Ｍ２を制御して、第２ノズルＮ２を退避位置から処理位置へと移動させる。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第３分岐路１３に分岐し、第３一次側バルブＰ３、第３ノズルＮ３、および第３二次側バルブＳ３を順に通って、第３排液路２２からドレン配管２４へと排液される。したがって、第１一次側バルブＰ１および第２一次側バルブＰ２を閉じても、配管内の液圧が過大になることはない。第３ノズルＮ３の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第３ノズルＮ３は、退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。ステップ１０では、第１二次側バルブＳ１および第２二次側バルブＳ２は閉状態とされてもよいが、図４Ａにはそれらを開状態に制御する例を示す。
【００６４】
ステップ１１−１６（第２ノズル処理ステップ）では、制御装置７は、第２一次側バルブＰ２を開いて第２二次側バルブＳ２を閉じる。さらに、制御装置７は、第１および第３一次側バルブＰ１，Ｐ３を閉じる。第１および第３二次側バルブＳ１，Ｓ３は、開状態でもよいし閉状態でもよいが、図４Ａには、それらを開状態に制御する例を示す。このようにして、第２ノズルＮ２において、第２一次側バルブＰ２が開かれ第２二次側バルブＳ２が閉じられるので、ノズル本体４６の内部空間の液圧が高まる。その結果、第２ノズルＮ２の吐出孔５２から液滴が吐出され、スピンチャックＣ２に保持された基板Ｗ上に供給される。第１および第３一次側バルブＰ１，Ｐ３が閉じられることにより、第１または第３ノズルＮ１，Ｎ３を通る流路はいずれも遮断されるので、第２ノズルＮ２に対して十分な液圧の処理液を供給できる。
【００６５】
ステップ１７（第２ノズル移動ステップおよび第３ノズル移動ステップ）においては、制御装置７は、第２一次側バルブＰ２および第３一次側バルブＰ３を閉じ、第１一次側バルブＰ１、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３を開状態に制御する。したがって、第２ノズルＮ２および第３ノズルＮ３には処理液が供給されないので、これらの第２ノズルＮ２および第３ノズルＮ３からは処理液が漏れ出なくなる。この状態で、制御装置７は、第２ノズル移動機構Ｍ２を制御して、第２ノズルＮ２を処理位置からへ退避位置と移動させる。また、制御装置７は、第３ノズル移動機構Ｍ３を制御して、第３ノズルＮ３を退避位置から処理位置へと移動させる。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第１分岐路１１に分岐し、第１一次側バルブＰ１、第１ノズルＮ１、および第１二次側バルブＳ１を順に通って、第１排液路２１からドレン配管２４へと排液される。したがって、第２一次側バルブＰ２および第３一次側バルブＰ３を閉じても、配管内の液圧が過大になることはない。第１ノズルＮ１の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第１ノズルＮ１は、退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。ステップ１７では、第２二次側バルブＳ２および第３二次側バルブＳ３は閉状態とされてもよいが、図４Ａにはそれらを開状態に制御する例を示す。
【００６６】
ステップ１８−２３（第３ノズル処理ステップ）では、制御装置７は、第３一次側バルブＰ３を開いて第３二次側バルブＳ３を閉じる。さらに、制御装置７は、第１および第２一次側バルブＰ１，Ｐ２を閉じる。第１および第２二次側バルブＳ１，Ｓ２は、開状態でもよいし閉状態でもよいが、図４Ａには、それらを開状態に制御する例を示す。このようにして、第３ノズルＮ３において、第３一次側バルブＰ３が開かれ第３二次側バルブＳ３が閉じられるので、ノズル本体４６の内部空間の液圧が高まる。その結果、第３ノズルＮ３の吐出孔５２から液滴が吐出され、スピンチャックＣ３に保持された基板Ｗ上に供給される。第１および第２一次側バルブＰ１，Ｐ２が閉じられることにより、第１または第２ノズルＮ１，Ｎ２を通る流路はいずれも遮断されるので、第３ノズルＮ３に対して十分な液圧の処理液を供給できる。
【００６７】
ステップ２４（第３ノズル移動ステップおよび第１ノズル移動ステップ）においては、制御装置７は、第１一次側バルブＰ１および第３一次側バルブＰ３を閉じ、第２一次側バルブＰ２、ならびに第１、第２および第３二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３を開状態に制御する。したがって、第１ノズルＮ１および第３ノズルＮ３には処理液が供給されないので、これらの第１ノズルＮ１および第３ノズルＮ３からは処理液が漏れ出なくなる。この状態で、制御装置７は、第３ノズル移動機構Ｍ３を制御して、第３ノズルＮ３を処理位置から退避位置へと移動させる。また、制御装置７は、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置へと移動させる。このとき、ポンプ５から送り出された処理液は、処理液供給路６から第２分岐路１２に分岐し、第２一次側バルブＰ２、第２ノズルＮ２、および第２二次側バルブＳ２を順に通って、第２排液路２２からドレン配管２４へと排液される。したがって、第１一次側バルブＰ１および第３一次側バルブＰ３を閉じても、配管内の液圧が過大になることはない。第２ノズルＮ２の吐出孔５２から少量の処理液が漏れ出るおそれがあるが、第２ノズルＮ２は、退避位置にあるので、基板Ｗ上に処理液が落下するおそれはない。ステップ２４では、第１二次側バルブＳ１および第３二次側バルブＳ３は閉状態とされてもよいが、図４Ａにはそれらを開状態に制御する例を示す。
【００６８】
