説明

Fターム[2F065AA30]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 測定内容 (27,691) | 厚さ (854)

Fターム[2F065AA30]に分類される特許

21 - 40 / 854


【課題】測定対象物の寸法を電子的に測定可能な電子測定器を提供する。
【解決手段】等ピッチで1列に並べられた受光素子アレイ20と、受光素子アレイ20に結像するレンズ系16と、測定対象物25へ光を照射する光源26と、測定対象物25から反射した光を受光素子アレイ20により受光して出力されるアナログ信号をディジタル処理する信号処理部28と、信号処理部28によって得られたディジタル計数値DSを表示する表示部12とを備え、ディジタル計数値DSにより、測定対象物25の大きさを表示することを特徴とする電子測定器10。 (もっと読む)


【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板9上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット2と、ガラス基板9を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット2は、光照射部21および受光部23を有し、光照射部21により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部23のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部23を回転することにより受光部23の光軸J2とガラス基板9の法線Nとのなす検出角θ2が変更される。撮像ユニット2は、光軸J2に沿って受光部23を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ2の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸J2上においてラインセンサの受光面と共役な位置Pがガラス基板9の表面に配置される。これにより、受光部23のフォーカス調整が容易に行われる。 (もっと読む)


【課題】コントラストの高いパターン画像の表示を低コストにて実現する。
【解決手段】パターン画像表示装置の画像取得部13は、光照射部131、ラインセンサ132、角度変更機構、および、表示対象であるガラス基板9を移動する移動機構を備える。光照射部131からは、ガラス基板9の薄膜パターンに対して透過性を有する波長の光が出射される。光照射部131からの光の照射角θ1およびラインセンサ132により撮像が行われる検出角θ2は、常に同じであり、これらの角度は角度変更機構により変更される。パターン画像表示装置では、予め画像のコントラストが高くなる照射角および検出角の設定角度が求められ、照射角および検出角が設定角度とされる。これにより、単一波長の光源を用いてコントラストの高い画像をラインセンサ132により取得し、ディスプレイに表示することができ、パターン画像表示装置の製造コストも削減することができる。 (もっと読む)


【課題】真空雰囲気中で測定対象物を精度良く測定でき、光ファイバを着脱しても、測定精度に影響の無いエリプソメータを提供する。
【構成】投光部13と受光部14を筺体11の内部に配置し、発光装置12を筺体11の外部に配置し、光配線装置18によって、発光装置12と投光部13とを光接続する。投光部13は入射光を偏光して測定光を生成し、測定対象物7に照射し、反射光を受光部14によって受光して筺体11の外部に配置された分析装置15へ送光すると、分析装置15で膜厚が求められる。測定対象物7を真空雰囲気中で測定でき、光配線装置18と投光部13とを着脱しても、相対的に同じ位置で仮固定され、着脱が測定精度に影響を与えない。 (もっと読む)


【課題】貼合わせウェハ全体について厚さを測定できる装置の提供。
【解決手段】貼合わせウェハ1の厚さ測定光学系及び観察光学系と、測定光学系から出力される信号を用いて貼合わせウェハ1の厚さを算出する信号処理装置とを具え、測定光学系は、第1の波長域の測定用光源30と、この測定光を投射して光スポットを形成する対物レンズ17と、その反射光の光検出手段40とを有し、観察光学系は、前記第1の波長域とは異なる第2の波長域の観察用照明光を放出する照明光源41と、照明光を投射する対物レンズ17と、その反射光を受光して2次元画像を撮像する撮像装置48とを有する。これらで共通の対物レンズ17と測定光源及び観察光源との間の光路中には、前記測定光学系と観察光学系とを光学的に結合する波長選択性を有するカップリング素子34を配置する。撮像装置48は、前記測定光により形成された光スポットの像が重畳された像を撮像する。 (もっと読む)


【課題】散乱光の空間分布がマイクロラフネスの差異に応じて、前方/後方/側方と色々な方向に変化することについて配慮し、特にエピタキシャル成長ウェハに出現するステップ・テラス構造は散乱光分布に異方性が生じることに配慮した表面形状計測装置を提供する。
【解決手段】試料1表面に光を照明し、光軸の方向が互いに異なる複数の検出光学系51,52により散乱光の空間分布を検出し、試料1表面の空間周波数スペクトルを算出する。 (もっと読む)


【課題】測定対象物に塗布された塗布物質の塗布状態をより簡単に精度よく測定する。
【解決手段】測定対象物を撮像して測定対象物のスペクトル画像を取得する画像取得ステップS01と、画像取得ステップにより得られたスペクトル画像に基づいて、塗布物質の種類を判別する塗布物判別ステップS02と、画像取得ステップにより得られた前記スペクトル画像に基づいて、塗布物質の塗布量を測定する塗布量測定ステップS03と、を備える。 (もっと読む)


