【課題】光制御板に形成された凹凸形状を簡易に評価することが可能な形状評価方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状13が形成された第１の面11と当該第１の面11と反対側に位置する第２の面12とを有し、凹凸形状13が第１の方向11に延在しているサンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する形状評価方法は、第１の面11から光を入射した場合の第１の全光線透過率Tt1及び第２の面12から光を入射した場合の第２の全光線透過率Tt2の少なくとも一方を用いて規定される指標を凹凸形状13を表す指標とし、サンプル光制御板1に対して、第１及び第２の全光線透過率Tt1，Tt2の少なくとも一方を測定して上記指標を取得する取得工程と、凹凸形状が既知の基準光制御板に対して予め取得した指標と凹凸形状との相関関係に基づき、取得工程で取得した上記指標から、サンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する評価工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】センサヘッドに起こった環境状態の異常を検知することができる光学式センサを実現する。
【解決手段】本発明に係る光学式圧力センサ１のセンサヘッド２は、光源５から発せられた光を伝送する出射用光ファイバ１０と、出射用光ファイバ１０の端面に対する相対位置が圧力に応じて変位し、出射用光ファイバ１０の端面から出射された光を反射する反射板１５と、反射板１５が反射した光が入射される端面を有し、入射した光をそれぞれ第１および第２光検出器６・７に伝送する第１受光用光ファイバ１１および第２受光用光ファイバ１２とを備え、さらに、センサヘッド２内の湿度の変化に応じて、出射用光ファイバ１０の伝送損失を変化させる損失変化部１６を備える。 （もっと読む）

【課題】透明な板状部材でも、モアレパターンが得られる歪み検出装置の提供。
【解決手段】板状の透明な検査対象物１６，１７を搭載し得る透明な定盤２を有し、定盤の上下に第１及び第２の基準格子ユニット３，５が対称的に配置されており、各基準格子ユニット３，５は、面発光ユニット３ａ，５ａ及び該面発光ユニットの発光面３ｃ，５ｃに配置された面格子３ｂ，５ｂをそれぞれ有し、第１の基準格子ユニット３と対向する位置に、第１の基準格子ユニット３の面格子３ｂの検査対象物１６，１７からの反射像と、第２の基準格子ユニット５の面格子５ｂの、定盤２及び検査対象物１６，１７を透過して来た像を重ね合わせた重畳画像データＤＡＴを取得する面格子画像取得手段７を設け、該重畳画像データＤＡＴに基づいて、モアレ縞が発生しているか否かを判定して検査対象物１６，１７の歪みや反りの存在を判定する。 （もっと読む）

【課題】複数種類の計測方法を組み合わせることにより、検査可能な試料を制限することのない試料検査装置及び試料検査方法を提供する。
【解決手段】試料検査装置は、入射部１１、反射光受光部１２及び分析部１３（エリプソメータ部）と、Ｘ線源２１、蛍光Ｘ線検出部２２及び分析部２３（Ｘ線測定部）と、レーザ光源３１、ビームスプリッタ３４、ラマン散乱光検出部３２及び分析部３３（ラマン散乱光測定部）とを備える。試料６に応じた適切な手法を用いて試料の厚みの計測が可能である。またエリプソメトリ及び蛍光Ｘ線分析を組み合わせることにより、試料６の厚みと屈折率等の光学特性とを独立に計測することができる。また試料６が多層試料である場合は、各層を適切な試料で検査することができる。 （もっと読む）