次に、図４Ｂに示す第２動作例について説明する。この第２動作例では、一つの処理ユニットにおける処理ステップの実行中において、同時に、別の処理ユニットにおいて、ノズルを退避位置から処理位置に移動させるノズル移動ステップが並行して行われる。そして、当該別の処理ユニットにおける処理ステップの実行中において、同時に、前記一つの処理ユニットにおいて、ノズルを処理位置から退避位置に移動させるノズル移動ステップが並行して行われる。以下、図４Ａの第１動作例との相違を具体的に説明する。
【００６９】
図４Ｂに示す第２動作例では、第１動作例において説明したステップ１０，１７，２４が省かれる。すなわち、第１処理ユニット１における処理ステップ４−９が終了すると、第１処理ユニット２における処理ステップ１１−１６が即座に開始される。さらに、第２処理ユニット２における処理ステップ１１−１６が終了すると、第３処理ユニット３における処理ステップ１８−２３が即座に開始される。さらに、第３処理ユニット３における処理ステップ１８−２３が終了すると、第１処理ユニット１における処理ステップ４−９が即座に開始される。ただし、第２処理ユニット３における処理ステップの後、待機状態とするときは、ステップ２４が実行される。
【００７０】
一方、第１処理ユニット１における処理ステップ４−９のうちの最後のステップ９（またはそれ以前のステップ）において、第２処理ユニット２においては、第２ノズルＮ２を退避位置から処理位置まで移動させるための第２ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第１処理ユニット１において第１ノズルＮ１を用いた基板処理が行われている間に、第２ノズル移動機構Ｍ２を制御して、第２ノズルＮ２を退避位置から処理位置まで移動させる。このとき、第２一次側バルブＰ２は閉状態に制御されているから、第２ノズルＮ２から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。さらに、第２処理ユニット２における処理ステップ１１−１６のうちの最初のステップ１１（またはそれ以後のステップ）において、第１処理ユニット１においては、第１ノズルＮ１を処理位置から退避位置まで移動させるための第１ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第２処理ユニット２において第２ノズルＮ２を用いた基板処理が行われている間に、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を処理位置から退避位置まで移動させる。このとき、第１一次側バルブＰ１は閉状態に制御されているから、第１ノズルＮ１から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。
【００７１】
同様に、第２処理ユニット２における処理ステップ１１−１６のうちの最後のステップ１６（またはそれ以前のステップ）において、第３処理ユニット３においては、第３ノズルＮ３を退避位置から処理位置まで移動させるための第３ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第２処理ユニット２において第２ノズルＮ２を用いた基板処理が行われている間に、第３ノズル移動機構Ｍ３を制御して、第３ノズルＮ３を退避位置から処理位置まで移動させる。このとき、第３一次側バルブＰ３は閉状態に制御されているから、第３ノズルＮ３から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。さらに、第３処理ユニット３における処理ステップ１８−２３のうちの最初のステップ１８（またはそれ以後のステップ）において、第２処理ユニット２においては、第２ノズルＮ２を処理位置から退避位置まで移動させるための第２ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第３処理ユニット３において第３ノズルＮ３を用いた基板処理が行われている間に、第２ノズル移動機構Ｍ２を制御して、第２ノズルＮ２を処理位置から退避位置まで移動させる。このとき、第２一次側バルブＰ２は閉状態に制御されているから、第２ノズルＮ２から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。
【００７２】
さらに同様に、第３処理ユニット３における処理ステップ１８−２３のうちの最後のステップ２３（またはそれ以前のステップ）において、第１処理ユニット１においては、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置まで移動させるための第１ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第３処理ユニット３において第３ノズルＮ３を用いた基板処理が行われている間に、第１ノズル移動機構Ｍ１を制御して、第１ノズルＮ１を退避位置から処理位置まで移動させる。このとき、第１一次側バルブＰ１は閉状態に制御されているから、第１ノズルＮ１から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。さらに、第１処理ユニット１における処理ステップ４−９のうちの最初のステップ４（またはそれ以後のステップ）において、第３処理ユニット３においては、第３ノズルＮ３を処理位置から退避位置まで移動させるための第３ノズル移動ステップが並行して行われる。すなわち、制御装置７は、第１処理ユニット１において第１ノズルＮ１を用いた基板処理が行われている間に、第３ノズル移動機構Ｍ３を制御して、第３ノズルＮ３を処理位置から退避位置まで移動させる。このとき、第３一次側バルブＰ３は閉状態に制御されているから、第３ノズルＮ３から基板Ｗ上に処理液が落下することはない。
【００７３】
ステップ２３の後、待機状態とするときには、ステップ２４（第３ノズルＮ３の退避位置への移動）の実行後に、ステップ１に戻ればよい。
