電磁弁
【課題】弁体に取り付けられたＯリングによって気密シールを行う電磁弁において、Ｏリングの耐脱落性、耐離脱性に優れ、しかも、何れの流体流れの使用でも、漏れを生じないようにすること。
【解決手段】弁体２３は、円柱形状をしており、先端部近傍の外周に、弁体２３と同心の溝底面２４Ａを有する円環状の周溝２４を形成する。弁体２３の周溝２４よりも先端部側の先端鍔部２３Ａの外径Ｄｃを、弁体２３の周溝２４よりも基端部側の部分、即ち、基端部２３Ｂの外径Ｄａより小さくし、周溝２４にゴム状弾性体製のＯリング２５を装着する。弁体２３の基端部２３Ｂの外周に、円筒状の外筒部材２６を嵌合装着し、外筒部材２６の先端側、つまり、下側部分２６Ａが弁体２３の軸線方向に見て周溝２４と重なる位置となるようにし、外筒部材２６の下側部分２６Ａによって周溝２４に装着されたＯリング２５の外周囲を取囲む。
【解決手段】弁体２３は、円柱形状をしており、先端部近傍の外周に、弁体２３と同心の溝底面２４Ａを有する円環状の周溝２４を形成する。弁体２３の周溝２４よりも先端部側の先端鍔部２３Ａの外径Ｄｃを、弁体２３の周溝２４よりも基端部側の部分、即ち、基端部２３Ｂの外径Ｄａより小さくし、周溝２４にゴム状弾性体製のＯリング２５を装着する。弁体２３の基端部２３Ｂの外周に、円筒状の外筒部材２６を嵌合装着し、外筒部材２６の先端側、つまり、下側部分２６Ａが弁体２３の軸線方向に見て周溝２４と重なる位置となるようにし、外筒部材２６の下側部分２６Ａによって周溝２４に装着されたＯリング２５の外周囲を取囲む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、電磁弁に関し、特に、弁体に取り付けられたＯリングによって気密シールを行う電磁弁に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電磁手段によって開閉駆動される弁体により弁ハウジングに形成されている弁ポートを開閉する電磁弁として、弁体に取り付けられたＯリングによって気密シールを行う電磁弁が知られている（例えば、特許文献１、２）。
【０００３】
Ｏリングが、弁体に形成された円環状の周溝に、単純に装着されているものであると（例えば、特許文献２）、弁体が配置される弁室側が常に１次側（高圧側）で、弁ポート側が２次側（低圧側）であれば、１次側の圧力がＯリングを周溝の底部側に押し付けるように作用するから、Ｏリングの背面側（Ｏリングと周溝底部との間）において、漏れの原因になるような間隙が生じることはない。
【０００４】
しかし、Ｏリングが、弁体に形成された円環状の周溝に、単純に装着されているものであると、凍結等によるＯリングの弁座部に対する固着や高流速下での使用では、Ｏリングの脱落、離脱の虞れがある。また、双方向流での使用等で、弁室側が２次側（低圧側）、弁ポート側が１次側（高圧側）になると、１次側の圧力がＯリングを拡径する方向に作用することになる。このため、Ｏリングの背面側（Ｏリングと周溝底部との間）に、漏れの原因になる間隙が生じ、漏れが生じ易くなる。
【０００５】
このことに対して、Ｏリングの外径側を円柱状の弁体に一体形成された円筒壁で取り囲み、弁体の先端面にねじ止めされた円盤状部材によってＯリングの内径側を取り囲んだＯリング取付構造のものがある（例えば、特許文献１）。
【０００６】
このＯリング取付構造の電磁弁では、Ｏリングの耐脱落性、耐離脱性が向上し、Ｏリングが脱落、離脱し難くなり、漏れの発生も改善される。
【０００７】
しかし、上述のＯリング取付構造では、円盤状部材が弁体の先端面にねじ止めされる構造であるため、円盤状部材の取付位置に関して、弁体との同心度が保証されていない。
【０００８】
このため、円盤状部材が弁体に対して少しでも偏心した位置に取り付けられていると、弁体を配置される弁室側が１次側（高圧側）で、弁ポート側が２次側（低圧側）である状態で、１次側の圧力がＯリングに縮径方向に作用し、Ｏリングの内径側が円盤状部材の外周面に押し付けられる際に、Ｏリングも円盤状部材の偏心取付状態に倣って偏心変形するようなことになり、内圧によるＯリングの取付初期歪の矯正効果も得られず、微少漏れを生じる虞れがある。
【特許文献１】特公平６−８９８５２号公報
【特許文献２】特開２００３−２６９６４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
この発明が解決しようとする課題は、弁体に取り付けられたＯリングによって気密シールを行う電磁弁において、Ｏリングの耐脱落性、耐離脱性に優れ、しかも、何れの流体流れの使用でも、漏れを生じないようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明による電磁弁は、電磁手段によって開閉駆動される弁体により弁ハウジングに形成されている弁ポートを開閉する電磁弁において、前記弁体は、円柱形状をしており、先端部近傍の外周に、当該弁体と同心の溝底面を有する円環状の周溝を形成され、前記周溝より先端部側の外径が前記周溝を隔てた他方の部位の外径より小さくなっており、前記周溝にゴム状弾性体製のＯリングが装着されており、前記弁体の前記周溝を隔てた他方の部位の外周に、円筒状の外筒部材が嵌合装着されており、当該外筒部材の先端側が前記弁体の軸線方向に見て前記周溝と重なる位置にあり、当該外筒部材が前記周溝に装着された前記Ｏリングを外周囲を取り囲んでおり、弁閉時に前記Ｏリングが前記弁ポートの周りの弁座面に当接することにより、気密シールを行う。
【００１１】
この発明による電磁弁は、好ましくは、前記Ｏリングは、前記弁体の軸線方向と同方向において前記周溝に非変形状態で装着されている。
【００１２】
この発明による電磁弁は、好ましくは、前記Ｏリングと前記周溝の内側壁との間に間隙がある。
【００１３】
この発明による電磁弁は、好ましくは、前記Ｏリングの中心径より前記弁ポートの内径が大きい。
【発明の効果】
【００１４】
この発明による電磁弁では、周溝に装着されたＯリングの外周囲が外筒部材によって取り囲まれているから、Ｏリングの耐脱落性、耐離脱性が得られ、凍結等によってＯリングが弁座部に固着しても、また、高流速下での使用でも、Ｏリングが脱落、離脱することがない。
