【課題】 曲面を有する膜厚を正確に計測する。
【解決手段】 膜厚の検査装置は、テラヘルツ波を発生させるテラヘルツ波発生器１５と、前記テラヘルツ波を、膜が形成された試料に照射させる照射光学系１６、１７と、前記試料において反射したテラヘルツ波を検出し、検出信号を出力するテラヘルツ波検出器２２と、前記試料の反射面の形状情報に基づき、当該反射面から前記テラヘルツ波検出器に至るまでの反射波の電場強度を参照信号として算出し、前記参照信号を用いて前記検出信号を補正する制御装置５を備える。 （もっと読む）

【課題】可撓性シートに対する印刷型の配置が種々である印版を使用して印刷を行う際に、初期段階であっても段ボールシートに印刷される位置を正確に検出することができる、印刷位置検出方法を提供する。
【解決手段】可撓性シート２１上の印刷型２２の基準点Ｑ３から予め定める所定距離の第一基準点Ｑ１に、印刷型２２より高さの低い被検出体３０を取り付け、版胴１１の回転に伴う被検出体３０の通過を第一センサ３１によって検出し、挟持点Ｑ０に向かい搬送される段ボールシート１上に第二基準点Ｑ２を設定し、第二基準点Ｑ２の通過を第二センサ３２によって検出し、第一センサ３１による第一基準点Ｑ１の検出点と挟持点Ｑ０との距離Ｎ１、第二センサ３２による第二基準点Ｑ２の検出点と挟持点Ｑ０との距離Ｎ２、及び、印刷型の基準点Ｑ３と第一基準点Ｑ１との距離に基づき、段ボールシート１において印刷型の基準点に対応する点Ｑ３’を検出する。 （もっと読む）

【課題】鋼帯連続焼鈍ライン等の鋼帯連続処理ラインに設置されている縦型ルーパー設備において、ルーパーキャリッジの水平度を精度良く測定することができるキャリッジ水平度測定方法およびそれを用いた鋼帯の蛇行修正方法を提供する。
【解決手段】ルーパーキャリッジ１１の水平度（水平度異常量）を光学式距離計２１ａ〜２１ｄを用いて測定するとともに、鋼帯１の寄り量（蛇行量）を測定し、その蛇行量が許容範囲を超えている場合には、ルーパーキャリッジ１１の水平度を許容範囲内で変更して、鋼帯１の蛇行量が許容範囲内に収まるようにする。 （もっと読む）

【課題】同一仕様で形成され同一方法で保持された複数の平面基板上の、同一箇所に形成された同一パターンの形状を確実に順次検査するための簡単な方法を提供すること。
【解決手段】１枚目の検査対象基板に対して、検査のためのカメラと検査対象となるパターンとの撮像距離を順次変化させて各撮像距離で撮像して合計で複数の画像情報を入力し、入力した複数の画像情報を予め登録してある登録画像情報と比較して、登録画像情報に最も類似した一画像の情報を複数の画像情報の中から選択して、検査判定するとともに、選択した画像情報に対応する撮像距離をカメラ最適高さとして特定し、２枚目以降の平面基板上の同一箇所に形成された同一パターンの形状検査において、カメラ最適高さとした撮像距離で検査することを特徴とするパターン検査方法。 （もっと読む）