図５は、第１〜第３処理ユニット１，２，３における処理の進行例（実施例）を説明するための図である。各処理ユニット１，２，３において基板Ｗに対して実行される全処理時間が９５秒間であり、そのうちノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３を用いたスプレー処理が３０秒（６ステップ分）であるものとする。残りの６５秒間には、たとえば、別のノズルを用いて基板Ｗ上に処理液を供給する液処理（薬液処理またはリンス処理）や、スピンチャックＣ１，Ｃ２，Ｃ３を高速回転させて基板Ｗ上の液を振り切るスピンドライ処理などが行われる。
【００７４】
図５に示された処理の進行例は、図４Ｂの動作例に従うものである。すなわち、第１処理ユニット１における処理ステップ（スプレー処理）の終了直後から、第２処理ユニット２における処理ステップ（スプレー処理）が始まっている。また、第２処理ユニット２における処理ステップ（スプレー処理）の終了直後から、第３処理ユニット３における処理ステップ（スプレー処理）が始まっている。第１、第２および第３処理ユニット１，２，３における処理ステップ（スプレー処理）の合計時間は９０秒（＝３０秒×３）であるので、全処理時間の９５秒に対して５秒間の余裕がある。こうして、ポンプ５を３つの処理ユニット１，２，３で共用しながら、基板Ｗに対する処理を効率的に行って生産性の向上を図ることができる。
【００７５】
図６は、比較例の構成における処理の進行例を説明するための図である。この比較例では、第１ノズルＮ１を退避位置と処理位置との間で移動させるとき、第２ノズルＮ２を退避位置と処理位置との間で移動させるとき、および第３ノズルＮ３を退避位置と処理位置との間で移動させるときに、ポンプ５が停止させられる。そして、ノズルが退避位置から処理位置に移動した後に、ポンプ５が作動開始し、圧込めステップ（たとえば５秒）の後に、基板Ｗに対する液滴の吐出が始まる。さらに、液滴による処理ステップ（スプレー処理）の終了後には、ポンプ５の動作が停止させられ、ノズル内の液滴の圧力を抜いて処理液が出ない状態とするための圧抜きステップ（たとえば５秒）が行われる。したがって、第１処理ユニット１での処理ステップと第２処理ユニット２での処理ステップとの間に、圧込めステップおよび圧抜きステップ（合計１０秒間）が必要となる。同様に、第２処理ユニット２での処理ステップと第３処理ユニット３での処理ステップとの間に、圧込めステップおよび圧抜きステップ（合計１０秒間）が必要となる。よって、図５の例と比較すると、一つの処理ユニットにおいて一枚の基板Ｗの処理に要する時間が１０秒間長くなる。しかも、第２処理ユニット２での処理ステップおよび圧抜きステップの終了から第１処理ユニット１における次の圧込めステップの開始までに５ステップ分（２５秒間）の余裕しかないので、この期間内に第３処理ユニット３での処理ステップを完了することができない。したがって、３つの処理ユニット１，２，３でポンプ５を共有するには、各処理ユニット１，２，３で待ち時間が生じることは避けられない。よって、図５のプロセス例に比較すると、生産性が良くない。
【００７６】
以上のように、この実施形態によれば、第１一次側バルブＰ１、第２一次側バルブＰ２および第３一次側バルブＰ３のいずれか一つを選択して開くことによって、一つのポンプ５を第１、第２および第３処理ユニット１，２，３での処理に共用できるから、構成が簡単になり、基板処理装置のコストを削減できる。そして、いずれかのノズルＮに対応した一次側バルブＰを閉じるときには、別のノズルＮに対応した一次側バルブＰおよび二次側バルブＳの組が開かれて、ポンプ５は駆動状態に保持される。たとえば、第１一次側バルブＰ１を閉じるときには、第２一次側バルブＰ２および第２二次側バルブＳ２の組、または第３一次側バルブＰ３および第３二次側バルブＳ２の組が開かれ、ポンプ５は駆動状態に保持される。よって、一次側バルブＰを閉じたノズルＮからの処理液吐出がただちに停止される一方で、他のノズルＮからは、必要に応じて速やかに処理液を吐出させることができる。つまり、ポンプ５が駆動状態に保持されるので、圧込め時間および圧抜き時間をいずれも解消できるから、第１、第２および第３処理ユニット１，２，３における基板処理時間を短縮して、基板処理の生産性を向上できる。しかも、一つのノズルＮの一次側バルブＰを閉じるときに、別のノズルＮの一次側ノズルＰおよび二次側ノズルＳの組を開くので、処理液供給路６等での液圧が過大になるおそれもない。また、一次側バルブを閉じることによって、それに対応するノズルＮから処理液が出なくなるから、当該ノズルＮから基板Ｗ上への処理液の落下を回避できる。このようにして、基板Ｗ上への処理液の落下を回避しつつ優れた生産性を実現でき、併せて、構成の簡素化およびコストの削減も可能な基板処理装置を提供できる。
【００７７】
また、この実施形態では、ノズルＮを退避位置と処理位置との間で移動させる期間に、当該ノズルＮに対応した一次側バルブＰが閉じられる。これにより、当該ノズルＮから処理液が漏出しないから、ノズルＮの移動中に、基板Ｗ上に不用意に処理液が落下することを回避でき、基板処理品質を向上できる。しかも、ポンプは駆動状態に保持されるから、ノズルＮを退避位置から処理位置まで移動させた後は、当該ノズルＮに対応する一次側バルブＰを開けば、ただちにそのノズルＮから処理液の吐出を開始できる。また、ノズルＮによる処理が終了した後は、ただちにそのノズルに対応する一次側バルブＰを閉じて、そのノズルＮを速やかに退避位置に戻すことができる。このようにして、基板処理に要する時間を短縮して、生産性を向上できる。
【００７８】