【００１５】
また、この発明による電磁弁では、Ｏリングを装着される円環状の周溝の溝底面は、周溝の加工精度によって弁体との同心性を保証され、周溝に装着されたＯリングの外周囲を取り囲む外筒部材は、弁体の外周に嵌合装着されていることにより、弁体との同心性を保証される。
【００１６】
これにより、１次側の圧力がＯリングに縮径方向に作用してＯリングが周溝の溝底面に押し付けられる場合も、これとは反対に、１次側の圧力がＯリングに拡径方向に作用してＯリングが外筒部材の内周面に押し付けられる場合も、Ｏリングが偏心変形することがなく、内圧によるＯリングの取付初期歪の矯正効果も適正に得られ、何れの流体流れの使用でも、微少漏れを生じることがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
この発明による電磁弁の一つの実施形態を、図１を参照して説明する。
【００１８】
電磁弁は弁ハウジング１１を有する。弁ハウジング１１は、弁室１２、二つの流体出入ポート１３、１４、弁ポート１５を有する。弁ハウジング１１は、弁ポート１５の弁室１２の側の開口端の外周部に、円環突条状の弁座部１６を画定している。
【００１９】
弁ハウジング１１の上部には、Ｏリング１７を挟んで上部蓋部材１８がボルト１９によって固定装着されている。上部蓋部材１８は、電磁ソレノイド装置２０の円筒状のプランジャチューブ２１を一体形成されている。なお、弁ハウジング１１、上部蓋部材１８は、ともに、ＳＵＳ３１６等による非磁性金属によって構成されている。
【００２０】
プランジャチューブ２１内にはＳＵＳ４３０相当品等の磁性金属による円柱状のプランジャ２２が軸線方向（上下方向）に摺動可能に設けられている。プランジャ２２は、下端部に円柱状の弁体２３を一体に有している。弁体２３は弁室１２内にある。
【００２１】
次に、弁体２３に装着されるＯリング２５の取付構造を、図２を参照して説明する。弁体２３の先端部近傍の外周には周溝２４が形成されている。周溝２４は、弁体２３の外周加工との同心加工により形成され、その加工精度によって溝底面２４Ａと弁体２３との同心性を保証されている。
【００２２】
弁体２３の周溝２４よりも先端部側の先端鍔部２３Ａの外径Ｄｃは、弁体２３の周溝２４よりも基端側の部分、即ち、基端部２３Ｂの外径Ｄａより小さくなっている。周溝２４の図にて上側の内側壁２４Ｂは、弁体２３の軸線方向に直交する垂直面（水平面）であるが、先端鍔部２３Ａによって与えられる図にて下側の内側壁２４Ｃは溝底面２４Ａより外側に向けて下り勾配の傾斜面になっている。
【００２３】
周溝２４にはエチレンプロピレンゴム、水素化ニトリルゴム、シリコンゴム等のゴム状弾性体製のＯリング２５がはめ込み装着されている。Ｏリング２５は、弁閉時に弁ポート１５の周りの弁座部１６に当接することにより、気密シールを行う。
【００２４】
弁ポート１５の内径Ｄｆは、Ｏリング２５の中心径Ｄｅより大きく、Ｏリング２５は、（Ｄｆ−Ｄｅ）／２＝外側オフセット量ΔＥをもって弁座部１６に当接する。この外側オフセット量ΔＥは０．１５〜０．３０ｍｍ程度でよい。
【００２５】
外側オフセット量ΔＥがあることにより、Ｏリング２５は、弁座部１６の弁ポート１５の側の角縁部１６Ａに積極的に当接して角縁シールを行うようになり、耐低圧弁漏れ性が向上する。
【００２６】
なお、弁座部１６の角縁部１６Ａは、面取り加工あるいはＲ加工されていることが、Ｏリング２５の耐久性向上のために、好ましい。例えば、面取り加工の場合は、０．０５ｍｍ〜０．１ｍｍ程度でよい。
【００２７】
取付前のＯリング２５の内径Ｄｇ（図３参照）は、周溝２４の溝底面２４Ａの外径Ｄｂより小さい。これにより、Ｏリング２５は、径方向には初期変形を与えられた状態で、周溝２４に嵌合している。Ｄｂ−Ｄｇは、０．４〜０．５ｍｍ程度でよい。
【００２８】
Ｏリング２５と周溝２４の内側壁２４Ｃとの間には間隙Δｔが設けられている。これにより、Ｏリング２５は、弁体２３の軸線方向と同方向において周溝２４に非変形状態で装着される。間隙Δｔは０〜０．０５ｍｍ程度であればよい。
【００２９】
弁体２３の基端部２３Ｂの外周には、円筒状の外筒部材２６が嵌合装着されている。外筒部材２６の内径Ｄｄは、弁体２３の基端部２３Ｂの外径Ｄａにほぼ等しく、この嵌合関係によって、外筒部材２６は、弁体２３との同心性を保証されている。
【００３０】
外筒部材２６の先端側、つまり、下側部分２６Ａは、弁体２３の軸線方向（上下方向）に見て周溝２４と重なる位置にあり、この位置関係によって外筒部材２６の下側部分２６Ａは、周溝２４に装着されているＯリング２５の外周囲を取り囲んでいる。取付前のＯリング２５の外径Ｄｈ（図３参照）は、外筒部材２６の内径Ｄｄにほぼ等しい。
【００３１】
Ｏリング２５が外筒部材２６の先端と弁体２３の先端鍔部２３Ａとの間になす非拘束幅Ａは、Ｏリング２５の線径Ｄｏの７０％以下であることが好ましい。非拘束幅Ａがこれより大きいと、Ｏリング２５が外れ易くなる。
【００３２】
弁体２３は、降下移動によって弁座部１６に近づき、Ｏリング２５をもって弁座部１６に着座することにより、弁ポート１５を締め切って弁閉状態になり、上昇移動によって弁座部１６より離間することにより、弁ポート１５を開いて弁開状態になる。
【００３３】
図１に戻り、プランジャチューブ２１の上端部には、ＳＵＳ４３０相当品等の磁性金属による円柱状の吸引子２７が、プランジャチューブ２１の上端開口を閉じるように固定装着されている。プランジャチューブ２１、吸引子２７の外周は同一外径になっており、この外周部分に、樹脂モールドタイプの電磁コイル２８が、ボルト２９によって吸引子２７の上端部に固定された外凾３０と共に固定装着されている。
【００３４】
プランジャ２２の上端部と吸引子２７の下端部とは、プランジャチューブ２１内において上下軸線方向に相対向しており、吸引子２７は、通電による電磁コイル２８の励磁によって下端部に、プランジャ２２を磁気的に吸引する磁気吸引力を生じる。
【００３５】