【課題】記録紙の種類を詳細に判別することのできる小型の光学センサを低コストで提供する。
【解決手段】第１の偏光方向の直線偏光の光を、記録媒体に照射する光照射系と、前記光照射系より照射された光のうち、前記記録媒体において正反射された光を検出する正反射光検出系と、前記光照射系より照射された光のうち、前記記録媒体において拡散反射された光を検出する前記第１の偏光方向に直交する第２の偏光方向の光を透過する光学素子を備えた拡散反射光検出系と、を有する測定系を複数有していることを特徴とする光学センサを提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】計測対象物における孔の三次元座標を正確に計測することが可能である三次元計測治具及びこれを用いた三次元計測方法を提供する。
【解決手段】レーザ測定機ＬによってワークＷにおける孔Ｗｈの三次元座標を得るのに用いられるリフレクタＲを保持する三次元計測治具１であって、立形ＮＣフライス盤１０のスピンドル軸１２に取り外し可能に装着される連結部２と、立形ＮＣフライス盤１０の動作によりワークＷの孔ＷｈにリフレクタＲを相対的に接近させ、且つ、該ワークＷにおける孔Ｗｈの縁にリフレクタＲが接触した時点でリフレクタＲを孔Ｗｈに押し付け可能なターゲット保持機構３を備えている。 （もっと読む）

【課題】照射部の発光ムラがムラ検査用画像に与える影響を抑制する。
【解決手段】ムラ検査用画像取得装置１１は、基板９が載置されるステージ２、基板９の検査表面９１に向けて照明光を照射する照射部３、検査表面９１にて反射した照明光を受光する撮像部４１を備える。撮像部４１は、ラインセンサ４１１および撮像光学系４１２を備える。ラインセンサ４１１の各受光素子には、ムラ検査に必要な強度の光が入射する。撮像光学系４１２は、物体側において非テレセントリックであり、ラインセンサ４１１の位置と光学的に共役な合焦位置は、検査表面９１から撮像部４１側にずれて位置する。ムラ検査用画像取得装置１１では、照射部３と検査表面９１との間の光軸Ｊ１に沿う方向における距離が１００ｍｍ以上である。これにより、照射部３の発光ムラがムラ検査用画像に与える影響を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】光弾性を有する板状体の欠陥を良好に検出可能な欠陥検出装置を提供することができる。
【解決手段】欠陥検出装置は、光弾性を有する板状体Ｐに光を透過させることにより、該板状体Ｐの欠陥を検出する。欠陥検出装置は、板状体Ｐより前に光が透過する直線偏光子２と、板状体Ｐより後に光が透過する１／４波長板３ａと、１／４波長板３ａより後に光が入射し、透過軸が１／４波長板３ａの遅相軸に対して４５度傾いている直線偏光子３ｂと、を有する。 （もっと読む）

【課題】 落射照明画像用のエッジ位置測定値補正を提供する。
【解決手段】 精密マシンビジョン検査システムにおける落射照明画像エッジ位置誤差を補正するための方法が開示される。方法には、落射照明光および透過照明光を用いてワークエッジ特徴のエッジ位置測定値を比較することが含まれる。透過照明光を用いたエッジ位置測定値は、落射照明より不確実性が低い。位置補正係数が、２つのエッジ位置測定値間の差から決定され得る。位置補正係数は、落射照明光を用いて取得された画像に基づく後続のエッジ位置測定値を補正するために記憶してもよい。いくつかの実施形態において、位置補正係数は、複数のエッジ用のエッジ位置測定値の比較に基づいて決定してもよい。 （もっと読む）

【課題】コスト削減を図りつつ、被検査基板を正しい搬送姿勢のもとで汚さずに搬送することができるほか、耐久性にも富む基板外観検査装置における基板幅寄せ搬送機構の提供。
【解決手段】被検査基板５１を搬送する一対の無端搬送ベルト１３，１４と、基板搬送面１９を間に挟んで配置される基準側基板ガイド２３と可動側基板ガイド３３とを備え、基準側基板ガイド２３の内側面２４には、前上がりのガイド斜面２６を設け、可動側基板ガイド３３の前部内側面３４ａには、その面高が後部内側面３４ｂの面高より低い段差面３６を設け、該段差面３６には、前傾させて縦列配置した複数個の薄板ばね材３８からなる弾性当接部３７を配設し、該弾性当接部３７を介して基準側基板ガイド側に幅寄せしながら被検査基板５１の向きと位置とを正して検査カメラ４２方向への送り込みを可能とした。 （もっと読む）