以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は、さらに別の形態で実施することもできる。たとえば、前述の実施形態では、３つの処理ユニット１，２，３で一つのポンプ５が共有される例を示したが、２つの処理ユニットで一つのポンプを共有したり、４つ以上の処理ユニットで一つのポンプを共有したりしてもよい。さらに、前述の実施形態では、複数の吐出孔５２を有する処理液ヘッドの形態を有するノズルＮを例示したが、より少ない数の吐出孔（たとえば一つの吐出孔）を有するノズルを用いてもよい。また、前述の実施形態では、基板Ｗを保持する基板保持機構としてのスピンチャックＣを備えた処理ユニット１，２，３を例示したが、基板Ｗを非回転状態で保持する別の形態の基板保持機構を用いてもよい。さらに、前述の実施形態では、円形の基板Ｗを例示したが、角形等の別の形状の基板の処理のためにこの発明が適用されてもよい。さらに、前述の実施形態の説明に用いた図面では、一次側バルブＰ１，Ｐ２，Ｐ３が個別に示されているが、これらは、一つのバルブユニットに一体化されていてもよい。同様に、二次側バルブＳ１，Ｓ２，Ｓ３も、個別のユニットであってもよいし、統合された一つのバルブユニットであってもよい。
【００７９】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００８０】
Ｎ ノズル
Ｎ１ 第１ノズル
Ｎ２ 第２ノズル
Ｎ３ 第３ノズル
Ｐ 一次側バルブ
Ｐ１ 第１一次側バルブ
Ｐ２ 第２一次側バルブ
Ｐ３ 第３一次側バルブ
Ｓ 二次側バルブ
Ｓ１ 第１二次側バルブ
Ｓ２ 第２二次側バルブ
Ｓ３ 第３二次側バルブ
Ｃ スピンチャック
Ｃ１ スピンチャック
Ｃ２ スピンチャック
Ｃ３ スピンチャック
Ｍ ノズル移動機構
Ｍ１ 第１ノズル移動機構
Ｍ２ 第２ノズル移動機構
Ｍ３ 第３ノズル移動機構
１ 第１処理ユニット
２ 第２処理ユニット
３ 第３処理ユニット
４ 処理液供給源
５ ポンプ
６ 処理液供給路
７ 制御装置
１０ 分岐路
１１ 第１分岐路
１２ 第２分岐路
１３ 第３分岐路
２０ 排液路
２１ 第１排液路
２２ 第２排液路
２３ 第３排液路
２４ ドレン配管
３４ 圧電素子
３６ 駆動回路
４０ ノズルアーム
４１ 回動機構
４２ 昇降機構
４６ ノズル本体
４９ 供給口
５０ 排出口
５１ 処理液流通路
５２ 吐出孔
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液によって基板を処理する第１処理ユニットおよび第２処理ユニットを有する基板処理装置であって、
処理液を加圧して送り出すポンプと、
前記ポンプに接続された処理液供給路と、
前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、
前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、
前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、
前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、
前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、
前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブを開く制御手段と
を含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記第１ノズルに接続された第１排液路と、
前記第２ノズルに接続された第２排液路と、
前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、
前記第２排液路に介装された第２二次側バルブとをさらに含み、
前記制御手段が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開く、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構をさらに含み、
前記制御手段は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じる、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有している、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
処理液によって基板を処理する第１処理ユニット、第２処理ユニットおよび第３処理ユニットを有する基板処理装置であって、
処理液を加圧して送り出すポンプと、
前記ポンプに接続された処理液供給路と、
前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第３分岐路と、
前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、
前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、
前記第３分岐路に接続され、前記第３処理ユニットに配置された第３ノズルと、
前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、
前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、
前記第３分岐路に介装された第３一次側バルブと、
前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開く制御手段と
を含む、基板処理装置。
【請求項６】
前記制御手段が、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開く、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記制御手段が、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第２一次側バルブを開く、請求項５または６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記第１ノズルに接続された第１排液路と、