吸引子２７の下端部中央には有底の下向き開口の受入孔３１が形成されている。受入孔３１には、ＳＵＳ３１６等による非磁性金属に構成された可動部材３２が軸線方向に移動可能に嵌合している。なお、言うまでもなく、受入孔３１の内周面と可動部材３２の外周面との間には、可動部材３２が受入孔３１内を軸線方向に円滑にスライドできるように、適切なクリアランスが設けられている。
【００３６】
受入孔３１の底部３３と対向する可動部材３２の上端部には、Ｏリング装着用凹部３４が形成されている。Ｏリング装着用凹部３４には、ゴム状弾性材製の緩衝部材として、エチレンプロピレンゴム等によるＯリング３５が、しまり嵌め状態で、装着されている。
【００３７】
これにより、受入孔３１の底部３３と、当該底部３３と対向する可動部材３２の上端部との間に、緩衝部材であるＯリング３５が配置される。更に、換言すると、吸引子２７の下端部に、ゴム状弾性材製の緩衝部材であるＯリング３５を挟んで可動部材３２が軸線方向に移動可能に設けられていることになる。
【００３８】
Ｏリング装着用凹部３４の深さＤｉ（図４（ａ）参照）は、圧縮されていない状態でのＯリング３５の線径Ｄｊ（図４（ａ）参照）より所定量ΔＰ（図４（ａ）参照）だけ大きい。これにより、Ｏリング装着用凹部３４に装着されたＯリング３５は、非圧縮状態において、可動部材３２の上端面３２Ａより所定量ΔＰだけ上方に（受入孔３１の底部３３の側に）突き出ており、この所定量ΔＰによる突き出し高さによって最大圧縮代を規定されている。
【００３９】
プランジャ２２の上端部中央には、受入孔３１の内径より充分に小さい外径の円環状突出部３６が形成されており、円環状突出部３６の上端面３６Ａが可動部材３２の下端面３２Ｂに当接する構造になっている。
【００４０】
吸引子２７の受入孔３１の周りに存在する円環状の下端面と、プランジャ２２の円環状突出部３６の周りに存在する円環状の上端面は、相対向し、それぞれ非接触の磁気吸引面３７、３８になっている。
【００４１】
図１に示されているように、電磁コイル２８が励磁されていない非通電状態（消磁状態）で、後述する離間ばね４１のばね力によってプランジャ２２が最降下位置にある状態、つまり、弁体２３がＯリング２５をもって弁座部１６に着座する弁閉状態において、磁気吸引面３７と３８との軸線方向間隙Ｌａ（図４（ａ）参照）は、同状態でのプランジャ２２の円環状突出部３６の上端面３６Ａと可動部材３２の下端面３２Ｂとの軸線方向間隙Ｌｂ（図４（ａ）参照）より、前記所定量ΔＰ以上に大きく設定されている。
【００４２】
このことにより、電磁コイル２８が励磁されてプランジャ２２の磁気吸引面３８が吸引子２７の磁気吸引面３７に磁気的に吸引されても、磁気吸引面３７と３８とは、当接しない非接触状態を保つ（図４（ｃ）参照）。
【００４３】
可動部材３２が受入孔３１の底部３３と対向する上端部とは反対の下端部には、凹形状のばね受け座部３９が形成されている。ばね受け座部３９とプランジャ２２の上端部に形成された凹形状のばね受け座部４０との間には、プランジャ２２を吸引子２７の下端部より引き離す方向、つまり、弁閉方向に付勢する離間ばね４１が挟まれている。なお、ばね受け座部３９、ばね受け座部４０は、離間ばね４１とすきま嵌めになる内径に設定されている。
【００４４】
プランジャ２２と可動部材３２とに、各々、均圧通路４２、４３、４４が形成されている。
【００４５】
つぎに、この実施形態による電磁弁の作動について、図１と図４（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。
【００４６】
図１、図４（ａ）に示されているように、電磁コイル２８が励磁されていない非通電状態（消磁状態）では、離間ばね４１のばね力によってプランジャ２２が押し下げられ、弁体２３がＯリング２５をもって弁座部１６に着座する弁閉状態になる。
【００４７】
この弁閉状態では、離間ばね４１のばね力によって、Ｏリング３５は、圧縮方向に実質的に弾性変形することなく、可動部材３２と受入孔３１の底部３３との間に軽く挟まれ、磁気吸引面３７と３８とが軸線方向間隙Ｌａをもって離れ、また、プランジャ２２の円環状突出部３６の上端面３６Ａと可動部材３２の下端面３２Ｂも軸線方向間隙Ｌｂをもって離れた状態になる。
【００４８】
電磁コイル２８に通電が行われ、電磁コイル２８が励磁すると、磁気吸引面３７、３８同士の磁気的吸引によってプランジャ２２が磁気吸引面３８をもって吸引子２７の磁気吸引面３７に磁気的に吸引され、プランジャ２２が離間ばね４１のばね力に抗して吸引子２７の下端部に近付く方向に軸線方向移動（上昇移動）する。
【００４９】
これにより、弁体２３のＯリング２５が弁座部１６より離間し、弁ポート１５が開かれ、弁開状態になる。このプランジャ２２の上昇移動により、図４（ｂ）に示されているように、プランジャ２２の円環状突出部３６の上端面３６Ａが可動部材３２の下端面３２Ｂに当接する。
【００５０】
この当接状態以降も、電磁コイル２８の励磁による磁気吸引によってプランジャ２２の磁気吸引面３８が吸引子２７の磁気吸引面３７に接近し、これに伴い可動部材３２がプランジャ２２の円環状突出部３６によって上方に押され、可動部材３２がＯリング３５を圧縮方向に弾性変形させながら受入孔３１内を上昇移動する。
【００５１】
この可動部材３２の上昇移動に伴うＯリング３５の弾性変形は、図４（ｃ）に示されているように、電磁コイル２８の励磁による磁気吸引力と、離間ばね４１のばね力と、Ｏリング３５の弾性変形による反発力とが釣り合う状態まで行われ、このＯリング３５の弾性変形によって、プランジャ２２と可動部材３２との衝突衝撃音の減衰が図られる。
【００５２】
電磁コイル２８の励磁による磁気吸引力と離間ばね４１のばね力とＯリング３５の弾性変形による反発力との釣り合い状態は、電磁コイル２８の励磁による磁気吸引力、離間ばね４１のばね力、Ｏリング３５のゴム硬さの選定により、可動部材３２の上端面３２Ａが受入孔３１の底部３３に当接する手前で得られ、この釣り合い状態で、可動部材３２の上端面３２Ａと受入孔３１の底部３３との間に微小間隙Ｇａが確保され、可動部材３２の上端面３２Ａが受入孔３１の底部３３に衝突することがない。したがって、この部分での衝突音の発生がない。
【００５３】