【課題】受光素子に対する電気ノイズに対する影響を阻止することにより、誤検出の発生を防止することのできる光学式位置検出装置、および当該光学式位置検出装置を備えた入力機能付き表示システムを提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置において、受光部１３は、検出光が放射状に出射された検出対象空間に位置する対象物体で反射した検出光を受光する。受光部１３には、受光素子１３０の受光面１３１を部分的に覆うシールド部材１４が設けられている。シールド部材１４において、入射部１４０は、受光面１３１に対する法線方向から一方側および反対側に傾くに伴って幅広になっている。従って、受光素子１３０での受光強度は、受光面１３１に対する法線方向から入射した検出光と、受光面１３１に対する法線方向から傾いた斜め方向から入射した検出光とにおいて差が小さい。 （もっと読む）

【課題】平板状に形成される検査対象の反り方向を簡易な構成にて検査し得る反り検査装置および反り検査方法を提供を提供する。
【解決手段】アクチュエータ１２により平面部１１ａ上に載置された平板状のセラミック基板２０の外縁部２２が押圧されて、フォトセンサ１３により上記押圧力の解除後におけるセラミック基板２０の回転が検知される場合に、当該セラミック基板２０の反り方向が、外縁部２２に対して中央部２１が平面部１１ａ側に凸となる反り方向（下側に凸となる反り方向）であることが検知される。 （もっと読む）

【課題】複数の検出対象物の位置をそれぞれ検出することができる光学式の位置検出システムを提供する。
【解決手段】光学式の位置検出システム１０００は、第１検出対象物３１と第２検出対象物３２とに向けて光を射出する光射出部２０と、波長の異なる第１検出対象物３１からの第１反射光４１を受光する第１受光部５１と第２検出対象物３２からの第２反射光４２を受光する第２受光部５２を有し、前記第１検出対象物３１は前記第１反射光４１を反射する第１反射フィルター６１を有し、前記第２検出対象物３２は前記第２反射光４２を反射する第２反射フィルター６２を有する。 （もっと読む）

【課題】検査に適切な明るさやコントラストの画像を取得し、膜厚むら検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】表面に皮膜が形成された基板を一方向に移動させながら、基板に形成された皮膜の膜厚むらを検査する装置及び方法であって、皮膜の厚みを検出する膜厚検出部を備え、光源部は、撮像部側に配置された反射照明部３ａと、基板を挟んで撮像部に対向する位置に配置された透過照明部３ｂを備え、撮像部４は基板との相対角度を調節する撮像部角度調整手段を備え、反射照明部は反射照明部と基板との相対角度を調節する反射照明角度調整手段を備え、透過照明部は透過照明部と基板との相対角度を調節する透過照明角度調整手段を備え、膜厚検出部からの膜厚情報に基づき、反射照明角度調節手段及び透過照明角度調整手段を制御し、反射照明の光量及び透過照明の光量を調節する制御部を備えたことを特徴とする膜厚むら検査装置及び方法。 （もっと読む）

【課題】 膜厚測定方法及び膜厚測定装置に関し、簡単な装置構成により、高速且つ高精度で基板上に形成された大面積の薄膜の膜厚を測定する。
【解決手段】 測定対象となる試料一方向に移動させながら、可視光乃至近赤外光領域の線状の連続波長光を前記試料に照射し、試料からの反射光を１ライン毎に撮像手段により撮像し、撮像した１ライン毎の試料の位置と波長とを座標とした各分光波形データについて、各所定の位置毎に第１主成分乃至第Ｋ主成分を求めて第１主成分乃至第Ｋ主成分のセットからなる分光波形特徴データを作成し、各所定の位置毎に分光波形特徴データを参照用テーブルと比較して最も一致度の高い膜厚値を求め、各所定の位置毎に求めた各膜厚値から二次元膜厚分布を作成する。 （もっと読む）