前記第２ノズルに接続された第２排液路と、
前記第３ノズルに接続された第３排液路と、
前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、
前記第２排液路に介装された第２二次側バルブと、
前記第３排液路に介装された第３二次側バルブとをさらに含み、
前記制御手段が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開く、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記制御手段が、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開く、請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記制御手段が、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開く、請求項８または９に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構と、
前記第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第２ノズル移動機構と、
前記第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第３ノズル移動機構と
をさらに含み、
前記制御手段が、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じ、前記第２ノズル移動機構が前記第２ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第２一次側バルブを閉じ、前記第３ノズル移動機構が前記第３ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第３一次側バルブを閉じる、請求項９に係る請求項１０に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第３ノズルが、前記第３分岐路に接続された第３一次側開口と前記第３排液路に接続された第３二次側開口と複数の第３吐出孔とが形成された中空の第３ノズル本体を有し、前記複数の第３吐出孔から処理液の液滴を吐出する第３処理液ヘッドの形態を有している、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
処理液によって基板を処理する第１処理ユニットおよび第２処理ユニットを有する基板処理装置において実行される基板処理方法であって、
前記基板処理装置が、
処理液を加圧して送り出すポンプと、
前記ポンプに接続された処理液供給路と、
前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、
前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、
前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、
前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、
前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブとを含み、
前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブを開くステップを含む、基板処理方法。
【請求項１４】
前記基板処理装置が、
前記第１ノズルに接続された第１排液路と、
前記第２ノズルに接続された第２排液路と、
前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、
前記第２排液路に介装された第２二次側バルブとをさらに含み、
前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１３に記載の基板処理方法。
【請求項１５】
前記基板処理装置が、前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構をさらに含み、
前記基板処理方法は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じるステップを含む、請求項１４に記載の基板処理方法。
【請求項１６】
前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有している、請求項１４または１５に記載の基板処理方法。
【請求項１７】
処理液によって基板を処理する第１処理ユニット、第２処理ユニットおよび第３処理ユニットを有する基板処理装置において実行される基板処理方法であって、
前記基板処理装置は、
処理液を加圧して送り出すポンプと、
前記ポンプに接続された処理液供給路と、
前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第３分岐路と、
前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、
前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、
前記第３分岐路に接続され、前記第３処理ユニットに配置された第３ノズルと、
前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、
前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、
前記第３分岐路に介装された第３一次側バルブとを含み、