【課題】コールドピルガー圧延時に、変形加工工程中に得られた測定データに基づいて、少なくとも1つの変形加工工具の位置調節を可能にする、自動化可能な製造方法及びこのために好適な装置を提供する。
【解決手段】外側から管8に作用する少なくとも1つの変形加工工具4に、少なくとも1つの位置調節装置7が作用結合されており、位置調節装置7は、測定装置5に接続されているようにした。 (もっと読む)


【課題】本発明は、取得したスペクトルから基板上に形成した膜の複数の測定点に対する光学定数を唯一の値として求めることができる光学特性測定装置および光学特性測定方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光源10と、検出器40と、データ処理部50とを備えている。データ処理部50は、モデル化部と、解析部と、フィッティング部とを備えている。複数の膜モデル式を連立させ、複数の膜モデル式に含まれる光学定数が同一であるとして所定の演算を行ない、算出した膜の膜厚および光学定数を膜モデル式に代入して得られる波形と、検出器40で取得した波長分布特性の波形とのフィッティングを行なうことにより、複数の膜モデル式に含まれる光学定数が同一で、解析部で算出した膜の膜厚および光学定数が正しい値であることを判定する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、被測定物との距離に依存することなく、被測定物の膜厚を高い精度を測定することが可能な膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】本発明は、光源10と、第1光路と、第1集光レンズと、分光測定部40と、第2光路と、第2集光レンズと、データ処理部50を備える膜厚測定装置100である。光源は、所定の波長範囲をもつ測定光を照射する。第1光路は、光源10から照射した測定光を被測定物に導く。第1集光レンズは、第1光路から出射する測定光を被測定物に集光する。分光測定部40は、反射率または透過率の波長分布特性を取得する。第2光路は、被測定物で反射された光または被測定物を透過した光を、分光測定部に導く。第2集光レンズは、第2光路の端部に集光する。データ処理部50は、分光測定部40で取得した波長分布特性を解析することで、被測定物の膜厚を求める。 (もっと読む)


【課題】光干渉を利用して温度を適切に測定することができる温度計測システム、基板処理装置及び温度計測方法を提供する。
【解決手段】温度計測システム1は、光源10、分光器14、光伝達機構11,12、光路長算出部16及び温度算出部20を備える。光源10は、測定光を発生させる。光伝達機構11,12は、測定対象物13の表面13a及び裏面13bからの反射光を分光器14へ出射する。分光器14は、反射光の強度分布である干渉強度分布を測定する。光路長算出部16は、フーリエ変換し光路長を算出する。温度算出部20は、光路長と温度との関係に基づいて測定対象物13の温度を算出する。光源10は、分光器14の波長スパンΔwに基づいた条件を満たす半値半幅Δλの光源スペクトルを有する。分光器14は、波長スパンΔwと計測最大厚さdとに基づいた条件を満たすサンプリング数Nで強度分布を測定する。 (もっと読む)


【課題】被加工物の厚みを正確に検出することができる非接触式の厚み検出装置および厚み検出装置を装備した研削機を提供する。
【解決手段】被加工物に対して透過性を有する所定の波長領域を有する発光体と、集光器とを備えた検出光照射手段と、検出光照射手段によって照射されチャックテーブルに保持された被加工物の上面および下面で反射した反射光を集光する集光レンズと、集光レンズによって集光された反射光の干渉を回折する回折格子と、回折格子によって回折した反射光の所定の波長域における光強度を検出するイメージセンサーと、イメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と被加工物の下面で反射した反射光の光路長との光路長差に基づいて被加工物の厚みを求める制御手段とを具備し、検出光照射手段は、P偏光を被加工物の上面に対して所定の入射角をもって照射する。 (もっと読む)


【課題】光学素子の欠陥を簡便に発見、測定することのできる欠陥計測方法を提供する。
【解決手段】第一の観点に係る欠陥計測方法は、測定対象に光源から光を照射し、収束光にして測定対象に入射し、測定対象又は光源を、収束光の焦点が測定対象の一方の面から他方の面に至るまで移動させ、測定対象の一方の面と測定対象中に存在した欠陥との間の距離を計測し、距離に測定対象の屈折率を乗じた値を求め、一方の面からの前記欠陥の深さを計算する。 (もっと読む)