【課題】テクスチャ構造を有する対象物上に形成された薄膜の形状を容易かつ高精度に取得する。
【解決手段】膜形状取得装置１では、上面に複数のテクスチャ凸部を有する基板９上に形成されたシリコン膜の光学モデルにおいて、複数のテクスチャ凸部に一致する薄膜凹部およびその上方に位置する薄膜凸部が設定される。そして、薄膜凸部、薄膜凹部、および、薄膜凸部と薄膜凹部との間の中間部の形状を表すパラメータ群に含まれる各パラメータを有効膜厚にて表現し、有効膜厚を変更することにより各パラメータの値を変更して理論スペクトルの測定スペクトルに対するフィッティングが行われる。これにより、シリコン膜の形状を容易かつ高精度に取得することができる。 （もっと読む）

【課題】 透光性板状物体の厚さを全域にわたって短時間で精度よく測定する。
【解決手段】 測定用レーザ光をガラス板Ｇの表面及び裏面で反射させて、反射光をラインセンサ５５に導いてガラス板Ｇの厚さを測定する。測定用レーザ光は、Ｙ軸線回りに回転可能なガルバノミラー４５及びＸ軸線周りに回転可能なガルバノミラー５１を介してガラス板Ｇに照射される。サーボ用レーザ光も、ガルバノミラー４５，５１を介してガラス板Ｇに照射され、反射光はガルバノミラー４５，５１を介して４分割フォトディテクタ６６に導かれる。４分割フォトディテクタ６６により、ガラス板Ｇの表面のＸ軸及びＹ軸線回りの傾きが検出され、この傾きに応じてガルバノミラー４５，５１を駆動するサーボ制御により、測定用レーザ光をガラス板Ｇに対して常に一定方向から入射させる。 （もっと読む）

【課題】正確に半田の高さを算出することができる三次元形状計測装置を提供することである。
【解決手段】半田塗布前の検査ブロックにおいて、配線パターンの近似面を作成する（Ｓ２２）。また、半田塗布前の検査ブロックにおいて、ランドの近似面を作成する（Ｓ２３）。そして、作成した配線パターンの近似面Ｓｒとランドの近似面Ｓｌとに基づいて、オフセット、すなわち、配線パターンの近似面Ｓｒとランドの近似面Ｓｌとの距離を算出する（Ｓ２４）。そして、算出したオフセットをＲＡＭ等に記録する（Ｓ２５）。そして、半田塗布後に、記憶したオフセットを読み出して、半田の高さを計算する。 （もっと読む）

【課題】大型ガラス基板に各種画面サイズのカラーフィルタが面付けされ、面付け余白が生じて基板端から表示領域を画定する額縁部近傍までの幅においてフォトレジストが塗布されていない基板に対しても、外観上の広域欠陥の検査を正常に行える機構を有した塗布膜の検査装置を提供する。
【解決手段】被検査体の基板を披検査体テーブルの支持ピン上に保持した状態で、基板流動方向に走査可能に移動する検査位置に対して真下の位置に配置された透過光源部から検査光を当て、被検査体を透過した透過光を、透過光源部と同じ方向に一体的に移動する検査位置に対して真上の位置に配置された撮像カメラで受光してその輝度変化を検出する塗布膜の検査装置において、前記被検査体テーブルの基板流動方向の両端部に外乱光遮断用のシャッターが設けられ、該シャッターが両端部から前記被検査体の基板の内側にむけてその遮光領域を可変に制御する機構を具備している。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板や透明な樹脂基板等を含む透明基板の検査を効率化できる透明基板の検査装置、透明基板の検査方法、及び前記透明基板の検査方法でガラス基板を検査する検査工程を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】検査装置１０は、透明基板７２の断面及びその周辺部に、斜め方向から光を照射する照明手段１１ａと、前記照明手段１１ａから照射された光の透過光を受光し、前記断面の画像を撮像する撮像手段１２ａと、前記撮像手段１２ａが撮像した前記断面の画像に基づいて、前記断面の面積を算出する画像処理手段１３と、を有する。 （もっと読む）