また、この釣り合い状態でも、プランジャ２２の磁気吸引面３８が吸引子２７の磁気吸引面３７に衝突することがなく、磁気吸引面３７と３８とは、間隙Ｇｂをもって非接触状態を維持される。したがって、この部分でも衝突音の発生がない。
【００５４】
上述の状態より弁開させる場合は、電磁コイル２８に対する通電を停止し、電磁コイル２８を消磁させる。これにより、吸引子２７の磁気的吸引力が消滅し、離間ばね４１のばね力によってプランジャ２２が吸引子２７の下端部より遠ざかる方向に軸線方向移動（降下移動）する。
【００５５】
このとき、ゴム状弾性材製のＯリング３５が受入孔３１の底部３３に固着した状態になっても、この固着は、吸引子２７と可動部材３２との間で生じるから、可動部材３２の動きが阻害されたとしても、プランジャ２２が吸引子２７の下端部より遠ざかる方向に軸線方向移動することが阻害されることがなく、プランジャ２２の降下移動により、弁体２３がＯリング２５をもって弁座部１６に着座する適正な弁閉状態が、支障なく得られる。
【００５６】
これらのことにより、プランジャ２２の固着、摺動障害等の他の不具合を生じることなく、正常な開閉弁作動を長期間に亘って保証した上で、作動時に生じる衝撃音が効果的に低減される。
【００５７】
周溝２４に装着されたＯリング２５は、外周囲を外筒部材２６によって取り囲まれているから、Ｏリング２５の耐脱落性、耐離脱性が得られ、凍結等によってＯリング２５が弁座部１６に固着しても、また、高流速下での使用でも、Ｏリング２５が脱落、離脱することがない。
【００５８】
つぎに、弁閉状態でのＯリング２５による気密シール作用について説明する。弁閉時には、図１に示されているように、Ｏリング２５が弁座部１６の弁ポート１５の側の角縁部１６Ａに当接し、Ｏリング２５は、この角縁部１６Ａと周溝２４の上側の内側壁２４Ｂとに挟まれて、これらに気密に密着する。
【００５９】
流体出入ポート１３が一次側で、流体出入ポート１４が二次側で、流体出入ポート１３→弁室１２→弁ポート１５→流体出入ポート１４と流体が流れる場合、一次圧がＯリング２５に縮径方向に作用し、Ｏリング２５が周溝２４の溝底面２４Ａに押し付けられる。これにより、Ｏリング２５の背面側（Ｏリング２５と溝底面２４Ａとの間）に、漏れの原因になるような間隙が生じることはない。
【００６０】
周溝２４の溝底面２４Ａは、周溝２４の加工精度によって弁体２３と同心性を保証されているから、Ｏリング２５が周溝２４の溝底面２４Ａに押し付けられても、Ｏリング２５は弁体２３との同心性を保つ。これにより、Ｏリング２５が偏心変形することがなく、内圧によるＯリング２５の取付初期歪の矯正効果も適切に得られ、微少漏れを生じることがない。
【００６１】
流体出入ポート１４が一次側で、流体出入ポート１３が二次側で、流体出入ポート１４→弁ポート１５→弁室１２→流体出入ポート１３と流体が流れる場合、一次圧がＯリング２５に拡径方向に作用し、Ｏリング２５が外筒部材２６の内周面２６Ｂに押し付けられる。これにより、Ｏリング２５と外筒部材２６の内周面２６Ｂとの間に、漏れの原因になるような間隙が生じることはない。
【００６２】
外筒部材２６は、弁体２３の外周に対する嵌合装着によって弁体２３と同心性を保証されているから、Ｏリング２５が外筒部材２６の内周面２６Ｂに押し付けられても、Ｏリング２５は弁体２３との同心性を保つ。これにより、この場合も、Ｏリング２５が偏心変形することがなく、内圧によるＯリング２５の取付初期歪の矯正効果も適切に得られ、微少漏れを生じることがない。
【００６３】
また、Ｏリング２５は、弁体２３の軸線方向と同方向には周溝２４に非変形状態で装着されているから、Ｏリング２５が弁座部１６と当たる部分が装着時の初期変形によって平面度を損なわれることがなく、この部分の平面度が保たれることにより、Ｏリング２５と弁座部１６との均一な密着性が向上する。このことによっても、弁漏れが生じ難くなる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】この発明による電磁弁の一つの実施形態を示す縦断面図である。
【図２】この発明による電磁弁の一つの実施形態の要部を示す拡大縦断面図である。
【図３】この発明による電磁弁の一つの実施形態で使用されるＯリングの拡大縦断面図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、実施形態１による電磁弁の作動状態を示す要部の縦断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１１ 弁ハウジング
１２ 弁室
１３、１４ 流体出入ポート
１５ 弁ポート
１６ 弁座部
１６Ａ 角縁部
１７、２５、３５ Ｏリング
１８ 上部蓋部材
１９、２９ ボルト
２０ 電磁ソレノイド装置
２１ プランジャチューブ
２２ プランジャ
２３ 弁体
２３Ａ 先端鍔部
２３Ｂ 基端部
２４ 周溝
２４Ａ 溝底面
２４Ｂ、２４Ｃ 内側壁
２６ 外筒部材
２６Ａ 下側部分
２６Ｂ 内周面
２７ 吸引子
２８ 電磁コイル
３０ 外凾
３１ 受入孔
３２ 可動部材
３２Ａ、３６Ａ 上端面
３２Ｂ 下端面
３３ 底部
３４ Ｏリング装着用凹部
３６ 円環状突出部
３７、３８ 磁気吸引面
３９ ４０ ばね受け座部
４１ 離間ばね
４２、４３、４４ 均圧通路
【技術分野】
【０００１】
この発明は、電磁弁に関し、特に、弁体に取り付けられたＯリングによって気密シールを行う電磁弁に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電磁手段によって開閉駆動される弁体により弁ハウジングに形成されている弁ポートを開閉する電磁弁として、弁体に取り付けられたＯリングによって気密シールを行う電磁弁が知られている（例えば、特許文献１、２）。
【０００３】
Ｏリングが、弁体に形成された円環状の周溝に、単純に装着されているものであると（例えば、特許文献２）、弁体が配置される弁室側が常に１次側（高圧側）で、弁ポート側が２次側（低圧側）であれば、１次側の圧力がＯリングを周溝の底部側に押し付けるように作用するから、Ｏリングの背面側（Ｏリングと周溝底部との間）において、漏れの原因になるような間隙が生じることはない。
【０００４】