前記基板処理方法は、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開くステップを含む、基板処理方法。
【請求項１８】
前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１７に記載の基板処理方法。
【請求項１９】
前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第２一次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１７または１８に記載の基板処理方法。
【請求項２０】
前記基板処理装置が、
前記第１ノズルに接続された第１排液路と、
前記第２ノズルに接続された第２排液路と、
前記第３ノズルに接続された第３排液路と、
前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、
前記第２排液路に介装された第２二次側バルブと、
前記第３排液路に介装された第３二次側バルブとをさらに含み、
前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開くステップを含む、請求項１７に記載の基板処理方法。
【請求項２１】
前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開くステップを含む、請求項２０に記載の基板処理方法。
【請求項２２】
前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開くステップを含む、請求項２０または２１に記載の基板処理方法。
【請求項２３】
前記基板処理装置は、
前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構と、
前記第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第２ノズル移動機構と、
前記第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第３ノズル移動機構と
をさらに含み、
前記基板処理方法が、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じるステップと、前記第２ノズル移動機構が前記第２ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第２一次側バルブを閉じるステップと、前記第３ノズル移動機構が前記第３ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第３一次側バルブを閉じるステップとを含む、請求項２１に係る請求項２２に記載の基板処理方法。
【請求項２４】
前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第３ノズルが、前記第３分岐路に接続された第３一次側開口と前記第３排液路に接続された第３二次側開口と複数の第３吐出孔とが形成された中空の第３ノズル本体を有し、前記複数の第３吐出孔から処理液の液滴を吐出する第３処理液ヘッドの形態を有している、請求項２０〜２３のいずれか一項に記載の基板処理方法。
【請求項１】
処理液によって基板を処理する第１処理ユニットおよび第２処理ユニットを有する基板処理装置であって、
処理液を加圧して送り出すポンプと、
前記ポンプに接続された処理液供給路と、
前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、
前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、
前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、
前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、
前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、
前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブを開く制御手段と
を含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記第１ノズルに接続された第１排液路と、
前記第２ノズルに接続された第２排液路と、
前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、
前記第２排液路に介装された第２二次側バルブとをさらに含み、
前記制御手段が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開く、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構をさらに含み、
前記制御手段は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じる、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有している、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
処理液によって基板を処理する第１処理ユニット、第２処理ユニットおよび第３処理ユニットを有する基板処理装置であって、
処理液を加圧して送り出すポンプと、
前記ポンプに接続された処理液供給路と、
前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第３分岐路と、
前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、