【課題】 シート材を高速搬送させても短時間で観察画像を取得することができ、シート材が搬送方向と垂直な方向であって、前記観察部の視野内にある前記シート材の搬送方向と直交する方向(つまり、シート材の厚み方向や幅方向)にバタツキや揺動を生じたとしても、観察画像の品質及び評価の質が損われることを防ぐことができる、シート材端部の観察・評価装置及び方法を提供する。
【解決手段】 観察対象となるシート材の端部を搬送させながら観察し、
観察視野範囲の一部分を観察領域として登録し、当該領域を別個に複数登録でき、当該観察部の外部から複数の部分観察領域を選択するかを指示して、複数登録された中から一つの部分観察領域に切り替える部分観察領域切替機能を有し、
シート端部位置検出器から得られた信号に基づいて観察部に対して部分観察領域が切り替わるように信号出力する、シート材端部の観察評価装置及び方法。 (もっと読む)


【課題】計測対象物の物理情報を高精度に得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】計測装置33は、光源1からの光を計測対象物3に入射させる計測光と参照面4に入射させる参照光とに分割するビームスプリッタ2aと、前記計測対象物3で反射された前記計測光と前記参照面4で反射された前記参照光とを合成して合成光を生成するビームコンバイナ2bとを有し、前記合成光に基づいて前記計測対象物3の物理情報を得るように構成されている。前記計測装置33は、前記計測光と前記参照光との空間コヒーレンスを変更するコヒーレンス制御部10を備える。 (もっと読む)


【課題】 記録材からの透過光を検知することにより記録材の厚さを判別する方法では、記録材の白色度の違いにより記録材の厚みを精度良く判別できない可能性があった。
【解決手段】 カラーセンサにより記録材の白色度又は色度を検知し、記録材の白色度又は色度と透過光量に基づいて、記録材の厚さの判別を行うことにより、記録材の白色度又は色度に関わらず、記録材の判別精度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】試料の表面形状を測定する際に、干渉波形の包絡線と位相との両方に基き試料の表面形状を算出できるようにした走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】撮影した動画ファイルデータに基づき、試料の表面上の位置に対応する各画素において、ヒルベルト変換を用いて干渉波形の包絡線と位相を算出し、包絡線がピークになる走査位置と、位相が0になる走査位置を算出し、両位置の差から、試料表面の反射光の位相変化による位置ずれの値を検出し、その値の大きさから、その画素の試料表面が他の画素の試料表面と同種であるか異種であるかを判定し、同種のもの同士で干渉波形の位相が0になる走査位置のずれの平均値を算出しておき、各画素で、位相が0になる位置から対応する試料の表面上の物質での位相が0になる走査位置のずれの平均値を引くことで、反射光の位相変化の影響が消されて試料の表面形状が測定される。 (もっと読む)


【課題】管内面の状態や寸法によらずに管内面を検査することができる管内面検査装置およびその検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態は、管2内面の検査箇所にパターンを有するパターン光P1を管2内面の周方向にわたって投影する投影手段11と、検査箇所に投影され反射されたパターン光を反射パターン光P2として投影する表示手段12と、反射パターン光P2の形状を観測する観測手段13とを備える。 (もっと読む)


【課題】試料の表面形状の測定精度を大幅に向上させることのできる、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】対物レンズの下にビームスプリッター及びミラーを配し、試料表面を含めて、マイケルソン型などの干渉計を構成し、試料までの距離又はミラーまでの距離をピエゾアクチュエーターで走査し、それによりできる干渉波形をCCDカメラで撮影して動画ファイルデータとして記録し、データ収集間隔をナイキスト間隔(干渉波形の周期の1/2)よりも広く取って試料の表面形状を測定する、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法において、得られた収集波形についてヒルベルト変換を行い、包絡線と位相を得、こうして得られた位相が0になる走査位置と試料の表面高さとの関係を用いて位相が0になる走査位置から試料表面の高さを算出する。 (もっと読む)


【課題】真空雰囲気を維持したまま、多数の基板の薄膜の膜厚を成膜中に測定する。
【解決手段】真空槽12内に複数のサンプル板16を配置し、基板の成膜面に薄膜を成長させる際に、サンプル板16の検出面61にも薄膜を成長させ、サンプル板16表面に測定光を照射して薄膜の膜厚測定を行うことができる。サンプル板16には金属電極が不要であり、高温に加熱することができるので、検出面61に形成された薄膜を加熱して除去し、サンプル板16を再使用することができる。その結果、真空雰囲気を維持したまま、多数枚数の基板に対する薄膜の膜厚測定を行うことができる。真空雰囲気内に複数のサンプル板16を用意し、薄膜が形成されたサンプル板16を加熱する間に別のサンプル板16によって膜厚測定を行うと、薄膜除去の待ち時間は生じない。 (もっと読む)


21 - 40 / 854