しかし、Ｏリングが、弁体に形成された円環状の周溝に、単純に装着されているものであると、凍結等によるＯリングの弁座部に対する固着や高流速下での使用では、Ｏリングの脱落、離脱の虞れがある。また、双方向流での使用等で、弁室側が２次側（低圧側）、弁ポート側が１次側（高圧側）になると、１次側の圧力がＯリングを拡径する方向に作用することになる。このため、Ｏリングの背面側（Ｏリングと周溝底部との間）に、漏れの原因になる間隙が生じ、漏れが生じ易くなる。
【０００５】
このことに対して、Ｏリングの外径側を円柱状の弁体に一体形成された円筒壁で取り囲み、弁体の先端面にねじ止めされた円盤状部材によってＯリングの内径側を取り囲んだＯリング取付構造のものがある（例えば、特許文献１）。
【０００６】
このＯリング取付構造の電磁弁では、Ｏリングの耐脱落性、耐離脱性が向上し、Ｏリングが脱落、離脱し難くなり、漏れの発生も改善される。
【０００７】
しかし、上述のＯリング取付構造では、円盤状部材が弁体の先端面にねじ止めされる構造であるため、円盤状部材の取付位置に関して、弁体との同心度が保証されていない。
【０００８】
このため、円盤状部材が弁体に対して少しでも偏心した位置に取り付けられていると、弁体を配置される弁室側が１次側（高圧側）で、弁ポート側が２次側（低圧側）である状態で、１次側の圧力がＯリングに縮径方向に作用し、Ｏリングの内径側が円盤状部材の外周面に押し付けられる際に、Ｏリングも円盤状部材の偏心取付状態に倣って偏心変形するようなことになり、内圧によるＯリングの取付初期歪の矯正効果も得られず、微少漏れを生じる虞れがある。
【特許文献１】特公平６−８９８５２号公報
【特許文献２】特開２００３−２６９６４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
この発明が解決しようとする課題は、弁体に取り付けられたＯリングによって気密シールを行う電磁弁において、Ｏリングの耐脱落性、耐離脱性に優れ、しかも、何れの流体流れの使用でも、漏れを生じないようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明による電磁弁は、電磁手段によって開閉駆動される弁体により弁ハウジングに形成されている弁ポートを開閉する電磁弁において、前記弁体は、円柱形状をしており、先端部近傍の外周に、当該弁体と同心の溝底面を有する円環状の周溝を形成され、前記周溝より先端部側の外径が前記周溝を隔てた他方の部位の外径より小さくなっており、前記周溝にゴム状弾性体製のＯリングが装着されており、前記弁体の前記周溝を隔てた他方の部位の外周に、円筒状の外筒部材が嵌合装着されており、当該外筒部材の先端側が前記弁体の軸線方向に見て前記周溝と重なる位置にあり、当該外筒部材が前記周溝に装着された前記Ｏリングを外周囲を取り囲んでおり、弁閉時に前記Ｏリングが前記弁ポートの周りの弁座面に当接することにより、気密シールを行う。
【００１１】
この発明による電磁弁は、好ましくは、前記Ｏリングは、前記弁体の軸線方向と同方向において前記周溝に非変形状態で装着されている。
【００１２】
この発明による電磁弁は、好ましくは、前記Ｏリングと前記周溝の内側壁との間に間隙がある。
【００１３】
この発明による電磁弁は、好ましくは、前記Ｏリングの中心径より前記弁ポートの内径が大きい。
【発明の効果】
【００１４】
この発明による電磁弁では、周溝に装着されたＯリングの外周囲が外筒部材によって取り囲まれているから、Ｏリングの耐脱落性、耐離脱性が得られ、凍結等によってＯリングが弁座部に固着しても、また、高流速下での使用でも、Ｏリングが脱落、離脱することがない。
【００１５】
また、この発明による電磁弁では、Ｏリングを装着される円環状の周溝の溝底面は、周溝の加工精度によって弁体との同心性を保証され、周溝に装着されたＯリングの外周囲を取り囲む外筒部材は、弁体の外周に嵌合装着されていることにより、弁体との同心性を保証される。
【００１６】
これにより、１次側の圧力がＯリングに縮径方向に作用してＯリングが周溝の溝底面に押し付けられる場合も、これとは反対に、１次側の圧力がＯリングに拡径方向に作用してＯリングが外筒部材の内周面に押し付けられる場合も、Ｏリングが偏心変形することがなく、内圧によるＯリングの取付初期歪の矯正効果も適正に得られ、何れの流体流れの使用でも、微少漏れを生じることがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
この発明による電磁弁の一つの実施形態を、図１を参照して説明する。
【００１８】
電磁弁は弁ハウジング１１を有する。弁ハウジング１１は、弁室１２、二つの流体出入ポート１３、１４、弁ポート１５を有する。弁ハウジング１１は、弁ポート１５の弁室１２の側の開口端の外周部に、円環突条状の弁座部１６を画定している。
【００１９】
弁ハウジング１１の上部には、Ｏリング１７を挟んで上部蓋部材１８がボルト１９によって固定装着されている。上部蓋部材１８は、電磁ソレノイド装置２０の円筒状のプランジャチューブ２１を一体形成されている。なお、弁ハウジング１１、上部蓋部材１８は、ともに、ＳＵＳ３１６等による非磁性金属によって構成されている。
【００２０】
プランジャチューブ２１内にはＳＵＳ４３０相当品等の磁性金属による円柱状のプランジャ２２が軸線方向（上下方向）に摺動可能に設けられている。プランジャ２２は、下端部に円柱状の弁体２３を一体に有している。弁体２３は弁室１２内にある。
【００２１】
次に、弁体２３に装着されるＯリング２５の取付構造を、図２を参照して説明する。弁体２３の先端部近傍の外周には周溝２４が形成されている。周溝２４は、弁体２３の外周加工との同心加工により形成され、その加工精度によって溝底面２４Ａと弁体２３との同心性を保証されている。
【００２２】
弁体２３の周溝２４よりも先端部側の先端鍔部２３Ａの外径Ｄｃは、弁体２３の周溝２４よりも基端側の部分、即ち、基端部２３Ｂの外径Ｄａより小さくなっている。周溝２４の図にて上側の内側壁２４Ｂは、弁体２３の軸線方向に直交する垂直面（水平面）であるが、先端鍔部２３Ａによって与えられる図にて下側の内側壁２４Ｃは溝底面２４Ａより外側に向けて下り勾配の傾斜面になっている。