前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、
前記第３分岐路に接続され、前記第３処理ユニットに配置された第３ノズルと、
前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、
前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、
前記第３分岐路に介装された第３一次側バルブと、
前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開く制御手段と
を含む、基板処理装置。
【請求項６】
前記制御手段が、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開く、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記制御手段が、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第２一次側バルブを開く、請求項５または６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記第１ノズルに接続された第１排液路と、
前記第２ノズルに接続された第２排液路と、
前記第３ノズルに接続された第３排液路と、
前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、
前記第２排液路に介装された第２二次側バルブと、
前記第３排液路に介装された第３二次側バルブとをさらに含み、
前記制御手段が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開く、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記制御手段が、前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開く、請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記制御手段が、前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開く、請求項８または９に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構と、
前記第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第２ノズル移動機構と、
前記第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第３ノズル移動機構と
をさらに含み、
前記制御手段が、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じ、前記第２ノズル移動機構が前記第２ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第２一次側バルブを閉じ、前記第３ノズル移動機構が前記第３ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第３一次側バルブを閉じる、請求項９に係る請求項１０に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第３ノズルが、前記第３分岐路に接続された第３一次側開口と前記第３排液路に接続された第３二次側開口と複数の第３吐出孔とが形成された中空の第３ノズル本体を有し、前記複数の第３吐出孔から処理液の液滴を吐出する第３処理液ヘッドの形態を有している、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
処理液によって基板を処理する第１処理ユニットおよび第２処理ユニットを有する基板処理装置において実行される基板処理方法であって、
前記基板処理装置が、
処理液を加圧して送り出すポンプと、
前記ポンプに接続された処理液供給路と、
前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、
前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、
前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、
前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、
前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブとを含み、
前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブを開くステップを含む、基板処理方法。
【請求項１４】
前記基板処理装置が、
前記第１ノズルに接続された第１排液路と、
前記第２ノズルに接続された第２排液路と、
前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、
前記第２排液路に介装された第２二次側バルブとをさらに含み、
前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１３に記載の基板処理方法。
【請求項１５】
前記基板処理装置が、前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構をさらに含み、
前記基板処理方法は、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じるステップを含む、請求項１４に記載の基板処理方法。
【請求項１６】
前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有している、請求項１４または１５に記載の基板処理方法。