【課題】ウェハを搬送する際に生じる振動に起因して測定データに現れるオフセット成分のバラツキを除去する。
【解決手段】Ｙ方向に光切断線を照射して平行断面形状データＺｆ＿Ｘ０を求める。Ｘ方向に光切断線を照射して直交断面形状データＺｇ＿Ｙ０，Ｚｇ＿Ｙ１，・・・，Ｚｇ＿Ｙｎを求める。平行断面形状データＺｆ＿Ｘ０と直交断面形状データとの交差位置の高さデータが等しくなるようにオフセット値ｏ（Ｙ０），ｏ（Ｙ１），・・・，ｏ（Ｙｎ）を求める。直交断面形状データＺｇ＿Ｙ０，Ｚｇ＿Ｙ１，・・・，Ｚｇ＿Ｙｎにオフセット値ｏ（Ｙ０），ｏ（Ｙ１），・・・，ｏ（Ｙｎ）を加算し、補正直交断面形状データＺｇ＿Ｙ０´，Ｚｇ＿Ｙ１´，・・・，Ｚｇ＿Ｙｎ´を求める。 （もっと読む）

【課題】 測定後の原点を高精度に設定することができ、被測定物の変位情報（絶対変位情報）を高精度に測定することができる干渉測定装置を得ること。
【解決手段】 第１光源手段からの第１の光束と第２光源手段からの第２の光束を合波する第１の合波手段と、第１の光束と第２の光束が合波された光束を、２つの光束に分割し、一方の光束を被測定物の測定面に入射させ、他方の光束を参照面に入射させ、測定面からの反射光束と参照面からの反射光束を合波する光学系と、
測定面と参照面からの反射光束とに含まれている分割された２つの第１の光束により形成される光束と、２つの第２の光束により形成される光束を受光する受光手段と、
受光手段で受光した第１の光束に基づく第１の信号と受光手段で受光した第２の光束に基づく第２の信号とを用いて測定原点を決定する決定手段を有すること。 （もっと読む）

【課題】第１表面に対向する第２表面による反射像の影響を受けずに被評価物体の表面形状を精度よく評価することができるようにする。
【解決手段】評価装置は、評価対象である板ガラスなどの被評価物体３の表面３ａに映し出されたストライプパターン１を、ＣＣＤカメラ２によって撮像するように構成されている。ストライプパターン１は、光源の発光面に設けられている。また、被評価物体３の裏面３ｂには、屈折率が被評価物体３の屈折率に近い反射抑制層２０が、裏面３ｂに接するように配置されている。ＣＣＤカメラ２によって撮像された画像は、演算装置としてのコンピュータ４に取り込まれ、コンピュータ４によって画像解析が行われる。 （もっと読む）

【課題】 同一の測定対象物について、干渉反射光の光強度分布を繰り返し取得することにより、高精度の膜厚測定を行う干渉膜厚計を提供する。
【解決手段】 検出光を生成する光源と、検出光の参照面による反射光及び測定対象物による反射光からなる干渉反射光Ｌ３を生成する干渉光学系と、干渉反射光Ｌ３を分光する分光手段と、分光された干渉反射光Ｌ３を検出し、波長ごとの光強度分布を取得する光強度分布取得手段と、光強度分布に基づく特性曲線について、空間周波数ごとの特性強度分布を求める特性強度分布算出手段と、タイミングを異ならせて取得した２以上の光強度分布からそれぞれ求められた２以上の特性強度分布を合成する特性強度合成手段と、合成後の特性強度分布に含まれる２以上のピークの空間周波数に基づいて、測定対象物の膜厚を算出する膜厚算出手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】歪検出を簡易かつ高精度に行なうことができる。
【解決手段】検査面１ａに対し帯パターンが並行する所定の図形を照明パネル２Ａ，２Ｂによって所定角度で投影するステップと、投影された上記図形の画像をＣＣＤカメラ３Ａ，３Ｂにより検査画像として得るステップと、上記図形を上記所定角度と同一角度で平坦面に投影して得られた基準画像と上記検査画像の差分面積を検出するステップとを備え、差分面積の大きさによって前記検査面の歪の程度を検出する。 （もっと読む）