【００２３】
周溝２４にはエチレンプロピレンゴム、水素化ニトリルゴム、シリコンゴム等のゴム状弾性体製のＯリング２５がはめ込み装着されている。Ｏリング２５は、弁閉時に弁ポート１５の周りの弁座部１６に当接することにより、気密シールを行う。
【００２４】
弁ポート１５の内径Ｄｆは、Ｏリング２５の中心径Ｄｅより大きく、Ｏリング２５は、（Ｄｆ−Ｄｅ）／２＝外側オフセット量ΔＥをもって弁座部１６に当接する。この外側オフセット量ΔＥは０．１５〜０．３０ｍｍ程度でよい。
【００２５】
外側オフセット量ΔＥがあることにより、Ｏリング２５は、弁座部１６の弁ポート１５の側の角縁部１６Ａに積極的に当接して角縁シールを行うようになり、耐低圧弁漏れ性が向上する。
【００２６】
なお、弁座部１６の角縁部１６Ａは、面取り加工あるいはＲ加工されていることが、Ｏリング２５の耐久性向上のために、好ましい。例えば、面取り加工の場合は、０．０５ｍｍ〜０．１ｍｍ程度でよい。
【００２７】
取付前のＯリング２５の内径Ｄｇ（図３参照）は、周溝２４の溝底面２４Ａの外径Ｄｂより小さい。これにより、Ｏリング２５は、径方向には初期変形を与えられた状態で、周溝２４に嵌合している。Ｄｂ−Ｄｇは、０．４〜０．５ｍｍ程度でよい。
【００２８】
Ｏリング２５と周溝２４の内側壁２４Ｃとの間には間隙Δｔが設けられている。これにより、Ｏリング２５は、弁体２３の軸線方向と同方向において周溝２４に非変形状態で装着される。間隙Δｔは０〜０．０５ｍｍ程度であればよい。
【００２９】
弁体２３の基端部２３Ｂの外周には、円筒状の外筒部材２６が嵌合装着されている。外筒部材２６の内径Ｄｄは、弁体２３の基端部２３Ｂの外径Ｄａにほぼ等しく、この嵌合関係によって、外筒部材２６は、弁体２３との同心性を保証されている。
【００３０】
外筒部材２６の先端側、つまり、下側部分２６Ａは、弁体２３の軸線方向（上下方向）に見て周溝２４と重なる位置にあり、この位置関係によって外筒部材２６の下側部分２６Ａは、周溝２４に装着されているＯリング２５の外周囲を取り囲んでいる。取付前のＯリング２５の外径Ｄｈ（図３参照）は、外筒部材２６の内径Ｄｄにほぼ等しい。
【００３１】
Ｏリング２５が外筒部材２６の先端と弁体２３の先端鍔部２３Ａとの間になす非拘束幅Ａは、Ｏリング２５の線径Ｄｏの７０％以下であることが好ましい。非拘束幅Ａがこれより大きいと、Ｏリング２５が外れ易くなる。
【００３２】
弁体２３は、降下移動によって弁座部１６に近づき、Ｏリング２５をもって弁座部１６に着座することにより、弁ポート１５を締め切って弁閉状態になり、上昇移動によって弁座部１６より離間することにより、弁ポート１５を開いて弁開状態になる。
【００３３】
図１に戻り、プランジャチューブ２１の上端部には、ＳＵＳ４３０相当品等の磁性金属による円柱状の吸引子２７が、プランジャチューブ２１の上端開口を閉じるように固定装着されている。プランジャチューブ２１、吸引子２７の外周は同一外径になっており、この外周部分に、樹脂モールドタイプの電磁コイル２８が、ボルト２９によって吸引子２７の上端部に固定された外凾３０と共に固定装着されている。
【００３４】
プランジャ２２の上端部と吸引子２７の下端部とは、プランジャチューブ２１内において上下軸線方向に相対向しており、吸引子２７は、通電による電磁コイル２８の励磁によって下端部に、プランジャ２２を磁気的に吸引する磁気吸引力を生じる。
【００３５】
吸引子２７の下端部中央には有底の下向き開口の受入孔３１が形成されている。受入孔３１には、ＳＵＳ３１６等による非磁性金属に構成された可動部材３２が軸線方向に移動可能に嵌合している。なお、言うまでもなく、受入孔３１の内周面と可動部材３２の外周面との間には、可動部材３２が受入孔３１内を軸線方向に円滑にスライドできるように、適切なクリアランスが設けられている。
【００３６】
受入孔３１の底部３３と対向する可動部材３２の上端部には、Ｏリング装着用凹部３４が形成されている。Ｏリング装着用凹部３４には、ゴム状弾性材製の緩衝部材として、エチレンプロピレンゴム等によるＯリング３５が、しまり嵌め状態で、装着されている。
【００３７】
これにより、受入孔３１の底部３３と、当該底部３３と対向する可動部材３２の上端部との間に、緩衝部材であるＯリング３５が配置される。更に、換言すると、吸引子２７の下端部に、ゴム状弾性材製の緩衝部材であるＯリング３５を挟んで可動部材３２が軸線方向に移動可能に設けられていることになる。
【００３８】
Ｏリング装着用凹部３４の深さＤｉ（図４（ａ）参照）は、圧縮されていない状態でのＯリング３５の線径Ｄｊ（図４（ａ）参照）より所定量ΔＰ（図４（ａ）参照）だけ大きい。これにより、Ｏリング装着用凹部３４に装着されたＯリング３５は、非圧縮状態において、可動部材３２の上端面３２Ａより所定量ΔＰだけ上方に（受入孔３１の底部３３の側に）突き出ており、この所定量ΔＰによる突き出し高さによって最大圧縮代を規定されている。
【００３９】
プランジャ２２の上端部中央には、受入孔３１の内径より充分に小さい外径の円環状突出部３６が形成されており、円環状突出部３６の上端面３６Ａが可動部材３２の下端面３２Ｂに当接する構造になっている。
【００４０】
吸引子２７の受入孔３１の周りに存在する円環状の下端面と、プランジャ２２の円環状突出部３６の周りに存在する円環状の上端面は、相対向し、それぞれ非接触の磁気吸引面３７、３８になっている。
【００４１】
図１に示されているように、電磁コイル２８が励磁されていない非通電状態（消磁状態）で、後述する離間ばね４１のばね力によってプランジャ２２が最降下位置にある状態、つまり、弁体２３がＯリング２５をもって弁座部１６に着座する弁閉状態において、磁気吸引面３７と３８との軸線方向間隙Ｌａ（図４（ａ）参照）は、同状態でのプランジャ２２の円環状突出部３６の上端面３６Ａと可動部材３２の下端面３２Ｂとの軸線方向間隙Ｌｂ（図４（ａ）参照）より、前記所定量ΔＰ以上に大きく設定されている。
【００４２】
このことにより、電磁コイル２８が励磁されてプランジャ２２の磁気吸引面３８が吸引子２７の磁気吸引面３７に磁気的に吸引されても、磁気吸引面３７と３８とは、当接しない非接触状態を保つ（図４（ｃ）参照）。