【請求項１７】
処理液によって基板を処理する第１処理ユニット、第２処理ユニットおよび第３処理ユニットを有する基板処理装置において実行される基板処理方法であって、
前記基板処理装置は、
処理液を加圧して送り出すポンプと、
前記ポンプに接続された処理液供給路と、
前記処理液供給路から分岐した第１分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第２分岐路と、
前記処理液供給路から分岐した第３分岐路と、
前記第１分岐路に接続され、前記第１処理ユニットに配置された第１ノズルと、
前記第２分岐路に接続され、前記第２処理ユニットに配置された第２ノズルと、
前記第３分岐路に接続され、前記第３処理ユニットに配置された第３ノズルと、
前記第１分岐路に介装された第１一次側バルブと、
前記第２分岐路に介装された第２一次側バルブと、
前記第３分岐路に介装された第３一次側バルブとを含み、
前記基板処理方法は、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開くステップを含む、基板処理方法。
【請求項１８】
前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第３一次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１７に記載の基板処理方法。
【請求項１９】
前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブまたは前記第２一次側バルブを開くステップをさらに含む、請求項１７または１８に記載の基板処理方法。
【請求項２０】
前記基板処理装置が、
前記第１ノズルに接続された第１排液路と、
前記第２ノズルに接続された第２排液路と、
前記第３ノズルに接続された第３排液路と、
前記第１排液路に介装された第１二次側バルブと、
前記第２排液路に介装された第２二次側バルブと、
前記第３排液路に介装された第３二次側バルブとをさらに含み、
前記基板処理方法が、前記第１一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開くステップを含む、請求項１７に記載の基板処理方法。
【請求項２１】
前記第２一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第３一次側バルブおよび前記第３二次側バルブを開くステップを含む、請求項２０に記載の基板処理方法。
【請求項２２】
前記第３一次側バルブを閉じるときに、前記ポンプを駆動状態に保持したまま、前記第１一次側バルブおよび前記第１二次側バルブ、または前記第２一次側バルブおよび前記第２二次側バルブを開くステップを含む、請求項２０または２１に記載の基板処理方法。
【請求項２３】
前記基板処理装置は、
前記第１ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第１ノズル移動機構と、
前記第２ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第２ノズル移動機構と、
前記第３ノズルを退避位置と処理位置との間で移動させる第３ノズル移動機構と
をさらに含み、
前記基板処理方法が、前記第１ノズル移動機構が前記第１ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第１一次側バルブを閉じるステップと、前記第２ノズル移動機構が前記第２ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第２一次側バルブを閉じるステップと、前記第３ノズル移動機構が前記第３ノズルを前記退避位置と前記処理位置との間で移動させるときに、前記第３一次側バルブを閉じるステップとを含む、請求項２１に係る請求項２２に記載の基板処理方法。
【請求項２４】
前記第１ノズルが、前記第１分岐路に接続された第１一次側開口と前記第１排液路に接続された第１二次側開口と複数の第１吐出孔とが形成された中空の第１ノズル本体を有し、前記複数の第１吐出孔から処理液の液滴を吐出する第１処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第２ノズルが、前記第２分岐路に接続された第２一次側開口と前記第２排液路に接続された第２二次側開口と複数の第２吐出孔とが形成された中空の第２ノズル本体を有し、前記複数の第２吐出孔から処理液の液滴を吐出する第２処理液ヘッドの形態を有しており、
前記第３ノズルが、前記第３分岐路に接続された第３一次側開口と前記第３排液路に接続された第３二次側開口と複数の第３吐出孔とが形成された中空の第３ノズル本体を有し、前記複数の第３吐出孔から処理液の液滴を吐出する第３処理液ヘッドの形態を有している、請求項２０〜２３のいずれか一項に記載の基板処理方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１３−４８１７９（Ｐ２０１３−４８１７９Ａ）
【公開日】平成２５年３月７日（２０１３．３．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１８６２７４（Ｐ２０１１−１８６２７４）
【出願日】平成２３年８月２９日（２０１１．８．２９）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月７日（２０１３．３．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月２９日（２０１１．８．２９）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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