【課題】電力消費量が少なく高熱の発生を伴わずに太陽光に近い白色光で被測定物を照明できる照明手段を備えた二次元測定機を提供する。
【解決手段】
テーブル12に載置した被測定物Wに対して垂直を保持したままＸ−Ｙ方向に自在に移動する顕微鏡一体型ＣＣＤカメラ30と、顕微鏡光学系と同軸状の被測定物照明手段と、を備えた二次元測定機で、前記照明手段を、顕微鏡20の鏡筒21内のハーフミラー24と、ハーフミラー24に対応する鏡筒21側方延長位置に配置したクロスプリズム54と、該クロスプリズム54を取囲んで配置した赤,青,緑の単色ＬＥＤ52R,G,Bで構成し、単色ＬＥＤ52R,G,Bの発光がクロスプリズム54で合成されてハーフミラー24に導かれる。単色ＬＥＤ52R,G,Bの同時点灯で、太陽光に近い十分な光量の白色照明光が得られ、モニタ画面に映し出されるカラー画像が非常に見易い。照明用光源の電力消費量，発熱量が小さく、省エネルギー対策にも合致する。 （もっと読む）

【課題】
鏡面検査装置において，高感度にかつ定量的に表面の凹凸を検出することが，困難であった。
【解決手段】
光源から発射された照明光を略平行光にして鏡面状の表面を有する試料に照射し、照明光が照射された試料からの反射光を集光レンズで集光し、集光レンズで集光した試料からの反射光をピンホールを通過させて反射光以外の光を遮光し、ピンホールを通過した試料からの反射光を集光レンズの焦点位置からずれた位置に配置された検出器で検出し、検出器で検出した信号を処理する鏡面検査方法において、検出器はピンホールを通過した試料からの反射光を異なる複数の条件で検出し、検出器で異なる複数の条件で検出した反射光の検出信号を用いて試料上の局所的な凹凸度の分布を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】転位や積層欠陥などの結晶欠陥を容易かつ精度よく検出する。
【解決手段】単結晶基板上に化合物半導体層をエピタキシャル成長させたエピタキシャル成長基板１７の上方より励起光を照射して励起した後に、フォトルミネッセンスによる発光強度のマッピングをエピタキシャル成長基板全体に渡って行う座標変換手段としてのＸＹ座標変換手段１１２と、座標変換手段１１２により座標に分割された複数のピクセルのそれぞれとこれに隣接する複数ピクセルとの差を用いて、欠陥検出すべきピクセルが欠陥ピクセルかどうかを順次検出する欠陥検出手段１１３とを有している。 （もっと読む）

【課題】トールボット干渉計のセンサ部の傾きを精度良く調整する。
【解決手段】トールボット干渉計は、光源１から発せられて被検光学系Ｌを通った光を、回折格子３および撮像素子４を含むセンサ部Ｍに導き、被検光学系の波面を計測する。該干渉計は、光軸ＯＡに沿った方向における被検光学系とセンサ部との位置関係を、波面の計測時とは異なる位置関係であって被検光学系の像点位置に撮像素子が配置されるように設定する機構７，８と、回折格子からの回折光の撮像素子上での光量分布を該撮像素子を用いて測定する測定部５と、光量分布の測定結果を用いてセンサ部の傾き補正量を算出する補正量算出部５と、傾き補正量に応じた光軸に対するセンサ部の傾き調整を行う機構９とを有する。 （もっと読む）

【課題】一度の計測で、色相の異なる複数の色相データを取得して、高い空間分解機能をもち、迅速な三次元計測装置を提供する。
【解決手段】三次元形状計測装置は、計測対象物４０に対して、色相が連続的に変化するパターン光を投影する照射装置２０と、計測対象物４０からの反射光を撮像する一対のカラー撮像手段３０と、一対のカラー撮像手段３０から得られた一対の撮像画像の色相データを、動的計画法を用いたマッチングを行い、ステレオ対応付けを行い、三角測量法を用いて三次元形状の情報を算出する演算手段を有する。 （もっと読む）