【００４３】
可動部材３２が受入孔３１の底部３３と対向する上端部とは反対の下端部には、凹形状のばね受け座部３９が形成されている。ばね受け座部３９とプランジャ２２の上端部に形成された凹形状のばね受け座部４０との間には、プランジャ２２を吸引子２７の下端部より引き離す方向、つまり、弁閉方向に付勢する離間ばね４１が挟まれている。なお、ばね受け座部３９、ばね受け座部４０は、離間ばね４１とすきま嵌めになる内径に設定されている。
【００４４】
プランジャ２２と可動部材３２とに、各々、均圧通路４２、４３、４４が形成されている。
【００４５】
つぎに、この実施形態による電磁弁の作動について、図１と図４（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。
【００４６】
図１、図４（ａ）に示されているように、電磁コイル２８が励磁されていない非通電状態（消磁状態）では、離間ばね４１のばね力によってプランジャ２２が押し下げられ、弁体２３がＯリング２５をもって弁座部１６に着座する弁閉状態になる。
【００４７】
この弁閉状態では、離間ばね４１のばね力によって、Ｏリング３５は、圧縮方向に実質的に弾性変形することなく、可動部材３２と受入孔３１の底部３３との間に軽く挟まれ、磁気吸引面３７と３８とが軸線方向間隙Ｌａをもって離れ、また、プランジャ２２の円環状突出部３６の上端面３６Ａと可動部材３２の下端面３２Ｂも軸線方向間隙Ｌｂをもって離れた状態になる。
【００４８】
電磁コイル２８に通電が行われ、電磁コイル２８が励磁すると、磁気吸引面３７、３８同士の磁気的吸引によってプランジャ２２が磁気吸引面３８をもって吸引子２７の磁気吸引面３７に磁気的に吸引され、プランジャ２２が離間ばね４１のばね力に抗して吸引子２７の下端部に近付く方向に軸線方向移動（上昇移動）する。
【００４９】
これにより、弁体２３のＯリング２５が弁座部１６より離間し、弁ポート１５が開かれ、弁開状態になる。このプランジャ２２の上昇移動により、図４（ｂ）に示されているように、プランジャ２２の円環状突出部３６の上端面３６Ａが可動部材３２の下端面３２Ｂに当接する。
【００５０】
この当接状態以降も、電磁コイル２８の励磁による磁気吸引によってプランジャ２２の磁気吸引面３８が吸引子２７の磁気吸引面３７に接近し、これに伴い可動部材３２がプランジャ２２の円環状突出部３６によって上方に押され、可動部材３２がＯリング３５を圧縮方向に弾性変形させながら受入孔３１内を上昇移動する。
【００５１】
この可動部材３２の上昇移動に伴うＯリング３５の弾性変形は、図４（ｃ）に示されているように、電磁コイル２８の励磁による磁気吸引力と、離間ばね４１のばね力と、Ｏリング３５の弾性変形による反発力とが釣り合う状態まで行われ、このＯリング３５の弾性変形によって、プランジャ２２と可動部材３２との衝突衝撃音の減衰が図られる。
【００５２】
電磁コイル２８の励磁による磁気吸引力と離間ばね４１のばね力とＯリング３５の弾性変形による反発力との釣り合い状態は、電磁コイル２８の励磁による磁気吸引力、離間ばね４１のばね力、Ｏリング３５のゴム硬さの選定により、可動部材３２の上端面３２Ａが受入孔３１の底部３３に当接する手前で得られ、この釣り合い状態で、可動部材３２の上端面３２Ａと受入孔３１の底部３３との間に微小間隙Ｇａが確保され、可動部材３２の上端面３２Ａが受入孔３１の底部３３に衝突することがない。したがって、この部分での衝突音の発生がない。
【００５３】
また、この釣り合い状態でも、プランジャ２２の磁気吸引面３８が吸引子２７の磁気吸引面３７に衝突することがなく、磁気吸引面３７と３８とは、間隙Ｇｂをもって非接触状態を維持される。したがって、この部分でも衝突音の発生がない。
【００５４】
上述の状態より弁開させる場合は、電磁コイル２８に対する通電を停止し、電磁コイル２８を消磁させる。これにより、吸引子２７の磁気的吸引力が消滅し、離間ばね４１のばね力によってプランジャ２２が吸引子２７の下端部より遠ざかる方向に軸線方向移動（降下移動）する。
【００５５】
このとき、ゴム状弾性材製のＯリング３５が受入孔３１の底部３３に固着した状態になっても、この固着は、吸引子２７と可動部材３２との間で生じるから、可動部材３２の動きが阻害されたとしても、プランジャ２２が吸引子２７の下端部より遠ざかる方向に軸線方向移動することが阻害されることがなく、プランジャ２２の降下移動により、弁体２３がＯリング２５をもって弁座部１６に着座する適正な弁閉状態が、支障なく得られる。
【００５６】
これらのことにより、プランジャ２２の固着、摺動障害等の他の不具合を生じることなく、正常な開閉弁作動を長期間に亘って保証した上で、作動時に生じる衝撃音が効果的に低減される。
【００５７】
周溝２４に装着されたＯリング２５は、外周囲を外筒部材２６によって取り囲まれているから、Ｏリング２５の耐脱落性、耐離脱性が得られ、凍結等によってＯリング２５が弁座部１６に固着しても、また、高流速下での使用でも、Ｏリング２５が脱落、離脱することがない。
【００５８】
つぎに、弁閉状態でのＯリング２５による気密シール作用について説明する。弁閉時には、図１に示されているように、Ｏリング２５が弁座部１６の弁ポート１５の側の角縁部１６Ａに当接し、Ｏリング２５は、この角縁部１６Ａと周溝２４の上側の内側壁２４Ｂとに挟まれて、これらに気密に密着する。
【００５９】
流体出入ポート１３が一次側で、流体出入ポート１４が二次側で、流体出入ポート１３→弁室１２→弁ポート１５→流体出入ポート１４と流体が流れる場合、一次圧がＯリング２５に縮径方向に作用し、Ｏリング２５が周溝２４の溝底面２４Ａに押し付けられる。これにより、Ｏリング２５の背面側（Ｏリング２５と溝底面２４Ａとの間）に、漏れの原因になるような間隙が生じることはない。
【００６０】
周溝２４の溝底面２４Ａは、周溝２４の加工精度によって弁体２３と同心性を保証されているから、Ｏリング２５が周溝２４の溝底面２４Ａに押し付けられても、Ｏリング２５は弁体２３との同心性を保つ。これにより、Ｏリング２５が偏心変形することがなく、内圧によるＯリング２５の取付初期歪の矯正効果も適切に得られ、微少漏れを生じることがない。