【課題】反射表面を有する観測対象のオプティカルフローを推定すること。
【解決手段】観測画像の各画素の輝度値を反射特性が考慮された光学モデルで定義し、定義された光学モデルをオプティカルフロー法の拘束条件に適用し、適用された拘束条件からオプティカルフローを推定する目的関数を導出して、目的関数を最小化問題として解くことにより、観測対象のオプティカルフローを推定するので、反射表面を有する観測対象のオプティカルフローを推定する。 （もっと読む）

【課題】所定の圧力及び所定の温度に加圧された部屋に配置した基板に形成されている物質（特に、薄膜）の間隙率を求める装置及び非破壊方法に関する。
【解決手段】ガス物質（例えば、トルエン蒸気）が部屋１に導入され、所定時間後、部屋に配置した基板２に形成されている薄膜の間隙率が、少なくとも偏光解析測定によって求められる。特に、偏光解析器６から得られる光学的特性は、薄膜の間隙（ポア）に凝縮されたガス物質の量を求めるために利用される。その量は、薄膜の間隙率を計算するために利用される。 （もっと読む）

【課題】互いに離間した複数の平面または回転対称な線織面からなる被検面の傾斜角度を、被検面を傷付けることなく、高精度に測定することが可能な傾斜角度測定装置を得る。
【解決手段】アライメント用反射平面４１および測定光偏向用反射面４２Ａ，４２Ｂを有する反射素子４０を、被検面９１Ａ，９１Ｂから離間した位置に保持し、干渉計１０から反射素子４０に向けて測定光を照射する。アライメント用反射平面４１からの戻り光により形成される干渉縞画像に基づき、干渉計１０に対する反射素子４０のアライメントが調整される。測定光偏向用反射面４２Ａ，４２Ｂにおいて偏向されて被検面９１Ａ，９１Ｂに照射され、再帰反射されて測定光偏向用反射面４２Ａ，４２Ｂを経由し干渉計１０に戻る被検光により形成される干渉縞画像に基づき、被検面９１Ａ，９１Ｂの相対傾斜角度が解析される。 （もっと読む）

【課題】スループットの低下を低減しつつ、レシピに登録された座標と実際の座標とのずれを自動的に補正する。
【解決手段】基板Ｗにおけるモデルの検査・測定座標を記憶したレシピに基づいて搬送ステージ１３上に載置された基板Ｗにおけるモデルを検査・測定する基板検査・測定装置１０は、搬送ステージ１３上に載置された基板Ｗにおけるモデルの実座標を特定し、特定した実座標をレシピに登録する（ステップＳ１１４、Ｓ４１５）。 （もっと読む）

【課題】凹部深さを高精度に検出できる凹部深さの測定方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】凹部Ｄが形成された測定対象物Ｗに対して略直交する方向の光Ｌｉｇｈｔを測定対象物Ｗに照射して凹部Ｄの周縁に陰影を生じさせた状態で、測定対象物Ｗの凹部Ｄを濃淡表示した画像を取得する画像取得工程Ｓ１を有する凹部深さの測定方法は、前記画像の凹部Ｄに対応する部分（凹部画像Ｄ'）の略中心から周縁までの階調値に基づいて凹部深さを計算する計算工程Ｓ５を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ステンレス鋼板や、圧延ロール、金型等の表面が白濁して見える場合に、その白濁の度合いを定量的に評価できるようにする。
【解決手段】ディスプレー１１に映したパターンをハーフミラー１３で反射させて測定対象面２１に略垂直に投射し、反射したパターンをハーフミラー１３を透過させて撮像素子１２で撮影し、映像信号をコンピューター３でデータ処理するよう表面性状測定装置１を構成し、測定対象面２１上のパターン投射領域の一部範囲で反射するパターン像への周りからの光の乱反射の影響を強調する測定条件をパターン設定の態様によって実現し、光の乱反射の影響による測定対象面の白濁度合いを定量的に評価する。 （もっと読む）