【００６１】
流体出入ポート１４が一次側で、流体出入ポート１３が二次側で、流体出入ポート１４→弁ポート１５→弁室１２→流体出入ポート１３と流体が流れる場合、一次圧がＯリング２５に拡径方向に作用し、Ｏリング２５が外筒部材２６の内周面２６Ｂに押し付けられる。これにより、Ｏリング２５と外筒部材２６の内周面２６Ｂとの間に、漏れの原因になるような間隙が生じることはない。
【００６２】
外筒部材２６は、弁体２３の外周に対する嵌合装着によって弁体２３と同心性を保証されているから、Ｏリング２５が外筒部材２６の内周面２６Ｂに押し付けられても、Ｏリング２５は弁体２３との同心性を保つ。これにより、この場合も、Ｏリング２５が偏心変形することがなく、内圧によるＯリング２５の取付初期歪の矯正効果も適切に得られ、微少漏れを生じることがない。
【００６３】
また、Ｏリング２５は、弁体２３の軸線方向と同方向には周溝２４に非変形状態で装着されているから、Ｏリング２５が弁座部１６と当たる部分が装着時の初期変形によって平面度を損なわれることがなく、この部分の平面度が保たれることにより、Ｏリング２５と弁座部１６との均一な密着性が向上する。このことによっても、弁漏れが生じ難くなる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】この発明による電磁弁の一つの実施形態を示す縦断面図である。
【図２】この発明による電磁弁の一つの実施形態の要部を示す拡大縦断面図である。
【図３】この発明による電磁弁の一つの実施形態で使用されるＯリングの拡大縦断面図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、実施形態１による電磁弁の作動状態を示す要部の縦断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１１ 弁ハウジング
１２ 弁室
１３、１４ 流体出入ポート
１５ 弁ポート
１６ 弁座部
１６Ａ 角縁部
１７、２５、３５ Ｏリング
１８ 上部蓋部材
１９、２９ ボルト
２０ 電磁ソレノイド装置
２１ プランジャチューブ
２２ プランジャ
２３ 弁体
２３Ａ 先端鍔部
２３Ｂ 基端部
２４ 周溝
２４Ａ 溝底面
２４Ｂ、２４Ｃ 内側壁
２６ 外筒部材
２６Ａ 下側部分
２６Ｂ 内周面
２７ 吸引子
２８ 電磁コイル
３０ 外凾
３１ 受入孔
３２ 可動部材
３２Ａ、３６Ａ 上端面
３２Ｂ 下端面
３３ 底部
３４ Ｏリング装着用凹部
３６ 円環状突出部
３７、３８ 磁気吸引面
３９ ４０ ばね受け座部
４１ 離間ばね
４２、４３、４４ 均圧通路
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁手段によって開閉駆動される弁体により弁ハウジングに形成されている弁ポートを開閉する電磁弁において、
前記弁体は、円柱形状をしており、先端部近傍の外周に、当該弁体と同心の溝底面を有する円環状の周溝を形成され、前記周溝より先端部側の外径が前記周溝を隔てた他方の部位の外径より小さくなっており、
前記周溝にゴム状弾性体製のＯリングが装着されており、
前記弁体の前記周溝を隔てた他方の部位の外周に、円筒状の外筒部材が嵌合装着されており、当該外筒部材の先端側が前記弁体の軸線方向に見て前記周溝と重なる位置にあり、当該外筒部材が前記周溝に装着された前記Ｏリングの外周囲を取り囲んでおり、
弁閉時に前記Ｏリングが前記弁ポートの周りの弁座面に当接することにより、気密シールを行う電磁弁。
【請求項２】
前記Ｏリングは、前記弁体の軸線方向と同方向において前記周溝に非変形状態で装着されている請求項１記載の電磁弁。
【請求項３】
前記Ｏリングと前記周溝の内側壁との間に間隙がある請求項１または２記載の電磁弁。
【請求項４】
前記Ｏリングの中心径より前記弁ポートの内径が大きい請求項１〜３の何れか１項記載の電磁弁。
【請求項１】
電磁手段によって開閉駆動される弁体により弁ハウジングに形成されている弁ポートを開閉する電磁弁において、
前記弁体は、円柱形状をしており、先端部近傍の外周に、当該弁体と同心の溝底面を有する円環状の周溝を形成され、前記周溝より先端部側の外径が前記周溝を隔てた他方の部位の外径より小さくなっており、
前記周溝にゴム状弾性体製のＯリングが装着されており、
前記弁体の前記周溝を隔てた他方の部位の外周に、円筒状の外筒部材が嵌合装着されており、当該外筒部材の先端側が前記弁体の軸線方向に見て前記周溝と重なる位置にあり、当該外筒部材が前記周溝に装着された前記Ｏリングの外周囲を取り囲んでおり、
弁閉時に前記Ｏリングが前記弁ポートの周りの弁座面に当接することにより、気密シールを行う電磁弁。
【請求項２】
前記Ｏリングは、前記弁体の軸線方向と同方向において前記周溝に非変形状態で装着されている請求項１記載の電磁弁。
【請求項３】
前記Ｏリングと前記周溝の内側壁との間に間隙がある請求項１または２記載の電磁弁。
【請求項４】
前記Ｏリングの中心径より前記弁ポートの内径が大きい請求項１〜３の何れか１項記載の電磁弁。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００６−２２６３５２（Ｐ２００６−２２６３５２Ａ）
【公開日】平成１８年８月３１日（２００６．８．３１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３９０４９（Ｐ２００５−３９０４９）
【出願日】平成１７年２月１６日（２００５．２．１６）
【出願人】（０００１４３９４９）株式会社鷺宮製作所 (253)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年８月３１日（２００６．８．３１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年２月１６日（２００５．２．１６）
【出願人】（０００１４３９４９）株式会社鷺宮製作所 (253)
【Ｆターム（参考）】
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